JP2001115288A - 含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法 - Google Patents

含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法

Info

Publication number
JP2001115288A
JP2001115288A JP29521199A JP29521199A JP2001115288A JP 2001115288 A JP2001115288 A JP 2001115288A JP 29521199 A JP29521199 A JP 29521199A JP 29521199 A JP29521199 A JP 29521199A JP 2001115288 A JP2001115288 A JP 2001115288A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
current efficiency
solution
concentration
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29521199A
Other languages
English (en)
Inventor
Izumi Sugita
泉 杉田
Isao Nishikawa
勲 西川
Shigeki Matsuki
茂喜 松木
Nobumasa Iemori
伸正 家守
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP29521199A priority Critical patent/JP2001115288A/ja
Publication of JP2001115288A publication Critical patent/JP2001115288A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Abstract

(57)【要約】 【課題】 脱銅電解工程における電流効率の向上と、こ
れによるランニングコストの低減を計ることのできる含
銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法を提供する。 【解決手段】 主としてニッケルおよび銅を含有した硫
化物、合金、スラジなどの原料を塩素で浸出し、該浸出
液からその中に存在している銅イオンの少なくとも一部
を電解採取法によって除去するニッケル塩素浸出法の脱
銅電解方法において、脱銅電解槽1槽当たりの給液量、
給液中の銅濃度および塩素浸出工程の酸化還元電位の少
なくとも3つのパラメータから前記脱銅電解の電流効率
を評価する式を予め得た後、前記脱銅電解槽1槽当たり
の給液量および塩素浸出工程の酸化還元電位をある一定
値となるように操業して、目標とする電流効率を得るた
めに必要な給液中の銅濃度を前記電流効率評価式から求
めて操業条件を変更することを特徴とするものであり、
また前記電流効率評価式から求めた給液中の銅濃度とな
るように塩素浸出工程の含銅塩化ニッケル溶液とニッケ
ル電解廃液の混合比を変更することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、銅を含有する例え
ばニッケルマットなどの金属硫化物を原料とし、塩素浸
出と電解採取によって電気ニッケルを回収するニッケル
電解精錬工程において、工程中に行われる含銅塩化ニッ
ケル溶液から銅を電解採取法によって除去する脱銅電解
方法の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高純度ニッケルは、図1に代表さ
れる工程により製造されている。すなわち、図1に従っ
てその主要工程(a)〜(e)について概要的に説明す
ると、該工程は、(a)含銅塩化ニッケル溶液中の銅を
ニッケルマット中のニッケルと置換反応させ、除銅塩化
ニッケル溶液(CML)と、含銅残渣(CMR)を得る
セメンテーション(CM)工程、(b)前記除銅塩化ニ
ッケル溶液(CML)中のコバルトなどの不純物をさら
に除去して、高純度塩化ニッケル溶液(純液)を得る浄
液工程、(c)前記高純度塩化ニッケル溶液(純液)を
電解液として用い、電解を行って高純度ニッケル(E−
Ni)を得るニッケル電解工程、とを主要な工程とし、
さらに、(d)前記工程(a)のセメンテーション(C
M)工程で得られた含銅残渣(CMR)と、ニッケルマ
ットを塩素で浸出して濾過し、濾液として含銅塩化ニッ
ケル溶液(CPL)、残渣としてさらなる濾過残渣(C
PR)を得る浸出(CP)工程、(e)該工程(d)で
得られた含銅塩化ニッケル溶液(CPL)の一部を電解
液として用い、陽極に不溶性電極、陰極にチタン電極を
用いて電解して銅粉を得、電解廃液(CuL)を前記工
程(a)に還流させてセメンテーション(CM)工程に
供給する脱銅電解工程とからなる。
【0003】なお、前記工程(c)のニッケル電解工程
で発生する塩素ガスは、電解廃液の脱塩素工程で得られ
た塩素ガスとともに塩素回収工程に送られ、回収された
塩素ガスは前記工程(d)の浸出(CP)工程に送ら
れ、また脱塩素電解廃液はニッケル原料ニッケルマット
のスラリー化のための破砕工程に供給される。
【0004】本発明は、上記高純度電気ニッケル精錬工
程中、前記工程(e)で行われる脱銅電解工程における
改善に関するものであり、該工程において銅を効率的に
除去する方法を提案するものであり、以下により詳細に
説明する。高純度電気ニッケル精錬工程中における脱銅
電解工程の意義について説明すると、図1および図2に
示すように、工程(a)のセメンテーション(CM)工
程で得られた含銅残渣(CMR)はニッケルマットスラ
リーの一部と混合されて塩素で浸出されるが、ニッケル
マット中に含まれる銅は塩素浸出液中で銅イオンとなっ
て系内に蓄積される。本発明において対象とする脱銅電
解工程はこの蓄積された余剰の銅を銅粉として除去回収
することを目的とする工程である。
【0005】脱銅電解工程の設備フローを図3に示す
と、前記工程(d)の浸出(CP)工程で得られた含銅
塩化ニッケル溶液(CPL)の一部を受入槽1に導入
し、前記工程(c)のニッケル電解工程からの電解廃液
(アノライト)により含銅塩化ニッケル溶液(CPL)
中の銅濃度を所定の基準値になるように希釈し、ヘッド
タンク2から脱銅電解槽3に給液する。そして給液の一
部はカソライトとして電解槽3よりオーバーフローさせ
て液面を一定に保持する。脱銅電解槽3内のアノードボ
ックス4から塩素ガスと廃液を同時に吸引し、気液分離
器5で塩素ガスと廃液を分離し、塩素ガスはバッファー
タンク6を経て前記浸出(CP)工程に還流させる。一
方廃液は、廃液槽7を経てカソライト中継槽8に送ら
れ、そこで廃液中の遊離塩素は、カソライト中の1価銅
イオンにより還元処理されてセメンテーション(CM)
工程に還流される。
【0006】一方脱銅電解槽3のカソード9に電着した
銅粉は、例えばエアーシリンダーを用いたビーム落下方
式などの分離手段でカソード9から分離され、レパルプ
槽10、レパルプ中継槽11を経て、遠心分離機12で
濾過、洗浄した後、系外に排出される。濾液は濾液槽1
3、14を経てその大部分は脱銅電解槽3に還流され
る。
【0007】下記する表1は、脱銅電解工程に使用され
る含銅塩化ニッケル溶液(CPL)、電解廃液(アノラ
イト)および銅濃度希釈後の給液の液組成の一例を示す
ものである。
【0008】
【表1】 (g/リットル) Ni Co Cu Fe ───────────────────────────── CPL 220 1 40 0.5 アノライト 70 0 0 0 希釈給液 201 0.87 35 0.43 ─────────────────────────────
【0009】脱銅電解工程は以上のフローにより実施さ
れているが、従来、脱銅電解工程に供給される含銅塩化
ニッケル溶液(CPL)は、塩素を使用した浸出(C
P)工程後の浸出液であるためにpHが低く、かつ酸化
性が高かったので、脱銅電解槽3で起こるカソード反応
(銅の還元析出反応)が阻害され、電流効率を悪化させ
たりするためにランニングコストが上昇するという問題
があった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ニッケルの
電解精錬の脱銅電解工程における上記の問題点を解決
し、脱銅電解の電流効率の向上と、これによるランニン
グコストの低減を計ることのできる含銅塩化ニッケル溶
液から銅を除去する脱銅電解方法を提供することを目的
とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係る含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法は、
主としてニッケルおよび銅を含有した硫化物、合金、ス
ラジなどの原料を塩素で浸出し、該浸出液からその中に
存在している銅イオンの少なくとも一部を電解採取法に
よって除去するニッケル塩素浸出法の脱銅電解方法にお
いて、脱銅電解槽1槽当たりの給液量、給液中の銅濃度
および塩素浸出工程の酸化還元電位の少なくとも3つの
パラメータから前記脱銅電解の電流効率評価する式を予
め得た後、前記脱銅電解槽1槽当たりの給液量および塩
素浸出工程の酸化還元電位をある一定値となるように操
業して、目標とする電流効率を得るために必要な給液中
の銅濃度を前記電流効率評価式から求めて操業条件を変
更することを特徴とするものであり、また前記電流効率
評価式から求めた給液中の銅濃度となるように塩素浸出
工程の含銅塩化ニッケル溶液とニッケル電解廃液の混合
比を変更することを特徴とする。
【0012】このように本発明では前記した脱銅電解槽
1槽当たりの給液量、給液中の銅濃度および塩素浸出工
程の酸化還元電位の3つのパラメータのうち、脱銅電解
槽1槽当たりの給液量および塩素浸出工程の酸化還元電
位をある一定値となるように操業するが、実用的に最も
操作し易い給液中の銅濃度を変化させることにより目標
とする電流効率を得るよう操業を行うものである。また
目標とする給液中の銅濃度を得るために、塩素浸出工程
から得られる含銅塩化ニッケル溶液(CPL)とニッケ
ル電解工程からの電解廃液(アノライト)の混合比を変
更することが好ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】通常、塩素浸出(CP)工程から
得られて脱銅電解工程に供給される含銅塩化ニッケル溶
液(CPL)中の銅イオンは1価および2価の形態で存
在している。そして脱銅電解工程においては、下記に示
す式1と式2の電解反応が起こる。
【0014】
【式1】Cu2++e=Cu
【0015】
【式2】Cu +e=Cu
【0016】このうち式1の反応が優先的に進行するた
めに、全銅中の2価の銅イオンが占める割合、すなわち
Cu2+/全Cu(以下「2価銅比」という。)が高く
なると、銅粉の電解採取に使用される電力が余分にかか
ることになり、2価の銅換算での脱銅電解のカソード電
流効率の低下を招くことになる。
【0017】この2価の銅イオンの量を決めるのは、給
液中の銅濃度と、脱銅電解槽への給液量および2価銅比
であり、塩素浸出(CP)工程で得られる含銅塩化ニッ
ケル溶液(CPL)中の2価銅比が低ければ高電流効率
が得られる。そこで本発明においては目標となる電流効
率を得るために最適な2価の銅のイオン量を制御するた
めに給液中の銅濃度を制御することにした。その理由
は、脱銅電解工程で給液量を制御するのは難しく安定し
ないことと、2価銅比を支配する塩素浸出(CP)工程
での反応条件の1つであるORP(酸化還元電位:Ag
/AgCl電極)を調整すると、浸出(CP)工程の反
応状態に影響するからである。
【0018】すなわち、図4に示すように酸化還元電位
(ORP)が上昇すると2価銅の比率が上昇する比例関
係にある。一方酸化還元電位(ORP)と脱銅電解のカ
ソード電流効率の関係は図5に示すように逆比例の関係
にあり、酸化還元電位(ORP)が上昇すると、脱銅電
解のカソード電流効率は低下する。したがって脱銅電解
工程では、浸出(CP)工程の酸化還元電位(ORP)
が低いほど(すなわち、含銅塩化ニッケル溶液(CP
L)中の2価銅の比率が低いほど)、高い電流効率を達
成することができる。
【0019】一方で塩素浸出(CP)工程において酸化
還元電位(ORP)を低くすることは、本来の目的であ
る原料ニッケルマット中のニッケルの浸出を妨げる結果
となり、ニッケルの生産効率上からは好ましくない。す
なわち酸化還元電位(ORP)が低くなればなるほど、
濾過残渣(CPR)中の残留ニッケル品位が高くなり、
浸出率が悪くなることがこれまでの操業経験から既に知
られている。したがって脱銅電解工程でのカソード電流
効率と浸出(CP)工程でのニッケル浸出率とは相反す
る関係にあるので両者を同時に満足されることは困難で
あった。
【0020】したがって2価の銅イオンの量を決定する
ファクターである給液中の銅濃度と、脱銅電解槽への給
液量および酸化還元電位(ORP)のうち、脱銅電解槽
への給液量および塩素浸出(CP)工程での酸化還元電
位(ORP)は極力一定とせざるを得ない。そこで本発
明者らは給液中の銅濃度を制御することに着目し、これ
を予め求めておいた電流効率評価式に当て嵌めて操業条
件を変更することにより高い電流効率を達成できること
を見出し本発明を完成するに至った。そして前記給液中
の銅濃度は含銅塩化ニッケル溶液(CPL)とニッケル
電解廃液(アノライト)の混合比を変えることで比較的
容易に制御できることが分かった。
【0021】すなわち、前述の表1の例に示したように
含銅塩化ニッケル溶液(CPL)の銅濃度は40g/リ
ットルであり、アノライトの銅濃度は0であり、この混
合比を操作することにより給液中の銅濃度を制御するこ
とが可能となり、これにより電流効率を向上することが
できるのである。
【0022】
【実施例】以下本発明の作用効果を確認するための実施
例について説明する。まず、通常操業における実操業デ
ータを解析して下記する式3に示す回帰式を得た。
【0023】
【式3】η=392.8−1.20(Cu濃度)−0.
445(ORP)−1.81(給液量) [式中、 η:電流効率(%) Cu濃度:g/リットル ORP(酸化還元電位):mV 給液量:リットル/分である。]
【0024】このような操業データから得られた上記式
3の妥当性を検証するために、脱電解槽1槽当たりの給
液量を極力一定とし、給液中の銅濃度および塩素浸出
(CP)工程の酸化還元電位(ORP)を変化させて操
業した場合の実操業における電流効率と、上記式3から
求められる計算電流効率とを比較して下記する表2に示
した。
【0025】
【表2】────────────────────────────── 給液量 銅濃度 ORP 実電流効率 回帰式3の電流効率 リット g/リ mV % %=(η) ル/分 ットル ───────────────────────────────── 1 18.3 31.4 509 97 95.5 2 18.4 31.2 513 93 93.8 3 18.4 26.3 498 108 106.3 4 18.4 25.8 507 101 102.9
【0026】表2から分る通り、ほぼ回帰式3による計
算電流効率は、実操業における電流効率に極めて近いこ
とが確認できた。
【0027】以下実操業における制御方法を以下に詳述
する。電流効率、塩素浸出(CP)工程の酸化還元電位
(ORP)、給液中の銅濃度および給液量の関係から得
られた上記式3に基づき下記の方法によって給液中の銅
濃度を自動で制御した。下記する式における各パラメー
タは以下の通りである。 A:給液中の銅濃度 自動計算(20〜40g/リットル) B:給液量 手入力(17〜23リットル/分) D:ORP(CP工程) 1時間間隔で自動更新 移動平均値 (450〜550mV) E:通電電流値 手入力(14〜19kA) Ζ:目標電流効率値 手入力(100〜120%) α:カラム槽でのΔORP値 手入力(0〜20) (ここでαは、本出願人が提案した特開平11−809
36号公報記載の方法により得られた脱銅電解槽に設け
られ、かつ電気ニッケル屑が装填されたカラム槽通液後
の酸化還元電位(ORP)差である。) そして計算シーケンスのフローを以下に示す。
【0028】式3(回帰式)に設定電流効率値、酸化
還元電位(ORP)の移動平均値および給液量値を入力
して下記する式4により給液中の銅濃度(A)を求め
た。
【0029】
【式4】A=(392.8−Ζ−0.045(D−α)
−1.81B)/1.2×補正係数(SCR)
【0030】ここで式4においては補正係数(SCR)
を使用しているが、式3を得るための操業条件は、通電
電流が一定値(14kA)としているため、通電電流を
変化させた場合には電着する銅量が変動した。したがっ
て通電電流値を変化させた場合は補正する必要があり、
この補正係数は実操業においては0〜1.4の間で変動
させ補正した。
【0031】上記した式4で求めた給液中の銅濃度値
(A)と上記設定電流効率値、通常電流値および給液量
値を下記する式5に入力し、カソライト銅濃度値(C)
を推定して、操業条件である10〜15g/リットルに
収まる場合は上記式4で求めた給液中の銅濃度(A)値
を採用し、設定値を変更した。もし範囲内に収まらない
場合はさらに下記する式6にて再計算を行った。
【0032】
【式5】C=A−{1.186×E/0.06(Ζ/1
00)}/B
【0033】もし上記式5で求めたカソライト銅濃度
値(C)が10g/リットル未満、もしくは15を超え
た場合は、下記する式6のカソライト銅濃度値(C)に
10未満の場合は10、一方15を超えた場合は15を
入力し、給液中の銅濃度値(A)を再計算させその数値
を採用した。
【0034】
【式6】A=(B×C−0.0897×(D−α)×E
+73.67×E/(B+0.2744×E)
【0035】上記式5および式6は式4において極力目
標とする電流効率値(Ζ)となるよう給液中の銅濃度
(A)を算出することとしたが、算出された操業条件が
実用困難な操業とならないよう上記式6においてはカソ
ライト銅濃度値(C)に上下限の制限を設け、操業可能
な条件であることを確認した。またカソライト銅濃度値
が上下限を外れた場合は、カソライトの上下限を採用し
て給液中の銅濃度値(A)を決定して操業した。
【0036】ここで給液中の銅濃度の自動制御を行う前
と自動制御を開始した後との電流効率を調査した結果を
図6に示した。図6から明らかな通り給液中の銅濃度の
自動制御を開始した後は、塩素浸出(CP)工程におけ
る反応槽の酸化還元電位(ORP)の変動幅が自動制御
開始前より大きい(実施前の標準偏差σ=7.23、実
施後の標準偏差σ=8.52)にも拘らず、脱銅電解カ
ソード電流効率の変動幅を小さく安定して推移させるこ
とができた(実施前の標準偏差σ=3.74、実施後の
標準偏差σ=1.08)。
【0037】
【発明の効果】以上述べた通り本発明によれば、脱銅電
解工程における電流効率の向上と、これによるランニン
グコストの低減を計ることのできる含銅塩化ニッケル溶
液の脱銅電解方法を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】高純度ニッケル精錬のプロセスフロー図であ
る。
【図2】脱銅電解工程の意義を示すための説明図であ
る。
【図3】脱銅電解工程における装置のフロー図である。
【図4】浸出(CP)工程での酸化還元電位(mV;A
g/AgCl電極)と浸出反応液中の2価銅比(%)と
の関係を示す相関図である。
【図5】浸出(CP)工程での酸化還元電位(mV;A
g/AgCl電極)と脱銅電解工程におけるカソード電
流効率との関係を示す相関図である。
【図6】浸出(CP)反応槽の最終酸化電位電位(OP
R)値と脱銅電解カソード電流効率の推移を示す相関図
である。
【符号の説明】
1 受入槽 2 ヘッドタンク 3 脱銅電解槽 4 アノードボックス 5 気液分離器 6 バッファータンク 7 廃液槽 8 カソライト中継槽 9 カソード 10 レパルプ槽 11 レパルプ中継槽 12 遠心分離機 13、14 濾液槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 茂喜 愛媛県新居浜市西原町3−5−3 住友金 属鉱山株式会社別子事業所内 (72)発明者 家守 伸正 愛媛県新居浜市西原町3−5−3 住友金 属鉱山株式会社別子事業所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主としてニッケルおよび銅を含有した硫
    化物、合金、スラジなどの原料を塩素で浸出し、該浸出
    液からその中に存在している銅イオンの少なくとも一部
    を電解採取法によって除去するニッケル塩素浸出法の脱
    銅電解方法において、脱銅電解槽1槽当たりの給液量、
    給液中の銅濃度および塩素浸出工程の酸化還元電位の少
    なくとも3つのパラメータから前記脱銅電解の電流効率
    評価する式を予め得た後、前記脱銅電解槽1槽当たりの
    給液量および塩素浸出工程の酸化還元電位をある一定値
    となるように操業して、目標とする電流効率を得るため
    に必要な給液中の銅濃度を前記電流効率評価式から求め
    て操業条件を変更することを特徴とする含銅塩化ニッケ
    ル溶液の脱銅電解方法。
  2. 【請求項2】 前記電流効率評価式から求めた給液中の
    銅濃度となるように塩素浸出工程の含銅塩化ニッケル溶
    液とニッケル電解廃液の混合比を変更することを特徴と
    する請求項1記載の脱銅電解方法。
JP29521199A 1999-10-18 1999-10-18 含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法 Pending JP2001115288A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29521199A JP2001115288A (ja) 1999-10-18 1999-10-18 含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29521199A JP2001115288A (ja) 1999-10-18 1999-10-18 含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001115288A true JP2001115288A (ja) 2001-04-24

Family

ID=17817651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29521199A Pending JP2001115288A (ja) 1999-10-18 1999-10-18 含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001115288A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012524164A (ja) * 2009-04-16 2012-10-11 ルシェルシュ 2000 インコーポレイテッド 電解装置の単一セル電流効率のための方法及びシステム
JP2016089259A (ja) * 2014-11-11 2016-05-23 住友金属鉱山株式会社 脱銅電解工程の給液装置
JP2017155342A (ja) * 2017-05-19 2017-09-07 住友金属鉱山株式会社 ニッケル塩素浸出工程における塩素浸出液の銅濃度の調整方法
CN107858529A (zh) * 2017-09-28 2018-03-30 上海至铂环保科技服务有限公司 用离子交换污泥制备高纯镍和碳酸镍的方法
CN112981458A (zh) * 2021-02-04 2021-06-18 中国科学院兰州化学物理研究所 一种调控镍扣外观光亮度的方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012524164A (ja) * 2009-04-16 2012-10-11 ルシェルシュ 2000 インコーポレイテッド 電解装置の単一セル電流効率のための方法及びシステム
EP2419550A4 (en) * 2009-04-16 2016-06-08 Rech 2000 Inc METHOD AND SYSTEM FOR DETERMINING THE EFFECTIVENESS OF ELECTROLYSIS SINGLE CELL
JP2016089259A (ja) * 2014-11-11 2016-05-23 住友金属鉱山株式会社 脱銅電解工程の給液装置
JP2017155342A (ja) * 2017-05-19 2017-09-07 住友金属鉱山株式会社 ニッケル塩素浸出工程における塩素浸出液の銅濃度の調整方法
CN107858529A (zh) * 2017-09-28 2018-03-30 上海至铂环保科技服务有限公司 用离子交换污泥制备高纯镍和碳酸镍的方法
CN107858529B (zh) * 2017-09-28 2019-10-29 上海至铂环保科技服务有限公司 用离子交换污泥制备高纯镍和碳酸镍的方法
CN112981458A (zh) * 2021-02-04 2021-06-18 中国科学院兰州化学物理研究所 一种调控镍扣外观光亮度的方法
CN112981458B (zh) * 2021-02-04 2022-05-17 中国科学院兰州化学物理研究所 一种调控镍扣外观光亮度的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4999108B2 (ja) 金の浸出方法
JP5237120B2 (ja) 金回収方法
EP1434893B1 (en) Zinc recovery process
US9630844B2 (en) Hydrometallurgical process for the recovery of tellurium from high lead bearing copper refinery anode slime
AU2011339119A1 (en) Electrorecovery of gold and silver from thiosulphate solutions
EA021918B1 (ru) Способ и устройство для получения металлического порошка
JP3427879B2 (ja) 含銅塩化ニッケル溶液からの銅の除去方法
JP3896107B2 (ja) 隔膜電解方法
JP2001115288A (ja) 含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法
US7138005B2 (en) Nickel refining method
JP2008240009A (ja) ニッケル硫化物の塩素浸出方法
JPH10140257A (ja) 塩素浸出電解採取法によるニッケルの湿式精錬方法
JP6662230B2 (ja) 高純度インジウムの製造方法
JP3243929B2 (ja) 脱銅電解液の銅イオン濃度の調節方法
JP2001262389A (ja) 脱銅電解における給液調整方法
JP6172526B2 (ja) ニッケル塩素浸出工程における塩素浸出液の銅濃度の調整方法
JP2009167451A (ja) 銅の電解採取方法
CA2136052A1 (en) Process for the electrochemical dissolution of sulfur-containing and/or concentrated minerals by ion-exchange membranes and potential differences
Roux et al. Cu-removal from the Skorpion circuit using EMEW technology
JP2003183871A (ja) 高純度錫の電解精製方法とその装置
KR20200064668A (ko) 염화동 용액을 사용한 전기분해에 의해 귀금속 함유 조금속으로부터 동 및 귀금속을 회수하는 방법
JP6743667B2 (ja) 脱銅電解設備、および脱銅電解方法
JP7022332B2 (ja) 脱銅電解処理方法、脱銅電解処理装置
JP6332523B2 (ja) ニッケル塩素浸出工程における塩素浸出液の銅濃度の調整方法
JP2011042820A (ja) 硫黄含有電気ニッケルの製造方法