JP2001221622A

JP2001221622A - 暗視野型オートコリメータ

Info

Publication number: JP2001221622A
Application number: JP2000026683A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Katsunuma; 淳勝沼
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-02-03
Filing date: 2000-02-03
Publication date: 2001-08-17

Abstract

(57)【要約】【課題】投光用レティクルによって発生するゴースト
光を簡易に低減できる暗視野型オートコリメータを提供
すること。【解決手段】投光用レティクル２が暗視野照明され、
第１レティクルパターンからの散乱光が、ビームスプリ
ッタ３を介して対物レンズ４に導かれ、対物レンズ４で
コリメートされた散乱光は、オートコリメータミラーＭ
に投影される。その反射光は、対物レンズ４及びビーム
スプリッタ３を介して、照明された第２レティクルパタ
ーンを備える固定レティクル５に投影される。ここで、
投光用レティクル２は、レティクル基板２１と接着層の
屈折率界面の屈折差が０．１以下であり、吸収板２２と
接着層の屈折率界面の屈折差も０．１以下であるので、
両屈折率界面における照明光の反射は極めて少ない。よ
って、投光用レティクル２に設けたレティクルパターン
近傍の屈折率界面での反射に起因してゴースト像が発生
することを簡易に防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、迷光の少ない暗視
野型オートコリメータに関し、特に投光用レティクルに
よって発生するゴースト光を低減した暗視野型オートコ
リメータに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の暗視野型オートコリメータでは、
投光用レティクルのレティクルパターンからの光が、ビ
ームスプリッタを介して対物レンズに導かれ、対物レン
ズでコリメートされた光は、オートコリメータミラーに
投影される。オートコリメータミラーからの反射光は、
対物レンズ及びビームスプリッタを介して固定レティク
ルに投影される。オートコリメータミラーのオートコリ
メータ光軸に対する傾き角度は、投光用レティクルと固
定レティクルとのパターンのずれを計測することによっ
て検出することができる。

【０００３】上記のような暗視野型オートコリメータの
投光用レティクルは、レティクルパターン部分のみで光
を通過させ、他の部分で光を遮蔽するようになってお
り、レティクルパターン直前（つまりオートコリメータ
ミラーの反対側）から照明光を入射させている。

【０００４】レティクルパターンの形成には、クロム蒸
着膜を用いることが多い。すなわち、レティクル基板の
片面にクロム膜を蒸着し、このクロム膜からエッチング
によってレティクルパターンを抜き、レティクルを形成
している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
暗視野型オートコリメータでは、投光用レティクルのレ
ティクルパターン像とは別に、この像のゴーストが常に
固定レティクルのパターンに重なるように投影され、暗
視野型オートコリメータによる計測を煩わしいものとし
ていた。このようなゴーストは、後詳述するが、投光用
レティクルのクロム蒸着面での反射に原因するものと考
えられる。

【０００６】このゴーストを低減するために、クロム蒸
着面の反射率を低く抑える工夫を施すことが考えられる
が、クロム面の反射はどうしても少なからず残ってしま
う。

【０００７】また、レティクルパターンを反転したクロ
ム面の反射パターンに対応させて、投光用レティクルの
オートコリメータミラー側、例えばレティクル基板の射
出面に、吸光性塗料を塗ってクロム面のマスクとする等
の対策も考えられる。しかし、クロム面を完全にマスク
するように吸光性塗料を塗ることはできない。その結
果、オートコリメータミラーの傾きが極めて小さい場
合、投光用レティクルへの戻り光は、吸光性塗料でマス
クされていない縁取り部分すなわちクロム面に結像して
しまい、高い反射率で反射されて強いゴーストを発生し
てしまう。このようにオートコリメータミラーの傾きが
極めて小さい場合は、投光用レティクル像自体が、固定
レティクルパターンの中心に投影されることから、投光
用レティクル像がゴースト像と距離を置かず並んでしま
い、非常に厄介であった。

【０００８】また、光アイソレータを用いて投光用レテ
ィクルへの戻り光を阻止することも考えられるが、オー
トコリメータの構造が複雑になる。さらに、光アイソレ
ータに組み込まれる偏光素子を通過する光線はどうして
もある角度範囲に分布することになり、その偏光分離効
果が完全でなくなるので、ゴースト像を完全に消し去る
ことは困難である。

【０００９】そこで、本発明は、投光用レティクルによ
って発生するゴースト光を簡易に低減できる暗視野型オ
ートコリメータを提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の暗視野型オートコリメータは、照明光を散
乱する例えば光散乱物質で形成された第１レティクルパ
ターンを有し、当該第１レティクルパターン近傍に設け
られた光軸に垂直な屈折率界面の屈折率差が所定値以下
である投光用レティクルと、第２レティクルパターンを
有する固定レティクルと、前記投光用レティクルからの
光を対物レンズに導くとともに、当該対物レンズからの
光を前記固定レティクルに導く光分岐手段とを備える。

【００１１】上記暗視野型オートコリメータでは、投光
用レティクルが、照明光を散乱する暗視野照明用の第１
レティクルパターンを有し、当該第１レティクルパター
ン近傍に設けられた光軸に垂直な屈折率界面の屈折率差
が所定値以下であるので、この屈折率界面における照明
光の反射を低減することができる。すなわち、投光用レ
ティクルの第１レティクルパターン像を固定レティクル
の第２レティクルパターンに投影した場合に、オートコ
リメータミラーからの戻り光が対物レンズ及び光分岐手
段を介して投光用レティクルに逆行して第１レティクル
パターン近傍の屈折率界面に入射しても、ここで反射光
がほとんど生じないので、第１レティクルパターンをク
ロム成膜面で形成していた従来例で生じていたようなゴ
ーストの発生を簡易に抑制できる。

【００１２】なお、第１レティクルパターン近傍に設け
られた光軸に垂直な屈折率界面の屈折率差が所定値、例
えば０．１を超える場合、屈折率界面での相当量の反射
光が再度光分岐手段、対物レンズ、オートコリメータミ
ラー等を経て固定レティクルに入射することになり、第
１レティクルパターン像とこの像のゴーストとが常に固
定レティクルのパターンに重なるように投影されること
になる。

【００１３】また、上記暗視野型オートコリメータの好
ましい態様によれば、前記投光用レティクルが、前記照
明光に対して透明な媒質からなり前記第１レティクルパ
ターンを形成した研磨面を有するレティクル基板と、前
記照明光を吸収する媒質からなり前記研磨面に対向して
配置された吸収部材とを有する。

【００１４】この場合、レティクル基板に側方から照明
光を供給することにより、第１レティクルパターンで照
明光が散乱され、散乱されなかった不要光が吸収部材で
吸収されることになり、暗視野照明が可能になる。この
際、例えばレティクル基板と吸収部材とを直接接続して
屈折率界面とし、屈折率界面の屈折率差を所定値以下と
すれば、かかる屈折率界面での反射を防止してゴースト
の発生を簡易に抑制できる。

【００１５】また、上記暗視野型オートコリメータの好
ましい態様によれば、前記投光用レティクルが、前記レ
ティクル基板と前記吸収部材との間に充填される充填部
材をさらに備える。

【００１６】この場合、吸収部材としてガラス板状の当
初から固体状のものを用いることができる。さらに、レ
ティクル基板と吸収部材との屈折率差が所定値を超える
場合であっても、レティクル基板と充填部材の屈折率差
と、吸収部材と充填部材の屈折率差とを所定値以下とす
れば、充填部材両端の屈折率界面での反射を防止してゴ
ーストの発生を簡易に抑制できる。

【００１７】また、上記暗視野型オートコリメータの好
ましい態様によれば、前記レティクル基板の屈折率をｎ
₁、前記充填部材の屈折率をｎ₂、前記吸収部材の屈折率
をｎ ₃としたとき、前記照明光の波長範囲において、｜ｎ₁−ｎ₂｜＜０．１、かつ、｜ｎ₂−ｎ₃｜＜０．１の関係が成立している。

【００１８】この場合、充填部材両端の屈折率界面での
反射を確実に防止してゴーストの発生を簡易に抑制でき
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態に係る
暗視野型オートコリメータについて説明する。図１は、
実施形態の暗視野型オートコリメータの構造を説明する
図である。この暗視野型オートコリメータは、内部のパ
ターン層２ａに第１レティクルパターンを有する投光用
レティクル２と、投光用レティクル２からの像光が入射
する光分岐手段であるビームスプリッタ３と、ビームス
プリッタ３を経た光をコリメートしてオートコリメータ
ミラーＭに導く対物レンズ４と、裏面のパターン層５ａ
に第１レティクルパターンを有しておりオートコリメー
タミラーＭからの反射光が対物レンズ４及びビームスプ
リッタ３を介して入射する固定レティクル５と、固定レ
ティクル５に投影された像を観察するための観察光学系
６とを備える。

【００２０】投光用レティクル２は、照明光に対して透
明な平行平板からなるレティクル基板２１と、レティク
ル基板２１と対向して配置された吸収部材である吸収板
２２とを、後述する接着剤によって接着した構造となっ
ている。ここで、レティクル基板２１は、両面研磨した
長方形の平行平板であり、吸収板２２は、レティクル基
板２１側を研磨した長方形の平板である。この投光用レ
ティクル２は、例えば中心波長約６６０ｎｍの照明光を
発生するＬＥＤと、このＬＥＤからの照明光を平行光束
として出射させるコリメータ光学系とを備える第１光源
７１によって照明されている。第１光源７１からの照明
光は、レティクル基板２１の縁端の１つに設けた入射面
２１ａを介してレティクル基板２１中に入射し、パター
ン層２ａを均一に照明する。このように照明されたパタ
ーン層２ａの第１レティクルパターンは、照明光を散乱
することによって視覚的に観察可能となる。一方、パタ
ーン層２ａを透過してレティクル基板２１の裏面から出
射した照明光は、吸収板２２に吸収される。なお、入射
面２１ａの斜めカットの角度は、第１光源７１からの照
明光が第１レティクルパターンを効率よく照明するよう
に設定される。

【００２１】ビームスプリッタ３は、一対のプリズムを
接合することによって形成されたものであり、接合面３
ａに多層膜からなるハーフミラーを挟んだ構造となって
いる。ビームスプリッタ３の固定レティクル５に対向す
る面にも、吸収板３１が張り付けられている。この吸収
板３１は、投光用レティクル２に設けた吸収板２２と同
一構造のものであり、この吸収板３１を固定する接着材
も吸収板２２をレティクル基板２１に固定したものと同
一のものである。この吸収板３１は、投光用レティクル
２から出射した散乱光のうちビームスプリッタ３に最初
に入射してハーフミラーで反射された光成分を吸収す
る。

【００２２】対物レンズ４は、投光用レティクル２のパ
ターン層２ａから焦点距離に対応する光路長だけ離れた
位置に配置されており、パターン層２ａの各点で散乱さ
れた照明光を平行光束にしてオートコリメータミラーＭ
に入射させるとともに、オートコリメータミラーＭで反
射された反射光を集光する。なお、オートコリメータミ
ラーＭは、被検物体に固定されており、実施形態の暗視
野型オートコリメータの光軸ＯＡに対する傾き角をωと
すると、パターン層２ａから出射して光軸ＯＡに平行に
進行する光を光軸に対して２ωの角度を有する反射光と
して出射する。

【００２３】固定レティクル５は、照明光に対して透明
な平行平板であるレティクル基板５１からなり、照明光
を出射する第２光源７２によって照明されている。第２
光源７２からの照明光は、レティクル基板５１の一側面
に設けた入射面５１ａを介してレティクル基板５１中に
入射し、パターン層５ａを均一に照明する。このように
照明されたパターン層５ａの第２レティクルパターン
は、照明光を散乱し、パターン層５ａを設けた裏面で全
反射された照明光は、レティクル基板５１の他の側面に
設けた吸収板（不図示）に吸収される。なお、第２光源
７２は、出射する照明光の中心波長が例えば約５５０ｎ
ｍである点を除き、第１光源７１とほぼ同一の構造を有
する。

【００２４】観察光学系６は、固定レティクル５を観察
するためのものであり、例えばビデオカメラ等を使用で
きるが、単なる接眼レンズとしてもよい。

【００２５】固定レティクル５には、オートコリメータ
ミラーＭで反射され、対物レンズ４で集光された反射光
がビームスプリッタ３を経て入射し、投光用レティクル
２に形成された第１レティクルパターンの暗視野照明像
がパターン層５ａに投影される。パターン層５ａは、第
２光源７２によって暗視野照明された第２レティクルパ
ターンを表示するので、観察光学系６によって第１レテ
ィクルパターンと第２レティクルパターンとの暗視野照
明像が重ね合わされた状態で観察される。

【００２６】図２は、第１及び第２レティクルパターン
の観察状態の一例を説明する図である。十字の第１レテ
ィクルパターン像ＩＭ1は赤色で表示され、スケール状
の第２レティクルパターン像ＩＭ2は緑色で表示され
る。第１レティクルパターン像ＩＭ1が第２レティクル
パターン像ＩＭ2に対して各軸方向にずれている量を計
測し適当な係数で換算することにより、オートコリメー
タミラーＭすなわち被検物体の光軸ＯＡに対する傾き角
ωを算出することができる。なお、傾き角ωは、対物レ
ンズ４の焦点距離をｆとし、固定レティクル５上での両
パターンの位置ずれをｙとした場合、 ω＝２ｔａｎ^-1（ｙ／ｆ）で与えられる。

【００２７】図３は、投光用レティクル２の構造を説明
する図である。図３（ａ）は側方の断面構造を示し、図
３（ｂ）は正面構造を示し、図３（ｃ）は側方の部分拡
大断面図である。

【００２８】投光用レティクル２は、照明光に対して透
明なレティクル基板２１と、照明光を吸収する吸収板２
２と、レティクル基板２１及び吸収板２２の間に充填さ
れて両者を接着する充填部材である接着層２３とを備え
る。レティクル基板２１の接着層２３側の面には、化学
的な処理により溝２１ｃが刻設されている。この溝２１
ｃには、光散乱物質として例えば白色塗料等が埋め込ま
れており、正面から見ると十字の第１レティクルパター
ンＰＡ1を形成する。

【００２９】レティクル基板２１は光学ガラスからな
り、吸収板２２は色素を混入させたガラスからなり、接
着層２３は透明な樹脂材料からなる。ここで、照明光波
長において、レティクル基板２１の屈折率は例えば１．
５２であり、吸収板２２の屈折率は例えば１．５４であ
り、接着層２３の屈折率は例えば１．５０である。つま
り、レティクル基板２１と接着層２３の屈折率界面ＩＦ
1の屈折差は０．１以下であり、吸収板２２と接着層２
３の屈折率界面ＩＦ2の屈折差も０．１以下である。そ
して、両屈折率界面ＩＦ1、ＩＦ2における反射率は、垂
直入射成分についてそれぞれ０．００４％、０．０２％
である。このことは、レティクル基板２１にビームスプ
リッタ３側から入射した光が、ほとんど反射されること
なく吸収板２２に至り、ここで吸収されることを意味す
る。

【００３０】以下、図１及び図３に示す暗視野型オート
コリメータの動作について説明する。実施形態の暗視野
型オートコリメータでは、第１光源７１によって投光用
レティクル２が暗視野照明され、第１レティクルパター
ンＰＡ1からの散乱光が、ビームスプリッタ３を介して
対物レンズ４に導かれ、対物レンズ４でコリメートされ
た散乱光は、オートコリメータミラーＭに投影される。
オートコリメータミラーＭからの反射光は、対物レンズ
４及びビームスプリッタ３を介して固定レティクル５に
パターン像ＩＭ1として投影される。固定レティクル５
では、第１光源７１によって第２レティクルパターンが
暗視野照明される。観察光学系６によって投光用レティ
クル２のパターン像ＩＭ1と固定レティクル５のパター
ン像ＩＭ2とのずれを計測することにより、オートコリ
メータミラーＭの光軸ＯＡに対する傾き角度を検出する
ことができる。

【００３１】ここで、レティクル基板２１と接着層２３
の屈折率界面ＩＦ1での反射率が０．００４％であり、
吸収板２２と接着層２３の屈折率界面ＩＦ2での反射率
が０．０２％であるので、両屈折率界面における照明光
の反射は極めて少ない。よって、オートコリメータミラ
ーＭからの戻り光が対物レンズ４及びビームスプリッタ
３を介して投光用レティクル２に逆行して第１レティク
ルパターンＰＡ1近傍の屈折率界面ＩＦ1、ＩＦ2に入射
しても、ここでは反射光がほとんど生じない。つまり、
投光用レティクル２への戻り光が、この投光用レティク
ル２でほとんど吸収されるので、迷光が発生することを
防止でき、固定レティクル５にゴースト像が投影される
ことを防止できる。

【００３２】なお、第１レティクルパターンＰＡ1をク
ロム成膜面で形成すると、このクロム成膜面での反射に
起因して強いゴーストが発生する。図４は、ゴーストの
発生機構を説明する図である。この場合、従来型の暗視
野型オートコリメータを用いている。すなわち、図１に
示す投光用レティクル２の代わりに、裏面９０２ａにク
ロム膜をエッチングした第１レティクルパターンからな
る投光用レティクル９０２を使用する。オートコリメー
タミラーＭからの反射光は、ビームスプリッタ３によっ
て分配され一部（実線）は、計測光として固定レティク
ル５側に向かうが、残り（点線）は、投光用レティクル
２側に戻る。投光用レティクル２に戻った光は、その裏
面９０２ａ側のクロム面上に結像し、ここで反射され
る。この反射光は、再度オートコリメータミラーＭで反
射された後、ビームスプリッタ３を経て固定レティクル
５上に結像し、第２レティクルパターンのゴースト像と
なる。図からも明らかなように、このゴーストは、オー
トコリメータミラーＭの傾斜角度に関係なく、そのパタ
ーン中心が必ず固定レティクル５のパターン中心と重な
るように結像してしまう。

【００３３】図５は、ゴースト像を含むレティクルパタ
ーン像の観察を説明する図である。投光用レティクル２
に対応する第１レティクルパターン像ＩＭ1は、オート
コリメータミラーＭの傾斜角に対応した量だけ、第２レ
ティクルパターン像ＩＭ2の中心から位置ずれした位置
に観察される。一方、第１レティクルパターンのゴース
ト像ＩＭGは、第１レティクルパターン像ＩＭ1に対応す
る形状を有し、第２レティクルパターンＩＭ2と重なっ
た状態で観察される。

【００３４】以上実施形態に即して本発明を説明した
が、本発明は、上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、上記実施形態では、投光用レティクル２か
らの光をビームスプリッタ３に入射させて透過させ、オ
ートコリメータミラーＭからの反射光をビームスプリッ
タ３に入射させて反射させているが、逆に、投光用レテ
ィクル２からの光をビームスプリッタ３に入射させて反
射させることにより対物レンズ４に導き、オートコリメ
ータミラーＭからの反射光をビームスプリッタ３に入射
させて透過させることによって固定レティクル５に導く
ことも可能である。

【００３５】投光用レティクル２の構造も、第１レティ
クルパターンＰＡ1近傍の屈折率界面が０．１以下とな
るものであれば、上記実施形態の構造に限られない。

【００３６】図６（ａ）〜図（ｃ）は、図３に示す投光
用レティクル２の構造の変形例を示す。図６（ａ）の場
合、投光用レティクル１０２は、照明光に対して透明な
レティクル基板１２１と、照明光を吸収する黒色塗料等
の吸収部材１２２とからなる。レティクル基板１２１の
吸収部材１２２側の面には、白色塗料等の光散乱物質か
らなる第１レティクルパターンＰＡ1が埋め込むように
形成されている。この場合も、第１レティクルパターン
ＰＡ1を暗視野照明することができ、レティクル基板１
２１と吸収部材１２２との屈折率界面の屈折率差が０．
１以下であれば、この投光用レティクル１０２への戻り
光に起因するゴーストの発生を防止できる。

【００３７】図６（ｂ）の場合、投光用レティクル２０
２は、照明光に対して透明なレティクル基板２２１と、
照明光を吸収する黒色塗料等の吸収板２２２と、レティ
クル基板２２１及び吸収板２２２の間に充填されて両者
を接着する接着層２２３とからなる。吸収板２２２のレ
ティクル基板２２１側の面には、白色塗料等の光散乱物
質からなる第１レティクルパターンＰＡ1が埋め込むよ
うに形成されている。この場合も、第１レティクルパタ
ーンＰＡ1を暗視野照明することができ、レティクル基
板２２１と接着層２２３の屈折率差、及び吸収板２２２
と接着層２２３の屈折率差がそれぞれ０．１以下であれ
ば、この投光用レティクル２０２への戻り光に起因する
ゴーストの発生を防止できる。

【００３８】図６（ｃ）の場合、投光用レティクル３０
２は、照明光に対して透明なレティクル基板３２１と、
照明光を吸収する黒色塗料等の吸収板３２２と、レティ
クル基板３２１及び吸収板３２２の間に充填されて両者
を接着する接着層３２３とからなる。吸収板３２２のレ
ティクル基板３２１側の面には、白色塗料等の光散乱物
質からなる第１レティクルパターンＰＡ1が突起するよ
うに形成されている。この場合も、第１レティクルパタ
ーンＰＡ1を暗視野照明することができ、レティクル基
板２２１と接着層２２３の屈折率差、及び吸収板２２２
と接着層２２３の屈折率差がそれぞれ０．１以下であれ
ば、この投光用レティクル１０２への戻り光に起因する
ゴーストの発生を防止できる。

【００３９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の暗視野型オートコリメータによれば、投光用レティク
ルが、照明光を散乱する第１レティクルパターンを有
し、当該第１レティクルパターン近傍に設けられた光軸
に垂直な屈折率界面の屈折率差が所定値以下であるの
で、この屈折率界面における照明光の反射を低減するこ
とができる。すなわち、投光用レティクルの第１レティ
クルパターン像を固定レティクルの第２レティクルパタ
ーンに投影した場合に、オートコリメータミラーからの
戻り光が対物レンズ及び光分岐手段を介して投光用レテ
ィクルに逆行して第１レティクルパターン近傍の屈折率
界面に入射しても、ここで反射光がほとんど生じないの
で、第１レティクルパターンをクロム成膜面で形成して
いた従来例で生じていたようなゴーストの発生を簡易に
抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態の暗視野型オートコリメータの全体構
造を示す図である。

【図２】図１の光学系によるレティクルパターンの観察
状態の一例を説明する図である。

【図３】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は図１の光学系に組み
込まれる投光用レティクルの構造を説明する図である。

【図４】ゴーストの発生を説明する図である。

【図５】ゴーストを含むレティクルパターンの観察状態
の一例を説明する図である。

【図６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は投光用レティクルの
変形例を説明する断面図である。

【符号の説明】

２投光用レティクル３ビームスプリッタ４対物レンズ５固定レティクル６観察光学系２１レティクル基板２２吸収板２３接着層７１第１光源７２第２光源ＭオートコリメータミラーＯＡ光軸ＰＡ1 第１レティクルパターン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】照明光を散乱する第１レティクルパター
ンを有し、当該第１レティクルパターン近傍に設けられ
た光軸に垂直な屈折率界面の屈折率差が所定値以下であ
る投光用レティクルと、第２レティクルパターンを有する固定レティクルと、前記投光用レティクルからの光を対物レンズに導くとと
もに、当該対物レンズからの光を前記固定レティクルに
導く光分岐手段とを備える暗視野型オートコリメータ。
【請求項２】前記投光用レティクルは、前記照明光に
対して透明な媒質からなり前記第１レティクルパターン
を形成した研磨面を有するレティクル基板と、前記照明
光を吸収する媒質からなり前記研磨面に対向して配置さ
れた吸収部材とを有することを特徴とする請求項１記載
の暗視野型オートコリメータ。
【請求項３】前記投光用レティクルは、前記レティク
ル基板と前記吸収部材との間に充填される充填部材をさ
らに備えることを特徴とする請求項２記載の暗視野型オ
ートコリメータ。
【請求項４】前記レティクル基板の屈折率をｎ₁、前
記充填部材の屈折率をｎ₂、前記吸収部材の屈折率をｎ₃
としたとき、前記照明光の波長範囲において、｜ｎ₁−ｎ₂｜＜０．１、かつ、｜ｎ₂−ｎ₃｜＜０．１の関係が成立していることを特徴とする請求項３記載の
暗視野型オートコリメータ。