JP2001120565A - High frequency treatment ingredient - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、アレル
ギー性鼻炎の手術的治療として、鼻内粘膜に対する下鼻
甲介粘膜切除等に用いられる高周波処置具に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency treatment device used for resection of the inferior turbinate mucous membrane on the nasal mucosa, for example, as a surgical treatment for allergic rhinitis.
【０００２】[0002]
【従来の技術】花粉症は、花粉が鼻の粘膜に付着してア
レルギー反応を起こすために現れることが知られてい
る。そこで、粘膜に処置を施してアレルギー反応を起こ
しにくい粘膜にする鼻腔粘膜除去法として、下鼻甲介粘
膜切除術、高周波電気焼灼術、レーザー焼灼術が施行さ
れている。2. Description of the Related Art Pollinosis is known to occur because pollen adheres to the mucous membrane of the nose and causes an allergic reaction. Therefore, as a method of removing nasal mucosa by treating the mucous membrane to make the mucosa less likely to cause an allergic reaction, lower turbinate mucosal resection, high-frequency electrocautery, and laser ablation have been performed.
【０００３】高周波電気焼灼術に用いられる高周波処置
具として、例えば，米国特許第５，７３３，２８２号明
細書、米国特許第５，８２３，１９７号明細書及び米国
特許第４，９３６，８４２号明細書等が知られている。As high-frequency treatment devices used in high-frequency electrocautery, for example, US Pat. No. 5,733,282, US Pat. No. 5,823,197 and US Pat. No. 4,936,842. Descriptions and the like are known.
【０００４】米国特許第５，７３３，２８２号明細書
は、鼻腔内に挿入する挿入部の先端部に，挿入部の軸方
向に対して直角に屈曲した電極部を有し，挿入部を鼻腔
内に挿入して電極部を患部に接触するとともに，電極部
に高周波電流を流して患部の粘膜を切除するようになっ
ている。[0004] US Patent No. 5,733,282 has an electrode portion bent at a right angle to the axial direction of the insertion portion at the tip of the insertion portion to be inserted into the nasal cavity. The electrode is brought into contact with the affected part by inserting it into the inside, and a high-frequency current is applied to the electrode to cut off the mucous membrane of the affected part.
【０００５】米国特許第５，８２３，１９７号明細書
は、鼻腔内に挿入するカテーテルの先端部にエネルギー
プローブを設け，カテーテルを鼻腔内に挿入し，下鼻甲
介の内側でエネルギーを送出して下鼻甲介の一部を焼灼
するようになっている。In US Pat. No. 5,823,197, an energy probe is provided at the tip of a catheter to be inserted into the nasal cavity, the catheter is inserted into the nasal cavity, and energy is delivered inside the inferior turbinate. A part of the lower turbinate is cauterized.
【０００６】また、米国特許第４，９３６，８４２号明
細書は、術者が把持する操作部と、この操作部に対して
着脱可能なプローブと，このプローブの先端部に設けら
れ選択的に切替えられる２種の電極部とからなり，プロ
ーブを体腔内に挿入し、患部を電気エネルギーによって
処置するようになっている。US Pat. No. 4,936,842 discloses an operation section that is held by an operator, a probe that can be attached to and detached from the operation section, and a probe that is selectively provided at the tip of the probe. The probe is inserted into a body cavity and the affected part is treated with electric energy.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
焼灼術は、高価なレーザ装置を必要とし，またモノポー
ラ電気焼灼術では凝固層の制御が難しいという問題があ
る。さらに、アレルギー性鼻炎の手術的治療として、鼻
内粘膜に対する下鼻甲介粘膜切除を行おうとした場合，
従来のように、電極部の先端部を患部に接触させると、
接触部位のみが高温に焼灼されてしまい、目的部位の下
鼻甲介を一様に焼灼するためには、操作部を把持して挿
入部を移動させ，先端部の電極部を下鼻甲介全面に対し
て一様に動かす面倒な操作が必要となる。However, laser ablation requires expensive laser equipment, and monopolar electrocautery has a problem that it is difficult to control a solidified layer. In addition, as a surgical treatment for allergic rhinitis, if the inferior turbinate mucosa is removed from the nasal mucosa,
As in the past, when the tip of the electrode part is brought into contact with the affected part,
Only the contact area is cauterized at a high temperature, and in order to cauterize the lower nasal turbinate uniformly at the target site, the operating part is grasped and the insertion part is moved, and the electrode at the tip is applied to the entire lower nasal turbinate. On the other hand, a cumbersome operation for moving uniformly is required.
【０００８】しかし，下鼻甲介は人によってその形状・
大きさは様々であり，表面を一様に焼灼するためには熟
練した技術が求められる。また、面積の広いヘラ状のプ
ローブで下鼻甲介を焼灼しようとしても、下鼻甲介の表
面は凹凸であるため，接触部位にムラが生じ，結果的に
一様に焼灼できないという問題がある。However, the shape of the lower turbinate depends on the person.
They vary in size and require a skilled technique to cauterize the surface uniformly. Further, even if an attempt is made to cauterize the inferior turbinate with a spatula-shaped probe having a large area, the surface of the inferior turbinate is uneven, so that there is a problem that unevenness occurs in the contact portion, and consequently, cauterization cannot be performed uniformly.
【０００９】この発明は、前記事情に着目してなされた
もので、その目的とするところは、患部に接触して患部
を一様に高周波焼灼でき，また操作性に優れた高周波処
置具を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a high-frequency treatment instrument which is capable of uniformly performing high-frequency ablation of an affected part by contacting the affected part and having excellent operability. Is to do.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】この発明は、前記目的を
達成するために、ハンドピースと，このハンドピースに
設けられ体腔内に挿入する挿入部と，この挿入部の先端
部に設けられた処置部とからなる高周波処置具におい
て，前記処置部は，患部に接触する接触面を有し，この
接触面に患部を高周波焼灼する電極を設けたことを特徴
とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a handpiece, an insertion portion provided in the handpiece and inserted into a body cavity, and a tip portion of the insertion portion. In the high-frequency treatment instrument including a treatment section, the treatment section has a contact surface that comes into contact with the diseased part, and an electrode that performs high-frequency ablation of the diseased part is provided on the contact surface.
【００１１】前記構成によれば，挿入部を例えば前鼻孔
から鼻腔内に挿入し、処置部の接触面を鼻腔内粘膜に接
触させる。接触面に設けた電極に高周波電流を流すこと
により，鼻腔内粘膜を広範囲に亘って一様に焼灼でき
る。According to the above configuration, the insertion portion is inserted into the nasal cavity, for example, from the anterior nostril, and the contact surface of the treatment portion is brought into contact with the intranasal mucosa. By passing a high-frequency current through the electrodes provided on the contact surface, the mucous membrane in the nasal cavity can be cauterized uniformly over a wide range.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】以下、この発明の各実施の形態を
図面に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１３】図１及び図２は第１の実施形態を示し、図
１は高周波処置具をアレルギー性鼻炎治療に用いた場合
の使用状態図，図２は高周波処置具の処置部の正面図及
び側面図である。FIGS. 1 and 2 show a first embodiment. FIG. 1 is a view showing a use state when a high-frequency treatment device is used for treating allergic rhinitis. FIG. 2 is a front view of a treatment section of the high-frequency treatment device. It is a side view.
【００１４】図１及び図２に示すように，高周波処置具
１は、術者が把持するハンドピース２と、このハンドピ
ース２の先端に軸方向に延びるパイプ状の挿入部３とか
ら構成されている。ハンドピース２の把持部４には挿入
部３を着脱可能に連結するための連結部５が設けられ，
この連結部５は把持部４に対して角度θ１ を有してお
り，連結部５に連結された挿入部３は把持部４に対して
傾斜している。そして、把持部４の上面と挿入部３の上
面が同一面に形成されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the high-frequency treatment instrument 1 is composed of a handpiece 2 to be gripped by an operator, and a pipe-shaped insertion portion 3 extending at the tip of the handpiece 2 in the axial direction. ing. A connecting portion 5 for detachably connecting the insertion portion 3 is provided on the holding portion 4 of the handpiece 2.
The connecting portion 5 has an angle θ 1 with respect to the grip portion 4, and the insertion portion 3 connected to the connecting portion 5 is inclined with respect to the grip portion 4. The upper surface of the gripper 4 and the upper surface of the insertion unit 3 are formed on the same plane.
【００１５】さらに，挿入部３の先端部には処置部６が
設けられており，この処置部６は挿入部３の軸線に対
し、把持部４に対する挿入部３の角度と同方向に角度θ
２ を有している。また、処置部６は絶縁部材によって
形成され，その片面に平坦面からなる接触面７が設けら
れ，接触面７には前後方向に亘って棒状のバイポーラ電
極８が設けられている。このバイポーラ電極８はアクテ
ィブ電極８ａとリターン電極８ｂとからなり、両電極８
ａ，８ｂは電気的に絶縁されている。Further, a treatment section 6 is provided at the distal end of the insertion section 3, and the treatment section 6 has an angle θ with respect to the axis of the insertion section 3 in the same direction as the angle of the insertion section 3 with respect to the gripping section 4.
Two . The treatment section 6 is formed of an insulating member, and a contact surface 7 having a flat surface is provided on one surface thereof, and a rod-shaped bipolar electrode 8 is provided on the contact surface 7 in the front-rear direction. The bipolar electrode 8 includes an active electrode 8a and a return electrode 8b.
a and 8b are electrically insulated.
【００１６】バイポーラ電極８は、挿入部３及びハンド
ピース２の内部を通ってハンドピース２に接続された高
周波ケーブル９を介して高周波電流供給源１０に接続さ
れており、ハンドピース２の把持部４には術者が把持部
４を把持した状態で，手指で操作できるスイッチ１１が
設けられている。The bipolar electrode 8 is connected to a high-frequency current supply source 10 through a high-frequency cable 9 connected to the handpiece 2 through the insertion portion 3 and the inside of the handpiece 2, and a gripping portion of the handpiece 2. The switch 4 is provided with a switch 11 that can be operated by fingers while the operator holds the gripper 4.
【００１７】従って，図１に示すように，ハンドピース
２を持って挿入部３を前鼻孔１２ａから鼻腔１２に挿入
し、処置部６のバイポーラ電極８を鼻腔内粘膜１３に接
触させることができる。このとき，把持部４に対して挿
入部３が角度θ１ を有しているため、把持部４及び把
持部４を把持した手指が視野を妨げることはなく，処置
部６及び鼻腔内粘膜１３を目視で確認でき，処置部６を
目的とする鼻腔内粘膜１３に容易にアプローチできる。
しかも、処置部６は挿入部３の軸線に対して角度θ２
を有しているため、挿入部３を傾斜したとき、処置部６
の接触面７が略上向き水平となるため，接触面７を鼻腔
内粘膜１３に面接触させることができる。Accordingly, as shown in FIG. 1, the insertion portion 3 is inserted into the nasal cavity 12 through the anterior nostril 12a by holding the handpiece 2, and the bipolar electrode 8 of the treatment portion 6 can be brought into contact with the intranasal mucosa 13. . At this time, since the insertion portion 3 has an angle theta 1 with respect to the grip portion 4, rather than the hand holding the holding portion 4 and the holder part 4 prevents the view, the treatment section 6 and intranasal mucosa 13 Can be visually confirmed, and the treatment section 6 can easily approach the intranasal mucosa 13.
Moreover, the treatment section 6 has an angle θ 2 with respect to the axis of the insertion section 3.
When the insertion section 3 is inclined, the treatment section 6
Because the contact surface 7 is substantially upward and horizontal, the contact surface 7 can be brought into surface contact with the intranasal mucosa 13.
【００１８】そこで，術者がスイッチ１１をオンする
と，高周波電流供給源１０から高周波ケーブル９を介し
て処置部６のバイポーラ電極８に高周波電流が流れる。
具体的にはアクティブ電極８ａから鼻腔内粘膜１３を通
ってリターン電極８ｂに高周波電流が流れ，鼻腔内粘膜
１３が焼灼される。従って，鼻腔内粘膜１３の広い範囲
を高周波電流によって均一に焼灼でき、鼻腔内粘膜１３
に対して何度も処置部６の位置を変更する必要がなく，
短時間に治療できる。When the surgeon turns on the switch 11, a high-frequency current flows from the high-frequency current supply source 10 to the bipolar electrode 8 of the treatment section 6 via the high-frequency cable 9.
Specifically, a high-frequency current flows from the active electrode 8a to the return electrode 8b through the intranasal mucosa 13, and the intranasal mucosa 13 is cauterized. Accordingly, a wide range of the intranasal mucosa 13 can be uniformly cauterized by the high-frequency current, and the intranasal mucosa 13 can be cauterized.
It is not necessary to change the position of the treatment section 6 many times,
Can be treated in a short time.
【００１９】また、把持部４の連結部５に対して挿入部
３が着脱可能であるため，挿入部３の長さが異なるも
の、処置部６の構造が異なる挿入部３あるいは挿入部３
に対して処置部６の角度が異なるものを用意することに
より，患者に対して最適な高周波処置具１を用いること
ができる。Further, since the insertion section 3 is detachable from the connecting section 5 of the grip section 4, the insertion section 3 having a different length of the insertion section 3 and the insertion section 3 or the insertion section 3 having a different structure of the treatment section 6 are provided.
By preparing a treatment unit 6 having a different angle, the most suitable high-frequency treatment instrument 1 can be used for a patient.
【００２０】図３は第２の実施形態を示し、第１の実施
形態と同一構成部分は同一番号を付して説明を省略す
る。本実施形態は、処置部６の接触面７に長手方向に２
対のバイポーラ電極８を配置したものであり、２対のバ
イポーラ電極８に同時に高周波電流を流すことも，選択
的に流すこともできる。FIG. 3 shows a second embodiment, in which the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the present embodiment, the contact surface 7 of the treatment section 6 is
A pair of bipolar electrodes 8 are arranged, and a high-frequency current can be applied to two pairs of bipolar electrodes 8 simultaneously or selectively.
【００２１】図４は第３の実施形態を示し、第１の実施
形態と同一構成部分は同一番号を付して説明を省略す
る。本実施形態は、処置部６の接触面７に幅方向に４対
のバイポーラ電極８を配置したものであり、４対のバイ
ポーラ電極８に同時に高周波電流を流すことも，選択的
に流すこともできる。FIG. 4 shows a third embodiment. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the present embodiment, four pairs of bipolar electrodes 8 are arranged on the contact surface 7 of the treatment section 6 in the width direction, and high-frequency currents can be simultaneously or selectively supplied to the four pairs of bipolar electrodes 8. it can.
【００２２】図５及び図６は第４の実施形態を示し、第
１の実施形態と同一構成部分は同一番号を付して説明を
省略する。本実施形態は、処置部６の接触面７に長手方
向に離間してバイポーラ電極８を構成するアクティブ電
極８ａとリターン電極８ｂとを配置するとともに，アク
ティブ電極８ａとリターン電極８ｂとの間の接触面７に
吸引口１４を設けたものである。FIGS. 5 and 6 show a fourth embodiment. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the present embodiment, the active electrode 8a and the return electrode 8b that constitute the bipolar electrode 8 are arranged on the contact surface 7 of the treatment section 6 in the longitudinal direction, and the contact between the active electrode 8a and the return electrode 8b is formed. The suction port 14 is provided on the surface 7.
【００２３】吸引口１４は処置部６の内部から挿入部３
の内部に連通する吸引路１５を介して吸引チューブ１６
に接続され、この吸引チューブ１６は吸引装置（図示し
ない）に接続されている。The suction port 14 extends from the inside of the treatment section 6 to the insertion section 3.
Suction tube 16 via a suction passage 15 communicating with the inside of the
The suction tube 16 is connected to a suction device (not shown).
【００２４】本実施形態によれば，鼻腔内粘膜１３を高
周波処置する前または処置中に鼻腔内粘膜１３の液状物
質を吸引口１４から強制的に吸引することができる。According to this embodiment, the liquid substance of the intranasal mucosa 13 can be forcibly sucked from the suction port 14 before or during the high-frequency treatment of the intranasal mucosa 13.
【００２５】図７〜図９は第５の実施形態を示し、第１
の実施形態と同一構成部分は同一番号を付して説明を省
略する。本実施形態は、モノポーラ電気焼灼術を示し，
図７に示す，高周波処置具１７は、ハンドピース１８と
このハンドピース１８に対して挿入部１９が角度θ１
を有し、また挿入部１９に対して処置部２０が挿入部１
９の軸線に対して角度θ２ を有して設けられている。
この処置部２０の接触面２１にはアクティブ電極２２ａ
が設けられ，高周波電流供給源１０には高周波ケーブル
９とともに，フットスイッチ２３とリターン電極２２ｂ
が設けられている。FIGS. 7 to 9 show a fifth embodiment.
The same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. This embodiment shows a monopolar electrocautery,
In the high-frequency treatment instrument 17 shown in FIG. 7, a handpiece 18 and an insertion portion 19 with respect to the handpiece 18 have an angle θ 1.
The treatment section 20 is inserted into the insertion section 1 with respect to the insertion section 19.
9 are provided at an angle θ 2 with respect to the axis of the ninth axis.
An active electrode 22a is provided on the contact surface 21 of the treatment section 20.
The high-frequency current supply source 10 is provided with a high-frequency cable 9, a foot switch 23 and a return electrode 22b.
Is provided.
【００２６】また、図８（ａ）（ｂ）に示すように，処
置部２０の接触面２１の幅方向中間部にはアクティブ電
極２２ａが設けられ，このアクティブ電極２２ａを囲む
ように略Ｕ字状にアクティブ電極２２ａより突出した絶
縁部材２４が設けられている。As shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), an active electrode 22a is provided at an intermediate portion in the width direction of the contact surface 21 of the treatment section 20, and a substantially U-shape is provided so as to surround the active electrode 22a. An insulating member 24 protruding from the active electrode 22a is provided.
【００２７】本実施形態によれば，アクティブ電極２２
ａに高周波電流を流した状態で，処置部２０の接触面２
１を鼻腔内粘膜１３に接触しても絶縁部材２４が鼻腔内
粘膜１３に接触し，アクティブ電極２２ａと鼻腔内粘膜
１３とは非接触となるため、鼻腔内粘膜１３が焼灼され
ることはない。According to the present embodiment, the active electrode 22
a with the high-frequency current flowing through the contact surface 2 of the treatment section 20.
Even if 1 contacts the intranasal mucosa 13, the insulating member 24 contacts the intranasal mucosa 13 and the active electrode 22 a does not contact the intranasal mucosa 13, so that the intranasal mucosa 13 is not cauterized. .
【００２８】しかし、図９に示すように，鼻腔内粘膜１
３とアクティブ電極２２ａとの間に導電性のゼリー状物
質２５が存在するとき，このゼリー状物質２５を介して
鼻腔内粘膜１３に高周波電流が流れ、鼻腔内粘膜１３の
焼灼が可能となる。なお、高周波電流供給源１０にはア
クティブ電極２２ａとゼリー状物質２５と患者のインピ
ーダンスを検知することにより、ゼリー状物質２５が患
部に塗布されているか否かを検知し，ゼリー状物質２５
が鼻腔内粘膜１３に塗布されていることを確認してから
通電するための制御回路が設けられている。However, as shown in FIG.
When a conductive jelly-like substance 25 is present between the electrode 3 and the active electrode 22a, a high-frequency current flows through the intranasal mucosa 13 via the jelly-like substance 25, and the nasal mucosa 13 can be cauterized. The high-frequency current source 10 detects whether the jelly-like substance 25 is applied to the affected part by detecting the active electrode 22a, the jelly-like substance 25, and the impedance of the patient.
A control circuit is provided for confirming that is applied to the mucous membrane 13 in the nasal cavity and then conducting the current.
【００２９】従って，本実施形態においても、第１の実
施形態と同様に視野が確保され，目的部位に処置部２０
を容易にアプローチでき，処置部２０を鼻腔内粘膜１３
に対して面接触させることができる。Therefore, also in this embodiment, the visual field is ensured similarly to the first embodiment, and the treatment section 20 is located at the target site.
The treatment section 20 can be easily approached, and the intranasal mucosa 13
Surface contact.
【００３０】なお、図１０に示すように，処置部２０の
接触面２１に開口する吐出口２６及び吐出口２６と連通
する供給通路２７を挿入部１９に設け，供給通路２７か
らゼリー状物質２５を供給して吐出口２６からゼリー状
物質２５を吐出して鼻腔内粘膜１３に塗布するようにし
てもよい。As shown in FIG. 10, a discharge port 26 opened on the contact surface 21 of the treatment section 20 and a supply path 27 communicating with the discharge port 26 are provided in the insertion section 19, and the jelly-like substance 25 is supplied from the supply path 27. And the jelly-like substance 25 may be discharged from the discharge port 26 and applied to the intranasal mucosa 13.
【００３１】図１１〜図１３は第６の実施形態を示し、
図１１は高周波処置具をアレルギー性鼻炎治療に用いた
場合の使用状態図，図１２は高周波処置具の処置部を示
し，（ａ）は正面図、（ｂ）は背面図、図１３（ａ）は
図１２のＡ−Ａ線に沿う断面図，（ｂ）は図１２のＢ−
Ｂ線に沿う断面図である。FIGS. 11 to 13 show a sixth embodiment.
11 is a use state diagram when the high-frequency treatment device is used for treatment of allergic rhinitis, FIG. 12 shows a treatment section of the high-frequency treatment device, (a) is a front view, (b) is a rear view, and FIG. ) Is a sectional view taken along line AA in FIG. 12, and (b) is a sectional view taken along line B-A in FIG.
It is sectional drawing which follows the B line.
【００３２】図１１〜図１３に示すように，高周波処置
具３１は、術者が把持するハンドピース３２と、このハ
ンドピース３２の先端にハンドピース３２の軸方向に延
びるパイプ状の挿入部３３とから構成されている。挿入
部３３の先端部には処置部３４が回動自在に設けられて
いる。As shown in FIGS. 11 to 13, the high-frequency treatment instrument 31 includes a handpiece 32 gripped by an operator, and a pipe-like insertion portion 33 extending in the axial direction of the handpiece 32 at the tip of the handpiece 32. It is composed of A treatment section 34 is rotatably provided at the distal end of the insertion section 33.
【００３３】すなわち，処置部３４の背面には一対の突
出片３５が設けられ，これら突出片３５には挿入部３３
の先端部において挿入部３３の径方向に貫通する枢支ピ
ン３６が設けられている。そして，枢支ピン３６の両端
部は突出片３５に対して回動自在に枢支され，挿入部３
３に対して処置部３４が回動自在になっている。That is, a pair of projecting pieces 35 are provided on the back surface of the treatment section 34, and the projecting pieces 35
A pivot pin 36 penetrating in the radial direction of the insertion section 33 is provided at the distal end of the insertion section 33. Both ends of the pivot pin 36 are pivotally supported on the projecting piece 35 so as to be rotatable.
The treatment section 34 is rotatable with respect to 3.
【００３４】さらに，処置部３４の前面にはバイポーラ
電極３７を構成するアクティブ電極３７ａとリターン電
極３７ｂとが絶縁状態で設けられている。また、挿入部
３３には２本の高周波ケーブル３８ａ，３８ｂが挿通さ
れ、これら高周波ケーブル３８ａ，３８ｂは挿入部３３
の先端から導出し、処置部３４の背面を貫通してアクテ
ィブ電極３７ａとリターン電極３７ｂとのそれぞれに電
気的に接続されている。Further, on the front surface of the treatment section 34, an active electrode 37a and a return electrode 37b constituting the bipolar electrode 37 are provided in an insulated state. Two high-frequency cables 38a and 38b are inserted through the insertion portion 33, and these high-frequency cables 38a and 38b are inserted into the insertion portion 33.
And is electrically connected to each of the active electrode 37a and the return electrode 37b through the back surface of the treatment section 34.
【００３５】本実施形態によれば，ハンドピース３２と
挿入部３３が一直線状に構成されているが，挿入部３３
の先端部の処置部３４は枢支ピン３６を支点として回動
自在である。According to the present embodiment, the handpiece 32 and the insertion portion 33 are formed in a straight line.
The treatment section 34 at the distal end of is rotatable about a pivot pin 36 as a fulcrum.
【００３６】従って，図１１に示すように，ハンドピー
ス３２を持って挿入部３３を前鼻孔１２ａから鼻腔１２
に挿入し、処置部３４のバイポーラ電極３７を鼻腔内粘
膜１３に接触させることができる。このとき，挿入部３
３に対して処置部３４が枢支ピン３６を支点として回動
変位し，処置部３４の前面を鼻腔内粘膜１３に対して密
着させることができる。Therefore, as shown in FIG. 11, holding the hand piece 32, the insertion portion 33 is inserted through the nostril 12a into the nasal cavity 12a.
And the bipolar electrode 37 of the treatment section 34 can be brought into contact with the intranasal mucosa 13. At this time, the insertion part 3
The treatment section 34 is rotated and displaced about the pivot pin 36 as a fulcrum with respect to 3, and the front surface of the treatment section 34 can be brought into close contact with the intranasal mucosa 13.
【００３７】そして、高周波電流供給源から高周波ケー
ブル３８ａ，３８ｂを介して処置部３４のバイポーラ電
極３７に高周波電流を流すと，具体的にはアクティブ電
極３７ａから鼻腔内粘膜１３を通ってリターン電極３７
ｂに高周波電流が流れ，鼻腔内粘膜１３が焼灼される。
従って，鼻腔内粘膜１３の広い範囲を高周波電流によっ
て均一に焼灼でき、鼻腔内粘膜１３に対して何度も処置
部３４の位置を変更する必要がなく，短時間に治療でき
る。When a high-frequency current flows from the high-frequency current supply source to the bipolar electrode 37 of the treatment section 34 via the high-frequency cables 38a and 38b, specifically, the active electrode 37a passes through the intranasal mucosa 13 and returns to the return electrode 37.
A high-frequency current flows through b, and the nasal mucosa 13 is cauterized.
Therefore, a wide range of the intranasal mucosa 13 can be cauterized uniformly by the high-frequency current, and the treatment can be performed in a short time without having to change the position of the treatment section 34 with respect to the intranasal mucosa 13 many times.
【００３８】図１４〜図１６は第７の実施形態を示し、
第６の実施形態と同一構成部分は同一番号を付して説明
を省略する。図１４は高周波処置具をアレルギー性鼻炎
治療に用いた場合の使用状態図，図１５は高周波処置具
の処置部を示す分解斜視図，図１６は処置部の縦断正面
図である。FIGS. 14 to 16 show a seventh embodiment.
The same components as those in the sixth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. FIG. 14 is a use state diagram when the high-frequency treatment device is used for treatment of allergic rhinitis, FIG. 15 is an exploded perspective view showing a treatment portion of the high-frequency treatment device, and FIG. 16 is a longitudinal sectional front view of the treatment portion.
【００３９】図１４に示すように，高周波処置具３１
は、術者が把持するハンドピース３２と、このハンドピ
ース３２の先端にハンドピース３２の軸線に対して角度
θ３を有するパイプ状の挿入部３３とから構成されてい
る。挿入部３３の先端部には処置部３４が任意の方向に
回動自在に連結されている。As shown in FIG.
It includes a handpiece 32 that the operator grips, and a pipe-shaped insertion portion 33 having an angle theta 3 with respect to the axis of the handpiece 32 to the distal end of the handpiece 32. A treatment section 34 is rotatably connected to the distal end of the insertion section 33 in an arbitrary direction.
【００４０】すなわち，処置部３４の背面には開口部４
０が設けられ，この開口部４０を囲繞するように筒状の
ボール受け部４１が設けられている。一方，挿入部３３
の先端部にはボール４２が一体に設けられ，このボール
４２はボール受け部４１に対して嵌合され,ボールジョ
イント４３が構成されている。また、挿入部３３に挿通
された２本の高周波ケーブル３８ａ，３８ｂは挿入部３
３の先端から導出し、処置部３４の開口部４０を貫通し
てアクティブ電極３７ａとリターン電極３７ｂとのそれ
ぞれに電気的に接続されている。That is, the opening 4 is provided on the back of the treatment section 34.
0 is provided, and a cylindrical ball receiving portion 41 is provided so as to surround the opening 40. On the other hand, the insertion section 33
A ball 42 is integrally provided at the tip of the ball, and the ball 42 is fitted into the ball receiving portion 41 to form a ball joint 43. The two high-frequency cables 38a and 38b inserted into the insertion portion 33
3, and is electrically connected to each of the active electrode 37a and the return electrode 37b through the opening 40 of the treatment section 34.
【００４１】従って，図１４に示すように，ハンドピー
ス３２を持って挿入部３３を前鼻孔１２ａから鼻腔１２
に挿入し、処置部３４のバイポーラ電極３７を鼻腔内粘
膜１３に接触させることができる。このとき，ハンドピ
ース３２の軸線に対して挿入部３３が角度θ３ を有し
ているため、ハンドピース３２及びハンドピース３２を
把持した手指が視野を妨げることはなく，処置部３４及
び鼻腔内粘膜１３を目視で確認でき，処置部３４を目的
とする鼻腔内粘膜１３に容易にアプローチできる。さら
に、挿入部３３に対して処置部３４がボールジョイント
４３によって３次元的に首振り運動可能であるため，挿
入部３３の方向に関係なく，処置部３４を鼻腔内粘膜１
３に面接触させることができる。Therefore, as shown in FIG. 14, holding the hand piece 32 and inserting the insertion portion 33 through the nostril 12a,
And the bipolar electrode 37 of the treatment section 34 can be brought into contact with the intranasal mucosa 13. At this time, since the insertion portion 33 with respect to the axis of the handpiece 32 has an angle theta 3, the handpiece 32 and the fingers holding the handpiece 32 can not interfere with the field of view, the treatment unit 34 and intranasal The mucous membrane 13 can be visually confirmed, and the treatment section 34 can easily approach the intranasal mucosa 13. Further, since the treatment section 34 can swing three-dimensionally with respect to the insertion section 33 by the ball joint 43, the treatment section 34 can be moved regardless of the direction of the insertion section 33.
3 can be brought into surface contact.
【００４２】そして、高周波電流供給源から高周波ケー
ブル３８ａ，３８ｂを介して処置部３４のバイポーラ電
極３７に高周波電流を流すと，具体的にはアクティブ電
極３７ａから鼻腔内粘膜１３を通ってリターン電極３７
ｂに高周波電流が流れ，鼻腔内粘膜１３が焼灼される。
従って，鼻腔内粘膜１３の広い範囲を高周波電流によっ
て均一に焼灼でき、鼻腔内粘膜１３に対して何度も処置
部３４の位置を変更する必要がなく，短時間に治療でき
る。When a high-frequency current flows from the high-frequency current supply source to the bipolar electrode 37 of the treatment section 34 via the high-frequency cables 38a and 38b, specifically, the active electrode 37a passes through the intranasal mucosa 13 and the return electrode 37.
A high-frequency current flows through b, and the nasal mucosa 13 is cauterized.
Therefore, a wide range of the intranasal mucosa 13 can be cauterized uniformly by the high-frequency current, and the treatment can be performed in a short time without having to change the position of the treatment section 34 with respect to the intranasal mucosa 13 many times.
【００４３】前記各実施形態によれば、次のような構成
が得られる。According to each of the above embodiments, the following configuration is obtained.
【００４４】（付記１）ハンドピースと，このハンドピ
ースに設けられ体腔内に挿入する挿入部と，この挿入部
の先端部に設けられた処置部とからなる高周波処置具に
おいて，前記処置部は，患部に接触する接触面を有し，
この接触面に患部を高周波焼灼する電極を設けたことを
特徴とする高周波処置具。(Supplementary Note 1) In a high-frequency treatment instrument comprising a handpiece, an insertion portion provided in the handpiece and inserted into a body cavity, and a treatment portion provided at a distal end portion of the insertion portion, the treatment portion is , Having a contact surface that contacts the affected area,
An electrode for performing high-frequency ablation of an affected part on the contact surface.
【００４５】（付記２）付記１における、電極は，アク
ティブ電極とリターン電極とからなるバイポーラ電極で
あることを特徴とする高周波処置具。(Supplementary note 2) The high-frequency treatment instrument according to Supplementary note 1, wherein the electrode is a bipolar electrode including an active electrode and a return electrode.
【００４６】（付記３）付記１における、電極は，挿入
部の軸線に対して角度を持っていることを特徴とする高
周波処置具。(Supplementary note 3) The high-frequency treatment instrument according to Supplementary note 1, wherein the electrode has an angle with respect to the axis of the insertion portion.
【００４７】（付記４）付記１における、電極は，処置
部に複数対設けられていることを特徴とする高周波処置
具。(Supplementary Note 4) A high-frequency treatment instrument according to supplementary note 1, wherein a plurality of pairs of electrodes are provided in the treatment section.
【００４８】（付記５）付記１における、挿入部は，ハ
ンドピースの軸線に対して角度を持っていることを特徴
とする高周波処置具。(Supplementary note 5) The high-frequency treatment instrument according to Supplementary note 1, wherein the insertion portion has an angle with respect to the axis of the handpiece.
【００４９】（付記６）付記１における、処置部は，挿
入部の軸線に対して角度を持っていることを特徴とする
高周波処置具。(Supplementary note 6) The high-frequency treatment instrument according to supplementary note 1, wherein the treatment section has an angle with respect to the axis of the insertion section.
【００５０】（付記７）付記１における、処置部は，液
状物質を吸引する吸引口が設けられていることを特徴と
する高周波処置具。(Supplementary note 7) The high-frequency treatment instrument according to supplementary note 1, wherein the treatment section is provided with a suction port for sucking a liquid substance.
【００５１】（付記８）付記１における、処置部は，ゼ
リー状物質を突出する吐出口が設けられていることを特
徴とする高周波処置具。(Supplementary note 8) The high-frequency treatment instrument according to Supplementary note 1, wherein the treatment section is provided with a discharge port for projecting the jelly-like substance.
【００５２】（付記９）付記１における、処置部は，挿
入部に対して回動自在に枢支されていることを特徴とす
る高周波処置具。(Supplementary Note 9) A high-frequency treatment instrument according to Supplementary Note 1, wherein the treatment section is pivotally supported on the insertion section.
【００５３】（付記１０）付記１における、処置部は，
挿入部に対してボールジョイントによって３次元的に首
振り自在に設けられていることを特徴とする高周波処置
具。(Supplementary Note 10) In the supplementary note 1, the treatment unit is
A high-frequency treatment instrument characterized in that the insertion part is swingably provided three-dimensionally by a ball joint.
【００５４】[0054]
【発明の効果】以上説明したように、この発明は、挿入
部の先端部に設けられた処置部に，患部に接触する接触
面を設け，この接触面に患部を高周波焼灼する電極を設
けたことを特徴とする。従って，挿入部を例えば鼻孔か
ら鼻腔内に挿入し、処置部の接触面を鼻腔内粘膜に接触
させ、接触面に設けた電極に高周波電流を流すことによ
り，鼻腔内粘膜を広範囲に亘って一様に焼灼でき、処置
時間を大幅に短縮できるという効果がある。As described above, according to the present invention, the treatment section provided at the distal end of the insertion section is provided with a contact surface for contacting the affected part, and an electrode for high-frequency cauterizing the affected part is provided on the contact surface. It is characterized by the following. Therefore, the insertion portion is inserted into the nasal cavity through, for example, a nostril, the contact surface of the treatment portion is brought into contact with the intranasal mucosa, and a high-frequency current is applied to an electrode provided on the contact surface, so that the intranasal mucosa covers a wide area. In this manner, and the treatment time can be greatly reduced.
【図１】この発明の第１の実施形態を示す高周波処置具
の使用状態図。FIG. 1 is a use state diagram of a high-frequency treatment tool according to a first embodiment of the present invention.
【図２】同実施形態の処置部の正面図及び側面図。FIG. 2 is a front view and a side view of the treatment section of the embodiment.
【図３】この発明の第２の実施形態の処置部を示す正面
図及び側面図。FIG. 3 is a front view and a side view showing a treatment section according to a second embodiment of the present invention.
【図４】この発明の第３の実施形態の処置部を示す正面
図。FIG. 4 is a front view showing a treatment section according to a third embodiment of the present invention.
【図５】この発明の第４の実施形態を示す高周波処置具
の側面図。FIG. 5 is a side view of a high-frequency treatment device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図６】同実施形態の処置部を示す正面図及び縦断側面
図。FIG. 6 is a front view and a longitudinal side view showing the treatment section of the embodiment.
【図７】この発明の第５の実施形態を示す高周波処置具
の使用状態図。FIG. 7 is a use state diagram of a high-frequency treatment tool according to a fifth embodiment of the present invention.
【図８】同実施形態の処置部を示し，（ａ）は断面図，
（ｂ）は正面図。FIG. 8 shows a treatment section of the embodiment, wherein (a) is a sectional view,
(B) is a front view.
【図９】同実施形態の処置部をゼリー状物質を介して患
部に接触した状態の側面図。FIG. 9 is a side view showing a state where the treatment section of the embodiment is in contact with the diseased part via a jelly-like substance.
【図１０】同実施形態の変形例を示し，処置部をゼリー
状物質を介して患部に接触した状態の側面図。FIG. 10 is a side view showing a modified example of the embodiment, in which the treatment section is in contact with the diseased part via a jelly-like substance.
【図１１】この発明の第６の実施形態を示す高周波処置
具の使用状態図。FIG. 11 is a view showing a use state of a high-frequency treatment instrument according to a sixth embodiment of the present invention.
【図１２】同実施形態の処置部を示し，（ａ）は正面
図，（ｂ）は正面図。FIGS. 12A and 12B show a treatment section of the embodiment, wherein FIG. 12A is a front view and FIG.
【図１３】同実施形態の処置部を示し，（ａ）は図１２
のＡ−Ａ線に沿う断面図，（ｂ）は図１２のＢ−Ｂ線に
沿う断面図。FIG. 13 shows the treatment section of the embodiment, and (a) shows the treatment section of FIG.
12B is a cross-sectional view along the line AA, and FIG. 13B is a cross-sectional view along the line BB in FIG.
【図１４】この発明の第７の実施形態を示す高周波処置
具の使用状態図。FIG. 14 is a use state diagram of a high-frequency treatment tool according to a seventh embodiment of the present invention.
【図１５】同実施形態の処置部の分解斜視図。FIG. 15 is an exploded perspective view of the treatment section of the embodiment.
【図１６】同実施形態の処置部の断面図。FIG. 16 is a sectional view of the treatment section of the embodiment.
１…高周波処置具 ２…ハンドピース ３…挿入部 ６…処置部 ７…接触面 ８…バイポーラ電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... High frequency treatment tool 2 ... Handpiece 3 ... Insertion part 6 ... Treatment part 7 ... Contact surface 8 ... Bipolar electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長瀬 徹 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 稲葉 誠 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 水川 聡 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 八田 信二 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 関野 直己 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 石川 学 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4C060 KK03 KK09 KK10 KK13 KK32 KK47 MM06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Toru Nagase 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Inside Olympus Optical Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Inaba 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Inside Olympus Optical Co., Ltd. (72) Inventor Satoshi Mizukawa 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Inside Olympus Optical Co., Ltd. (72) Shinji Hatta 2-43-2, Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Inside Olympus Optical Co., Ltd. (72) Naoki Sekino 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Inside Olympus Optical Co., Ltd. (72) Manabu Ishikawa 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Olympus Optical Co., Ltd. F-term (reference) 4C060 KK03 KK09 KK10 KK13 KK32 KK47 MM06
Claims (1)
けられ体腔内に挿入する挿入部と，この挿入部の先端部
に設けられた処置部とからなる高周波処置具において，
前記処置部は，患部に接触する接触面を有し，この接触
面に患部を高周波焼灼する電極を設けたことを特徴とす
る高周波処置具。1. A high-frequency treatment instrument comprising a handpiece, an insertion portion provided in the handpiece and inserted into a body cavity, and a treatment portion provided at a distal end of the insertion portion.
The high-frequency treatment device is characterized in that the treatment section has a contact surface that contacts the diseased part, and an electrode for high-frequency ablation of the diseased part is provided on the contact surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30138399A JP2001120565A (en) | 1999-10-22 | 1999-10-22 | High frequency treatment ingredient |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30138399A JP2001120565A (en) | 1999-10-22 | 1999-10-22 | High frequency treatment ingredient |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001120565A true JP2001120565A (en) | 2001-05-08 |
Family
ID=17896220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30138399A Pending JP2001120565A (en) | 1999-10-22 | 1999-10-22 | High frequency treatment ingredient |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2001120565A (en) |
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