JP2001181893A - 表面処理装置 - Google Patents

表面処理装置

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JP2001181893A
JP2001181893A JP2000313524A JP2000313524A JP2001181893A JP 2001181893 A JP2001181893 A JP 2001181893A JP 2000313524 A JP2000313524 A JP 2000313524A JP 2000313524 A JP2000313524 A JP 2000313524A JP 2001181893 A JP2001181893 A JP 2001181893A
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Masayuki Yoshimura
吉村　　公志
Takeshi Nishiuchi
武司 西内
Fumiaki Kikui
文秋 菊井
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Hitachi Metals Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ボンド磁石のような、軽くて強度が必ずしも高
くない被表面処理部材に対しても適用でき、接点跡のな
い均一なめっきを行えること。 【解決手段】円筒形状等の内周面を有する被表面処理部
材に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記被表
面処理部材を支持するとともに該被表面処理部材に回転
動作を与える支持部材を設け、前記被表面処理部材を前
記支持部材に押圧する加負荷部材を設けたことを特徴と
する表面処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、円筒形状等の内周
面を有する被表面処理部材に、表面処理を施す表面処理
装置に関し、特にＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石、とりわけ、
リング状ボンド磁石や円柱状ボンド磁石に対して電気め
っきを施す際に有用な表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表される
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、資源的に豊富で安価な材料
が用いられ、かつ、高い磁気特性を有していることか
ら、今日様々な分野で使用されている。しかしながら、
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は大気中で酸化腐食されやすい
ＲとＦｅを含むため、何の表面処理をも行わずに使用し
た場合には、わずかな酸やアルカリや水分などの存在に
よって表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴っ
て、磁石特性の劣化やばらつきを生じるという問題点を
有している。
【０００３】上記の問題点を解消すべく、従来から磁石
表面に耐酸化性皮膜として金属めっき皮膜や樹脂塗装を
施す方法などが採用されており、例えば、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系永久磁石表面に電気めっきによって耐食性皮膜を形成
する方法として、網籠の中に被めっき部材を入れ、該網
籠を回転しながらめっきを行う方法（バレル方式）や、
被めっき部材を陰電極に接続した導電性支持部材に支持
させてめっきを行う方法（ラック方式）などが採用され
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のバレル方式によ
る電気めっきやラック方式による電気めっきは汎用性に
すぐれているものの、前者の方法では、磁石自体の強度
が必ずしも高くないボンド磁石に適用した場合、磁石の
割れや欠けを生じることがあるという問題点を有してい
る。また、後者の方法では、磁石の、導電性支持部材と
接触している部分が接点跡として残り、めっき後にその
処理が必要であるという問題点を有している。一方、特
開昭６１−５２３６７号公報では、板状ワークの孔にシ
ャフトを通して、該シャフトを回転させることによりワ
ーク自体が回転するめっき装置が提案されている。しか
しながら、この装置においては、割れや欠けの問題や、
接点跡の問題は解決されているものの、ボンド磁石のよ
うな軽い部材をめっきする場合、磁石がその自重でシャ
フトに押し付けられる力が弱いため、シャフトの回転に
ともない、磁石がシャフトから浮き、確実に接点が取れ
ず、めっき効率が悪くなるという問題点を有している。
【０００５】そこで、本発明においては、ボンド磁石の
ような、軽くて強度が必ずしも高くない被表面処理部材
に対しても適用でき、接点跡のない均一なめっきを行え
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明の
表面処理装置は、円筒形状等の内周面を有する被表面処
理部材に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記
被表面処理部材を支持するとともに該被表面処理部材に
回転動作を与える支持部材を設け、前記被表面処理部材
を前記支持部材に押圧する加負荷部材を設けたことを特
徴とする。請求項２記載の本発明は、請求項１に記載の
表面処理装置において、前記加負荷部材を複数備え、そ
れぞれの前記加負荷部材が前記被表面処理部材を外周面
側から押圧することを特徴とする。請求項３記載の本発
明は、請求項１に記載の表面処理装置において、前記支
持部材を複数備え、それぞれの前記支持部材が前記被表
面処理部材を外周面側から支持することを特徴とする。
請求項４記載の本発明は、請求項１に記載の表面処理装
置において、前記加負荷部材及び前記支持部材を、前記
被表面処理部材の外周面側に配置したことを特徴とす
る。請求項５記載の本発明は、請求項１に記載の表面処
理装置において、前記加負荷部材を前記支持部材の上方
に配置し、前記加負荷部材の自重によって前記被表面処
理部材を押圧することを特徴とする。請求項６記載の本
発明は、請求項１に記載の表面処理装置において、前記
加負荷部材を、回転可能に設けていることを特徴とす
る。請求項７記載の本発明は、請求項１に記載の表面処
理装置において、前記加負荷部材が支持部材の全部また
は一部に配置された永久磁石にて構成されることを特徴
とする。請求項８記載の本発明の表面処理装置は、円筒
形状等の内周面を有する被表面処理部材に、表面処理を
施す表面処理装置であって、前記被表面処理部材の内周
面と当接する第１の部材と、前記被表面処理部材の外周
面と当接する第２の部材とを軸方向が同じとなるように
併設し、前記第１の部材又は前記第２の部材によって前
記被表面処理部材を回転駆動させることを特徴とする。
請求項９記載の本発明の表面処理装置は、円筒形状等の
内周面を有する被表面処理部材に、表面処理を施す表面
処理装置であって、前記被表面処理部材の内周面と当接
する第１の部材と、前記第１の部材が当接する内周面と
対向する位置の内周面と当接する第２の部材とを軸方向
が同じとなるように併設し、前記第１の部材又は前記第
２の部材によって前記被表面処理部材を回転駆動させる
ことを特徴とする。請求項１０記載の本発明の表面処理
装置は、円筒形状等の内周面を有する被表面処理部材
に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記被表面
処理部材の内周面又は外周面と当接する複数の部材を、
それぞれの軸方向が同じとなるように併設し、複数の前
記部材のうち少なくとも一つの部材によって前記被表面
処理部材を回転駆動させることを特徴とする。請求項１
１記載の本発明は、請求項１又は請求項８から請求項１
０のいずれかに記載の表面処理装置において、前記支持
部材を導電性部材で構成し、前記支持部材によって前記
被表面処理部材にめっき電流を流すことを特徴とする。
請求項１２記載の本発明は、請求項１１に記載の表面処
理装置において、前記支持部材に絶縁スペーサーを設
け、前記被表面処理部材を前記絶縁スペーサー間に配置
することを特徴とする。請求項１３記載の本発明は、請
求項１２に記載の表面処理装置において、前記被表面処
理部材が等間隔に配置されるように前記絶縁スペーサー
を配置することを特徴とする。請求項１４記載の本発明
の表面処理装置は、請求項１から請求項１３のいずれか
に記載の表面処理装置を処理槽内に複数個配置して用い
る表面処理装置であって、各々の支持部材が平行になる
ように配置したことを特徴とする。請求項１５記載の本
発明のボンド磁石の電気めっき装置は、請求項１から請
求項１４のいずれかに記載の表面処理装置を用いて、ボ
ンド磁石に電気めっきを行うことを特徴とする。請求項
１６記載の本発明の被表面処理部材の表面処理方法は、
請求項１から請求項１４のいずれかに記載の表面処理装
置を用いて表面処理を施すことを特徴とする。請求項１
７記載の本発明のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、請求項１
５に記載のボンド磁石の電気めっき装置を用いて電気め
っき処理が施され、表面に耐食性皮膜を形成しているこ
とを特徴とする。請求項１８記載の本発明の被表面処理
部材は、請求項１６に記載の被表面処理部材の表面処理
方法によって、表面に皮膜を形成していることを特徴と
する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態による
表面処理装置は、被表面処理部材を支持するとともにこ
の被表面処理部材に回転動作を与える支持部材を設け、
被表面処理部材を支持部材に押圧する加負荷部材を設け
たものである。本実施の形態によれば、例えば被表面処
理部材が軽い場合や、支持部材の軸の外径が小さい場合
など、支持部材と被表面処理部材との間の摩擦抵抗が小
さく、被表面支持部材が充分に回転動作しないときに
も、加負荷部材によって、被表面処理部材を支持部材に
押圧するため、被表面処理部材は確実に回転動作を行う
ことになる。従って、被表面処理部材の支持部材との当
接位置は、確実に移動することとなり、支持部材との接
点跡が残らない均一な表面処理を行うことができる。
【０００８】本発明の第２の実施の形態は、第１の実施
の形態による表面処理装置において、加負荷部材を複数
備え、それぞれの加負荷部材が被表面処理部材を外周面
側から押圧するものである。本実施の形態によれば、複
数の加負荷部材によって被表面処理部材を押圧するた
め、支持部材に対して被表面処理部材を確実に安定して
押圧することができる。従って、被表面処理部材は確実
に回転動作を行うことになり、支持部材との接点跡が残
らない均一な表面処理をより確実に行うことができる。
【０００９】本発明の第３の実施の形態は、第１の実施
の形態による表面処理装置において、支持部材を複数備
え、それぞれの支持部材が被表面処理部材を外周面側か
ら支持するものである。本実施の形態によれば、複数の
支持部材によって被表面処理部材を支持するため、加負
荷部材に対して被表面処理部材を確実に安定して支持す
ることができる。従って、被表面処理部材は確実に回転
動作を行うことになり、支持部材との接点跡が残らない
均一な表面処理をより確実に行うことができる。
【００１０】本発明の第４の実施の形態は、第１の実施
の形態による表面処理装置において、加負荷部材及び支
持部材を、被表面処理部材の外周面側に配置したもので
ある。本実施の形態によれば、被表面処理部材の内周径
が極めて小さい場合であっても、支持部材に対して被表
面処理部材を確実に安定して押圧することができる。従
って、被表面処理部材は確実に回転動作を行うことにな
り、支持部材との接点跡が残らない均一な表面処理をよ
り確実に行うことができる。
【００１１】本発明の第５の実施の形態は、第１の実施
の形態による表面処理装置において、加負荷部材を支持
部材の上方に配置し、加負荷部材の自重によって被表面
処理部材を押圧するものである。本実施の形態によれ
ば、被表面処理部材を支持部材に配設した後に、支持部
材の上方から加負荷部材を配置でき、加負荷部材の自重
によって被表面処理部材を押圧するため、取り付けや取
り外しの作業効率がよい。
【００１２】本発明の第６の実施の形態は、第１の実施
の形態による表面処理装置において、加負荷部材を回転
可能に設けたものである。本実施の形態によれば、被表
面処理部材とともに加負荷部材も回転動作を行うため、
支持部材による回転駆動を妨げず、確実に被表面処理部
材を回転させることができる。
【００１３】本発明の第７の実施の形態による表面処理
装置は、支持部材の全部または一部を永久磁石で構成す
ることにより、被表面処理部材の全部または一部が磁性
材料で形成されている場合、その吸引力を利用して被表
面処理部材を押圧するものである。本実施の形態によれ
ば、例えば被表面処理部材が軽い場合や、支持部材の軸
の外径が小さい場合など、支持部材と被表面処理部材と
の間の摩擦抵抗が小さく、被表面処理部材が充分に回転
動作しないときにも、支持部材を構成している永久磁石
との吸引力によって、支持部材に対して被表面処理部材
を確実に安定して押圧させることができるため、被表面
処理部材は確実に回転動作を行うことになる。従って、
被表面処理部材の支持部材との当接位置は、確実に移動
することになり、接点跡が残らない均一な表面処理を行
うことができる。また、本実施形態の表面処理装置を電
気めっき処理に用いた場合、たとえば被表面処理部材が
磁石に吸引されない、または吸引されにくい材料で形成
されている場合でも、例えばニッケルなどのような強磁
性材料のめっき処理を行った場合、被表面処理部材表面
にめっき被膜が成膜するにつれて、支持部材と被表面処
理部材との間に吸引力が生じ、確実に当接状態を確保で
き、電気接点をとることができるため、ばらつきなく均
一に電気めっき処理を行うことができる。なお、当態様
により、特に別個に加負荷部材を設けなくても支持部材
だけで加負荷部材の役割も果たすことができ、装置の構
造が簡潔になるが、磁石による吸引力が不十分な場合等
は、さらに別に加負荷部材を配置しても良い。
【００１４】本発明の第８の実施の形態による表面処理
装置は、被表面処理部材の内周面と当接する第１の部材
と、被表面処理部材の外周面と当接する第２の部材とを
軸方向が同じとなるように併設し、第１の部材又は第２
の部材によって被表面処理部材を回転駆動させるもので
ある。本実施の形態によれば、例えば被表面処理部材が
軽い場合や支持部材の軸の外径が小さい場合など、支持
部材と被表面処理部材との間の摩擦抵抗が小さく被表面
支持部材が充分に回転動作しないときにも、内周面と当
接する第１の部材と外周面と当接する第２の部材とによ
って、被表面処理部材を確実に挟み込むため、被表面処
理部材は確実に回転動作を行うことになる。従って、被
表面処理部材の支持部材などの当接する部材との当接位
置は、確実に移動することとなり、接点跡が残らない均
一な表面処理を行うことができる。
【００１５】本発明の第９の実施の形態による表面処理
装置は、被表面処理部材の内周面と当接する第１の部材
と、第１の部材が当接する内周面と対向する位置の内周
面と当接する第２の部材とを軸方向が同じとなるように
併設し、第１の部材又は第２の部材によって被表面処理
部材を回転駆動させるものである。本実施の形態によれ
ば、例えば被表面処理部材が軽い場合や、支持部材の軸
の外径が小さい場合など、支持部材と被表面処理部材と
の間の摩擦抵抗が小さく、被表面支持部材が充分に回転
動作しないときにも、第１の部材と第２の部材とによっ
て、被表面処理部材との当接状態を確実に確保できるた
め、被表面処理部材は確実に回転動作を行うことにな
る。従って、被表面処理部材の支持部材などの当接する
部材との当接位置は、確実に移動することとなり、接点
跡が残らない均一な表面処理を行うことができる。
【００１６】本発明の第１０の実施の形態による表面処
理装置は、被表面処理部材の内周面又は外周面と当接す
る複数の部材を、それぞれの軸方向が同じとなるように
併設し、複数の前記部材のうち少なくとも一つの部材に
よって被表面処理部材を回転駆動させるものである。本
実施の形態によれば、例えば被表面処理部材が軽い場合
や、支持部材の軸の外径が小さい場合など、支持部材と
被表面処理部材との間の摩擦抵抗が小さく、被表面支持
部材が充分に回転動作しないときにも、複数の部材によ
って、被表面処理部材との当接状態を確実に確保できる
ため、被表面処理部材は確実に回転動作を行うことにな
る。従って、被表面処理部材の支持部材などの当接する
部材との当接位置は、確実に移動することとなり、接点
跡が残らない均一な表面処理を行うことができる。
【００１７】本発明の第１１の実施の形態は、第１又は
第８から第１０の実施の形態による表面処理装置におい
て、支持部材を導電性部材で構成し、支持部材によって
被表面処理部材にめっき電流を流すものである。本実施
の形態によれば、支持部材と被表面処理部材との導通を
確実に確保できるため電気めっき処理を効果的に行うこ
とができる。特に複数の被表面処理部材を、同時にめっ
き処理する場合にも、すべての被表面処理部材に対して
確実に電気を流すことができる。
【００１８】本発明の第１２の実施の形態は、第１１の
実施の形態による表面処理装置において、支持部材に絶
縁スペーサーを設け、被表面処理部材を絶縁スペーサー
間に配置するものである。本実施の形態によれば、絶縁
スペーサーによって、被表面処理部材同士の接触を防止
することができるので、接触によって電気めっきが不均
一に生じることを防止することができる。
【００１９】本発明の第１３の実施の形態は、第１２の
実施の形態による表面処理装置において、被表面処理部
材が等間隔に配置されるように絶縁スペーサーを配置す
るものである。本実施の形態によれば、スペーサーの位
置または軸方向の幅寸法を調節し、被表面処理部材同志
の間隔を所定寸法で等間隔にすることによって、被表面
処理部材のエッジ部分への電気力線の集中を緩和し、さ
らにめっきの均一性を向上させることができる。各々の
間隔は被表面処理部材のエッジ部分への電気力線の集中
が緩和され、エッジ部分の膜厚が均一になるような適正
値を選定するのが望ましい。また、スペーサーは、あら
かじめ所定寸法に間隔が調整され支持部材と一体になっ
たものでもよいし、位置の調節が可能なものでもよい。
【００２０】本発明の第１４の実施の形態による表面処
理装置は、第１から第１３の実施の形態による表面処理
装置を処理槽内に複数個配置して用いる表面処理装置で
あって、各々の表面処理装置の支持部材が平行になるよ
うに配置したものである。本実施の形態によれば、さら
に多くの被表面処理部材を同時に処理することができ、
本発明の装置が使用される処理槽の大きさに応じて、そ
れらを有効に活用することができる。
【００２１】本発明の第１５の実施の形態によるボンド
磁石の電気めっき装置は、第１から第１４の実施の形態
による表面処理装置を用いてボンド磁石に電気めっきを
行うものである。本実施の形態によれば、ボンド磁石の
内周面にも、ばらつきなく均一に電気めっきを行うこと
ができる。
【００２２】本発明の第１６の実施の形態による被表面
処理部材の表面処理方法は、第１から第１４の実施の形
態による表面処理装置を用いて表面処理を施すものであ
る。本実施の形態によれば、被表面処理部材の内周面に
も、ばらつきなく均一に表面処理を行うことができる。
【００２３】本発明の第１７の実施の形態によるＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石は、第１５の実施の形態によるボンド
磁石の電気めっき装置を用いて電気めっき処理を施した
ものである。本実施の形態によれば、内周面にも、ばら
つきなく均一に耐食性皮膜を形成したＲ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石を得ることができる。
【００２４】本発明の第１８の実施の形態による被表面
処理部材は、第１６の実施の形態による被表面処理部材
の表面処理方法によって、表面に皮膜を形成したもので
ある。本実施の形態によれば、内周面にも、ばらつきな
く均一に皮膜を形成した被表面処理部材を得ることがで
きる。
【００２５】
【実施例】以下に本発明の一実施例による表面処理装置
を図１、図２を用いて説明する。図１は本実施例による
ボンド磁石の電気めっき装置の概念構成図、図２は図１
のＩＩ−ＩＩ断面図である。図１は、めっき槽の電解め
っき液中に配置される陽電極板１０と、被表面処理部材
としてリング状ボンド磁石２０を保持する表面処理用治
具３０を示している。表面処理用治具３０は、リング状
ボンド磁石２０を内周面側から支持するとともにリング
状ボンド磁石２０に回転動作を与える支持部材４０と、
リング状ボンド磁石２０を支持部材４０に押圧する加負
荷部材５０を備えている。図１に示すように、陽電極１
１に接続される２枚の陽電極板１０は、対向するように
平行に配置され、表面処理用治具３０は、支持部材４０
の軸が陽極電極１０と平行になるようにこれら陽極電極
１０の間に配置される。表面処理用治具３０は、外部に
設置されるモータ３１の動力を支持部材４０に伝達する
ための歯車３２を備えている。また、表面処理用治具３
０は、陰電極３３に接続される陰電極接合部３４を備
え、この陰電極接合部３４によって支持部材４０を陰電
極３３と接続している。支持部材４０は、金属製の支持
軸４１とこの支持軸４１に所定間隔あけて配置された樹
脂製の絶縁スペーサー４２とより構成されている。加負
荷部材５０は、回転軸５１とこの回転軸５１に所定間隔
あけて配置された当接部材５２とより構成されている。
なお、当接部材５２の幅は、絶縁スペーサー４２間の隙
間より小さく、それぞれの当接部材５２は、それぞれの
絶縁スペーサー４２の間に位置するように配置されてい
る。また、加負荷部材５０は、絶縁材料で構成される
か、又は表面を絶縁処理している。この加負荷部材５０
の両端は軸受け３５で保持される。この軸受け３５に設
けられた回転軸受け部３５Ａは、上部を開放し、上方か
ら加負荷部材５０を配設できるようにしている。また回
転軸受け部３５Ａは、回転軸５１を配設したとき、当接
部材５２がリング状ボンド磁石２０に当接し、加負荷部
材５０の自重がリング状ボンド磁石２０に加わるような
深さを有している。
【００２６】次に、本実施例によるボンド磁石の電気め
っき装置の使用方法及び動作について説明する。まず、
支持部材４０の絶縁スペーサー４２の間にリング状ボン
ド磁石２０を配設する。このようにリング状ボンド磁石
２０を配設した支持部材４０を表面処理用治具３０に設
置する。図１では、一つのリング状ボンド磁石２０を配
設したものを示しているが、絶縁スペーサー４２の間毎
にリング状ボンド磁石２０を配設することができる。支
持部材４０を表面処理用治具３０に設置した後、軸受け
３５を配設し、上方から加負荷部材５０の回転軸５１両
端を回転軸受け部３５Ａに配設する。この状態では、図
２にも示すように、加負荷部材５０の当接部材５２は、
リング状ボンド磁石２０の上部外周面に当接する。上記
状態が完了した後に、電気めっきが行われる。陽電極１
１及び陰電極を導通するとともに、モータ３１が駆動さ
れる。モータ３１の駆動力は、歯車３２を介して支持部
材４０に伝達され、支持部材４０は回転する。
【００２７】図２に示すように、支持部材４０の反時計
回りの回転（矢印Ａ）によって、支持軸４１に当接して
いるリング状ボンド磁石２０も反時計回りに回転（矢印
Ｂ）する。このとき、リング状ボンド磁石２０は、加負
荷部材５０の当接部材５２によって、外表面側から支持
部材４０に押圧されているため、支持部材４０の回転力
を確実に受ける。なお、加負荷部材５０は軸受け３５に
よって回転可能に設けられているので、リング状ボンド
磁石２０の回転にともなって、時計回りに回転（矢印
Ｃ）する。このように、リング状ボンド磁石２０は、確
実に回転するために、支持部材４０や加負荷部材５０と
の接点跡が残ることなく、均一なめっき処理を行うこと
ができる。また、リング状ボンド磁石２０が確実に回転
することにより、各々の磁石について外表面のそれぞれ
の部分と陽電極板１０との距離が平均一定化され、磁石
の部分間で被膜の膜厚のばらつきがないめっき処理を行
うことができる。さらに、リング状ボンド磁石２０の回
転動作により、周辺のめっき液が攪拌され、効率の高い
めっき処理を行うことができる。なお、図１において
は、２組の支持部材と加負荷部材を示しているが、１組
でもよいし、３組以上の支持部材と加負荷部材をそれぞ
れが平行になるように配置すればさらに多くの被表面処
理部材を同時に処理することができる。
【００２８】図３に他の実施例を示す。図３は、図２に
相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様であ
るので説明を省略する。なお同一機能を有する部材には
同一符号を付けて説明を省略する。本実施例では、加負
荷部材５０Ａが図２に示す実施例と異なっている。すな
わち、回転軸５１Ａと当接部材５２Ａとは別部材で構成
され、当接部材５２Ａの内周径は、回転軸５１Ａの外周
径よりも大きく形成し、当接部材５２Ａがそれ自身の自
重でリング状ボンド磁石２０に当接するように構成され
ている。従って、本実施例の構成では、回転軸５１Ａは
必ずしも回転可能でなくてもよく、上記実施例で説明し
た回転軸受け部３５Ａの深さについても回転軸５１Ａの
自重がリング状ボンド磁石２０に加わるような深さを有
している必要もない。本実施例の構成によれば、それぞ
れの当接部材５２Ａの自重が、それぞれ対応するリング
状ボンド磁石２０に加わるため、例えば表面処理用治具
３０、支持部材、又は加負荷部材５０の水平度が保持さ
れていない場合などでも、それぞれのリング状ボンド磁
石２０に、均一に押圧力を加えることができる。従っ
て、すべてのリング状ボンド磁石２０は、確実に回転す
るために、支持部材４０や加負荷部材５０との接点跡が
残ることなく、均一なめっき処理を行うことができる。
【００２９】図４に更に他の実施例を示す。図４は、図
２に相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様
であるので説明を省略する。なお同一機能を有する部材
には同一符号を付けて説明を省略する。本実施例では、
加負荷部材５０Ｂが図２に示す実施例と異なっている。
すなわち、２つの加負荷部材５０Ｂによって、リング状
ボンド磁石２０に当接するように構成されている。従っ
て、本実施例の構成では、加負荷部材５０Ｂは、必ずし
も回転軸よりも大きな径の当接部材を備えている必要は
ない。ただし、図２に示す加負荷部材５０や図３に示す
加負荷部材５０Ａを用いてもよい。なお、加負荷部材５
０Ｂについては、３つ以上設けてもよく、また本実施例
ではリング状ボンド磁石２０の外周面側から押圧する構
成としているが、すべての加負荷部材５０Ｂ、又は一部
の加負荷部材５０Ｂをリング状ボンド磁石２０の内周面
側から押圧する構成としてもよい。本実施例の構成によ
れば、複数の加負荷部材５０Ｂによって、リング状ボン
ド磁石２０に加わるため、例えば表面処理用治具３０、
支持部材４０、又は加負荷部材５０の水平度が保持され
ていない場合などでも、それぞれのリング状ボンド磁石
２０を押圧するため、支持部材４０に対してリング状ボ
ンド磁石２０を確実に安定して押圧することができる。
【００３０】図５に更に他の実施例を示す。図５は、図
２に相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様
であるので説明を省略する。なお同一機能を有する部材
には同一符号を付けて説明を省略する。本実施例では、
リング状ボンド磁石２０の内周面と当接する第１の部材
４０Ａと、第１の部材４０Ａが当接する内周面と対向す
る位置の内周面と当接する第２の部材４０Ｂとを軸方向
が同じとなるように併設したものである。そして、第１
の部材４０Ａ、又は第２の部材４０Ｂの少なくとも一方
を、支持部材としてリング状ボンド磁石２０を回転駆動
させるものである。また、本実施例では、第１の部材４
０Ａ、又は第２の部材４０Ｂの少なくとも一方が加負荷
部材として機能する。本実施例の構成では、第１の部材
４０Ａ、及び第２の部材４０Ｂの双方に絶縁スペーサー
４２Ａ、４２Ｂを設けているが、第１の部材４０Ａ、又
は第２の部材４０Ｂの少なくとも一方に設けていればよ
い。また、第１の部材４０Ａ、又は第２の部材４０Ｂの
いずれかは絶縁材料で構成するか、絶縁処理を表面に施
すことが好ましい。また、第２の部材４０Ｂについて
は、図３に示す加負荷部材５０Ａのような構成とするこ
ともできる。本実施例の構成によれば、第１の部材４０
Ａと第２の部材４０Ｂとによって、リング状ボンド磁石
２０との当接状態を確実に確保できるため、リング状ボ
ンド磁石２０は確実に回転動作を行うことになる。
【００３１】なお、上記実施例では、支持部材４０に絶
縁スペーサー４２を設けて説明したが、絶縁スペーサー
４２を設けなくてもよく、また絶縁スペーサー４２を設
ける場合であっても、実質的に隣り合うリング状ボンド
磁石２０同士の接触を防止することができれば、単なる
突起であってもよい。
【００３２】図６に更に他の実施例を示す。図６は、図
２に相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様
であるので説明を省略する。なお同一機能を有する部材
には同一符号を付けて説明を省略する。本実施例では、
支持部材４０をリング状ボンド磁石２０の外周面側に配
置している点で図２に示す実施例と異なっている。すな
わち、２つの支持部材４０Ａ、４０Ｂによって、リング
状ボンド磁石２０を外周面側の下部から支持している。
従って、本実施例の構成では、リング状ボンド磁石２０
の内周径が小さい場合に特に有効である。なお、本実施
例の加負荷部材として、図３に示す加負荷部材５０Ａや
図４に示す加負荷部材５０Ｂを用いてもよい。また、本
実施例では支持部材として２つの支持部材４０Ａ、４０
Ｂを用いた場合を示したが、３つ以上設けてもよく、ま
た、このように複数の支持部材を設ける場合には、リン
グ状ボンド磁石２０に対する回転動作は、少なくともい
ずれか一つの支持部材が与えればよい。なお、この場合
には他の支持部材は回動自在に設けることが好ましい。
まためっき電流についてもいずれか一つの支持部材を用
いて流すように構成すればよい。本実施例の構成によれ
ば、支持部材４０と加負荷部材５０をリング状ボンド磁
石２０の外周面側に配置する構成であるため、リング状
ボンド磁石２０自体が小さいか、又は内周径が小さい場
合であっても、支持部材４０に対してリング状ボンド磁
石２０を確実に安定して押圧することができる。
【００３３】図７に更に他の実施例を示す。図７は、図
２に相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様
であるので説明を省略する。なお同一機能を有する部材
には同一符号を付けて説明を省略する。本実施例では、
図６に示す実施例において、加負荷部材５０をリング状
ボンド磁石２０の内周面側の下部に配置したものであ
る。すなわち、２つの支持部材４０Ａ、４０Ｂによっ
て、リング状ボンド磁石２０を外周面側の下部から支持
し、リング状ボンド磁石２０の内周面側下部に配置した
加負荷部材５０によってリング状ボンド磁石２０を押圧
している。なお、本実施例の加負荷部材５０として、図
３に示す加負荷部材５０Ａを用いてもよい。また、本実
施例では支持部材として２つの支持部材４０Ａ、４０Ｂ
を用いた場合を示したが、３つ以上設けてもよく、ま
た、このように複数の支持部材を設ける場合には、リン
グ状ボンド磁石２０に対する回転動作は、少なくともい
ずれか一つの支持部材が与えればよい。なお、この場合
には他の支持部材は回動自在に設けることが好ましい。
まためっき電流についてもいずれか一つの支持部材を用
いて流すように構成すればよい。本実施例の構成によれ
ば、加負荷部材５０をリング状ボンド磁石２０の内周面
側下部、すなわちリング状ボンド磁石２０の最低部に配
置する構成であるため、加負荷部材５０の負荷を、リン
グ状ボンド磁石２０に対して確実に安定して加えること
ができる。
【００３４】図８に更に他の実施例を示す。図８は図２
に相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様で
あるので説明を省略する。なお、同一機能を有する部材
には同一符号をつけて説明を省略する。本実施例では、
支持部材４０の絶縁スペーサー４２の間にリング状ボン
ド磁石２０を配設する。支持部材４０はパイプ状の金属
製支持軸４３に永久磁石の棒４４が埋め込まれる構成に
なっている。なお、支持軸４３は上記のような構成だけ
でなく、磁石棒のみの構成や、樹脂製パイプの中に磁石
棒が埋め込まれ、パイプ表面に金属箔を張った構成な
ど、一部または全部が磁石で、表面に導通が取れるよう
な構成であればよい。本実施例の構成によれば、磁力に
よって、支持部材４０に対してリング状ボンド磁石２０
を確実に安定して押圧することができる。従って本実施
例では、支持部材４０に埋め込まれた永久磁石の棒４４
によって加負荷部材が構成される。
【００３５】図９に更に他の実施例を示す。図９は図２
に相当する要部断面図であり、基本構成は図１と同様で
あるので説明を省略する。なお、同一機能を有する部材
には同一符号をつけて説明を省略する。本実施例では、
２つの支持部材４０Ａ、４０Ｂによって、リング状ボン
ド磁石２０を外周面の下部から支持している。支持部材
４０Ａ、４０Ｂはパイプ状の金属製支持軸４３Ａ、４３
Ｂに永久磁石の棒４４Ａ、４４Ｂが埋め込まれる構成に
なっている。なお、支持軸４３Ａ、４３Ｂは上記のよう
な構成だけでなく、磁石棒のみの構成や、樹脂製パイプ
の中に磁石棒が埋め込まれ、パイプ表面に金属箔を張っ
た構成など、一部または全部が磁石で、表面に導通が取
れるような構成であればよい。本実施例の構成によれ
ば、磁力によって、支持部材４０Ａ、４０Ｂに対してリ
ング状ボンド磁石２０を確実に安定して押圧することが
できる。従って本実施例では、支持部材４０Ａ、４０Ｂ
に埋め込まれた永久磁石の棒４４Ａ、４４Ｂによって加
負荷部材が構成される。
【００３６】なお、本発明の表面処理装置は、電気めっ
き処理に限られず、無電解めっき処理、化成処理、エッ
チング処理などを行う装置に使用することもできる。ま
た、本発明の表面処理装置により効果的に表面処理され
る被表面処理部材としては、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系リング状ボ
ンド磁石やＲ−Ｆｅ−Ｂ系円柱状ボンド磁石である。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、加負荷部材によって、
被表面処理部材を支持部材に押圧するため、被表面処理
部材は確実に回転動作を行うことになる。従って、被表
面処理部材の支持部材との当接位置は、確実に移動する
こととなり、支持部材との接点跡が残らない均一な表面
処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例によるボンド磁石の電気めっ
き装置の概念構成図
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ断面図
【図３】本発明の他の実施例による要部断面図
【図４】本発明の他の実施例による要部断面図
【図５】本発明の他の実施例による要部断面図
【図６】本発明の他の実施例による要部断面図
【図７】本発明の他の実施例による要部断面図
【図８】本発明の他の実施例による要部断面図
【図９】本発明の他の実施例による要部断面図
【符号の説明】
２０ リング状ボンド磁石 ４０ 支持部材 ４２ 絶縁スペーサー ５０ 加負荷部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊井 文秋 大阪府三島郡島本町江川２丁目15番17号 住友特殊金属株式会社山崎製作所内 Ｆターム(参考） 4K024 BA01 BB14 BC06 CB02 CB04 CB21 CB26

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 円筒形状等の内周面を有する被表面処理
    部材に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記被
    表面処理部材を支持するとともに該被表面処理部材に回
    転動作を与える支持部材を設け、前記被表面処理部材を
    前記支持部材に押圧する加負荷部材を設けたことを特徴
    とする表面処理装置。
  2. 【請求項２】 前記加負荷部材を複数備え、それぞれの
    前記加負荷部材が前記被表面処理部材を外周面側から押
    圧することを特徴とする請求項１に記載の表面処理装
    置。
  3. 【請求項３】 前記支持部材を複数備え、それぞれの前
    記支持部材が前記被表面処理部材を外周面側から支持す
    ることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
  4. 【請求項４】 前記加負荷部材及び前記支持部材を、前
    記被表面処理部材の外周面側に配置したことを特徴とす
    る請求項１に記載の表面処理装置。
  5. 【請求項５】 前記加負荷部材を前記支持部材の上方に
    配置し、前記加負荷部材の自重によって前記被表面処理
    部材を押圧することを特徴とする請求項１に記載の表面
    処理装置。
  6. 【請求項６】 前記加負荷部材を、回転可能に設けてい
    ることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
  7. 【請求項７】 前記加負荷部材が支持部材の全部または
    一部に配置された永久磁石にて構成されることを特徴と
    する請求項１に記載の表面処理装置。
  8. 【請求項８】 円筒形状等の内周面を有する被表面処理
    部材に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記被
    表面処理部材の内周面と当接する第１の部材と、前記被
    表面処理部材の外周面と当接する第２の部材とを軸方向
    が同じとなるように併設し、前記第１の部材又は前記第
    ２の部材によって前記被表面処理部材を回転駆動させる
    ことを特徴とする表面処理装置。
  9. 【請求項９】 円筒形状等の内周面を有する被表面処理
    部材に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記被
    表面処理部材の内周面と当接する第１の部材と、前記第
    １の部材が当接する内周面と対向する位置の内周面と当
    接する第２の部材とを軸方向が同じとなるように併設
    し、前記第１の部材又は前記第２の部材によって前記被
    表面処理部材を回転駆動させることを特徴とする表面処
    理装置。
  10. 【請求項１０】 円筒形状等の内周面を有する被表面処
    理部材に、表面処理を施す表面処理装置であって、前記
    被表面処理部材の内周面又は外周面と当接する複数の部
    材を、それぞれの軸方向が同じとなるように併設し、複
    数の前記部材のうち少なくとも一つの部材によって前記
    被表面処理部材を回転駆動させることを特徴とする表面
    処理装置。
  11. 【請求項１１】 前記支持部材を導電性部材で構成し、
    前記支持部材によって前記被表面処理部材にめっき電流
    を流すことを特徴とする請求項１又は請求項８から請求
    項１０のいずれかに記載の表面処理装置。
  12. 【請求項１２】 前記支持部材に絶縁スペーサーを設
    け、前記被表面処理部材を前記絶縁スペーサー間に配置
    することを特徴とする請求項１１に記載の表面処理装
    置。
  13. 【請求項１３】 前記被表面処理部材が等間隔に配置さ
    れるように前記絶縁スペーサーを配置することを特徴と
    する請求項１２に記載の表面処理装置。
  14. 【請求項１４】 請求項１から請求項１３のいずれかに
    記載の表面処理装置を処理槽内に複数個配置して用いる
    表面処理装置であって、各々の支持部材が平行になるよ
    うに配置したことを特徴とする表面処理装置。
  15. 【請求項１５】 請求項１から請求項１４のいずれかに
    記載の表面処理装置を用いて、ボンド磁石に電気めっき
    を行うことを特徴とするボンド磁石の電気めっき装置。
  16. 【請求項１６】 請求項１から請求項１４のいずれかに
    記載の表面処理装置を用いて表面処理を施すことを特徴
    とする被表面処理部材の表面処理方法。
  17. 【請求項１７】 請求項１５に記載のボンド磁石の電気
    めっき装置を用いて電気めっき処理が施され、表面に耐
    食性皮膜を形成していることを特徴とするＲ−Ｆｅ−Ｂ
    系永久磁石。
  18. 【請求項１８】 請求項１６に記載の被表面処理部材の
    表面処理方法によって、表面に皮膜を形成していること
    を特徴とする被表面処理部材。
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