JP2001133381A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- JP2001133381A JP2001133381A JP31696999A JP31696999A JP2001133381A JP 2001133381 A JP2001133381 A JP 2001133381A JP 31696999 A JP31696999 A JP 31696999A JP 31696999 A JP31696999 A JP 31696999A JP 2001133381 A JP2001133381 A JP 2001133381A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短時間で正確な３次元形状を得ることができ
る走査型プローブ顕微鏡を提供する。 【解決手段】 Ｚスキャナに対するＺ制御系のサーボ残
差が大きくなって、Ｚセンサ７からのセンサ信号がコン
パレータ９０５ａの基準電圧９０６より大きくなると、
減速要求信号がパルス生成部９０１のクロック発生器９
０１ａに与えられ、パルス発生器９０１ｂからのクロッ
ク信号の周波数を低下させ、ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９
０２、Ｄ／Ａ変換器９０３および高圧アンプ９０４によ
るＸＹスキャナ３の走査速度を低速に移行する。
る走査型プローブ顕微鏡を提供する。 【解決手段】 Ｚスキャナに対するＺ制御系のサーボ残
差が大きくなって、Ｚセンサ７からのセンサ信号がコン
パレータ９０５ａの基準電圧９０６より大きくなると、
減速要求信号がパルス生成部９０１のクロック発生器９
０１ａに与えられ、パルス発生器９０１ｂからのクロッ
ク信号の周波数を低下させ、ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９
０２、Ｄ／Ａ変換器９０３および高圧アンプ９０４によ
るＸＹスキャナ３の走査速度を低速に移行する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、微小域の３次元形
状を取得する走査型プローブ顕微鏡に関するものであ
る。
状を取得する走査型プローブ顕微鏡に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、半導体製造工程におけるパターン
の微細化は、目覚ましいものがあり、これにともない３
次元精密計測の要求が高まっているが、このような要求
に対応できる手段のひとつとして、ナノメートル以下の
感度を有する走査型プローブ顕微鏡が注目されている。
の微細化は、目覚ましいものがあり、これにともない３
次元精密計測の要求が高まっているが、このような要求
に対応できる手段のひとつとして、ナノメートル以下の
感度を有する走査型プローブ顕微鏡が注目されている。
【０００３】図２は、従来の走査型プローブ顕微鏡の一
例を示すもので、試料１を載置した試料台２は、ＸＹス
キャナ３とＺスキャナ４を有するステージ５上に設けら
れ、これらＸＹスキャナ３とＺスキャナ４により試料１
の３次元方向の移動を可能にしている。ここで、ステー
ジ５には、圧電体ステージが用いられており、印加され
る電圧にほぼ比例した変位が得られるようにしている。
また、試料１に極近接してカンチレバー６が配置され、
この時のカンチレバー６と試料１との間に働く力による
カンチレバー６のたわみ量をＺセンサ７により検出する
ようにしている。このＺセンサ７には、Ｚ制御部８が接
続されている。Ｚ制御部８は、図示しないＣＰＵからの
制御開始指令によりＺセンサ７からのセンサ信号を取込
むとともに、このセンサ信号が一定になるようにＺスキ
ャナ４によるＺ（垂直）方向の移動量、つまり試料１と
カンチレバー６との間の距離を制御するようにしてい
る。一方、ＸＹスキャナ３には、走査波形生成部９が接
続され、この走査波形生成部９からの三角波形の駆動信
号により、カンチレバー６に対して試料１を水平方向に
２次元走査するようにしている。
例を示すもので、試料１を載置した試料台２は、ＸＹス
キャナ３とＺスキャナ４を有するステージ５上に設けら
れ、これらＸＹスキャナ３とＺスキャナ４により試料１
の３次元方向の移動を可能にしている。ここで、ステー
ジ５には、圧電体ステージが用いられており、印加され
る電圧にほぼ比例した変位が得られるようにしている。
また、試料１に極近接してカンチレバー６が配置され、
この時のカンチレバー６と試料１との間に働く力による
カンチレバー６のたわみ量をＺセンサ７により検出する
ようにしている。このＺセンサ７には、Ｚ制御部８が接
続されている。Ｚ制御部８は、図示しないＣＰＵからの
制御開始指令によりＺセンサ７からのセンサ信号を取込
むとともに、このセンサ信号が一定になるようにＺスキ
ャナ４によるＺ（垂直）方向の移動量、つまり試料１と
カンチレバー６との間の距離を制御するようにしてい
る。一方、ＸＹスキャナ３には、走査波形生成部９が接
続され、この走査波形生成部９からの三角波形の駆動信
号により、カンチレバー６に対して試料１を水平方向に
２次元走査するようにしている。
【０００４】図３は、走査波形生成部９の概略構成を示
すもので、パルス生成部９０１は、クロック発生器９０
１ａとパルス発生器９０１ｂを有し、クロック発生器９
０１ａのクロック信号に基いてパルス発生器９０１ｂよ
りパルスＰＬＳとＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９０２でのカ
ウント方向を示す信号ＤＩＲを出力するようにしてい
る。そして、このパルス生成部９０１からのパルスＰＬ
Ｓは、ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９０２に送られ、カウン
ト方向を示す信号ＤＩＲに従いＵＰ／ＤＯＷＮカウント
されるとともに、Ｄ／Ａ変換器９０３を介してデジタル
信号から三角形状のアナログ駆動信号に変換され、高圧
アンプ９０４を介してＸＹスキャナ３に印加される。
すもので、パルス生成部９０１は、クロック発生器９０
１ａとパルス発生器９０１ｂを有し、クロック発生器９
０１ａのクロック信号に基いてパルス発生器９０１ｂよ
りパルスＰＬＳとＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９０２でのカ
ウント方向を示す信号ＤＩＲを出力するようにしてい
る。そして、このパルス生成部９０１からのパルスＰＬ
Ｓは、ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９０２に送られ、カウン
ト方向を示す信号ＤＩＲに従いＵＰ／ＤＯＷＮカウント
されるとともに、Ｄ／Ａ変換器９０３を介してデジタル
信号から三角形状のアナログ駆動信号に変換され、高圧
アンプ９０４を介してＸＹスキャナ３に印加される。
【０００５】このようにして、ステージ５のＺスキャナ
４によるＺ方向の移動とともに、ＸＹスキャナ３による
水平方向の移動が得られることにより、試料１の３次元
計測が行なわれるようになる。
４によるＺ方向の移動とともに、ＸＹスキャナ３による
水平方向の移動が得られることにより、試料１の３次元
計測が行なわれるようになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
構成によると、例えば、試料１の計測面での凹凸が大き
いような場合、走査速度を速めようとすると、Ｚセンサ
７の出力が一定になるようにＺ方向の移動量を制御する
Ｚ制御系のサーボ残差が大きくなり、カンチレバー６が
安定して試料１の計測面に追従できなくなり、正確な３
次元形状が得られないという問題が生じる。このため、
このような試料１に対しては、クロック発生器９０１ａ
のクロック信号の周波数を前もって低く設定することが
考えられるが、これは、計測のための走査速度を遅くす
ることであり、３次元形状を得るまでに時間がかかって
しまうという問題があった。
構成によると、例えば、試料１の計測面での凹凸が大き
いような場合、走査速度を速めようとすると、Ｚセンサ
７の出力が一定になるようにＺ方向の移動量を制御する
Ｚ制御系のサーボ残差が大きくなり、カンチレバー６が
安定して試料１の計測面に追従できなくなり、正確な３
次元形状が得られないという問題が生じる。このため、
このような試料１に対しては、クロック発生器９０１ａ
のクロック信号の周波数を前もって低く設定することが
考えられるが、これは、計測のための走査速度を遅くす
ることであり、３次元形状を得るまでに時間がかかって
しまうという問題があった。
【０００７】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、短時間で正確な３次元形状を得ることができる走査
型プローブ顕微鏡を提供することを目的とする。
で、短時間で正確な３次元形状を得ることができる走査
型プローブ顕微鏡を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
試料に近接して配置されたカンチレバーを有し、このカ
ンチレバーの状態を検出する検出手段の出力により前記
カンチレバーと試料との間の距離を制御するとともに、
前記カンチレバーに対して前記試料を２次元走査するこ
とにより該試料の３次元計測を可能にした走査型プロー
ブ顕微鏡において、前記検出手段の出力に基いて前記試
料の２次元走査速度の減速を判断する減速判定手段と、
この減速判定手段の判断結果に基いて前記試料の２次元
走査速度を減速させる速度制御手段とを具備したことを
特徴としている。
試料に近接して配置されたカンチレバーを有し、このカ
ンチレバーの状態を検出する検出手段の出力により前記
カンチレバーと試料との間の距離を制御するとともに、
前記カンチレバーに対して前記試料を２次元走査するこ
とにより該試料の３次元計測を可能にした走査型プロー
ブ顕微鏡において、前記検出手段の出力に基いて前記試
料の２次元走査速度の減速を判断する減速判定手段と、
この減速判定手段の判断結果に基いて前記試料の２次元
走査速度を減速させる速度制御手段とを具備したことを
特徴としている。
【０００９】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、減速判定手段は、前記検出手段の出力が予
め設定された基準値を超えたことにより減速要求信号を
出力する比較手段を有し、前記速度制御手段は、所定周
波数のクロック信号に応じたパルスを発生するパルス生
成手段、このパルス生成手段のパルスを計数するパルス
計数手段、このパルス計数手段でのパルス計数に応じて
前記２次元走査出力を生成する走査出力手段を有し、前
記減速判定手段の減速要求信号により前記速度制御手段
でのクロック信号の周波数を低下させることを特徴とし
ている。
明において、減速判定手段は、前記検出手段の出力が予
め設定された基準値を超えたことにより減速要求信号を
出力する比較手段を有し、前記速度制御手段は、所定周
波数のクロック信号に応じたパルスを発生するパルス生
成手段、このパルス生成手段のパルスを計数するパルス
計数手段、このパルス計数手段でのパルス計数に応じて
前記２次元走査出力を生成する走査出力手段を有し、前
記減速判定手段の減速要求信号により前記速度制御手段
でのクロック信号の周波数を低下させることを特徴とし
ている。
【００１０】この結果、カンチレバーのたわみなどの状
態に応じて試料の２次元走査速度を減速させることがで
きるので、計測面の一部に凹凸が存在するような試料に
ついては、凹凸部分で２次元走査速度を低速にして３次
元計測を行ない、その他の部分では、通常の走査速度に
より３次元計測を行なうようにでき、どのような試料に
ついても連続して３次元計測を行なうことができる。
態に応じて試料の２次元走査速度を減速させることがで
きるので、計測面の一部に凹凸が存在するような試料に
ついては、凹凸部分で２次元走査速度を低速にして３次
元計測を行ない、その他の部分では、通常の走査速度に
より３次元計測を行なうようにでき、どのような試料に
ついても連続して３次元計測を行なうことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に従い説明する。
面に従い説明する。
【００１２】ここで、走査型プローブ顕微鏡全体を説明
するための概略構成図については、図２と同様なので、
同図を援用するものとする。
するための概略構成図については、図２と同様なので、
同図を援用するものとする。
【００１３】図１は、このような走査型プローブ顕微鏡
に用いられる走査波形生成部９の概略構成を示すもの
で、図３と同一部分には、同符号を付している。
に用いられる走査波形生成部９の概略構成を示すもの
で、図３と同一部分には、同符号を付している。
【００１４】この場合、走査波形生成部９は、さらに減
速判断手段９０５を有している。この減速判断手段９０
５は、比較手段としてコンパレータ９０５ａを有してい
る。コンパレータ９０５ａは、一方の入力端子に図２に
示すＺセンサ７からのセンサ信号が与えられ、また、他
方の入力端子には、基準電圧（Ｖｒｅｆ）９０６が与え
られるもので、Ｚセンサ７からのセンサ信号と基準電圧
９０６を比較し、センサ信号が基準電圧９０６より大き
くなると、減速要求信号を出力するようになっている。
なお、ここでの基準電圧９０６は、例えば、試料１の計
測面での凹凸が大きくなって制御帯域を超え、カンチレ
バー６が試料１面を追従不能になる直前のＺセンサ７か
らのセンサ信号に対応した値に設定されている。
速判断手段９０５を有している。この減速判断手段９０
５は、比較手段としてコンパレータ９０５ａを有してい
る。コンパレータ９０５ａは、一方の入力端子に図２に
示すＺセンサ７からのセンサ信号が与えられ、また、他
方の入力端子には、基準電圧（Ｖｒｅｆ）９０６が与え
られるもので、Ｚセンサ７からのセンサ信号と基準電圧
９０６を比較し、センサ信号が基準電圧９０６より大き
くなると、減速要求信号を出力するようになっている。
なお、ここでの基準電圧９０６は、例えば、試料１の計
測面での凹凸が大きくなって制御帯域を超え、カンチレ
バー６が試料１面を追従不能になる直前のＺセンサ７か
らのセンサ信号に対応した値に設定されている。
【００１５】そして、減速判断手段９０５からの減速要
求信号は、パルス生成部９０１のクロック発生器９０１
ａに与えられる。クロック発生器９０１ａは、常時は、
一定周波数のクロック信号を出力し、減速判断手段９０
５の減速要求信号が与えられると、クロック信号の周波
数を予め定められた周波数まで低下させるようにしてい
る。
求信号は、パルス生成部９０１のクロック発生器９０１
ａに与えられる。クロック発生器９０１ａは、常時は、
一定周波数のクロック信号を出力し、減速判断手段９０
５の減速要求信号が与えられると、クロック信号の周波
数を予め定められた周波数まで低下させるようにしてい
る。
【００１６】次に、このように構成した実施の形態の動
作を説明する。
作を説明する。
【００１７】まず、通常の試料１の計測面での３次元計
測については、上述した図１および図２での説明と同様
である。この場合、減速判断手段９０５のコンパレータ
９０５ａでは、Ｚセンサ７からのセンサ信号が基準電圧
９０６より大きくなることはなく、減速判断手段９０５
より減速要求信号が出力されることもない。
測については、上述した図１および図２での説明と同様
である。この場合、減速判断手段９０５のコンパレータ
９０５ａでは、Ｚセンサ７からのセンサ信号が基準電圧
９０６より大きくなることはなく、減速判断手段９０５
より減速要求信号が出力されることもない。
【００１８】次に、カンチレバー６が試料１面を追従で
きなくなる程度に、試料１の計測面での凹凸が大きい場
合は、Ｚスキャナ４に対するＺ制御系のサーボ残差が大
きくなり、Ｚセンサ７からのセンサ信号も大きく変動す
る。そして、このセンサ信号がコンパレータ９０５ａの
基準電圧９０６より大きくなると、減速判断手段９０５
より減速要求信号が出力され、パルス生成部９０１のク
ロック発生器９０１ａに与えられる。
きなくなる程度に、試料１の計測面での凹凸が大きい場
合は、Ｚスキャナ４に対するＺ制御系のサーボ残差が大
きくなり、Ｚセンサ７からのセンサ信号も大きく変動す
る。そして、このセンサ信号がコンパレータ９０５ａの
基準電圧９０６より大きくなると、減速判断手段９０５
より減速要求信号が出力され、パルス生成部９０１のク
ロック発生器９０１ａに与えられる。
【００１９】これにより、クロック発生器９０１ａは、
クロック信号の周波数を予め定められた周波数まで低下
され、また、パルス発生器９０１ｂでは、クロック信号
の周波数に応じたパルスＰＬＳを出力するので、この時
のパルスＰＬＳの速度も減速される。そして、このパル
スＰＬＳは、ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９０２に送られ、
ＵＰ／ＤＯＷＮカウントされるが、パルスＰＬＳの速度
が減速されることにより、ＵＰ／ＤＯＷＮのカウント速
度も遅くなり、この状態で、Ｄ／Ａ変換器９０３を介し
て三角形状のアナログ駆動信号に変換され、高圧アンプ
９０４を介してＸＹスキャナ３に印加される。この場
合、ＸＹスキャナ３に印加される三角形状のアナログ駆
動信号は、Ｚセンサ７のセンサ信号が基準電圧９０６を
僅かに上回る走査速度（予め設定された走査速度よりも
遅い速度）に制限されることになっており、この状態
で、試料１の計測面での３次元計測が続けられる。
クロック信号の周波数を予め定められた周波数まで低下
され、また、パルス発生器９０１ｂでは、クロック信号
の周波数に応じたパルスＰＬＳを出力するので、この時
のパルスＰＬＳの速度も減速される。そして、このパル
スＰＬＳは、ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ９０２に送られ、
ＵＰ／ＤＯＷＮカウントされるが、パルスＰＬＳの速度
が減速されることにより、ＵＰ／ＤＯＷＮのカウント速
度も遅くなり、この状態で、Ｄ／Ａ変換器９０３を介し
て三角形状のアナログ駆動信号に変換され、高圧アンプ
９０４を介してＸＹスキャナ３に印加される。この場
合、ＸＹスキャナ３に印加される三角形状のアナログ駆
動信号は、Ｚセンサ７のセンサ信号が基準電圧９０６を
僅かに上回る走査速度（予め設定された走査速度よりも
遅い速度）に制限されることになっており、この状態
で、試料１の計測面での３次元計測が続けられる。
【００２０】一方、この状態から、センサ信号が基準電
圧９０６を超えなくなり、Ｚスキャナ４に対するＺ制御
系が十分に追従するようになると、減速判断手段９０５
の減速要求信号の出力は停止される。これにより、パル
ス生成部９０１のクロック発生器９０１ａのクロック信
号は、最初の設定周波数に戻され、通常の速度での３次
元計測が実行される。
圧９０６を超えなくなり、Ｚスキャナ４に対するＺ制御
系が十分に追従するようになると、減速判断手段９０５
の減速要求信号の出力は停止される。これにより、パル
ス生成部９０１のクロック発生器９０１ａのクロック信
号は、最初の設定周波数に戻され、通常の速度での３次
元計測が実行される。
【００２１】従って、このようにすれば、Ｚスキャナ４
に対するＺ制御系のサーボ残差が大きくなって、Ｚセン
サ７からのセンサ信号がコンパレータ９０５ａの基準電
圧９０６より大きくなると、減速要求信号がクロック発
生器９０１ａに与えられ、パルス発生器９０１ｂからの
クロック信号の周波数を低下させて、ＸＹスキャナ３に
よる走査速度を低速に移行できるようにしたので、例え
ば、半導体のラインパターンのように試料１の計測面の
一部に急峻な傾斜が存在する場合は、この急峻な傾斜部
分では、走査速度を低速にして３次元計測を行ない、そ
の他の部分では、通常の走査速度により３次元計測を行
なうようにできる。これにより、計測面に大きな凹凸が
存在するような試料１も含め、どのような試料１につい
ても、連続して３次元計測を行なうことができるように
なり、測定時間を短縮できるとともに、正確な３次元形
状を得ることができる。
に対するＺ制御系のサーボ残差が大きくなって、Ｚセン
サ７からのセンサ信号がコンパレータ９０５ａの基準電
圧９０６より大きくなると、減速要求信号がクロック発
生器９０１ａに与えられ、パルス発生器９０１ｂからの
クロック信号の周波数を低下させて、ＸＹスキャナ３に
よる走査速度を低速に移行できるようにしたので、例え
ば、半導体のラインパターンのように試料１の計測面の
一部に急峻な傾斜が存在する場合は、この急峻な傾斜部
分では、走査速度を低速にして３次元計測を行ない、そ
の他の部分では、通常の走査速度により３次元計測を行
なうようにできる。これにより、計測面に大きな凹凸が
存在するような試料１も含め、どのような試料１につい
ても、連続して３次元計測を行なうことができるように
なり、測定時間を短縮できるとともに、正確な３次元形
状を得ることができる。
【００２２】なお、上述した実施の形態では、Ｚセンサ
７のセンサ信号は、カンチレバー６と試料１との間に働
く力で、カンチレバー６のたわみ量そのものであるごと
く説明したが、カンチレバー６が振動している場合は、
この振動振幅値を用いるようにしてもよい。また、上述
した実施の形態では、パルス発生器９０１ｂを用いた
が、これに代えて、市販のモータコントロール用ＩＣを
使用し、このモータコントロール用ＩＣの減速端子に減
速判断手段９０５の減速要求信号を入力することで、Ｘ
Ｙスキャナ３の走査速度を減速させるようにしてもよ
い。
７のセンサ信号は、カンチレバー６と試料１との間に働
く力で、カンチレバー６のたわみ量そのものであるごと
く説明したが、カンチレバー６が振動している場合は、
この振動振幅値を用いるようにしてもよい。また、上述
した実施の形態では、パルス発生器９０１ｂを用いた
が、これに代えて、市販のモータコントロール用ＩＣを
使用し、このモータコントロール用ＩＣの減速端子に減
速判断手段９０５の減速要求信号を入力することで、Ｘ
Ｙスキャナ３の走査速度を減速させるようにしてもよ
い。
【００２３】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、短時
間で正確な３次元形状を得ることができる走査型プロー
ブ顕微鏡を提供できる。
間で正確な３次元形状を得ることができる走査型プロー
ブ顕微鏡を提供できる。
【図１】本発明の一実施の形態の走査型プローブ顕微鏡
に用いられる走査波形生成部の概略構成を示す図。
に用いられる走査波形生成部の概略構成を示す図。
【図２】従来の走査型プローブ顕微鏡の概略構成を示す
図。
図。
【図３】従来の走査型プローブ顕微鏡に用いられる走査
波形生成部の概略構成を示す図。
波形生成部の概略構成を示す図。
１…試料 ２…試料台 ３…ＸＹスキャナ ４…Ｚスキャナ ５…ステージ ６…カンチレバー ７…Ｚセンサ ８…Ｚ制御部 ９…走査波形生成部 ９０１…パルス生成部 ９０１ａ…クロック発生器 ９０１ｂ…パルス発生器 ９０２…ＵＰ／ＤＯＷＮカウンタ ９０３…Ｄ／Ａ変換器 ９０４…高圧アンプ ９０５…減速判断手段 ９０５ａ…コンパレータ ９０６…基準電圧
Claims (2)
- 【請求項１】 試料に近接して配置されたカンチレバー
を有し、このカンチレバーの状態を検出する検出手段の
出力により前記カンチレバーと試料との間の距離を制御
するとともに、前記カンチレバーに対して前記試料を２
次元走査することにより該試料の３次元計測を可能にし
た走査型プローブ顕微鏡において、 前記検出手段の出力に基いて前記試料の２次元走査速度
の減速を判断する減速判定手段と、 この減速判定手段の判断結果に基いて前記試料の２次元
走査速度を減速させる速度制御手段とを具備したことを
特徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項２】 減速判定手段は、前記検出手段の出力が
予め設定された基準値を超えたことにより減速要求信号
を出力する比較手段を有し、 前記速度制御手段は、所定周波数のクロック信号に応じ
たパルスを発生するパルス生成手段、このパルス生成手
段のパルスを計数するパルス計数手段、このパルス計数
手段でのパルス計数に応じて前記２次元走査出力を生成
する走査出力手段を有し、 前記減速判定手段の減速要求信号により前記速度制御手
段でのクロック信号の周波数を低下させることを特徴と
する請求項１記載の走査型プローブ顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31696999A JP2001133381A (ja) | 1999-11-08 | 1999-11-08 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31696999A JP2001133381A (ja) | 1999-11-08 | 1999-11-08 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001133381A true JP2001133381A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=18082965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31696999A Withdrawn JP2001133381A (ja) | 1999-11-08 | 1999-11-08 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001133381A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003014605A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-15 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
| JP2014235096A (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 富士通株式会社 | 走査型プローブ顕微鏡の制御プログラム、制御方法及び制御装置 |
| JP2016530499A (ja) * | 2013-06-24 | 2016-09-29 | ディーシージー システムズ、 インコーポレイテッドDcg Systems Inc. | 局所的な試料の特性によって制御されるプロービングの適応モードを備えたプロービングを利用したデータ収集システム |
| US10539589B2 (en) | 2014-06-25 | 2020-01-21 | Fei Efa, Inc. | Through process flow intra-chip and inter-chip electrical analysis and process control using in-line nanoprobing |
-
1999
- 1999-11-08 JP JP31696999A patent/JP2001133381A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003014605A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-15 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
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