JP2001172006A - Formation of metal oxide film - Google Patents

Formation of metal oxide film

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JP2001172006A
JP2001172006A JP35611799A JP35611799A JP2001172006A JP 2001172006 A JP2001172006 A JP 2001172006A JP 35611799 A JP35611799 A JP 35611799A JP 35611799 A JP35611799 A JP 35611799A JP 2001172006 A JP2001172006 A JP 2001172006A
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Japan
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film
acid
metal oxide
transparent electrode
oxide film
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Akira Nakazawa
明 中澤
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Fujitsu Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a metal oxide film constituting a protective film, a transparent electrode film or a dielectric substance film at a low cost. SOLUTION: This method for forming the metal oxide film to solve the subject is characterized in that a fixed part of a substrate is coated with a coating composition containing an aliphatic acid salt or an alkoxide of metal as a raw material for the metal oxide film constituting the protective film, the transparent electrode film or the dielectric substance film to form a primary film. The primary film is irradiated with ultraviolet rays in an oxidizing atmosphere to form the metal oxide film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、保護膜、透明電極
膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜の形成方法に関
する。
The present invention relates to a method for forming a metal oxide film constituting a protective film, a transparent electrode film or a dielectric film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、表示装置として、プラズマディス
プレイパネル(PDP)、液晶表示パネル(LCD)、
プラズマアドレス液晶表示パネル(PALC)、CRT
等が知られている。これら表示装置には、保護膜、透明
電極膜又は誘電体膜等の各種の金属酸化物膜が構成部材
として含まれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as display devices, a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display panel (LCD),
Plasma addressed liquid crystal display panel (PALC), CRT
Etc. are known. These display devices include various metal oxide films such as a protective film, a transparent electrode film, and a dielectric film as constituent members.

【0003】従来表示装置に用いられる金属酸化物膜
は、保護膜と透明電極膜については、物理蒸着法、化学
蒸着法等により形成され、誘電体膜については、塗布焼
成法により形成されている。塗布焼成法とは、次のよう
な方法である。まず、誘電体膜の原料である低融点ガラ
ス粉末を、バインダ及び溶媒によりペースト状とし、得
られたペーストを用いて印刷法で所望の形状に成膜す
る。次いで、焼成することにより、有機分を分解又は燃
焼させて、低融点ガラス粉末を溶融することで、誘電体
膜を得る方法である。
Conventionally, a metal oxide film used for a display device is formed by a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method or the like for a protective film and a transparent electrode film, and a dielectric film is formed by a coating and firing method. . The coating and firing method is as follows. First, a low-melting glass powder, which is a raw material of a dielectric film, is formed into a paste using a binder and a solvent, and a film is formed into a desired shape by a printing method using the obtained paste. Next, firing is performed to decompose or burn organic components, thereby melting the low-melting glass powder to obtain a dielectric film.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記金属酸化物膜の形
成方法の内、物理及び化学蒸着法では、金属酸化物膜を
形成するための基板が、大型であったり、複雑な表面形
状を有する場合、その形成が困難であるという問題があ
った。また、蒸着法は、真空環境を必要とするため、低
コスト化が困難であるという問題があった。
Among the above-mentioned methods for forming a metal oxide film, in the physical and chemical vapor deposition methods, a substrate for forming a metal oxide film has a large size or a complicated surface shape. In this case, there is a problem that the formation is difficult. Further, the vapor deposition method has a problem that it is difficult to reduce the cost because a vacuum environment is required.

【0005】一方、塗布焼成法では、使用できる低融点
ガラス粉末の種類が限定され、所望の特性の金属酸化物
膜を得ることが困難であるという問題があった。
On the other hand, the coating and firing method has a problem that the types of low melting point glass powder that can be used are limited, and it is difficult to obtain a metal oxide film having desired characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、基板の所望の部位に、保護膜、透明電極膜又は誘電
体膜を構成する金属酸化物膜の原料として、金属の脂肪
族酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布して一
次膜を形成し、一次膜に酸化性雰囲気下で紫外線を照射
することにより金属酸化物膜を形成することを特徴とす
る金属酸化物膜の形成方法が提供される。
Thus, according to the present invention, a metal aliphatic acid salt is formed on a desired portion of a substrate as a raw material of a metal oxide film constituting a protective film, a transparent electrode film or a dielectric film. Or forming a primary film by applying a coating composition containing an alkoxide, and irradiating the primary film with ultraviolet light in an oxidizing atmosphere to form a metal oxide film. Is provided.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明は、保護膜、透明電極膜又
は誘電体膜を少なくとも1つ有する表示装置、例えば、
PDP、LCD、PALC等に適用できる。この内、P
DPへの適用が好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a display device having at least one protective film, transparent electrode film or dielectric film, for example,
Applicable to PDP, LCD, PALC, etc. Among them, P
Application to DP is preferred.

【0008】保護膜、透明電極膜又は誘電体膜は主に金
属酸化物膜から構成されるが、その金属酸化物として
は、保護膜用として酸化マグネシウム、酸化カルシウ
ム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム等、透明電極膜
用としては、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化錫
(NESA)等、誘電体膜用としては、酸化アルミニウ
ム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタン等が挙げられる。
The protective film, the transparent electrode film or the dielectric film is mainly composed of a metal oxide film. Examples of the metal oxide include magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide and the like for the protective film. For a transparent electrode film, indium tin oxide (ITO), tin oxide (NESA), etc., and for a dielectric film, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, etc. may be mentioned.

【0009】上記保護膜、透明電極膜又は誘電体膜は、
基板上の所望の位置にそれらを構成する金属の脂肪族酸
塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布することに
より形成された一次膜に、酸化性雰囲気下で紫外線を照
射することにより形成することができる。
The above protective film, transparent electrode film or dielectric film is
Forming a primary film formed by applying a coating composition containing a metal aliphatic acid salt or alkoxide constituting them to a desired position on a substrate, and irradiating the primary film with ultraviolet rays in an oxidizing atmosphere. Can be.

【0010】上記金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドと
しては、酸化性雰囲気下で紫外線を照射することにより
分解又は燃焼し、金属酸化物に変化しうるものであれば
特に限定されない。
The metal aliphatic acid salt or alkoxide is not particularly limited as long as it can be decomposed or burned by irradiation with ultraviolet rays in an oxidizing atmosphere to change into a metal oxide.

【0011】金属アルコキシドとしては、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール等の
低級アルコールと金属とのアルコキシドが挙げられる。
As the metal alkoxide, methanol,
Alkoxides of metals with lower alcohols such as ethanol, n-propanol, i-propanol and the like can be mentioned.

【0012】脂肪族酸としては、例えば、脂肪族モノカ
ルボン酸や、脂肪族ジカルボン酸、脂肪族トリカルボン
酸、脂肪族テトラカルボン酸等の脂肪族ポリカルボン酸
が挙げられる。また、脂肪族酸を構成する炭素鎖は、飽
和でも、不飽和でもよい。更に、炭素鎖には置換基が存
在していてもよい。置換基の種類は特に限定されない
が、脂肪族酸の分解又は燃焼時に残存しやすいものは好
ましくない。
Examples of the aliphatic acid include aliphatic monocarboxylic acids and aliphatic polycarboxylic acids such as aliphatic dicarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and aliphatic tetracarboxylic acids. Further, the carbon chain constituting the aliphatic acid may be saturated or unsaturated. Further, the carbon chain may have a substituent. The type of the substituent is not particularly limited, but those which easily remain during decomposition or combustion of the aliphatic acid are not preferred.

【0013】より具体的には、飽和脂肪族モノカルボン
酸として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、
カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、
カプリン酸、n−ウンデシレン酸、ラウリン酸、n−ト
リデシレン酸、ミリスチン酸、n−ペンタデシレン酸、
パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸等が挙げら
れる。
More specifically, as the saturated aliphatic monocarboxylic acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid,
Caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid,
Capric acid, n-undecylenic acid, lauric acid, n-tridecylenic acid, myristic acid, n-pentadecylenic acid,
Palmitic acid, margaric acid, stearic acid and the like.

【0014】不飽和脂肪族モノカルボン酸としては、ア
クリル酸、ブテン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビ
ニル酢酸、メタクリル酸、ペンテン酸、ヘキセン酸、ヘ
プテン酸、オクテン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデ
セン酸、テトラデセン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセ
ン酸等のオレフィンモノカルボン酸、プロピオール酸、
テトロール酸、エチルプロピオール酸、プロピルプロピ
オール酸、ブチルプロピオール酸、アミルプロピオール
酸、ウンデシン酸、ステアロール酸等のアセチレンモノ
カルボン酸、ペンタジエン酸、ジアリル酢酸、ゲラニウ
ム酸、デカジエン酸等のジオレフィンモノカルボン酸、
オクタトリエン酸、リノレン酸、オレイン酸等の高度不
飽和モノカルボン酸が挙げられる。
The unsaturated aliphatic monocarboxylic acids include acrylic acid, butenoic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, vinyl acetic acid, methacrylic acid, pentenoic acid, hexenoic acid, heptenoic acid, octenoic acid, decenoic acid, undecenoic acid and dodecene. Acid, tetradecenoic acid, hexadecenoic acid, olefin monocarboxylic acid such as octadecenoic acid, propiolic acid,
Acetylene monocarboxylic acid such as tetrolic acid, ethyl propiolic acid, propyl propiolic acid, butyl propiolic acid, amyl propiolic acid, undesic acid, stearic acid, pentadienoic acid, diallyl acetic acid, geranium acid, decadienic acid, etc. Olefin monocarboxylic acid,
Highly unsaturated monocarboxylic acids such as octatrienoic acid, linolenic acid, and oleic acid are exemplified.

【0015】飽和脂肪族ジカルボン酸としては、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、セバシン酸等が挙げられる。
Examples of the saturated aliphatic dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, sebacic acid and the like.

【0016】不飽和脂肪族ジカルボン酸としては、ブテ
ン二酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、グル
タコン酸、ジヒドロムコン酸等のオレフィンジカルボン
酸、ムコン酸のようなジオレフィンジカルボン酸が挙げ
られる。
Examples of the unsaturated aliphatic dicarboxylic acid include olefin dicarboxylic acids such as butenedioic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, glutaconic acid and dihydromuconic acid, and diolefin dicarboxylic acids such as muconic acid.

【0017】本発明では、脂肪族酸と金属との塩が好ま
しい。その理由は、脂肪族酸塩は、加熱により分解又は
燃焼しやすく、溶剤溶解性が高く、分解又は燃焼後の膜
が緻密であり、取り扱いが容易(安全性も含めて)であ
り、安価であり、多くの金属との塩の合成が容易である
という性質を有しているからである。更に、脂肪族酸の
内、炭素数2〜19の飽和脂肪族モノカルボン酸を使用
することが好ましい。
In the present invention, a salt of an aliphatic acid and a metal is preferred. The reason is that aliphatic acid salts are easily decomposed or burned by heating, have high solvent solubility, have a dense film after being decomposed or burned, are easy to handle (including safety), and are inexpensive. This is because they have the property that the synthesis of salts with many metals is easy. Further, among the aliphatic acids, it is preferable to use a saturated aliphatic monocarboxylic acid having 2 to 19 carbon atoms.

【0018】上記金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドか
らなる一次膜は、その材料を含む塗布組成物を基板上に
塗布等の方法で形成することができる。ここで、塗布組
成物とは、ペースト又は溶液を意味している。また、作
業性が良好な粘度に塗布組成物の粘度を調整するため
に、塗布組成物には、メタノール、エタノール等の有機
溶媒や、プロピレングリコールモノエチルアセテートの
ような増粘剤を加えてもよい。有機溶媒を加えた場合
は、塗布後、熱処理して、溶媒を除去することが好まし
い。
The primary film composed of the metal aliphatic acid salt or alkoxide can be formed by a method such as coating a coating composition containing the material on a substrate. Here, the coating composition means a paste or a solution. Further, in order to adjust the viscosity of the coating composition to good workability, the coating composition may be added with an organic solvent such as methanol or ethanol, or a thickener such as propylene glycol monoethyl acetate. Good. When an organic solvent is added, it is preferable to remove the solvent by heat treatment after coating.

【0019】更に、上記一次膜の所望の位置への形成方
法は、所定のパターンを介して塗布する方法、印刷法に
より所望の位置のみへ塗布する方法、一旦全面に塗布し
た後、所望の位置のみが残存するようにエッチングする
方法等が挙げられる。
Further, the method of forming the primary film at a desired position includes a method of applying the film through a predetermined pattern, a method of applying the film only to a desired position by a printing method, and a method of applying the film once to the entire surface and then applying the desired position. And a method of performing etching so that only the residue remains.

【0020】上記一次膜の厚さは、最終的に形成される
保護膜、透明電極膜又は誘電体膜の厚さが、紫外線の照
射により、当初の厚さの95〜60%程度減少するた
め、この減少を考慮して決定することが好ましい。具体
的には、1〜5μmであることが好ましい。より具体的
には、保護膜の場合、形成される金属酸化物膜の保護性
能によっても異なるが、2〜3μmであることが好まし
い。透明電極膜としては、形成される金属酸化物膜の導
電性によっても異なるが、0.5〜1μmであることが
好ましい。誘電体膜としては、形成される金属酸化物膜
の誘電特性によっても異なるが、2〜5μmであること
が好ましい。
The thickness of the primary film is such that the thickness of the finally formed protective film, transparent electrode film or dielectric film is reduced by about 95 to 60% of the original thickness due to the irradiation of ultraviolet rays. , Is preferably determined in consideration of this decrease. Specifically, the thickness is preferably 1 to 5 μm. More specifically, in the case of a protective film, the thickness is preferably 2 to 3 μm, though it depends on the protective performance of the formed metal oxide film. The thickness of the transparent electrode film is preferably 0.5 to 1 μm, although it depends on the conductivity of the metal oxide film to be formed. The thickness of the dielectric film is preferably 2 to 5 μm, although it depends on the dielectric properties of the metal oxide film to be formed.

【0021】次に、上記一次膜は酸化性雰囲気下で紫外
線照射される。紫外線照射により、一次膜は、金属酸化
物に変換される。ここで、酸化性雰囲気とは、大気雰囲
気、大気中より酸素又はオゾン割合の大きい雰囲気等が
挙げられる。紫外線照射の条件は、一次膜を構成する材
料に応じて適宜設定される。例えば、10〜60mW/
cm2のエネルギー、20〜60分間の照射時間が挙げ
られる。紫外線源としては、低圧水銀ランプ、水素放電
管、キセノン放電管等が挙げられる。紫外線は、これら
紫外線源から発生する波長のものをいずれも使用でき
る。より具体的には、低圧水銀ランプの場合、主波長2
54nmの光とそれの1/4の強度で波長185nmの
光とが混合した紫外線が挙げられる。
Next, the primary film is irradiated with ultraviolet rays in an oxidizing atmosphere. The primary film is converted into a metal oxide by the ultraviolet irradiation. Here, the oxidizing atmosphere includes an air atmosphere, an atmosphere in which the proportion of oxygen or ozone is higher than that in the air, and the like. The condition of the ultraviolet irradiation is appropriately set according to the material constituting the primary film. For example, 10-60 mW /
energy of cm 2 , irradiation time of 20 to 60 minutes. Examples of the ultraviolet light source include a low-pressure mercury lamp, a hydrogen discharge tube, a xenon discharge tube, and the like. As the ultraviolet rays, those having wavelengths generated from these ultraviolet sources can be used. More specifically, in the case of a low-pressure mercury lamp, the main wavelength 2
Ultraviolet light obtained by mixing light of 54 nm and light of a wavelength of 185 nm at an intensity of 1/4 of that is exemplified.

【0022】なお、所望のパターンの保護膜、透明電極
膜又は誘電体膜を得る方法として、次のような方法も挙
げられる。まず、基板全面に一次膜を形成する。次に、
所望のパターンにのみ紫外線を照射することで、照射部
分の一次膜を金属酸化物膜に変換する。形成される金属
酸化物膜は、少なくとも一次膜の表面に存在すればよ
い。この後、一次膜を選択的に溶解する溶剤で未照射部
分の一次膜を除去することにより、所望のパターンの保
護膜、透明電極膜又は誘電体膜を得ることができる。金
属酸化物膜が一次膜の表面にのみ存在する場合は、更に
紫外線の照射や、酸化性雰囲気下での焼成を行う必要が
ある。
The following method can be used to obtain a protective film, a transparent electrode film or a dielectric film having a desired pattern. First, a primary film is formed on the entire surface of the substrate. next,
By irradiating only a desired pattern with ultraviolet rays, the primary film of the irradiated portion is converted into a metal oxide film. The formed metal oxide film may be present at least on the surface of the primary film. Thereafter, by removing the unirradiated portion of the primary film with a solvent that selectively dissolves the primary film, a protective film, a transparent electrode film, or a dielectric film having a desired pattern can be obtained. When the metal oxide film is present only on the surface of the primary film, it is necessary to further irradiate with ultraviolet rays or to perform firing in an oxidizing atmosphere.

【0023】更に、紫外線照射により形成された金属酸
化物膜を、焼成してもよい。この焼成により、より緻密
かつ密着性が良好な金属酸化物膜を得ることができる。
焼成は、酸化性雰囲気下で、400〜600℃で5〜6
0分間(キープ時間)行うことが好ましい。
Further, the metal oxide film formed by the irradiation of ultraviolet rays may be fired. By this baking, a denser metal oxide film having better adhesion can be obtained.
The firing is performed in an oxidizing atmosphere at 400 to 600 ° C. for 5 to 6 hours.
It is preferably performed for 0 minutes (keep time).

【0024】保護膜、透明電極膜又は誘電体膜は、任意
に構成要素が形成された基板の所望の部位に形成され
る。
The protective film, the transparent electrode film or the dielectric film is formed on a desired portion of the substrate on which the constituent elements are arbitrarily formed.

【0025】本発明の方法で形成される保護膜は、PD
PやPALC等の表示に放電を利用する表示装置におい
て、放電から装置を構成する構成要素を保護する膜を意
味する。そのため、保護膜は、電極、誘電体膜等の構成
要素が形成された基板を覆うように形成される。
The protective film formed by the method of the present invention is a PD.
In a display device utilizing discharge for display such as P and PALC, it means a film that protects constituent elements of the device from discharge. Therefore, the protective film is formed so as to cover the substrate on which the components such as the electrodes and the dielectric film are formed.

【0026】本発明の方法で形成される透明電極膜は、
PDPにおいて、放電を発生させるための電極として表
示面側の基板上に設けられる電極膜を意味し、表示を妨
げないように透明の導電材からなる。透明電極膜は、基
板上に、直接又は絶縁膜のような構成要素を介して形成
される。
The transparent electrode film formed by the method of the present invention comprises:
In a PDP, it means an electrode film provided on a substrate on a display surface side as an electrode for generating a discharge, and is made of a transparent conductive material so as not to hinder display. The transparent electrode film is formed on the substrate directly or via a component such as an insulating film.

【0027】本発明の方法で形成される誘電体膜は、P
DPやPALC等の表示に放電を利用する表示装置にお
いて、放電によって生じた電荷を蓄積させて保持し、電
極との間で壁電圧を形成させる、つまりメモリ機能を持
たせるための膜を意味する。誘電体膜は、電極を被覆す
るように基板上に形成される。
The dielectric film formed by the method of the present invention has a P
In a display device utilizing discharge for display such as DP or PALC, it refers to a film for accumulating and holding charges generated by discharge and forming a wall voltage between the electrodes, that is, having a memory function. . The dielectric film is formed on the substrate so as to cover the electrodes.

【0028】なお、基板としては、ガラス基板、シリコ
ン基板等が挙げられる。更に、保護膜、透明電極膜、誘
電体膜、基板は、表示装置の種類に応じてその形状が適
宜決定される。
The substrate includes a glass substrate, a silicon substrate and the like. Further, the shapes of the protective film, the transparent electrode film, the dielectric film, and the substrate are appropriately determined according to the type of the display device.

【0029】以下では、表示装置として、図1に示す3
電極AC型面放電PDPを用いて、保護膜、透明電極膜
及び誘電体膜の具体的な配置例を示す。なお、以下の配
置例は説明のために使用することを目的としており、本
発明がこれに限定されるものではない。
In the following, the display device shown in FIG.
A specific arrangement example of a protective film, a transparent electrode film, and a dielectric film using an electrode AC type surface discharge PDP will be described. Note that the following arrangement examples are intended to be used for explanation, and the present invention is not limited thereto.

【0030】図1のPDP100は、前面側基板と背面
側基板とから構成される。
The PDP 100 shown in FIG. 1 includes a front substrate and a rear substrate.

【0031】まず、前面側基板は、一般的にガラス基板
11上に形成された複数本のストライプ状の表示電極、
表示電極を覆うように形成された誘電体膜17、誘電体
膜17上に形成され放電空間に露出する保護層18とか
らなる。
First, the front substrate is generally composed of a plurality of stripe-shaped display electrodes formed on a glass substrate 11,
It comprises a dielectric film 17 formed so as to cover the display electrode, and a protective layer 18 formed on the dielectric film 17 and exposed to the discharge space.

【0032】表示電極は、ストライプ状又は放電セル単
位のドット形状の透明電極膜41と、透明電極膜の抵抗
を下げるための透明電極膜41上に積層される透明電極
膜よりも幅狭のストライプ状のバス電極42とからな
る。
The display electrode includes a stripe-shaped or dot-shaped transparent electrode film 41 in discharge cell units, and a stripe narrower than the transparent electrode film laminated on the transparent electrode film 41 for reducing the resistance of the transparent electrode film. And a bus electrode 42 in a shape of a circle.

【0033】上記透明電極膜41、誘電体膜17及び保
護膜18の内、少なくとも1つの形成に本発明の方法を
使用することができる。
The method of the present invention can be used for forming at least one of the transparent electrode film 41, the dielectric film 17, and the protective film 18.

【0034】なお、透明電極膜41の公知の形成方法と
しては、透明電極膜を構成する金属の有機化合物を含む
ペーストを塗布及び焼成することで形成する方法が挙げ
られる。誘電体膜17の公知の形成方法としては、低融
点ガラスとバインダとからなるペーストを基板上に塗布
し、焼成することにより形成する方法が挙げられる。保
護膜18の公知の形成方法としては、透明電極膜41と
同様の方法の他、蒸着等の方法が挙げられる。
As a known method of forming the transparent electrode film 41, there is a method of forming the transparent electrode film by applying and baking a paste containing an organic compound of a metal constituting the transparent electrode film. As a known method for forming the dielectric film 17, there is a method in which a paste composed of a low-melting glass and a binder is applied on a substrate and baked. Known methods for forming the protective film 18 include the same method as that for the transparent electrode film 41, and a method such as vapor deposition.

【0035】次に、背面側基板は、一般的に、ガラス基
板21上に形成された複数本のストライプ状のアドレス
電極A、アドレス電極Aを覆う誘電体膜27、隣接する
アドレス電極間で誘電体膜27上に形成された複数本の
ストライプ状の隔壁29、隔壁29間に壁面を含めて形
成された隔壁の蛍光体層28とからなる。
Next, the rear substrate generally comprises a plurality of stripe-shaped address electrodes A formed on a glass substrate 21, a dielectric film 27 covering the address electrodes A, and a dielectric film between the adjacent address electrodes. It comprises a plurality of stripe-shaped barrier ribs 29 formed on the body film 27, and the phosphor layer 28 of the barrier ribs including the wall surfaces between the barrier ribs 29.

【0036】誘電体膜27の形成に本発明の方法を使用
することができる。
The method of the present invention can be used for forming the dielectric film 27.

【0037】隔壁29は、低融点ガラスとバインダとか
らなるペーストを誘電体膜27上に塗布し、焼成した
後、サンドブラスト法で切削することにより形成するこ
とができる。また、バインダに感光性の樹脂を使用した
場合、所定形状のマスクを使用して露光及び現像した
後、焼成することにより形成することも可能である。
The partition wall 29 can be formed by applying a paste composed of a low-melting glass and a binder on the dielectric film 27, firing the paste, and cutting it by a sandblast method. Further, when a photosensitive resin is used for the binder, it can be formed by exposing and developing using a mask having a predetermined shape, followed by baking.

【0038】蛍光体層28は、バインダが溶解された溶
液に粒子状の蛍光体を分散させたペーストを、隔壁29
間に塗布し、不活性雰囲気下で焼成することにより形成
することができる。
The phosphor layer 28 is formed by applying a paste in which a particulate phosphor is dispersed in a solution in which a binder is dissolved, to a partition 29.
It can be formed by coating in between and firing in an inert atmosphere.

【0039】上記前面側基板と背面側基板とを、表示電
極とアドレス電極が直交するように、両電極を内側にし
て対向させ、隔壁29により囲まれた空間に放電ガスを
充填することによりPDP100を形成することができ
る。なお、図1中、R、G及びBは、赤色表示部、緑色
表示部及び青色表示部をそれぞれ示している。
The front substrate and the rear substrate are opposed to each other so that the display electrode and the address electrode are perpendicular to each other with both electrodes inside, and the space surrounded by the partition wall 29 is filled with a discharge gas to form the PDP 100. Can be formed. In FIG. 1, R, G, and B indicate a red display unit, a green display unit, and a blue display unit, respectively.

【0040】なお、本発明の方法が使用できるPDP
は、図1のPDPの構成に限らず、DC型でもよく、対
向放電型でもよく、蛍光体層を前面側基板に配置した透
過型でもよく、更に2電極構造のいずれのPDPにも使
用することができる。更に、隔壁にはメッシュ状のもの
を使用することができる。
A PDP to which the method of the present invention can be used
Is not limited to the configuration of the PDP in FIG. 1, but may be a DC type, a counter discharge type, a transmission type in which a phosphor layer is disposed on a front substrate, and further used for any PDP having a two-electrode structure. be able to. Furthermore, a mesh-like partition can be used.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0042】実施例1 公知の方法により表示電極(透明電極膜41、バス電極
42)と誘電体膜17がこの順で形成されたガラス基板
11の誘電体膜上の所望の位置に、エナント酸マグネシ
ウム(40重量部)を、エチルアルコール(60重量
部)に溶解した塗布組成物を塗布し、塗布膜を70℃で
20分間乾燥させることにより、厚さ約2μmの一次膜
が得られた。
Example 1 A display electrode (transparent electrode film 41, bus electrode 42) and a dielectric film 17 were formed in this order by a known method. A coating composition obtained by dissolving magnesium (40 parts by weight) in ethyl alcohol (60 parts by weight) was applied, and the applied film was dried at 70 ° C. for 20 minutes to obtain a primary film having a thickness of about 2 μm.

【0043】次に、一次膜に水銀ランプにより紫外線
(エネルギー30mW/cm2、30分間)を照射する
ことで、脂肪酸部分(エナント酸部分)を分解して、厚
さ約0.6μmの透明な酸化マグネシウム膜からなる保
護膜18を得た。これにより、前面側基板が得られた。
Next, the primary film is irradiated with ultraviolet rays (energy: 30 mW / cm 2 , 30 minutes) by a mercury lamp to decompose the fatty acid portion (enanthic acid portion) and obtain a transparent film having a thickness of about 0.6 μm. A protective film 18 made of a magnesium oxide film was obtained. As a result, a front substrate was obtained.

【0044】次に、前面側基板とは別に、公知の方法に
より、ガラス基板21上に、アドレス電極A、誘電体膜
27、蛍光体層28及び隔壁29を形成することにより
背面側基板を得た。
Next, separately from the front side substrate, an address electrode A, a dielectric film 27, a phosphor layer 28 and a partition wall 29 are formed on the glass substrate 21 by a known method to obtain a rear side substrate. Was.

【0045】背面側基板と前面側基板とを貼り合わせ、
放電空間に放電ガスを封入することにより、図1に示す
PDP100を得た。
The back substrate and the front substrate are bonded together,
The PDP 100 shown in FIG. 1 was obtained by filling a discharge gas in the discharge space.

【0046】実施例2 ガラス基板11上に、エナント酸インジウムとエナント
酸錫を分解後のインジウムと錫の割合が9:1(モル
比)になるように秤量し(合わせて20重量部)、これ
をエチルアルコール(80重量部)に溶解した塗布組成
物を、印刷法で所望の形状で塗布し、塗布膜を70℃で
20分間乾燥させることにより、厚さ約0.7μmの一
次膜が得られた。
Example 2 Indium enanthate and tin enanthate were weighed on a glass substrate 11 so that the ratio of indium to tin after decomposition was 9: 1 (molar ratio) (20 parts by weight in total). A coating composition obtained by dissolving this in ethyl alcohol (80 parts by weight) is applied in a desired shape by a printing method, and the applied film is dried at 70 ° C. for 20 minutes to form a primary film having a thickness of about 0.7 μm. Obtained.

【0047】次に、一次膜に水銀ランプにより紫外線
(エネルギー30mW/cm2、30分間)を照射する
ことで、脂肪酸部分(エナント酸部分)を分解して、厚
さ約0.2μmの透明なITOからなる透明電極膜41
を得た。
Next, the primary film is irradiated with ultraviolet rays (energy: 30 mW / cm 2 , 30 minutes) by a mercury lamp to decompose the fatty acid portion (enanthic acid portion) to obtain a transparent film having a thickness of about 0.2 μm. Transparent electrode film 41 made of ITO
I got

【0048】公知の方法によりバス電極42、誘電体膜
17及び保護膜18をこの順で形成することにより、前
面側基板が得られた。
The front substrate was obtained by forming the bus electrode 42, the dielectric film 17 and the protective film 18 in this order by a known method.

【0049】以降、実施例1と同様にして、PDP10
0を得た。
Thereafter, in the same manner as in the first embodiment, the PDP 10
0 was obtained.

【0050】実施例3 公知の方法により表示電極(41、42)が形成された
ガラス基板11上の所望の位置に、エナント酸アルミニ
ウム(10重量部)を、ブチルセロソルブ(90重量
部)に溶解した塗布組成物を塗布し、塗布膜を100℃
で20分間乾燥させることにより、厚さ約3μmの一次
膜が得られた。
Example 3 Aluminum enanthate (10 parts by weight) was dissolved in butyl cellosolve (90 parts by weight) at a desired position on the glass substrate 11 on which the display electrodes (41, 42) were formed by a known method. Apply the coating composition and apply the coating film at 100 ° C
, And a primary film having a thickness of about 3 μm was obtained.

【0051】次に、一次膜に水銀ランプにより紫外線
(エネルギー30mW/cm2、30分間)を照射する
ことで、脂肪酸部分(エナント酸部分)を分解して、厚
さ約1μmの透明な酸化アルミニウム膜を得た。
Next, the primary film is irradiated with ultraviolet rays (energy: 30 mW / cm 2 , 30 minutes) by a mercury lamp to decompose the fatty acid portion (enanthic acid portion) and to form a transparent aluminum oxide having a thickness of about 1 μm. A membrane was obtained.

【0052】同様の工程を5回繰り返すことにより、酸
化アルミニウムからなる厚さ約5μmの誘電体膜17を
得た。
By repeating the same process five times, a dielectric film 17 made of aluminum oxide and having a thickness of about 5 μm was obtained.

【0053】公知の方法により保護膜18を形成するこ
とにより、前面側基板が得られた。
The front substrate was obtained by forming the protective film 18 by a known method.

【0054】以降、実施例1と同様にして、PDP10
0を得た。
Thereafter, in the same manner as in the first embodiment, the PDP 10
0 was obtained.

【0055】実施例4 実施例2と同様の組成の塗布組成物をガラス基板11上
の全面に塗布し、塗布膜を70℃で20分間乾燥させる
ことにより、厚さ約0.7μmの一次膜が得られた。
Example 4 A coating composition having the same composition as in Example 2 was applied to the entire surface of the glass substrate 11, and the applied film was dried at 70 ° C. for 20 minutes to obtain a primary film having a thickness of about 0.7 μm. was gotten.

【0056】次に、マスクを通して紫外線を透明電極膜
41の形成を望む位置のみに照射することにより、脂肪
酸部分(エナント酸部分)を分解して、厚さ約0.2μ
mの透明なITO膜を照射部分にのみ形成した。
Then, the fatty acid portion (enanthic acid portion) is decomposed by irradiating ultraviolet rays only to a position where the transparent electrode film 41 is desired to be formed through a mask, so that the thickness is about 0.2 μm.
m transparent ITO film was formed only on the irradiated portion.

【0057】この後、未照射部の一次膜をエチルアルコ
ールで溶解することにより、所望のパターンの透明電極
膜41を得た。
Thereafter, the unirradiated portion of the primary film was dissolved with ethyl alcohol to obtain a transparent electrode film 41 having a desired pattern.

【0058】公知の方法によりバス電極42、誘電体膜
17及び保護膜18をこの順で形成することにより、前
面側基板が得られた。
By forming the bus electrode 42, the dielectric film 17 and the protective film 18 in this order by a known method, a front substrate was obtained.

【0059】以降、実施例1と同様にして、PDP10
0を得た。
Thereafter, in the same manner as in the first embodiment, the PDP 10
0 was obtained.

【0060】なお、上記では、照射部の一次膜全体をI
TO膜に変換しているが、表面のみITO膜に変換して
もよい(この場合、ITO膜下には一次膜が存在す
る)。この場合、続けて、上記と同様に未照射部を溶解
して、所定のパターンのITO膜と一次膜の積層体を形
成し、更に紫外線を照射するか、加熱するか、又は照射
しつつ加熱することにより残る一次膜をITO膜に変換
することで、透明電極膜を得ることができる。
In the above description, the entire primary film of the irradiated portion is
Although the film is converted to a TO film, only the surface may be converted to an ITO film (in this case, a primary film exists below the ITO film). In this case, the unirradiated portion is dissolved in the same manner as described above to form a laminated body of the ITO film and the primary film in a predetermined pattern, and is further irradiated with ultraviolet rays, heated, or heated while being irradiated. By converting the remaining primary film into an ITO film, a transparent electrode film can be obtained.

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明によれば、比較的低温で任意の形
状に基板上に、紫外線を照射する簡単な工程で、任意の
種類の金属酸化物からなる保護膜、透明電極膜及び誘電
体膜を低コストで形成することができる。また、紫外線
を選択的に照射すれば、未照射部を溶媒により除去(す
なわちエッチング)することができるので、低コストで
パターンを形成することも可能である。
According to the present invention, a protective film, a transparent electrode film, and a dielectric made of any kind of metal oxide can be formed on a substrate in an arbitrary shape at a relatively low temperature by a simple process of irradiating an ultraviolet ray. The film can be formed at low cost. In addition, by selectively irradiating ultraviolet rays, the unirradiated portion can be removed (that is, etched) with a solvent, so that a pattern can be formed at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の方法が適用可能なPDPの概略斜視図
である。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a PDP to which the method of the present invention can be applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、21 ガラス基板 17、27 誘電体膜 18 保護膜 28 蛍光体層 29 隔壁 41 透明電極膜 42 バス電極 100 PDP A アドレス電極 B 青色表示部 G 緑色表示部 R 赤色表示部 11, 21 Glass substrate 17, 27 Dielectric film 18 Protective film 28 Phosphor layer 29 Partition 41 Transparent electrode film 42 Bus electrode 100 PDP A Address electrode B Blue display section G Green display section R Red display section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1343 G02F 1/1343 5C040 G09F 9/313 G09F 9/313 5C094 H01J 9/02 H01J 9/02 F 11/02 11/02 B // C03C 17/34 C03C 17/34 Z Fターム(参考) 2H092 HA04 MA10 MA16 MA22 MA35 NA15 NA16 NA25 NA27 PA06 4D075 BB20Z BB28Z BB46Y CA48 DA06 DB14 DC22 EA21 EC02 EC08 4G042 DA01 DB08 DB24 DC01 DC03 DD02 DE08 DE09 DE14 4G059 AA06 AA08 AC14 AC30 EA01 EA02 EA03 EA04 EA05 EB05 5C027 AA02 AA06 AA10 5C040 FA01 GA02 GA03 GC06 GC18 GD07 GD09 GE07 GE09 JA02 MA22 MA26 5C094 AA44 BA31 CA19 CA24 DA13 EA05 FB16 GB10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/1343 G02F 1/1343 5C040 G09F 9/313 G09F 9/313 5C094 H01J 9/02 H01J 9 / 02F 11/02 11/02 B // C03C 17/34 C03C 17/34 Z F term (reference) 2H092 HA04 MA10 MA16 MA22 MA35 NA15 NA16 NA25 NA27 PA06 4D075 BB20Z BB28Z BB46Y CA48 DA06 DB14 DC22 EA21 EC02 EC08 4G042 DA01 DB08 DB01 DC01 DC03 DD02 DE08 DE09 DE14 4G059 AA06 AA08 AC14 AC30 EA01 EA02 EA03 EA04 EA05 EB05 5C027 AA02 AA06 AA10 5C040 FA01 GA02 GA03 GC06 GC18 GD07 GD09 GE07 GE09 JA02 MA22 MA26 5C094 AA16 BA31 CA19 CA24 DA31 GB

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の所望の部位に、保護膜、透明電極
膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜の原料として、
金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を
塗布して一次膜を形成し、一次膜に酸化性雰囲気下で紫
外線を照射することにより金属酸化物膜を形成すること
を特徴とする金属酸化物膜の形成方法。
1. A method for forming a metal oxide film constituting a protective film, a transparent electrode film or a dielectric film on a desired portion of a substrate,
Forming a primary film by applying a coating composition containing a metal aliphatic acid salt or alkoxide, and forming a metal oxide film by irradiating the primary film with ultraviolet light in an oxidizing atmosphere; A method for forming an oxide film.
【請求項2】 保護膜が酸化マグネシウム膜であり、透
明電極膜がインジウム錫酸化膜であり、誘電体膜が酸化
アルミニウム膜である請求項1に記載の金属酸化物膜の
形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the protective film is a magnesium oxide film, the transparent electrode film is an indium tin oxide film, and the dielectric film is an aluminum oxide film.
【請求項3】 紫外線が保護膜、透明電極膜又は誘電体
膜の形成を所望する領域に照射され、次いで未照射部の
一次膜を溶解除去することで、所望のパターンの保護
膜、透明電極膜又は誘電体膜を形成する請求項1又は2
に記載の金属酸化物膜の形成方法。
3. A protective film, a transparent electrode and a transparent electrode having a desired pattern are formed by irradiating ultraviolet rays to a region where a protective film, a transparent electrode film or a dielectric film is desired to be formed, and then dissolving and removing an unirradiated primary film. 3. A film or a dielectric film is formed.
3. The method for forming a metal oxide film according to item 1.
【請求項4】 金属酸化物膜が、更に焼成される請求項
1〜3のいずれかに記載の金属酸化物膜の形成方法。
4. The method for forming a metal oxide film according to claim 1, wherein the metal oxide film is further baked.
【請求項5】 金属の脂肪族酸塩が、炭素数2〜19個
の飽和脂肪族モノカルボン酸の金属塩である請求項1〜
4のいずれかに記載の金属酸化物膜の形成方法。
5. An aliphatic acid salt of a metal is a metal salt of a saturated aliphatic monocarboxylic acid having 2 to 19 carbon atoms.
5. The method for forming a metal oxide film according to any one of 4.
【請求項6】 表示装置が、請求項1〜5に記載の保護
膜、透明電極膜、誘電体膜の少なくとも1つを備えるプ
ラズマディスプレイパネル。
6. A plasma display panel, wherein a display device includes at least one of the protective film, the transparent electrode film, and the dielectric film according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100981946B1 (en) * 2002-08-19 2010-09-14 시노다 프라즈마 가부시끼가이샤 Method for forming metal oxide film and method for forming secondary electron emission film of gas discharge tube
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