JP2001124968A - Optical element holding method, optical element holding mechanism and exposure device utilizing optical element group held by optical element holding mechanism - Google Patents

Optical element holding method, optical element holding mechanism and exposure device utilizing optical element group held by optical element holding mechanism

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JP2001124968A
JP2001124968A JP30182499A JP30182499A JP2001124968A JP 2001124968 A JP2001124968 A JP 2001124968A JP 30182499 A JP30182499 A JP 30182499A JP 30182499 A JP30182499 A JP 30182499A JP 2001124968 A JP2001124968 A JP 2001124968A
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optical element
holding
cell
holding member
holding mechanism
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Japanese (ja)
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Yuji Sudo
裕次 須藤
Yuji Chiba
裕司 千葉
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Canon Inc
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical element holding method and an optical element holding mechanism, capable of suppressing deformation of a holding member for holding an optical element, highly accurately positioning the optical element at a prescribed position and eliminating deformation of the surface shape of the optical element and deterioration of optical characteristics based on it. SOLUTION: In this optical element holding mechanism constituted of a cell 2 for supporting and positioning the outer peripheral part of the optical element 1 and a lens barrel 5 for supporting and positioning the cell 2 at a prescribed location via a spacer 7, the cell 2 is formed of highly rigid ceramics, the reference members 3a-3d of superior machinability, such as brass are joined to a reference part for performing positioning by being abutted against an abutting part (a), the lens barrel 5 and the spacer 7, etc., and a highly rigid structure capable of highly accurate working is attained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レンズやミラー等
の光学素子を所定の場所に位置決めするための光学素子
保持方法および光学素子保持機構、ならびに光学素子保
持機構により保持された光学素子群を利用する露光装置
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical element holding method and an optical element holding mechanism for positioning an optical element such as a lens or a mirror at a predetermined position, and an optical element group held by the optical element holding mechanism. The present invention relates to an exposure apparatus to be used.

【0002】[0002]

【従来の技術】レンズやミラー等の光学素子を所定の場
所に位置決めする手法としては、玉押し、投げ込み等に
よる鏡筒の組立て方式が挙げられる。また、光学素子に
より高精度な位置決めが要求される光学系には、セル構
造による組立て方式が採用されている。
2. Description of the Related Art As a method of positioning an optical element such as a lens or a mirror at a predetermined position, there is a method of assembling a lens barrel by ball pushing, throwing, and the like. In an optical system that requires high-precision positioning by an optical element, an assembling method using a cell structure is employed.

【0003】以下、セル構造による鏡筒構造について図
7を用いて説明する。図7において、102は、屈折式
投影光学系を構成するレンズ101を保持するリング状
の保持部材(以下、セルという)であって、通常、アル
ミニウム、真鍮などの快削性の材料で作製されている。
105は複数のセル102を所定の位置精度で同軸上に
固定するための鏡筒であり、106はセル102を鏡筒
105の下部に設けられた突出部105aに突き当てて
固定するための押さえ環である。
Hereinafter, a lens barrel structure having a cell structure will be described with reference to FIG. In FIG. 7, reference numeral 102 denotes a ring-shaped holding member (hereinafter, referred to as a cell) for holding the lens 101 constituting the refraction type projection optical system, which is usually made of a free-cutting material such as aluminum or brass. ing.
Reference numeral 105 denotes a lens barrel for coaxially fixing the plurality of cells 102 with predetermined positional accuracy, and reference numeral 106 denotes a holder for abutting the cell 102 against a protrusion 105 a provided at a lower portion of the lens barrel 105 and fixing the cell 102. It is a ring.

【0004】レンズ101とセル102は、レンズ10
1の光軸とセル102の外形が所定の同軸度になるよう
にかしめられており、また、複数のセル102を内部に
固定する鏡筒105の内径は、各セル102を所望の同
軸度で配列させることができるように所定の円筒度で加
工されており、複数のセル102はレンズ101の間隔
が所望の精度となるように高さが決められたスペーサー
107を挟んで積み重ねられている。
[0004] The lens 101 and the cell 102 are
One optical axis and the outer shape of the cell 102 are caulked so as to have a predetermined coaxiality, and the inner diameter of the lens barrel 105 for fixing the plurality of cells 102 inside has the desired coaxiality. The cells 102 are processed with a predetermined cylindricity so that they can be arranged, and the plurality of cells 102 are stacked with a spacer 107 having a height determined so that the interval between the lenses 101 has a desired accuracy.

【0005】このように投影光学系を構成する複数のレ
ンズ101は、互いに所望の間隔と同軸度を保った状態
で鏡筒105内に位置決めされている。
[0005] The plurality of lenses 101 constituting the projection optical system are positioned in the lens barrel 105 while maintaining a desired interval and coaxiality with each other.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うな従来技術においては、レンズを保持するセルの材料
として切削加工性の面から金属材料を使用することが一
般的である。しかし、セルは鏡筒内に位置決め固定する
ために鏡筒から外力を受け、この外力によってレンズと
セルとの接触部は微小な弾性変形を起こし、結果的にレ
ンズの面形状を歪めてしまう。さらに、セルは、鏡筒か
らの外力以外にも重力により変形してしまうため、セル
の自重変形によってもレンズの面形状が変化し、光学特
性が悪化するという問題点があった。
By the way, in the prior art as described above, it is common to use a metal material as a material of a cell holding a lens from the viewpoint of machinability. However, the cell receives an external force from the lens barrel for positioning and fixing in the lens barrel, and this external force causes a small elastic deformation of a contact portion between the lens and the cell, thereby distorting the surface shape of the lens. Furthermore, since the cell is deformed by gravity other than the external force from the lens barrel, there is a problem that the surface shape of the lens changes due to the deformation of the cell by its own weight, and the optical characteristics are deteriorated.

【0007】これらの問題を単一材料で対処しようとす
ると、一般には高剛性材料を用いることとなるけれど
も、高剛性材料は加工性が著しく劣り、高精度加工や修
正に時間がかかり、生産性が悪化してしまうという問題
点が生じる。
In order to deal with these problems with a single material, a high-rigidity material is generally used. However, a high-rigidity material has a remarkably poor workability, and requires a long time for high-precision processing and correction, and a high productivity. Is worsened.

【0008】そこで、本発明は、上述の従来技術の有す
る未解決の問題点に鑑みてなされたものであって、レン
ズ等の光学素子を保持する保持部材を高剛性でかつ高精
度加工が可能な構造として、保持部材の変形を抑えると
ともに光学素子を所定の位置に高精度に位置決めでき、
光学素子の面形状の変化やその面形状の変化に基づく光
学特性の悪化をなくすることができる光学素子保持方法
および光学素子保持機構を提供し、さらに、該光学素子
保持機構により保持される光学素子群を利用した露光装
置を提供することを目的とするものである。
In view of the foregoing, the present invention has been made in view of the above-mentioned unsolved problems of the prior art, and enables a holding member for holding an optical element such as a lens to be processed with high rigidity and high precision. As a simple structure, the deformation of the holding member is suppressed and the optical element can be positioned at a predetermined position with high accuracy.
Provided is an optical element holding method and an optical element holding mechanism that can prevent a change in the surface shape of an optical element and deterioration of optical characteristics based on the change in the surface shape, and further provide an optical element held by the optical element holding mechanism. It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus using a group of elements.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光学素子保持方法は、光学素子を支持する
第1の保持部材と該第1の保持部材を所定の場所に支持
する第2の保持部材とを用いて該光学素子を所定の場所
に保持する光学素子保持方法において、前記第1の保持
部材を剛性の高い材料で形成するとともに、前記光学素
子および/または前記第2の保持部材と当接する前記第
1の保持部材の部位に切削性の優れた基準部材を接合す
ることを特徴とする。
In order to achieve the above object, an optical element holding method according to the present invention comprises a first holding member for supporting an optical element and a first holding member for supporting the first holding member at a predetermined position. In the optical element holding method for holding the optical element at a predetermined position using the second holding member, the first holding member is formed of a highly rigid material, and the optical element and / or the second A reference member having excellent machinability is joined to a portion of the first holding member that contacts the holding member.

【0010】本発明の光学素子保持方法において、前記
第1の保持部材は前記光学素子の外周部を支持して位置
決めすることが好ましい。
In the optical element holding method according to the present invention, it is preferable that the first holding member supports and positions an outer peripheral portion of the optical element.

【0011】本発明の光学素子保持方法において、前記
基準部材は前記第1の保持部材に接合された後に切削加
工されることが好ましい。
In the optical element holding method according to the present invention, it is preferable that the reference member is cut after being joined to the first holding member.

【0012】本発明の光学素子保持方法においては、前
記第1の保持部材をセラミックスまたは鉄鋼材等で形成
することが好ましく、また、前記基準部材として真鍮、
アルミニウム、銅またはステンレスを用いることが好ま
しい。
In the optical element holding method according to the present invention, it is preferable that the first holding member is formed of ceramics or a steel material.
Preferably, aluminum, copper or stainless steel is used.

【0013】本発明の光学素子保持方法においては、複
数の光学素子をそれぞれ所定の場所に保持することが好
ましい。
In the optical element holding method according to the present invention, it is preferable that each of the plurality of optical elements is held at a predetermined position.

【0014】さらに、本発明の光学素子保持機構は、光
学素子を所定の場所に保持するための光学素子保持機構
において、前記光学素子を支持する第1の保持部材と、
該第1の保持部材を所定の場所に支持する第2の保持部
材とを備え、前記第1の保持部材を剛性の高い材料で形
成するとともに、前記光学素子および/または前記第2
の保持部材に当接する第1の保持部材の部位に切削性の
優れた基準部材を接合することを特徴とする。
Further, the optical element holding mechanism of the present invention is an optical element holding mechanism for holding an optical element at a predetermined position, wherein the first holding member supports the optical element;
A second holding member for supporting the first holding member at a predetermined location, wherein the first holding member is formed of a highly rigid material, and the optical element and / or the second
A reference member having excellent machinability is joined to a portion of the first holding member abutting on the holding member.

【0015】本発明の光学素子保持機構において、前記
第1の保持部材は前記光学素子の外周部を支持して位置
決めするように構成されることが好ましい。
In the optical element holding mechanism of the present invention, it is preferable that the first holding member is configured to support and position an outer peripheral portion of the optical element.

【0016】本発明の光学素子保持機構においては、前
記第1の保持部材をセラミックスまたは鉄鋼材等で形成
することが好ましく、また、前記基準部材として真鍮、
アルミニウム、銅またはステンレスを用いることが好ま
しい。
In the optical element holding mechanism according to the present invention, it is preferable that the first holding member is formed of ceramics or a steel material.
Preferably, aluminum, copper or stainless steel is used.

【0017】本発明の光学素子保持機構において、前記
基準部材は、接着剤により、ロウ付けにより、メッキに
より、溶射により、蒸着により、あるいはねじ結合によ
り、前記第1の部材に接合されていることが好ましい。
In the optical element holding mechanism of the present invention, the reference member is joined to the first member by an adhesive, brazing, plating, thermal spraying, vapor deposition, or screw connection. Is preferred.

【0018】本発明の光学素子保持機構においては、複
数の光学素子をそれぞれ所定の場所に保持することが好
ましい。
In the optical element holding mechanism of the present invention, it is preferable that each of the plurality of optical elements is held at a predetermined position.

【0019】また、本発明の露光装置は、上述した光学
素子保持機構を用いた光学素子群を利用して、光源から
照射される照明光により所定の倍率で原版のパターンを
基板上に露光転写することを特徴とする。
The exposure apparatus of the present invention uses an optical element group using the above-described optical element holding mechanism to expose and transfer an original pattern onto a substrate at a predetermined magnification by illumination light emitted from a light source. It is characterized by doing.

【0020】さらに、本発明のデバイス製造方法は、上
述した露光装置を用意する工程と、基板に感光材を塗布
する工程と、前記露光装置を用いて回路パターンを基板
に露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを
有することを特徴とする。
Further, in the device manufacturing method of the present invention, a step of preparing the above-described exposure apparatus, a step of applying a photosensitive material to the substrate, a step of exposing a circuit pattern to the substrate using the exposure apparatus, And a step of developing the formed substrate.

【0021】[0021]

【作用】本発明によれば、レンズ等の光学素子の外周部
を支持して位置決めするセルをセラミックスや鉄鋼材等
の比剛性の高い材料で作製するとともにセルを位置決め
するための基準部位に切削加工性の優れた真鍮、アルミ
ニウムあるいは銅等で形成される基準部材を接合するこ
とにより、比剛性の高いセラミックスなどの材料と切削
加工性の優れた基準部材との両者の特性を生かして高剛
性でかつ高精度加工が可能なセル構造とし、高剛性材料
によりセルの変形を抑えて、光学素子の面形状の歪みや
変形をなくし、さらに、光学素子を所定の場所に精度良
く位置決めすることが可能となり、光学特性の悪化を防
止することができる。また、切削加工性の優れた基準部
材により、位置決め基準となる部位の切削加工が容易と
なり、基準位置の精度を向上させることができ、さら
に、位置決め用の基準部材の交換も可能であるので、加
工修正の生産性を向上させることができる。
According to the present invention, a cell for supporting and positioning an outer peripheral portion of an optical element such as a lens is made of a material having a high specific rigidity such as ceramics or a steel material, and is cut at a reference portion for positioning the cell. By joining a reference member made of brass, aluminum, copper, etc., which has excellent workability, high rigidity is achieved by utilizing the characteristics of both the material such as ceramics with high specific rigidity and the reference member with excellent machinability. It has a cell structure that enables high-precision processing and suppresses cell deformation with a highly rigid material, eliminating distortion and deformation of the surface shape of the optical element.Furthermore, the optical element can be accurately positioned at a predetermined place. This makes it possible to prevent optical characteristics from deteriorating. In addition, the reference member having excellent cutting workability makes it easy to cut a portion serving as a positioning reference, and can improve the accuracy of the reference position. Further, since the reference member for positioning can be replaced, The productivity of processing correction can be improved.

【0022】また、本発明の光学素子保持機構により保
持される光学素子群を露光装置に適用することにより、
セルの変形を抑えることができることから、各光学素子
の面形状を接合前の状態に保ち、光学系の光学特性が悪
化することを防ぐことができ、高精度の露光転写を行な
うことが可能となる。
Further, by applying the optical element group held by the optical element holding mechanism of the present invention to an exposure apparatus,
Since the deformation of the cell can be suppressed, the surface shape of each optical element can be kept in the state before bonding, the optical characteristics of the optical system can be prevented from deteriorating, and high-accuracy exposure transfer can be performed. Become.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0024】図1は、本発明に基づく光学素子保持機構
の一実施例を適用した投影光学系を概略的に図示する端
面図であり、図において、重力方向は光軸と一致し、図
中の−Z方向とする。
FIG. 1 is an end view schematically showing a projection optical system to which an embodiment of an optical element holding mechanism according to the present invention is applied, in which the direction of gravity coincides with the optical axis. In the -Z direction.

【0025】図1において、1は屈折式投影光学系を構
成するレンズ等の光学素子、2は光学素子1の外周部を
支持して位置決めするためのリング状のセルであり、こ
のセル2は、アルミナセラミックス(Al23 )で作
製され、光学素子1の外周部に接触して支持する部位
(この接触部位を図1においてaで示し、以下、胴付き
部という)およびセル2の外側部、上面部、下面部にお
いて他の部材に当接して位置決めするための基準となる
部位には、それぞれ、切削加工性の優れた真鍮製の部材
(以下、真鍮部材または基準部材という)3a〜3dが
接着剤により接合されている。そして、光学素子1とセ
ル2は、光学素子1の光軸とセル2の外径が所定の同軸
度になるように接合される。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an optical element such as a lens constituting a refraction type projection optical system, and 2 denotes a ring-shaped cell for supporting and positioning the outer peripheral portion of the optical element 1. A portion made of alumina ceramics (Al 2 O 3 ) and supporting and contacting the outer peripheral portion of the optical element 1 (this contact portion is indicated by a in FIG. In the portion, the upper surface portion, and the lower surface portion, a reference portion for abutting against another member for positioning is made of a brass member (hereinafter referred to as a brass member or a reference member) having excellent cutting workability, respectively. 3d is joined by an adhesive. The optical element 1 and the cell 2 are joined so that the optical axis of the optical element 1 and the outer diameter of the cell 2 have a predetermined coaxiality.

【0026】5は複数のセル2を所定の位置精度で同軸
上に固定するための鏡筒であり、その内径は、セル2の
各々を所望の同軸度で配列させることができるように、
所定の円筒度で加工形成されている。6は複数のセル2
を鏡筒5の下部に設けられた突出部5aに突き当てて固
定するための押さえ環であり、7はセル2を鏡筒5内で
所定の間隔で光軸方向に位置決めするためのスペーサー
であり、セル2を3点で支持するように円周上120度
ピッチの3箇所に配設されている。
Reference numeral 5 denotes a lens barrel for coaxially fixing the plurality of cells 2 with a predetermined positional accuracy. The inner diameter of the lens barrel is such that the cells 2 can be arranged with a desired coaxiality.
It is formed with a predetermined cylindricity. 6 is a plurality of cells 2
Is a press ring for abutting and fixing a projection 2a on the lower part of the lens barrel 5, and a spacer 7 for positioning the cells 2 in the optical axis direction at predetermined intervals in the lens barrel 5. In addition, the cells 2 are arranged at three positions at a pitch of 120 degrees on the circumference so as to support the cells 2 at three points.

【0027】以上のように、投影光学系を構成する複数
の光学素子1をそれぞれの胴付き部aに接合支持する複
数のセル2は、鏡筒5内で、スペーサー7を介して所定
の間隔をもって積み重ねられた状態で鏡筒5の突出部5
aと押さえ環6とによりそれぞれ所定の場所に位置決め
されて固定される。これによって、複数の光学素子1
は、互いに所望の間隔と同軸度を保った状態で鏡筒5内
に位置決めされて保持される。なお、アルミナセラミッ
クス製のセル2において、光学素子1、鏡筒5、スペー
サー7および押さえ環6等にそれぞれ当接する部位がセ
ル2を位置決めするための基準となる部位であって、こ
の部位には切削加工性の優れた真鍮部材3a〜3dが接
合されており、これらの基準部材3a〜3dは予め切削
あるいは研削等の加工により所定の寸法精度に仕上げら
れている。
As described above, the plurality of cells 2 for joining and supporting the plurality of optical elements 1 constituting the projection optical system to the respective barrel portions a are provided within the lens barrel 5 via the spacers 7 at predetermined intervals. The projection 5 of the lens barrel 5 is stacked with
a and the holding ring 6 are positioned and fixed at predetermined locations. Thereby, the plurality of optical elements 1
Are positioned and held in the lens barrel 5 while maintaining a desired interval and coaxiality with each other. In the cell 2 made of alumina ceramics, a portion that comes into contact with the optical element 1, the lens barrel 5, the spacer 7, the holding ring 6, and the like is a portion serving as a reference for positioning the cell 2; Brass members 3a to 3d excellent in cutting workability are joined, and these reference members 3a to 3d are finished to predetermined dimensional accuracy by processing such as cutting or grinding in advance.

【0028】以上のように、本実施例においては、光学
素子1の外周部を支持して鏡筒5内に位置決めするため
のセル2を、アルミナセラミックスで作製し、そして、
セル2の胴付き部aおよびセル2の外側部、上面部、下
面部において鏡筒5やスペーサー7等に接触して基準と
なる部位に切削性の優れた真鍮部材3a〜3dを接合す
る構造としているところであり、この構造の特性につい
て以下に説明する。
As described above, in this embodiment, the cell 2 for supporting the outer peripheral portion of the optical element 1 and positioning it in the lens barrel 5 is made of alumina ceramics.
A structure in which the brass members 3a to 3d having excellent machinability are joined to a reference portion in contact with the lens barrel 5, the spacer 7, and the like at the body attached portion a of the cell 2 and the outer portion, the upper portion, and the lower portion of the cell 2. The characteristics of this structure will be described below.

【0029】本実施例において用いるアルミナセラミッ
クス製のセルおよび従来から通常一般に使用されている
真鍮製のセルを3点で支持した場合に、それらのセルが
自重により胴付け部がどのように変形するかを有限要素
法で解析した(なお、セルの形状はともにφ200m
m、h:20mmとした)ところ、真鍮製セルの場合に
おいては、セルの胴付き部は支持部から遠い部位が支持
部に近い部位に対して約0.31μm(−Z方向に)の
変形が生じるが、アルミナセラミックス製のセルにおい
ては、自重変形量は最大で約0.04μm(−Z方向)
であった。さらに、石英(SiO2 )製の光学素子(レ
ンズ)をその外周部の3点で支持した場合に光学素子が
自重でどのように変形するかを同じく有限要素法で解析
したところ、光学素子は、光学素子の外周部を3点で支
持する場合、支持部から遠い部位が支持部に近い部位に
対して約0.26μm(−Z方向に)の変形が生じる。
したがって、3点で支持した真鍮製セルにより光学素子
を支持する際には、真鍮製セルが光学素子以上に自重変
形するために、光学素子は、光学素子の外周部を直接3
点で支持した場合と同様に、約0.26μmの変形を起
こすことがわかる。一方、3点で支持したアルミナセラ
ミックス製セルにより光学素子を支持する際には、その
光学素子外周部は自由に自重変形することなく、その変
形は最大でも0.04μm以下に抑えられることが判明
した。
When the alumina ceramic cell used in this embodiment and the brass cell conventionally and generally used are supported at three points, how these cells deform their body parts by their own weights. Was analyzed by the finite element method (both cell shapes were φ200 m
m, h: 20 mm) However, in the case of a brass cell, the body-attached portion of the cell is deformed by about 0.31 μm (in the −Z direction) at a portion far from the support portion relative to a portion near the support portion. However, in a cell made of alumina ceramics, the amount of its own weight deformation is about 0.04 μm at the maximum (-Z direction).
Met. Further, when an optical element (lens) made of quartz (SiO 2 ) is supported at three points on its outer periphery, how the optical element is deformed by its own weight is also analyzed by the finite element method. When the outer peripheral portion of the optical element is supported at three points, a portion far from the support portion is deformed by about 0.26 μm (in the −Z direction) with respect to a portion near the support portion.
Therefore, when the optical element is supported by the brass cell supported at three points, the brass cell deforms by its own weight more than the optical element.
It can be seen that a deformation of about 0.26 μm occurs as in the case of supporting at a point. On the other hand, when the optical element is supported by the alumina ceramic cell supported at three points, the outer peripheral portion of the optical element is not freely deformed by its own weight, and it is found that the deformation is suppressed to 0.04 μm or less at the maximum. did.

【0030】これは、セルの材質として使用するアルミ
ナセラミックスは、真鍮に比べてヤング率が高く(アル
ミナセラミックス:3.4×1011Pa、真鍮:1.0
×1011Pa)、加えて比重が小さい(アルミナセラミ
ックス:3.8、真鍮:8.5)ことによる。
This is because alumina ceramics used as a material of the cell has a higher Young's modulus than brass (alumina ceramics: 3.4 × 10 11 Pa, brass: 1.0).
× 10 11 Pa) and low specific gravity (alumina ceramics: 3.8, brass: 8.5).

【0031】また、光学素子の自重変形を極小にするた
めには光学素子の外周部を全周均等に支持することが望
ましく、そのためにはセルの胴付き部を極力同一平面上
に形成する必要がある。セルの胴付き部を切削あるいは
研削加工によって形成する場合に刃物の押し付け力によ
りセルが変形する量は、真鍮製よりセラミックス製の方
が小さいため、セラミックス製のセルにおいては、胴付
き部の加工もより高精度に行なうことが可能となる。
In order to minimize the deformation of the optical element by its own weight, it is desirable to support the outer peripheral part of the optical element uniformly over its entire circumference. For this purpose, it is necessary to form the body-attached part of the cell on the same plane as much as possible. There is. When the cell body is formed by cutting or grinding, the amount of deformation of the cell due to the pressing force of the blade is smaller for ceramics than for brass. Can be performed with higher accuracy.

【0032】さらに、本実施例においては、アルミナセ
ラミックス製のセル2が光学素子1、鏡筒5、スペーサ
ー7等にそれぞれ接触する各部位に、位置決め用の基準
部材3a〜3dとして快削性の真鍮を接合しており、こ
れにより、基準位置の寸法精度を出すことが容易とな
る。すなわち、セラミックスは、軽量でかつ高剛性であ
って構造体としては優れているものの、切削や研削に時
間がかかるという問題点をもつが、本実施例のように、
基準位置の寸法精度を出すために後加工が必要とされる
部位に快削性の真鍮部材を接合することにより、加工時
間が大幅に短縮することが可能となる。また、真鍮は、
切削油を使用せずに切削加工を行なうことが可能である
ことから、光学素子1とセル2を結合した後に、光学素
子1を切削油等で汚染することなく、光学素子1の光軸
基準に対して位置基準となる真鍮部材3a〜3dを切削
することもできる。
Further, in this embodiment, each of the portions where the alumina ceramic cell 2 comes in contact with the optical element 1, the lens barrel 5, the spacer 7 and the like is provided with positioning reference members 3a to 3d as free-cutting members. Since brass is joined, it is easy to obtain dimensional accuracy at the reference position. That is, although ceramics are lightweight and highly rigid and are excellent as a structural body, they have a problem that cutting and grinding take time, but as in this embodiment,
By joining a free-cutting brass member to a portion that requires post-processing in order to obtain dimensional accuracy at the reference position, the processing time can be significantly reduced. Also, brass is
Since the cutting process can be performed without using the cutting oil, the optical element 1 and the cell 2 are combined, and after the optical element 1 is contaminated with the cutting oil or the like, the optical axis reference of the optical element 1 can be performed. It is also possible to cut the brass members 3a to 3d serving as a position reference for.

【0033】本実施例においては、光学素子に石英(S
iO2 )を使用しているが、アルミナセラミックスは、
真鍮に比べて線膨脹率が低く(アルミナセラミックス:
7.1×10-6/K、真鍮:17.5×10-6/K)、
石英の線膨脹率(0.5×10-6/K)に近いため、セ
ラミックス製のセルは、真鍮製のセルに比べて、温度が
変化した際にセルと光学素子の線膨脹差によって光学素
子がセルから受ける応力が小さいという効果もある。
In this embodiment, the optical element is made of quartz (S
iO 2 ), but alumina ceramics
Lower linear expansion coefficient than brass (alumina ceramics:
7.1 × 10 −6 / K, brass: 17.5 × 10 −6 / K),
Since the coefficient of linear expansion of quartz is close to that of quartz (0.5 × 10 -6 / K), the cell made of ceramics has a higher optical expansion due to the difference in linear expansion between the cell and the optical element when the temperature changes than the cell made of brass. There is also an effect that the element receives less stress from the cell.

【0034】なお、セル材料として、本実施例では、ア
ルミナセラミックスを使用したが、単に比剛性の高い材
料を選ぶだけでなく、光学系を構成する光学素子材料の
線膨脹率に近い線膨脹率をもつセラミックスを選ぶこと
により、環境温度が変化した場合も光学性能を安定して
保つことが可能となる。
In this embodiment, alumina ceramic was used as the cell material. However, not only a material having a high specific rigidity but also a linear expansion coefficient close to the linear expansion coefficient of the optical element material constituting the optical system was used. By selecting a ceramic having the following, optical performance can be stably maintained even when the environmental temperature changes.

【0035】また、前述した実施例では、セラミックス
と位置決め用の基準部材としての真鍮部材の接合には接
着剤を用いたが、ロウ付けによる接合であってもよく、
また、図2に図示するように、基準部材としての真鍮部
材13(13a〜13d)をそれぞれねじ14(14a
〜14d)によりセラミックス製セル2に脱着可能に締
結することも可能である。このようにねじ14により締
結することにより、真鍮部材13をセル2から脱着する
ことが容易となる。基準部材としての真鍮部材を加工修
正する際に、前述したように真鍮部材を接着剤やロウ付
けにより接合してある場合には、溶剤等によって真鍮部
材をセルから剥離し未加工の新たな真鍮部材を再接合し
た上で、位置決め基準となる真鍮部材の切削等の加工を
行なうこととなるけれども、図2に図示するように、ね
じ14によって真鍮部材13を締結する場合には、締結
用のねじ14(14a〜14d)を外して真鍮部材13
(13a〜13d)をセル2から取り外した後に未加工
の新たな真鍮部材13をねじ14により取り付けること
ができ、位置基準となる真鍮部材の切削等の加工修正を
容易にかつ簡単に行なうことが可能となる。
In the above-described embodiment, an adhesive is used for joining the ceramics and the brass member as the reference member for positioning. However, the joining may be performed by brazing.
As shown in FIG. 2, a brass member 13 (13a to 13d) as a reference member is screwed to a screw 14 (14a
14d), it is also possible to detachably fasten to the ceramic cell 2. By fastening with the screw 14 in this manner, the brass member 13 can be easily detached from the cell 2. When the brass member as the reference member is processed and modified, if the brass member is joined by adhesive or brazing as described above, the brass member is peeled from the cell with a solvent, etc., and unprocessed new brass After rejoining the members, processing such as cutting of a brass member serving as a positioning reference is performed. However, when the brass member 13 is fastened with the screw 14 as shown in FIG. Remove the screws 14 (14a to 14d) and remove the brass member 13.
After removing (13a to 13d) from the cell 2, a new unprocessed brass member 13 can be attached with the screw 14, and processing correction such as cutting of the brass member serving as a position reference can be performed easily and easily. It becomes possible.

【0036】さらに、位置決め用の基準部材としての真
鍮部材をセルへ接合する方法として、図3に示すよう
に、メッキ、溶射、スタッパリング、蒸着等によってセ
ラミックス製セル2の表面に真鍮膜23(23a〜23
d)を形成することもできる。このようにセラミックス
製セル2に対する真鍮膜23(23a〜23d)の形成
は、位置決め基準を切削するための加工代が数μm〜数
10μmで十分である場合に特に有効である。このよう
にセラミックス製セル2に真鍮膜23(23a〜23
d)を成膜することにより、セラミックスの軽量でかつ
高剛性の特性を有し、かつ位置基準となる真鍮膜の切削
等の加工を容易に行なうことができ、さらに前述した他
の接合方法のものと同様の作用効果も得られる。
Further, as a method of joining a brass member as a reference member for positioning to the cell, as shown in FIG. 3, a brass film 23 (see FIG. 3) is formed on the surface of the ceramic cell 2 by plating, thermal spraying, stamping, vapor deposition, or the like. 23a-23
d) can also be formed. Thus, the formation of the brass film 23 (23a to 23d) on the ceramic cell 2 is particularly effective when the machining allowance for cutting the positioning reference is several μm to several tens μm. Thus, the brass film 23 (23a to 23a)
By forming d), it is possible to easily perform processing such as cutting of a brass film serving as a position reference, which has the characteristics of light weight and high rigidity of ceramics. The same operation and effect as those of the first embodiment can be obtained.

【0037】また、セルに接合する真鍮部材において、
図4に図示するように、セル2の胴付き部の真鍮部材
(図1における3aに相当する部材)とセル2の他の外
周部の真鍮部材(図1における3b〜3dに相当する部
材)を一体化しあるいは各真鍮部材を接触させるように
形成することもでき、このようにセル2の外周全面に真
鍮部材33を接合することにより、光学素子1に照明光
が照射された場合などにおいて光学素子1に熱を蓄積す
ることなく真鍮部材33を介して効率よく鏡筒5に伝え
ることができ、熱収差による光学特性の劣化を防ぐこと
が可能となる。
In the brass member to be joined to the cell,
As shown in FIG. 4, a brass member (a member corresponding to 3 a in FIG. 1) on the body of the cell 2 and a brass member on the other outer periphery of the cell 2 (a member corresponding to 3 b to 3 d in FIG. 1) The brass member 33 can be joined to the entire outer periphery of the cell 2 in such a manner that the optical element 1 is irradiated with illumination light. The heat can be efficiently transmitted to the lens barrel 5 via the brass member 33 without accumulating heat in the element 1, and it is possible to prevent deterioration of the optical characteristics due to thermal aberration.

【0038】さらにまた、セル2の位置決め基準となる
部位に接合する基準部材の材料は、上述した真鍮に限定
されるものではなく、例えば、アルミニウム、銅、ステ
ンレス等の切削性に優れた材質を用いることもできる。
Further, the material of the reference member to be joined to the portion serving as the positioning reference of the cell 2 is not limited to the above-mentioned brass, and for example, a material having excellent machinability such as aluminum, copper, and stainless steel is used. It can also be used.

【0039】次に、本発明の他の実施例について図5を
用いて説明する。なお、本実施例において、光学素子お
よびセル、鏡筒、押さえ環、スペーサー等で構成される
光学素子保持機構は、前述した実施例と同様に構成され
ており、前述した実施例と同様の部材には同一符号を付
し、その詳細な説明は省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the optical element holding mechanism including the optical element and the cell, the lens barrel, the holding ring, the spacer, and the like is configured in the same manner as in the above-described embodiment, and the same members as in the above-described embodiment. Are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

【0040】本実施例においては、セル42の材料とし
て鉄鋼材を使用し、位置決め用の基準部材43(43a
〜43d)として真鍮を使用し、両者の接合は真鍮溶射
を用いている。なお、セル42の材質としては、基準部
材43(43a〜43d)よりも比剛性が高い材料から
選定すればよく、接合方法も前述したような他の方法で
接合することもできる。
In this embodiment, a steel material is used as the material of the cell 42, and the positioning reference member 43 (43a) is used.
43d) uses brass, and the joining of both uses brass thermal spraying. The material of the cell 42 may be selected from materials having a higher specific rigidity than the reference member 43 (43a to 43d), and the cell 42 may be joined by another method as described above.

【0041】本実施例で用いる鉄鋼材等で作製されたセ
ル42は、前述した実施例におけるセラミックス製のセ
ルに比べると、剛性の面で劣るけれども、材料コストの
面で大幅な削減を図ることができ、さらに、加工面で優
れており、例えば、セルに直接タップを立てるなどの追
加工や複雑な形状の作製も容易となる。また、ゼロジュ
ール等の低熱膨脹材を使用することで、セラミックスよ
りもさらに光学素子とセルとの熱膨脹差を低減すること
も可能となる。
Although the cell 42 made of a steel material or the like used in the present embodiment is inferior in rigidity as compared with the ceramic cell in the above-described embodiment, it is intended to greatly reduce the material cost. In addition, it is excellent in terms of processing, and for example, it is easy to perform additional processing such as directly tapping a cell or to produce a complicated shape. Also, by using a low thermal expansion material such as zero joule, it is possible to further reduce the thermal expansion difference between the optical element and the cell as compared with ceramics.

【0042】次に、前述した光学素子保持機構により保
持される光学素子群により構成される投影光学系を適用
した露光装置について説明する。図6は露光装置の概略
構成図であり、前述した実施例と同一の部材には同一符
号を付し、その詳細な説明は省略する。
Next, an exposure apparatus to which a projection optical system constituted by an optical element group held by the above-described optical element holding mechanism is applied will be described. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the exposure apparatus. The same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0043】図6において、投影光学系50は、レンズ
等の光学素子1、位置決め用の基準部材3a〜3dが接
合されたセル2、鏡筒5、スペーサー7および押さえ環
6等から構成され、51は照明光学系、52は転写され
るパターンが形成された原版としてのレチクル、53は
レチクル52を保持するレチクルステージである。54
は投影光学系50を露光装置本体の所定の位置に設置す
るための定盤であり、55はパターンが転写される基板
としてのウエハ、56はウエハ55を保持するウエハス
テージである。
In FIG. 6, the projection optical system 50 comprises an optical element 1 such as a lens, a cell 2 to which positioning reference members 3a to 3d are joined, a lens barrel 5, a spacer 7, a holding ring 6, and the like. Reference numeral 51 denotes an illumination optical system; 52, a reticle as an original on which a pattern to be transferred is formed; 53, a reticle stage for holding the reticle 52; 54
Reference numeral 55 denotes a surface plate for setting the projection optical system 50 at a predetermined position of the exposure apparatus main body. Reference numeral 55 denotes a wafer as a substrate onto which a pattern is transferred, and reference numeral 56 denotes a wafer stage for holding the wafer 55.

【0044】転写されるパターンが形成されているレチ
クル52は、レチクルステージ53上に載置され、照明
光学系51を通して導かれる照明光に照射される。レチ
クル52を透過した露光光は、投影光学系50を介して
所定に倍率で被加工基板であるウエハ55上に照射さ
れ、レチクル52のパターンをウエハ55上に露光転写
する。
The reticle 52 on which the pattern to be transferred is formed is placed on a reticle stage 53 and irradiated with illumination light guided through the illumination optical system 51. The exposure light transmitted through the reticle 52 is irradiated onto the wafer 55, which is a substrate to be processed, at a predetermined magnification via the projection optical system 50, and the pattern of the reticle 52 is exposed and transferred onto the wafer 55.

【0045】以上のように構成される露光装置によれ
ば、光学素子1の外周部を支持して位置決めするセル2
にセラミックスあるいは鉄鋼材を用いることにより、セ
ル2の変形を抑えることができ、光学素子1の面形状を
接合前の状態に保ち、投影光学系50の光学特性が悪化
することを防ぐことができ、高精度の露光転写を行なう
ことが可能となる。
According to the exposure apparatus configured as described above, the cell 2 that supports and positions the outer peripheral portion of the optical element 1
By using ceramics or a steel material, the deformation of the cell 2 can be suppressed, the surface shape of the optical element 1 can be kept in a state before joining, and the optical characteristics of the projection optical system 50 can be prevented from deteriorating. It is possible to perform exposure transfer with high accuracy.

【0046】次に、上記説明した露光装置を利用した半
導体デバイスの製造方法の実施例を説明する。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device using the above-described exposure apparatus will be described.

【0047】図8は、半導体デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、あるいは液晶パネルやCCD等)の製
造のフローを示す。ステップ1(回路設計)では半導体
デバイスのパターン設計を行なう。ステップ2(マスク
製作)では設計した回路パターンを形成したマスクを製
作する。ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材
料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロ
セス)は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハ
を用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の
回路を形成する。ステップ5(組立)は後工程と呼ば
れ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシ
ング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封
入)等の工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ
5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久
性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体
デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
FIG. 8 shows a flow of manufacturing a semiconductor device (a semiconductor chip such as an IC or an LSI, or a liquid crystal panel or a CCD). In step 1 (circuit design), a pattern of a semiconductor device is designed. Step 2 is a process for making a mask on the basis of the circuit pattern design. In step 3 (wafer manufacture), a wafer is manufactured using a material such as silicon. Step 4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer by lithography using the prepared mask and wafer. Step 5 (assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip using the wafer produced in step 4, and includes processes such as an assembly process (dicing and bonding) and a packaging process (chip encapsulation). . In step 6 (inspection), inspections such as an operation confirmation test and a durability test of the semiconductor device manufactured in step 5 are performed. Through these steps, a semiconductor device is completed and shipped (step 7).

【0048】図9は、上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ1
5(レジスト処理)ではウエハに感光材を塗布する。ス
テップ16(露光)では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ17(現像)では露光したウエハを現像する。ステッ
プ18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。
FIG. 9 shows a detailed flow of the wafer process. Step 11 (oxidation) oxidizes the wafer's surface. Step 12 (CVD) forms an insulating film on the wafer surface. Step 13 (electrode formation) forms electrodes on the wafer by vapor deposition. In step 14 (ion implantation), ions are implanted into the wafer. Step 1
In 5 (resist processing), a photosensitive material is applied to the wafer. Step 16 (exposure) uses the above-described exposure apparatus to print and expose the circuit pattern of the mask onto the wafer. Step 17 (development) develops the exposed wafer. In step 18 (etching), portions other than the developed resist image are removed. In step 19 (resist stripping), unnecessary resist after etching is removed. By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer.

【0049】本実施例の製造方法を用いれば、従来は製
造が困難であった高集積度の半導体デバイスを安定的に
低コストで製造することができる。
By using the manufacturing method of this embodiment, a highly integrated semiconductor device, which was conventionally difficult to manufacture, can be manufactured stably at low cost.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レンズ等の光学素子の外周部を支持して位置決めするセ
ルを、セラミックスや鉄鋼材等の比剛性の高い材料で作
製するとともにセルを位置決めするための基準部位に切
削加工性の優れた真鍮、アルミニウムあるいは銅等で形
成される位置決め用の基準部材を接合することにより、
比剛性の高いセラミックスなどの材料と切削加工性の優
れた基準部材との両者の特性を生かし、高剛性でかつ高
精度加工が可能なセル構造とすることができる。すなわ
ち、高剛性材料によりセルの変形を抑えることができ、
光学素子の面形状の歪みや変形をなくしかつ光学素子を
所定の場所に精度良く位置決めすることが可能となり、
光学特性の悪化を防止することができ、また、切削加工
性の優れた位置決め用の基準部材により、位置決め基準
となる部位の切削加工が容易となり、さらに、基準部材
をセルから脱着容易な構造とすることによって、該部材
の交換が可能となり、加工修正等の生産性を向上させる
ことができる。
As described above, according to the present invention,
The cell that supports and positions the outer periphery of the optical element such as a lens is made of a material with high specific rigidity, such as ceramics or steel. Alternatively, by joining a positioning reference member formed of copper or the like,
By utilizing the characteristics of both a material such as ceramics having high specific rigidity and a reference member having excellent machinability, a cell structure having high rigidity and capable of high-precision processing can be obtained. That is, the deformation of the cell can be suppressed by the high rigidity material,
It is possible to eliminate distortion and deformation of the surface shape of the optical element and accurately position the optical element at a predetermined place,
Optical characteristics can be prevented from deteriorating, and the positioning reference member with excellent cutting workability makes it easy to cut the position reference position, and furthermore, the reference member can be easily detached from the cell. By doing so, the member can be replaced, and productivity such as processing correction can be improved.

【0051】また、本発明の光学素子保持機構により保
持される光学素子群を露光装置に適用することにより、
セルの変形を抑えかつ位置精度を向上させることができ
ることから、各光学素子の面形状を接合前の状態に保
ち、光学系の光学特性が悪化することを防ぐことがで
き、高精度の露光転写を行なうことが可能となる。
Further, by applying the optical element group held by the optical element holding mechanism of the present invention to an exposure apparatus,
Since the deformation of the cell can be suppressed and the positional accuracy can be improved, the surface shape of each optical element can be kept in the state before joining, and the optical characteristics of the optical system can be prevented from deteriorating, and high precision exposure transfer Can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に基づく光学素子保持機構の一実施例を
適用した投影光学系を概略的に図示する端面図である。
FIG. 1 is an end view schematically showing a projection optical system to which an embodiment of an optical element holding mechanism according to the present invention is applied.

【図2】本発明の光学素子保持機構において、位置決め
用の基準部材をねじによってセルに脱着可能に締結する
例を示す概略端面図である。
FIG. 2 is a schematic end view showing an example in which a positioning reference member is detachably fastened to a cell by a screw in the optical element holding mechanism of the present invention.

【図3】本発明の光学素子保持機構において、位置決め
用の基準部材としての真鍮膜をセラミックス製セルにメ
ッキまたは溶射等によって形成する例を示す概略端面図
である。
FIG. 3 is a schematic end view showing an example in which a brass film as a reference member for positioning is formed on a ceramic cell by plating or thermal spraying in the optical element holding mechanism of the present invention.

【図4】本発明の光学素子保持機構において、位置決め
用の基準部材をセルの胴付き部と他の外周部とを一体化
した例を示す概略端面図である。
FIG. 4 is a schematic end view showing an example in which a positioning reference member is integrated with a barrel portion of a cell and another outer peripheral portion in the optical element holding mechanism of the present invention.

【図5】本発明の光学素子保持機構の他の実施例を適用
した投影光学系を概略的に図示する端面図である。
FIG. 5 is an end view schematically showing a projection optical system to which another embodiment of the optical element holding mechanism of the present invention is applied.

【図6】本発明の光学素子保持機構により保持される光
学素子群により構成される投影光学系を適用した露光装
置の概略構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus to which a projection optical system including a group of optical elements held by an optical element holding mechanism of the present invention is applied.

【図7】従来のセル構造による鏡筒構造を概略的に図示
する端面図である。
FIG. 7 is an end view schematically showing a lens barrel structure using a conventional cell structure.

【図8】半導体デバイスの製造工程を示すフローチャー
トである。
FIG. 8 is a flowchart showing a semiconductor device manufacturing process.

【図9】ウエハプロセスを示すフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart showing a wafer process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光学素子(レンズ) 2 セル(アルミナセラミックス製) 3(3a〜3d) 基準部材(真鍮部材) 5 鏡筒 6 押さえ環 7 スペーサー 13(13a〜13d) 基準部材(真鍮部材) 14(14a〜14d) ねじ 23(23a〜23d) 基準部材(真鍮膜) 33 基準部材(真鍮部材) 42 セル(鉄鋼材製) 43(43a〜43d) 基準部材(真鍮部材) 50 投影光学系 51 照明光学系 52 原版(レチクル) 53 レチクルステージ 54 定盤 55 基板(ウエハ) 56 ウエハステージ Reference Signs List 1 optical element (lens) 2 cell (made of alumina ceramic) 3 (3a to 3d) reference member (brass member) 5 lens barrel 6 holding ring 7 spacer 13 (13a to 13d) reference member (brass member) 14 (14a to 14d) ) Screw 23 (23a to 23d) Reference member (brass film) 33 Reference member (brass member) 42 Cell (made of steel) 43 (43a to 43d) Reference member (brass member) 50 Projection optical system 51 Illumination optical system 52 Original plate (Reticle) 53 Reticle stage 54 Surface plate 55 Substrate (wafer) 56 Wafer stage

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学素子を支持する第1の保持部材と該
第1の保持部材を所定の場所に支持する第2の保持部材
とを用いて該光学素子を所定の場所に保持する光学素子
保持方法において、前記第1の保持部材を剛性の高い材
料で形成するとともに、前記光学素子および/または前
記第2の保持部材と当接する前記第1の保持部材の部位
に切削性の優れた基準部材を接合することを特徴とする
光学素子保持方法。
An optical element for holding an optical element at a predetermined position by using a first holding member for supporting the optical element and a second holding member for supporting the first holding member at a predetermined position. In the holding method, the first holding member is formed of a material having high rigidity, and a portion of the first holding member that comes into contact with the optical element and / or the second holding member has excellent cutability. An optical element holding method comprising joining members.
【請求項2】 前記第1の保持部材は、前記光学素子の
外周部を支持して位置決めすることを特徴とする請求項
1記載の光学素子保持方法。
2. The optical element holding method according to claim 1, wherein the first holding member supports and positions an outer peripheral portion of the optical element.
【請求項3】 前記基準部材は、前記第1の保持部材に
接合された後に切削加工されることを特徴とする請求項
1または2記載の光学素子保持方法。
3. The optical element holding method according to claim 1, wherein the reference member is cut after being joined to the first holding member.
【請求項4】 前記第1の保持部材がセラミックスで形
成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいず
れか1項に記載の光学素子保持方法。
4. The optical element holding method according to claim 1, wherein said first holding member is formed of ceramics.
【請求項5】 前記基準部材は真鍮、アルミニウム、銅
またはステンレスであることを特徴とする請求項1ない
し4のいずれか1項に記載の光学素子保持方法。
5. The optical element holding method according to claim 1, wherein the reference member is made of brass, aluminum, copper, or stainless steel.
【請求項6】 前記第1の保持部材が鉄鋼材で形成され
ていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1
項に記載の光学素子保持方法。
6. The method according to claim 1, wherein the first holding member is formed of a steel material.
Item 6. The optical element holding method according to item 1.
【請求項7】 前記基準部材は真鍮、アルミニウムまた
は銅であることを特徴とする請求項6記載の光学素子保
持方法。
7. The method according to claim 6, wherein the reference member is made of brass, aluminum, or copper.
【請求項8】 複数の光学素子をそれぞれ所定の場所に
保持することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか
1項に記載の光学素子保持方法。
8. The optical element holding method according to claim 1, wherein each of the plurality of optical elements is held at a predetermined position.
【請求項9】 光学素子を所定の場所に保持するための
光学素子保持機構において、前記光学素子を支持する第
1の保持部材と、該第1の保持部材を所定の場所に支持
する第2の保持部材とを備え、前記第1の保持部材を剛
性の高い材料で形成するとともに、前記光学素子および
/または前記第2の保持部材に当接する第1の保持部材
の部位に切削性の優れた基準部材を接合することを特徴
とする光学素子保持機構。
9. An optical element holding mechanism for holding an optical element at a predetermined position, wherein the first holding member supports the optical element and the second holding member supports the first holding member at a predetermined position. And the first holding member is formed of a material having high rigidity, and the portion of the first holding member that contacts the optical element and / or the second holding member has excellent machinability. An optical element holding mechanism, wherein the reference member is joined.
【請求項10】 前記第1の保持部材は、前記光学素子
の外周部を支持して位置決めすることを特徴とする請求
項9記載の光学素子保持機構。
10. The optical element holding mechanism according to claim 9, wherein the first holding member supports and positions an outer peripheral portion of the optical element.
【請求項11】 前記第1の保持部材がセラミックスで
形成されていることを特徴とする請求項9または10記
載の光学素子保持機構。
11. The optical element holding mechanism according to claim 9, wherein said first holding member is formed of ceramics.
【請求項12】 前記基準部材は真鍮、アルミニウム、
銅またはステンレスであることを特徴とする請求項9な
いし11のいずれか1項に記載の光学素子保持機構。
12. The reference member is made of brass, aluminum,
The optical element holding mechanism according to any one of claims 9 to 11, wherein the optical element holding mechanism is made of copper or stainless steel.
【請求項13】 前記第1の保持部材が鉄鋼材で形成さ
れていることを特徴とする請求項9または10記載の光
学素子保持機構。
13. The optical element holding mechanism according to claim 9, wherein the first holding member is formed of a steel material.
【請求項14】 前記基準部材は真鍮、アルミニウムま
たは銅であることを特徴とする請求項13記載の光学素
子保持機構。
14. The optical element holding mechanism according to claim 13, wherein the reference member is made of brass, aluminum, or copper.
【請求項15】 前記基準部材は、接着剤により、ロウ
付けにより、メッキにより、溶射により、蒸着により、
あるいはねじ結合により、前記第1の部材に接合されて
いることを特徴とする請求項9ないし14のいずれか1
項に記載の光学素子保持機構。
15. The reference member is bonded by an adhesive, by brazing, by plating, by thermal spraying, by vapor deposition,
Alternatively, the first member is joined to the first member by a screw connection.
Item 6. The optical element holding mechanism according to Item 1.
【請求項16】 複数の光学素子をそれぞれ所定の場所
に保持することを特徴とする請求項9ないし15のいず
れか1項に記載の光学素子保持機構。
16. The optical element holding mechanism according to claim 9, wherein each of the plurality of optical elements is held at a predetermined position.
【請求項17】 請求項9ないし16のいずれか1項に
記載の光学素子保持機構を用いた光学素子群を利用し
て、光源から照射される照明光により所定の倍率で原版
のパターンを基板上に露光転写することを特徴とする露
光装置。
17. A pattern of an original plate at a predetermined magnification by illumination light emitted from a light source, utilizing an optical element group using the optical element holding mechanism according to claim 9. An exposure apparatus, which performs exposure transfer on the top.
【請求項18】 請求項17に記載の露光装置を用意す
る工程と、 基板に感光材を塗布する工程と、 前記露光装置を用いて回路パターンを基板に露光する工
程と、 露光された基板を現像する工程とを有することを特徴と
するデバイス製造方法。
18. A step of preparing the exposure apparatus according to claim 17, a step of applying a photosensitive material to the substrate, a step of exposing a circuit pattern to the substrate by using the exposure apparatus, and a step of exposing the exposed substrate. Developing the device.
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