JP2001194387A - コンタクトプローブおよびその製造方法 - Google Patents

コンタクトプローブおよびその製造方法

Info

Publication number
JP2001194387A
JP2001194387A JP2000002975A JP2000002975A JP2001194387A JP 2001194387 A JP2001194387 A JP 2001194387A JP 2000002975 A JP2000002975 A JP 2000002975A JP 2000002975 A JP2000002975 A JP 2000002975A JP 2001194387 A JP2001194387 A JP 2001194387A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
common
contact probe
pattern
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000002975A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuji Fujimori
周司 藤森
Toshinori Ishii
利昇 石井
Yoshiaki Kawakami
喜章 川上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2000002975A priority Critical patent/JP2001194387A/ja
Publication of JP2001194387A publication Critical patent/JP2001194387A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンタクトプローブおよびその製造方法にお
いて、ビアホールが作製し難い多ピンかつ狭ピッチのコ
ンタクトプローブや小さなコンタクトプローブでもグラ
ウンドラインやパワーライン等の共通化を図ること。 【解決手段】 複数のパターン配線9がフィルム本体8
の表面上に形成されこれらのパターン配線の各先端がフ
ィルム本体の先端部から突出状態に配されてコンタクト
ピン9aとされるコンタクトプローブ7であって、前記
フィルム本体のパターン配線側には、複数の前記パター
ン配線のうち一部のパターン配線GNDに接触しこれら
を互いに電気的に接続させる共通配線11を絶縁層12
の表面に形成した配線共通化部材13が張り付けられて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プローブピンやソ
ケットピン等として用いられ、半導体ICチップや液晶
デバイス等の各端子に接触して電気的なテストを行うコ
ンタクトプローブおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ又はLCD(液晶デバイス)の各端子に接
触させて電気的なテストを行うために、コンタクトピン
が用いられている。近年、ICチップ等の高集積化およ
び微細化に伴って電極であるコンタクトパッドが狭ピッ
チ化されるとともに、コンタクトピンの多ピン狭ピッチ
化が要望されている。しかしながら、コンタクトピンと
して用いられていたタングステン針のコンタクトプロー
ブでは、タングステン針の径の限界から多ピン狭ピッチ
への対応が困難になっていた。
【0003】これに対して、例えば、特公平7−820
27号公報に、複数のパターン配線が樹脂フィルム上に
形成されこれらのパターン配線の各先端部が前記樹脂フ
ィルムから突出状態に配されてコンタクトピンとされる
技術が提案されている。この技術例は、複数のパターン
配線の先端部をコンタクトピンとすることによって、多
ピン狭ピッチ化を図るものである。
【0004】従来のコンタクトプローブ1は、図6の
(a)(b)に示すように、ポリイミド樹脂フィルム2
の片面にNi(ニッケル)またはNi合金で形成される
パターン配線3を張り付けた構造となっており、樹脂フ
ィルム2の端部からパターン配線3の先端部が突出して
コンタクトピン3aとされている。このコンタクトプロ
ーブ1は、パターン配線3の後端側をプリント基板の電
極に接触させ、パターン配線3から得られた信号をプリ
ント基板の電極を通して外部の検査装置等に伝えること
ができるようになっている。
【0005】前記ポリイミド樹脂フィルム2には、予め
Cu(銅)からなる金属フィルムのグラウンド層4gお
よびパワー層4pがそれぞれ絶縁層4iを介して張り付
けられたものがあり、これらのグラウンド層4gおよび
パワー層4pは、IC等のグラウンドパッドおよびパワ
ーパッドに対応するライン、すなわちパターン配線3の
中のグラウンドラインGNDおよびパワーラインPWR
をそれぞれショートさせて共通化し、ノイズ低減等を図
るために設けられたものである。従来は、グラウンド層
4gおよびパワー層4pとグラウンドラインGNDおよ
びパワーラインPWRとをそれぞれ電気的に接続させ、
ノイズ低減効果を向上させるためにコンタクトピン3a
側でビアホールBHを介して互いに導通を図っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のコンタクトプローブ技術には、以下のような課題が
残されている。すなわち、グラウンド層4gおよびパワ
ー層4pとグラウンドラインGNDおよびパワーライン
PWRとの接続を図るためにビアホールBHを用いてい
るが、ビアホールBHを作製するにはビアホールBHを
覆うNiパターンが必要になり、そのパターンがパター
ン配線3の2〜3倍となり、配線設計上のスペースを確
保し難いという不都合がある。特に、コンタクトプロー
ブが小型であったり、マルチダイ対応のプローブカード
として用いる場合には、大きさが制限されるため、ビア
ホールのスペースを確保することができず、グラウンド
ラインやパワーラインの共通化を図ることが困難であっ
た。
【0007】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、ビアホールが作製し難い多ピンかつ狭ピッチのコ
ンタクトプローブや小さなコンタクトプローブでもグラ
ウンドラインやパワーライン等の共通化を図ることがで
きるコンタクトプローブおよびその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明
のコンタクトプローブは、複数のパターン配線がフィル
ム本体の表面上に形成されこれらのパターン配線の各先
端がフィルム本体の先端部から突出状態に配されてコン
タクトピンとされるコンタクトプローブであって、前記
フィルム本体のパターン配線側には、複数の前記パター
ン配線のうち一部のパターン配線に接触しこれらを互い
に電気的に接続させる共通配線を絶縁層の表面に形成し
た配線共通化部材が張り付けられていることを特徴とす
る。
【0009】このコンタクトプローブでは、フィルム本
体のパターン配線側に、複数のパターン配線のうち一部
のパターン配線に接触しこれらを互いに電気的に接続さ
せる共通配線を絶縁層の表面に形成した配線共通化部材
が張り付けられているので、フィルム本体にビアホール
を形成する必要が無く、ビアホールが作製し難い多ピン
かつ狭ピッチのコンタクトプローブや小さい形状でもグ
ラウンドラインやパワーライン等を共通配線で電気的に
接続させることができる。
【0010】また、本発明のコンタクトプローブは、前
記一部のパターン配線を、グラウンドラインまたはパワ
ーラインの一方若しくはその両方とすると、小さな形状
のコンタクトプローブでもグラウンドラインやパワーラ
インの共通化を図ってノイズの低減等を行うことができ
る。
【0011】また、本発明のコンタクトプローブは、前
記配線共通化部材が、前記共通配線が前記一部のパター
ン配線に接触する位置より後端側で前記パターン配線か
ら離間するように折り曲げられていることが好ましい。
このコンタクトプローブでは、配線共通化部材が、共通
配線が一部のパターン配線に接触する位置より後端側で
パターン配線から離間するように折り曲げられているの
で、他のパターン配線と共通配線との接触を防ぐことが
できる。
【0012】また、本発明のコンタクトプローブは、前
記配線共通化部材と前記フィルム本体との間に、前記共
通配線が前記一部のパターン配線に接触する位置より後
端側で絶縁シートが挿入されていることが好ましい。こ
のコンタクトプローブでは、配線共通化部材とフィルム
本体との間に、共通配線が前記一部のパターン配線に接
触する位置より後端側で絶縁シートが挿入されているの
で、他のパターン配線と共通配線との接触を防ぐことが
できる。
【0013】また、本発明のコンタクトプローブは、前
記フィルム本体が、その裏面側に金属フィルムが張り付
けられ、前記共通配線が、前記金属フィルムに配線用電
線で接続されていることが好ましい。このコンタクトプ
ローブでは、フィルム本体の裏面側に金属フィルムが張
り付けられ、共通配線が、金属フィルムに配線用電線で
接続されているので、共通配線と金属フィルムとを容易
に接続することができるとともに、シグナルラインであ
るパターン配線が金属フィルムと共通配線とで挟まれた
状態になり、さらにノイズの発生を抑制することができ
る。
【0014】また、本発明のコンタクトプローブは、前
記配線共通化部材が、前記絶縁層の裏面側に金属層が形
成され、前記共通配線は、前記絶縁層を貫通して前記金
属層にまで形成されたビアホールを介して金属層に電気
的に接続されていることが好ましい。このコンタクトプ
ローブでは、配線共通化部材における絶縁層の裏面側に
金属層が形成され、共通配線が、絶縁層を貫通して金属
層にまで形成されたビアホールを介して金属層に電気的
に接続されているので、パターン配線が多数形成されて
いるフィルム本体に比べて、共通配線だけの配線共通化
部材には、スペースに余裕があり小さなコンタクトプロ
ーブでもビアホールを形成することができる。したがっ
て、表面側に形成された金属層で共通配線をショートさ
せることができ、プリント基板等とのラインの接続を金
属層から行うことができる。
【0015】また、本発明のコンタクトプローブは、前
記絶縁層に、前記共通配線が前記一部のパターン配線に
接触する位置に開口した窓部が設けられていることが好
ましい。このコンタクトプローブでは、絶縁層に、共通
配線が前記一部のパターン配線に接触する位置に開口し
た窓部が設けられているので、共通配線とパターン配線
とを接触させる際に、窓部から両者の位置を確認できる
とともに、半田付け等を行うことが可能になる。
【0016】本発明のコンタクトプローブの製造方法
は、複数のパターン配線をフィルム本体の表面上に形成
しこれらのパターン配線の各先端をフィルム本体の先端
部から突出状態に配してコンタクトピンとするコンタク
トプローブの製造方法であって、複数の前記パターン配
線のうち一部のパターン配線に接触しこれらを互いにシ
ョートさせる共通配線を絶縁層の表面に形成した配線共
通化部材を製造する共通化部材製造工程と、前記配線共
通化部材を前記フィルム本体のパターン配線側に張り付
ける張付工程とを備え、前記共通化部材製造工程は、基
板層の上に前記共通配線の材質に被着または結合する材
質の第1の金属層を形成する第1の金属層形成工程と、
前記第1の金属層の上にマスクを施してマスクされてい
ない部分に、前記共通配線に供される第2の金属層をメ
ッキ処理により形成するメッキ処理工程と、前記マスク
を取り除いた第2の金属層の上に前記絶縁層を被着する
絶縁層被着工程と、前記絶縁層と第2の金属層とからな
る部分と、前記基板層と第1の金属層とからなる部分と
を分離する分離工程とを備えていることを特徴とする。
【0017】このコンタクトプローブの製造方法では、
第1の金属層の上にマスクを施してマスクされていない
部分に、前記共通配線に供される第2の金属層をメッキ
処理により形成するので、フィルム本体に形成するパタ
ーン配線と同様に、リソグラフィ技術によって高精度な
共通配線を形成することができる。
【0018】また、本発明のコンタクトプローブの製造
方法は、前記共通化部材製造工程において、前記共通配
線が前記一部のパターン配線に接触する位置に開口した
窓部を前記絶縁層に形成するとともに、前記共通配線の
前記一部のパターン配線と接触する部分で該パターン配
線よりも線幅を狭く形成し、前記張付工程において、前
記パターン配線と前記共通配線とを前記接触する部分で
半田付けすることが好ましい。このコンタクトプローブ
の製造方法では、共通配線が、前記一部のパターン配線
と接触する部分で該パターン配線よりも線幅が狭く形成
され、パターン配線と半田剤で接着されるので、共通配
線とパターン配線を接触させた際に共通配線に隠れるこ
となくパターン配線を確認することができるとともに、
共通配線とパターン配線とで段差部分が生じて半田剤を
盛りやすくなり、容易にかつ確実に互いを接着すること
ができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るコンタクトプ
ローブおよびその製造方法の第1実施形態を、図1およ
び図2を参照しながら説明する。これらの図にあって、
符号7はコンタクトプローブ、8はフィルム本体、10
はプローブ本体、13は配線共通化フィルムを示してい
る。
【0020】第1実施形態のコンタクトプローブ7は、
図1に示すように、フィルム本体8の表面に金属で形成
されるパターン配線9を張り付けたプローブ本体10
と、フィルム本体8のパターン配線9側に、複数のパタ
ーン配線9のうちグラウンドラインGNDに接触しこれ
らを互いに電気的に接続させる共通配線11を絶縁層1
2の表面に形成した配線共通化フィルム(配線共通化部
材)13とを備え、該配線共通化フィルム13は、プロ
ーブ本体10に張り付けられて構成されている。そし
て、フィルム本体8の先端部からは、パターン配線9の
先端が突出してコンタクトピン9aとされている。
【0021】前記フィルム本体8は、パターン配線9が
形成された表面側に配されたポリイミド樹脂の樹脂フィ
ルム14と、裏面側に配された金属フィルムのグラウン
ド層15gと、グラウンド層15g上にポリイミドテー
プの中間絶縁層15iを介して配された金属フィルムの
パワー層15pとを張り合わせて設けられている。すな
わち、フィルム本体8は、樹脂フィルムと金属フィルム
とが一体に設けられた4層テープである。上記各金属フ
ィルムは、熱および水分によって変形し難いものが好ま
しく、例えば、Ni、Ni合金、Cu(銅箔)またはC
u合金のうちいずれかのものが好適である。前記パター
ン配線9は、Ni合金(第2の金属層)で形成され、ま
たコンタクトピン9aは、表面にAuが皮膜されて構成
されている。
【0022】前記配線共通化フィルム13は、共通配線
11がグラウンドラインGNDに接触する位置より後端
側でパターン配線9のシグナルラインSIGから離間す
るように折り曲げられ、段部13aが形成されている。
各グラウンドラインGNDに先端が接触された各共通配
線11は、半田付けによりグラウンドラインGNDに接
着されるとともに、後端が配線共通化フィルム13の後
端側に設けられた共通化領域11aでショートさせられ
ている。また、絶縁層12の共通化領域11aに相当す
る部分には、接続用窓部12aが形成され、該接続用窓
部12aを介して共通化領域11aとグラウンド層15
gとは、配線用電線Y1で接続されている。
【0023】本実施形態では、フィルム本体8のパター
ン配線9側に、グラウンドラインGNDに接触しこれら
を互いに電気的に接続させる共通配線11を絶縁層12
の表面に形成した配線共通化フィルム13が張り付けら
れているので、フィルム本体8にビアホールを形成する
必要が無く、ビアホールが作製し難い多ピンかつ狭ピッ
チのコンタクトプローブや小さい形状でもグラウンドラ
イン等を共通配線11で電気的に接続させることがで
き、ノイズの低減等を図ることができる。
【0024】また、配線共通化フィルム13は、共通配
線11がグラウンドラインGNDに接触する位置より後
端側でパターン配線9から離間するように折り曲げられ
ているので、他のパターン配線9と共通配線11との接
触を防ぐことができる。
【0025】次に、本実施形態のコンタクトプローブ7
の作製工程について、図2を参照して工程順に説明す
る。なお、プローブ本体10および配線共通化フィルム
13の作製工程を併せて説明する。
【0026】〔ベースメタル層形成工程〕プローブ本体
10および配線共通化フィルム13のいずれの場合も、
まず、図2の(a)に示すように、ステンレス製の支持
金属板(基板層)16の上に、Cu(銅)メッキにより
ベースメタル層(第1の金属層)17を形成する。
【0027】〔パターン形成工程〕このベースメタル層
17の上にフォトレジスト層18を形成した後、図2の
(b)に示すように、フォトレジスト層18に所定のパ
ターンのマスクMを施して露光し、図2の(c)に示す
ように、フォトレジスト層18を現像してパターン配線
9または共通配線11となる部分を除去して残存するフ
ォトレジスト層(マスク)18に開口部18aを形成す
る。
【0028】〔電解メッキ工程〕そして、図2の(d)
に示すように、開口部18aにパターン配線9または共
通配線11となるNiまたはNi合金層(第2の金属
層)Nをメッキ処理により形成した後、図2の(e)に
示すように、フォトレジスト層18を除去する。
【0029】〔フィルム被着工程〕次に、プローブ本体
10を作製する場合は、図2の(f)に示すように、N
iまたはNi合金層Nの上であって、図に示したパター
ン配線9の先端部、すなわちコンタクトピン9aとなる
部分以外に、フィルム本体8を接着剤eにより接着す
る。このフィルム被着工程では、4層テープのうちの樹
脂フィルム14を接着剤eを介してNi合金層Nに被着
させる。このフィルム本体8は、樹脂フィルム14にグ
ラウンド層15g、中間絶縁層15iおよびパワー層1
5pが一体に設けられた4層テープである。このフィル
ム被着工程の前までに、4層テープのうちの樹脂フィル
ム14上に銅層を形成し、写真製版技術を用いた銅エッ
チングを施して、グラウンド層15gを形成するととも
に、該グラウンド層15gに中間絶縁層15iを張り付
けた後、該中間絶縁層15i上にグラウンド層15gと
同様にしてパワー層15pを形成しておく。
【0030】〔絶縁層被着工程〕一方、配線共通化フィ
ルム13を作製する場合は、NiまたはNi合金層Nの
上であって、共通配線11上にポリイミド樹脂で所定形
状に形成された絶縁層12を接着剤eにより接着する。
【0031】〔分離工程〕そして、プローブ本体10お
よび配線共通化フィルム13のいずれの場合も、図2の
(g)に示すように、フィルム本体8とパターン配線9
とベースメタル層17とからなる部分または絶縁層12
と共通配線11とベースメタル層17とからなる部分
を、支持金属板16から分離させた後、Cuエッチおよ
び超音波洗浄を経て、図2の(h)に示すように、フィ
ルム本体8にパターン配線9のみを接着させた状態また
は絶縁層12に共通配線11のみを接着させた状態とす
る。
【0032】〔金コーティング工程〕そして、プローブ
本体10を作製する場合は、露出状態のパターン配線9
に、Auメッキを施し表面にAu層を形成する。このと
き、フィルム本体8から突出状態とされたコンタクトピ
ン9aでは、全周に亙る表面全体にAu層が形成され
る。
【0033】この後、プローブ本体10の場合は、IC
用プローブとして所定形状に切り出し、配線共通化フィ
ルム13の場合は、プローブ本体10に対応した所定形
状に切り出される。
【0034】なお、配線共通化フィルム13は、切り出
された後に、後述する張付工程で共通配線11がグラウ
ンドラインGNDに接触する位置より後端側でパターン
配線9のシグナルラインSIGから離間するように、治
具等によって折り曲げられ、段部13aが形成される。
【0035】〔配線共通化フィルム張付工程〕上記のよ
うに作製されたフィルム本体8と配線共通化フィルム1
3とを、パターン配線9中の複数のグラウンドラインG
NDにそれぞれ対応する複数の共通配線11を接触さ
せ、さらに半田付けによって互いに接着させる。また、
フィルム本体8と絶縁層12とを、互いに両側部の接着
領域8aで接着剤で接着する。さらに、共通化グラウン
ド層(共通配線11)とグラウンド層15gとを配線用
電線Y1で接続することにより、コンタクトプローブ7
が作製される。
【0036】このように本実施形態のコンタクトプロー
ブの製造方法では、ベースメタル層17の上にマスクを
施してマスクされていない部分に、共通配線11に供さ
れるNiまたはNi合金層Nをメッキ処理により形成す
るので、フィルム本体8に形成するパターン配線9と同
様に、リソグラフィ技術によって高精度な共通配線11
を形成することができる。
【0037】次に、本発明に係るコンタクトプローブの
第2実施形態を、図3から図5を参照しながら説明す
る。
【0038】第2実施形態と第1実施形態との異なる点
は、第1実施形態では共通配線11と絶縁層12との2
層構造の配線共通化フィルム13をプローブ本体10に
張り付けているのに対し、第2実施形態のコンタクトプ
ローブ21は、共通配線22と絶縁層23と該絶縁層2
3の裏面側に張り付けられた共通グラウンド層(金属
層)24との3層構造の配線共通化フィルム25をプロ
ーブ本体26に張り付けている点である。これによりフ
ィルム本体のSIGラインはグラウンド層に挟まれ、ノ
イズの低減に効果を得る。
【0039】また、第2実施形態の配線共通化フィルム
25では、共通配線22が、絶縁層23を貫通して共通
グラウンド層24にまで形成されたビアホールBH1を
介して共通グラウンド層24と電気的に接続されてい
る。そして、共通グラウンド層24には、該共通グラウ
ンド層24と図示しないPCB(プリント基板)のグラ
ウンドパッドとを電気的に接続する配線用電線Y2が接
続されている。すなわち、グラウンドラインGNDは、
共通配線22、ビアホールBH1、共通グラウンド層2
4および配線用電線Y2を介してPCBに接続される。
【0040】さらに、配線共通化フィルム25とプロー
ブ本体26との間には、共通配線22がグラウンドライ
ンGNDに接触する位置より後端側でポリイミド樹脂等
の絶縁シート28が挿入されている。また、絶縁層23
および共通グラウンド層24には、共通配線22がグラ
ウンドラインGNDに接触する位置に開口した接合用窓
部25aが設けられ、図4および図5に示すように、こ
の位置でグラウンドラインGNDと共通配線22とは半
田剤27で接合されている。なお、プローブ本体26
は、パターン配線9が設けられた樹脂フィルム14にグ
ラウンド層15gが張り付けられた2層テープである。
【0041】本実施形態のコンタクトプローブ21を製
造する際には、絶縁シート28を挟んだ状態で、接合用
窓部25aにおいてグラウンドラインGNDと共通配線
22とを半田付けするので、接着する部分を確認しなが
ら容易に作業を行うことができる。なお、図5に示すよ
うに、共通配線22のグラウンドラインGNDと接触す
る部分で、該グラウンドラインGNDよりも線幅を狭く
形成しておくことにより、共通配線22にグラウンドラ
インGNDが完全に隠れてしまうことがないとともに、
共通配線22とグラウンドラインGNDとで段差部分が
生じて半田剤27を盛りやすくなり、確実に互いを接着
することができる。
【0042】なお、本発明は、次のような実施形態をも
含むものである。上記各実施形態においては、各グラウ
ンドラインGNDに接触させ各グラウンドラインGND
を電気的に共通化する共通配線を設けたが、他のパター
ン配線、例えば各パワーラインPWRに接触させ各パワ
ーラインPWRを電気的に共通化する共通配線を設けて
も構わない。
【0043】また、コンタクトプローブをプローブカー
ドであるプローブ装置に適用したが、他の測定用治具等
に採用しても構わない。例えば、ICチップを内側に保
持して保護し、ICチップのバーンインテスト用装置等
に搭載されるICチップテスト用ソケット等に適用して
もよい。さらに、前記コンタクトプローブをLCD用の
所定形状に切り出してLCD用のプローブ装置に組み込
んでも構わない。
【0044】
【発明の効果】本発明のコンタクトプローブによれば、
フィルム本体のパターン配線側に、複数のパターン配線
のうち一部のパターン配線に接触しこれらを互いに電気
的に接続させる共通配線を絶縁層の表面に形成した配線
共通化部材が張り付けられているので、フィルム本体に
ビアホールを形成する必要が無く、ビアホールが作製し
難い多ピンかつ狭ピッチのコンタクトプローブや小さい
形状でも、グラウンドラインやパワーライン等を共通配
線で電気的に接続させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るコンタクトプローブおよびその
製造方法の第1実施形態において、コンタクトプローブ
を示す断面図およびパターン配線と共通配線との位置関
係を示す平面図である。
【図2】 本発明に係るコンタクトプローブおよびその
製造方法の第1実施形態における製造方法を工程順に示
す要部断面図である。
【図3】 本発明に係るコンタクトプローブおよびその
製造方法の第2実施形態において、コンタクトプローブ
を示す断面図およびパターン配線と共通配線との位置関
係を示す平面図である。
【図4】 本発明に係るコンタクトプローブおよびその
製造方法の第2実施形態において、コンタクトプローブ
を示す共通グラウンド層側から見た平面図である。
【図5】 図4のA−A線矢視断面図である。
【図6】 本発明に係るコンタクトプローブおよびその
製造方法の従来例において、コンタクトプローブを示す
断面図およびパターン配線側から見た平面図である。
【符号の説明】
7、21 コンタクトプローブ 8 フィルム本体 9 パターン配線 9a コンタクトピン 11、22 共通配線 12、23 絶縁層 13、25 配線共通化フィルム(配線共通化部材) 14 樹脂フィルム 15g グラウンド層(金属フィルム) 15p パワー層 16 支持金属板(基板層) 17 ベースメタル層(第1の金属層) 18 フォトレジスト層(マスク) 22 共通グラウンド層(金属層) 25a 接合用窓部 27 半田剤 28 絶縁シート BH ビアホール GND グラウンドライン PWR パワーライン N NiまたはNi合金層(第2の金属層) Y1、Y2 配線用電線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川上 喜章 兵庫県三田市テクノパーク十二番地の六 三菱マテリアル株式会社三田工場内 Fターム(参考) 2G003 AA07 AG01 AG03 AG12 AH09 2G011 AA02 AA15 AA21 AB06 AB08 AB09 AC33 AE03 4M106 AA01 AA02 BA01 DD01 DD30 5E051 CA02 CA10

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のパターン配線がフィルム本体の表
    面上に形成されこれらのパターン配線の各先端がフィル
    ム本体の先端部から突出状態に配されてコンタクトピン
    とされるコンタクトプローブであって、 前記フィルム本体のパターン配線側には、複数の前記パ
    ターン配線のうち一部のパターン配線に接触しこれらを
    互いに電気的に接続させる共通配線を絶縁層の表面に形
    成した配線共通化部材が張り付けられていることを特徴
    とするコンタクトプローブ。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のコンタクトプローブにお
    いて、 前記一部のパターン配線は、グラウンドラインまたはパ
    ワーラインの一方若しくはその両方であることを特徴と
    するコンタクトプローブ。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載のコンタクトプロ
    ーブにおいて、 前記配線共通化部材は、前記共通配線が前記一部のパタ
    ーン配線に接触する位置より後端側で前記パターン配線
    から離間するように折り曲げられていることを特徴とす
    るコンタクトプローブ。
  4. 【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載のコン
    タクトプローブにおいて、 前記配線共通化部材と前記フィルム本体との間には、前
    記共通配線が前記一部のパターン配線に接触する位置よ
    り後端側で絶縁シートが挿入されていることを特徴とす
    るコンタクトプローブ。
  5. 【請求項5】 請求項1から4のいずれかに記載のコン
    タクトプローブにおいて、 前記フィルム本体は、その裏面側に金属フィルムが張り
    付けられ、 前記共通配線は、前記金属フィルムに配線用電線で接続
    されていることを特徴とするコンタクトプローブ。
  6. 【請求項6】 請求項1から5のいずれかに記載のコン
    タクトプローブにおいて、 前記配線共通化部材は、前記絶縁層の裏面側に金属層が
    形成され、 前記共通配線は、前記絶縁層を貫通して前記金属層にま
    で形成されたビアホールを介して金属層に電気的に接続
    されていることを特徴とするコンタクトプローブ。
  7. 【請求項7】 請求項1から6のいずれかに記載のコン
    タクトプローブにおいて、 前記絶縁層には、前記共通配線が前記一部のパターン配
    線に接触する位置に開口した窓部が設けられていること
    を特徴とするコンタクトプローブ。
  8. 【請求項8】 複数のパターン配線をフィルム本体の表
    面上に形成しこれらのパターン配線の各先端をフィルム
    本体の先端部から突出状態に配してコンタクトピンとす
    るコンタクトプローブの製造方法であって、 複数の前記パターン配線のうち一部のパターン配線に接
    触しこれらを互いにショートさせる共通配線を絶縁層の
    表面に形成した配線共通化部材を製造する共通化部材製
    造工程と、 前記配線共通化部材を前記フィルム本体のパターン配線
    側に張り付ける張付工程とを備え、 前記共通化部材製造工程は、基板層の上に前記共通配線
    の材質に被着または結合する材質の第1の金属層を形成
    する第1の金属層形成工程と、 前記第1の金属層の上にマスクを施してマスクされてい
    ない部分に、前記共通配線に供される第2の金属層をメ
    ッキ処理により形成するメッキ処理工程と、 前記マスクを取り除いた第2の金属層の上に前記絶縁層
    を被着する絶縁層被着工程と、 前記絶縁層と第2の金属層とからなる部分と、前記基板
    層と第1の金属層とからなる部分とを分離する分離工程
    とを備えていることを特徴とするコンタクトプローブの
    製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項8記載のコンタクトプローブの製
    造方法において、 前記共通化部材製造工程は、前記共通配線が前記一部の
    パターン配線に接触する位置に開口した窓部を前記絶縁
    層に形成するとともに、前記共通配線の前記一部のパタ
    ーン配線と接触する部分で該パターン配線よりも線幅を
    狭く形成し、 前記張付工程は、前記パターン配線と前記共通配線とを
    前記接触する部分で半田付けすることを特徴とするコン
    タクトプローブの製造方法。
JP2000002975A 2000-01-11 2000-01-11 コンタクトプローブおよびその製造方法 Pending JP2001194387A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000002975A JP2001194387A (ja) 2000-01-11 2000-01-11 コンタクトプローブおよびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000002975A JP2001194387A (ja) 2000-01-11 2000-01-11 コンタクトプローブおよびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001194387A true JP2001194387A (ja) 2001-07-19

Family

ID=18532003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000002975A Pending JP2001194387A (ja) 2000-01-11 2000-01-11 コンタクトプローブおよびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001194387A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7355862B2 (en) 2003-03-11 2008-04-08 The Furukawa Electric Co., Ltd. Printed wiring board, method of manufacturing the printed wiring board, lead frame package, and optical module
CN108627751A (zh) * 2017-03-23 2018-10-09 福特全球技术公司 功率模块测试装置
WO2020217729A1 (ja) * 2019-04-26 2020-10-29 日置電機株式会社 プローブ装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7355862B2 (en) 2003-03-11 2008-04-08 The Furukawa Electric Co., Ltd. Printed wiring board, method of manufacturing the printed wiring board, lead frame package, and optical module
US7832092B2 (en) 2003-03-11 2010-11-16 The Furukawa Electric Co., Ltd. Method of manufacturing a printed wiring board lead frame package
CN108627751A (zh) * 2017-03-23 2018-10-09 福特全球技术公司 功率模块测试装置
CN108627751B (zh) * 2017-03-23 2022-06-07 福特全球技术公司 功率模块测试装置
WO2020217729A1 (ja) * 2019-04-26 2020-10-29 日置電機株式会社 プローブ装置
US12000862B2 (en) 2019-04-26 2024-06-04 Hioki E.E. Corporation Probe apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6087716A (en) Semiconductor device package having a connection substrate with turned back leads and method thereof
US6372620B1 (en) Fabrication method of wiring substrate for mounting semiconductor element and semiconductor device
JP3458684B2 (ja) コンタクトプローブ
JP2001194387A (ja) コンタクトプローブおよびその製造方法
JPH10142259A (ja) コンタクトプローブの製造方法並びにそれを用いたコンタクトプローブおよびそれを備えたプローブ装置
JP3204146B2 (ja) コンタクトプローブおよびその製造方法、並びにコンタクトプローブを備えたプローブ装置
JP3936600B2 (ja) コンタクトプローブ及びその製造方法
JP2001349905A (ja) コンタクトプローブおよびその製造方法
JPH10339740A (ja) プローブ装置
JP2003057266A (ja) コンタクトプローブ及びその製造方法
JPH11326372A (ja) コンタクトプローブおよびプローブ装置
JPH11326376A (ja) レジストを用いた型及びその製造方法、コンタクトプローブ及びその製造方法
JP2955736B2 (ja) 半導体装置用多層セラミックパッケージ
JP4401627B2 (ja) コンタクトプローブの製造方法
JPH10221371A (ja) コンタクトプローブおよびその製造方法と前記コンタクトプローブを備えたプローブ装置
JP4520689B2 (ja) コンタクトプローブ、プローブ装置及びコンタクトプローブの製造方法
JPH10300783A (ja) コンタクトプローブおよびそれを備えたプローブ装置
JP2000055935A (ja) コンタクトプローブ
JP2000180471A (ja) ベアチップ検査用プローブ基板
JP2002228686A (ja) 破損防止機能を有するコンタクトプローブ及びプローブ装置
JP2009122123A (ja) コンタクトプローブ
JP2000230939A (ja) コンタクトプローブおよびその製造方法
JPH1172511A (ja) コンタクトプローブの製造方法
JPH11337579A (ja) コンタクトプローブ及びプローブ装置
JP3204090B2 (ja) 半導体チップテスト用コンタクトピン

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040223

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040223