JP2001105562A - Method of making plate - Google Patents

Method of making plate

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JP2001105562A
JP2001105562A JP28993299A JP28993299A JP2001105562A JP 2001105562 A JP2001105562 A JP 2001105562A JP 28993299 A JP28993299 A JP 28993299A JP 28993299 A JP28993299 A JP 28993299A JP 2001105562 A JP2001105562 A JP 2001105562A
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JP
Japan
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plate
plating
laser
roll
laser ablation
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JP28993299A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Onuma
浩司 大沼
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Think Laboratory Co Ltd
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Think Laboratory Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plat-making process dispensing with procedural steps such as plating, grind stone polishing, mirror finishing by buffing, coating/ forming of a photosensitive film, developing, etching and resist peeling by performing laser abrasion and chromium plating for the coating film. SOLUTION: A chromium plating is removed from a used printing roll and a coating film consisting of a laser abrasion material is removed by grind stone polishing to obtain a printing roll base material to be used repeatedly as a base material to be used for plate-making. In addition, the coating film for forming a printing plate is formed on the surface of the base material using the laser abrasion material which can be laser-abraded and chromium-plated so that the coating film is of a specified thickness such as not allowing the exposure of the base material to be used for plate-making when the coating film is laser-abraded. After that, a part corresponding to the image line part is irradiated with laser beams and the coating film part of the laser-emitted part is laser-abraded to form an intaglio or a relief-printing plate. Finally the printing plate is chromium-plated so that plate wear is imparted to the plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、被膜を形成しレ
ーザーアブレーションとクロムメッキを行うことによ
り、メッキ工程、砥石研磨工程、バフ研磨による鏡面加
工工程、感光膜の塗布形成の工程、現像工程、エッチン
グ工程、レジスト剥離工程が不要とした凹版又は凸版を
得る製版方法に関する。
The present invention relates to a plating step, a grinding stone polishing step, a mirror polishing step by buffing, a coating and forming step of a photosensitive film, a developing step, by forming a film and performing laser ablation and chromium plating. The present invention relates to a plate making method for obtaining an intaglio or letterpress in which an etching step and a resist stripping step are unnecessary.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のエッチング法によるグラビア製版
方法であって、バラードメッキ形のグラビア製版方法
は、例えば、以下の1)〜13) の工程により製作される。 1)バラードメッキをタガネとペンチを用いて人手により
切り裂き除去。 2)印刷ロールの一端から他端までの三箇所ないし五箇所
を直径計測し、真円精度が低いロールと円筒精度が低い
ロールを排除する。 3)剥離性表面処理を施してから膜厚が60〜80μm位とな
るようにバラードメッキする。 4)#800〜#1200 の中仕上げ砥石でメッキ地肌を除去する
円筒研磨をする。 5)#1500 〜#4000 の上仕上げ砥石で表面粗さを微少化す
る研磨をする。 6)バフで鏡面研磨する。 7)ネガ型の透明な感光膜を塗布する。 8)アルゴンレーザにより非画線部分を露光硬化する。 9)アルカリ現像して未露光部分のレジストを除去して銅
メッキが露出した画線部を形成する。 10)希硫酸で銅露出面をエッチングしてセルを形成す
る。 11)強アルカリ溶液でレジスト剥離する。 12)クロムメッキする。 13)クロムメッキのバリ取りをする。
2. Description of the Related Art A gravure plate making method by a conventional etching method, which is a ballad plating type gravure plate making method, is manufactured by, for example, the following steps 1) to 13). 1) Ballad plating is cut and removed by hand using wrench and pliers. 2) Measure the diameter of three to five points from one end to the other end of the printing roll, and eliminate the roll with low roundness accuracy and the roll with low cylindrical accuracy. 3) After performing the releasable surface treatment, ballad plating is performed so that the film thickness is about 60 to 80 μm. 4) Polish the cylinder to remove the plating surface with a medium finishing whetstone # 800 to # 1200. 5) Polish with # 1500 to # 4000 top finish whetstone to minimize surface roughness. 6) Mirror polishing with buff. 7) Apply a negative transparent photosensitive film. 8) The non-image area is exposed and cured by an argon laser. 9) Remove the unexposed resist by alkali development to form an image area where copper plating is exposed. 10) Etch the exposed copper surface with dilute sulfuric acid to form cells. 11) Strip resist with strong alkaline solution. 12) Plate with chrome. 13) Deburr the chrome plating.

【0003】又、従来のエッチング法によるグラビア製
版方法であって、直版形のグラビア製版方法は、例え
ば、以下の1)〜16) の工程により製作される。 1)クロムメッキを希硫酸の水溶液によりエッチング除
去。 2)印刷ロールの一端から他端までの三箇所ないし五箇所
を直径計測し、真円精度が低いロールと円筒精度が低い
ロールを排除する。 3)#350の粗仕上げ砥石で精密な円筒精度にする補正研磨
をする。 4)同一番手の粗仕上げ砥石で最大深さのセルが無くなる
まで落版研磨をする。5)#500の粗仕上げ砥石、#800の粗
仕上げ砥石で順に表面粗さを微少化する研磨をする。 6)メッキ厚が15μm 位になるようにニッケルメッキして
から、メッキ厚が60μm〜80μm 位になるように銅メッ
キする。 7)#800〜#1200 の中仕上げ砥石でメッキ地肌を除去する
円筒研磨をする。 8)#1500 〜#4000 の上仕上げ砥石で表面粗さを微少化す
る研磨をする。 9)バフで鏡面研磨する。 10)ネガ型の透明な感光膜を塗布する。 11)アルゴンレーザにより非画線部分を露光硬化する。 12)アルカリ現像して未露光部分のレジストを除去して
銅メッキが露出した画線部を形成する。 13)希硫酸で銅露出面をエッチングしてセルを形成す
る。 14)強アルカリ溶液でレジスト剥離する。 15)クロムメッキする。 16)クロムメッキのバリ取りをする。
A gravure plate making method using a conventional etching method, which is a direct plate type gravure plate making method, is manufactured by, for example, the following steps 1) to 16). 1) The chromium plating is removed by etching with an aqueous solution of dilute sulfuric acid. 2) Measure the diameter of three to five points from one end to the other end of the printing roll, and eliminate the roll with low roundness accuracy and the roll with low cylindrical accuracy. 3) Perform corrective polishing to achieve precise cylindrical accuracy with a # 350 rough finish whetstone. 4) Using the same coarse finishing whetstone, perform plate drop polishing until the cells with the maximum depth are eliminated. 5) Polish the surface with a coarse finishing whetstone of # 500 and a rough finishing whetstone of # 800 in order to reduce the surface roughness. 6) Nickel plating so that the plating thickness is about 15 μm, and then copper plating so that the plating thickness is about 60 μm to 80 μm. 7) Polish the cylinder with a semi-finishing whetstone # 800 to # 1200 to remove the plating surface. 8) Polish the surface with # 1500 to # 4000 top finish whetstone to minimize surface roughness. 9) Mirror polishing with buff. 10) Apply a negative transparent photosensitive film. 11) The non-image area is exposed and hardened by an argon laser. 12) Remove the unexposed resist by alkali development to form an image area where copper plating is exposed. 13) Etch the exposed copper surface with dilute sulfuric acid to form cells. 14) Strip resist with strong alkaline solution. 15) Chrome plating. 16) Deburr chrome plating.

【0004】又、従来の電子彫刻機によるグラビア製版
方法は、例えば、以下の1)〜12) の工程により製作され
る。 1)クロムメッキを希硫酸の水溶液によりエッチング除
去。 2)印刷ロールの一端から他端までの三箇所ないし五箇所
を直径計測し、真円精度が低いロールと円筒精度が低い
ロールを排除する。 3)#350の粗仕上げ砥石で精密な円筒精度にする補正研磨
をする。 4)同一番手の粗仕上げ砥石で最大深さのセルが無くなる
まで落版研磨をする。5)#500の粗仕上げ砥石、#800の粗
仕上げ砥石で順に表面粗さを微少化する研磨をする。 6)メッキ厚が15μm 位になるようにニッケルメッキして
から、メッキ厚が80μm〜100 m 位になるように銅メッ
キする。 7)#800〜#1200 の中仕上げ砥石でメッキ地肌を除去する
円筒研磨をする。 8)#1500 〜#4000 の上仕上げ砥石で表面粗さを微少化す
る研磨をする。 9)バフで鏡面研磨する。 10)電子彫刻機によりセルを形成する。 11)クロムメッキする。 12)クロムメッキのバリ取りをする。
A gravure plate making method using a conventional electronic engraving machine is manufactured by, for example, the following steps 1) to 12). 1) The chromium plating is removed by etching with an aqueous solution of dilute sulfuric acid. 2) Measure the diameter of three to five points from one end to the other end of the printing roll, and eliminate the roll with low roundness accuracy and the roll with low cylindrical accuracy. 3) Perform corrective polishing to achieve precise cylindrical accuracy with a # 350 rough finish whetstone. 4) Using the same coarse finishing whetstone, perform plate drop polishing until the cells with the maximum depth are eliminated. 5) Polish the surface with a coarse finishing whetstone of # 500 and a rough finishing whetstone of # 800 in order to reduce the surface roughness. 6) Nickel plating so that the plating thickness is about 15 μm, and then copper plating so that the plating thickness is about 80 μm to 100 m. 7) Polish the cylinder with a semi-finishing whetstone # 800 to # 1200 to remove the plating surface. 8) Polish the surface with # 1500 to # 4000 top finish whetstone to minimize surface roughness. 9) Mirror polishing with buff. 10) Form cells with an electronic engraving machine. 11) Chrome plating. 12) Deburr chrome plating.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のエッチング法に
よるグラビア製版方法に対する問題点としては、 (1) 銅メッキの除去( バラードメッキ又は落版研磨)と
再使用のための銅メッキが行われていたので、不経済で
あった。 (2) 砥石研磨の工程数が多かった。 (3) 砥石研磨が良好に行なえず、ピッチ目が生じてい
た。 ピッチ目とは、表面粗さが均一であるにも係わらずネジ
山のように螺旋状に高い部分と低い部分が形成されてい
るため高精密印刷を行うと幅3〜5ミリ位の縞であって
縞の長尺方向がロール面長方向となって現れる模様のこ
とである。 (4) バフ研磨により鏡面研磨が行なわれていた。 (5) 感光膜塗布−画像焼付−現像−エッチングの工程を
行なっていたが、感光膜の膜厚が2μmと4μmとでは
レーザ光に対する感光特性が大きく異なり、現像残滓が
残ったり、サイドエッチが大きく生じるといった感敏性
があった。又、従来の電子彫刻機によるグラビア製版方
法に対する問題点としては、 (1) 銅メッキの除去( 落版研磨) と再使用のための銅メ
ッキが行われていたので、不経済であった。 (2) 砥石研磨の工程数が多かった。 (3) 砥石研磨が良好に行なえず、ピッチ目が生じてい
た。 (4) バフ研磨により鏡面研磨が行なわれていた。
Problems with the conventional gravure plate making method by the etching method are as follows. (1) Removal of copper plating (ballard plating or plate drop polishing) and copper plating for reuse are performed. Was uneconomical. (2) The number of grinding steps was large. (3) The grinding stone could not be satisfactorily polished, and pitch lines were formed. The pitch is defined as a spiral with a high and a low part formed like a screw thread, even though the surface roughness is uniform. This means that the long direction of the stripe appears as the roll surface length direction. (4) Mirror polishing was performed by buffing. (5) Photosensitive film coating-image printing-development-etching steps were performed. However, when the thickness of the photosensitive film was 2 .mu.m and 4 .mu.m, the photosensitive characteristics with respect to laser light differed greatly, leaving development residues or side etch. There was a sensitivity that it occurred greatly. In addition, there are problems with the conventional gravure plate making method using an electronic engraving machine: (1) copper plating for removal (plate drop polishing) and copper plating for re-use were performed, which was uneconomical. (2) The number of grinding steps was large. (3) The grinding stone could not be satisfactorily polished, and pitch lines were formed. (4) Mirror polishing was performed by buffing.

【0006】ここで、円筒研磨に関しては、グラビアシ
リンダーの銅メッキ表面の超精密加工機械として市販さ
れているポリッシュマスター(商品名、ドイツ/デトワ
イラー社製)がある。この機械は、被製版ロールを両端
チャックして非常に小さい速度で回転させ(1〜10r.p.
m )、ダイヤモンド工具を非常に速い速度で回転させ
(3800r.p.m )、ダイヤモンド工具の仕上げ切削を非常
に小さい速度で移動させ(50〜125mm/min )、もって円
筒切削加工するものである。これによると、表面粗さは
約0.3 μm であり十分な精度が得られるが、うねり(ピ
ッチ目)が約1.5 μmと極めて大きい。すなわち、ポリ
ッシュマスターにより落版研磨し補正研磨した後、一端
から他端まで均一に円筒加工すると、ピッチ目が生じ
る。ポリッシュマスターによる円筒加工したものはうね
りが大きいので、ハイライトからハーフトーンの画像か
らなるカレンダー印刷では、印刷物にピッチ目が顕著に
現れてとても商品にはならない。又、表面粗さを微少化
するができない。ポリッシュマスターによる円筒加工で
ピッチ目が生じたシリンダーは、銅メッキしてもピッチ
目が残る。又、ポリッシュマスターにより円筒加工した
ものにバフ研磨を行ってもピッチ目を消すことができな
い。従って、ポリッシュマスターは、ハイライトからハ
ーフトーンの画像からなるカレンダー印刷に供しうるシ
リンダーの円筒加工には使用されていない。
Here, as for the cylindrical polishing, there is a polish master (trade name, manufactured by Detoweiler GmbH, Germany) which is commercially available as an ultra-precision processing machine for the copper plating surface of a gravure cylinder. In this machine, the plate roll is chucked at both ends and rotated at a very low speed (1 to 10 r.p.
m), the diamond tool is rotated at a very high speed (3800 rpm), and the finish cutting of the diamond tool is moved at a very small speed (50-125 mm / min) to perform cylindrical cutting. According to this, the surface roughness is about 0.3 μm and sufficient accuracy can be obtained, but the waviness (pitch) is extremely large at about 1.5 μm. That is, when the plate is ground and corrected and polished by the polish master and then cylindrically processed uniformly from one end to the other end, a pitch is generated. Since the cylinder processed by the polished master has large undulation, pitch printing appears remarkably in printed matter in calendar printing consisting of highlights and halftone images, and it is not a very commercial product. Further, the surface roughness cannot be reduced. In the cylinder where the pitch is generated by the cylindrical processing by the polish master, the pitch remains even after copper plating. Also, even if buffing is performed on a cylinder processed by a polish master, the pitch cannot be eliminated. Therefore, the polish master has not been used for cylindrical machining of a cylinder that can be used for calendar printing consisting of highlight to halftone images.

【0007】本願発明は、上述した点に鑑み案出したも
ので、被膜を形成しレーザーアブレーションとクロムメ
ッキを行うことにより、メッキ工程、砥石研磨工程、バ
フ研磨による鏡面加工工程、感光膜の塗布形成の工程、
現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程が不要と
した凹版又は凸版を得る製版方法を提供することを目的
としている。
The present invention has been devised in view of the above points, and forms a coating film and performs laser ablation and chromium plating to form a plating process, a grindstone polishing process, a mirror polishing process by buff polishing, and a coating of a photosensitive film. Forming process,
It is an object of the present invention to provide a plate making method for obtaining an intaglio or letterpress in which a developing step, an etching step, and a resist peeling step are unnecessary.

【0008】又、本願発明は、印刷ロールの製作会社
が、使用済みの印刷ロールに対して、クロムメッキを除
去してからレーザアブレーション材料からなる被膜を除
去して再度、レーザアブレーション材料からなる被膜を
形成すれば、製版会社又は印刷会社に出荷することがで
き、製版会社又は印刷会社においては、ヤグレーザ装置
とクロムメッキ装置を設備しておいてレーザーアブレー
ションとクロムメッキを行うだけで凹版又は凸版を製作
できる極めて簡便な製版方法を提供することを目的とし
ている。
Further, the present invention provides a printing roll manufacturing company, which removes a chromium plating from a used printing roll, removes a coating made of a laser ablation material, and again forms a coating made of a laser ablation material. Can be shipped to a plate-making company or printing company.In the plate-making company or printing company, intaglio or letterpress printing is performed only by performing laser ablation and chrome plating with a yag laser device and chrome plating device installed. It is intended to provide an extremely simple plate making method that can be manufactured.

【0009】又、本願発明は、一回のリサイクル製版に
おけるロール研磨によるロール径の縮径値が極めて小さ
く抑えられ、十数回リサイクル製版したときに砥石研磨
によるロール径の累積縮径値が大きくなり、十数回に一
回だけ、銅メッキを行なって砥石円筒研磨して最初のロ
ール径に拡径するようにすればリサイクルの度に足り、
従来のようにリサイクル製版の度に厚くメッキして砥石
円筒研磨・鏡面研磨を行なう必要がない製版方法を提供
することを目的としている。
Further, according to the present invention, the diameter reduction of the roll diameter due to the roll polishing in one recycling plate making is extremely small, and the accumulated diameter reduction value of the roll diameter by the grinding stone polishing becomes large when the recycle plate making is performed more than ten times. Once, once every ten or more times, if copper plating is performed and the grindstone cylinder is polished and expanded to the initial roll diameter, it is sufficient for recycling.
It is an object of the present invention to provide a plate making method that eliminates the need to perform grinding cylinder grinding and mirror polishing by thick plating each time a plate is recycled as in the related art.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願第一の発明は、導電
性の被製版基材の面に、クロムメッキが可能なレーザア
ブレーション材料により、レーザアブレーションしたと
きに被製版基材の面が露出しない所要の膜厚となるよう
に版形成用被膜を形成し、次いで、レーザ光を画線部に
対応する部分に照射してそこの被膜部分をアブレーショ
ンして凹版又は凸版を形成し、次いで、耐刷力を付与す
るためのクロムメッキを形成することを特徴とする製版
方法を提供するものである。
According to a first aspect of the present invention, a surface of a plate-making base material is exposed when laser ablation is performed on a surface of a conductive plate-making base material with a laser ablation material capable of chrome plating. Form a coating for plate formation so as not to have the required film thickness, then irradiate the laser light to the portion corresponding to the image portion, ablate the coating portion there to form an intaglio or letterpress, It is an object of the present invention to provide a plate making method characterized by forming chromium plating for imparting printing durability.

【0011】本願第二の発明は、使用済みの印刷ロール
のクロムメッキを除去し、次いでレーザアブレーション
材料からなる被膜を除去して再使用する印刷基材ロール
とし、該基材面に、クロムメッキが可能なレーザアブレ
ーションが可能なレーザアブレーション材料により、レ
ーザアブレーションしたときに被製版基材の面が露出し
ない所要の膜厚となるように版形成用被膜を形成し、次
いで、レーザ光を画線部に対応する部分に照射してそこ
の被膜部分をアブレーションして凹版又は凸版を形成
し、次いで、耐刷力を付与するためのクロムメッキを形
成することを特徴とする製版方法を提供するものであ
る。
[0011] The second invention of the present application is to provide a printing substrate roll to be reused by removing chromium plating of a used printing roll and then removing a film made of a laser ablation material. By using a laser ablation material capable of performing laser ablation, a plate-forming film is formed so as to have a required film thickness so that the surface of the plate-making base material is not exposed when laser ablation is performed. Providing a plate-making method characterized by irradiating a portion corresponding to a portion to ablate a coating portion thereof to form an intaglio or letterpress, and then forming chrome plating for imparting printing durability. It is.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本願発明のグラビア版の製作方法
は、以下の第一乃至第八の工程により製作する。この工
程はリサイクル工程である。最初の製版は第一から第三
の工程は省かれる。使い捨ての版も同様に省かれる。 第一の工程・・・クロムメッキの除去。 第二の工程・・・溶剤による版形成被膜の除去/反復使
用する被製版基材である印刷基材ロールとする。 第三の工程・・・直径計測・精度不良ロールの排除。 第四の工程・・・濡れ性表面処理を施す。 第五の工程・・・レーザアブレーション被膜の形成。 第六の工程・・・レーザーアブレーションによる凹版又
は凸版の形成。 第七の工程・・・クロムメッキ 第八の工程・・・サンドペーパー掛け・クロムメッキの
バリ取り 以下、各工程を詳述する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method of manufacturing a gravure plate of the present invention is manufactured by the following first to eighth steps. This step is a recycling step. For the first plate making, the first to third steps are omitted. Disposable versions are also omitted. First step: removal of chrome plating. Second step: Removal of a plate-forming coating by a solvent / a printing substrate roll which is a plate-making substrate to be repeatedly used. Third step: Diameter measurement and elimination of inaccurate rolls. Fourth step: a wettability surface treatment is performed. Fifth step: formation of a laser ablation film. Sixth step: formation of intaglio or letterpress by laser ablation. Seventh step: chrome plating Eighth step: sandpapering / deburring of chrome plating Each step will be described in detail below.

【0013】第一のクロムメッキの除去の工程は、使用
済み印刷ロールを希硫酸によりエッチングしてクロムメ
ッキを除去する。レーザアブレーション材料は除去でき
ない。印刷会社から使用済み印刷ロールを引き受けて、
該使用済み印刷ロールを両端チャックし回転してタンク
内の希硫酸に数分浸漬すればクロムメッキを除去でき
る。なお、ロール版のみでなく、平版にも適用される。
In the first step of removing the chromium plating, the used printing roll is etched with dilute sulfuric acid to remove the chromium plating. Laser ablation material cannot be removed. Take the used print roll from the printing company,
If the used printing roll is chucked at both ends, rotated and immersed in dilute sulfuric acid in a tank for several minutes, chromium plating can be removed. In addition, it applies to not only the roll plate but also the plan plate.

【0014】第二の工程の版形成被膜の除去の工程は、
レーザアブレーション材料を砥石研磨により除去する。
レーザアブレーション材料は溶剤では除去できない。#
4000〜#6000の上仕上げ用又は精密仕上げ用のPVA砥
石により、レーザアブレーション材料が無くなり銅メッ
キ面が完全に露出するだけの研磨で足りる。銅メッキ面
の研磨を5μm未満に抑える。研磨方法は、例えば#60
00のPVA砥石により、砥石の回転軸の延長線が被製版
ロールの回転軸線に交わらないようにしてかつ砥石の回
転軸の延長線と被製版ロールの回転軸線を平面方向より
見て砥石の回転軸の延長線が被製版ロールの回転軸線に
対し直角より微小角度傾いた交差状態であることによ
り、砥石の端面の中心孔を外れた直径線に平行する弦線
の約半分を被製版ロールの母線に接触させる状態にし
て、被製版ロールの回転数を精密仕上げ研磨時よりも大
きくし砥石を被製版ロールに精密仕上げ研磨時の研磨圧
力で押付けて、被製版ロールの回転に砥石を連れ回りさ
せて該砥石を被製版ロールの面長方向に移動して行うこ
とが好ましく、或いは#4000のPVA砥石により、砥石
の回転軸の延長線が被製版ロールの回転軸線に交わらな
いようにしてかつ砥石の回転軸の延長線と被製版ロール
の回転軸線を平面方向より見て砥石の回転軸の延長線が
被製版ロールの回転軸線に対する直角な交差状態である
ことにより、砥石の端面の中心孔を外れた直径線に平行
する弦線を被製版ロールの母線に接触させる状態で行う
表面粗さ微小化研磨を施すのが良い。
The step of removing the plate-forming film in the second step is as follows:
The laser ablation material is removed by grinding.
Laser ablation materials cannot be removed with solvents. #
With a PVA grindstone for finishing or precision finishing of 4000 to # 6000, it is enough to polish the laser ablation material and to completely expose the copper plating surface. Polishing of the copper plating surface is suppressed to less than 5 μm. Polishing method is, for example, # 60
The PVA grinding wheel of 00 prevents the extension of the rotation axis of the grinding wheel from intersecting with the rotation axis of the plate-making roll, and the rotation of the grinding wheel when viewing the extension of the rotation axis of the grinding wheel and the rotation axis of the plate-making roll from a plane direction. Since the extension line of the shaft is in a crossed state inclined at an angle smaller than a right angle with respect to the rotation axis of the plate making roll, about half of the chord line parallel to the diameter line which is off the center hole of the end face of the grinding wheel is used for the plate making roll. Make the plate making contact with the bus bar, increase the rotation speed of the plate making roll from the time of precision finishing polishing, press the grindstone against the plate making roll at the polishing pressure at the time of precision finishing polishing, and follow the grinding wheel with the rotation of the plate making roll. It is preferable that the grinding wheel is moved in the direction of the surface length of the plate making roll, or is performed by using a # 4000 PVA grinding wheel so that the extension of the rotation axis of the grinding wheel does not cross the rotation axis of the plate making roll and Whetstone When the extension line of the rotation axis and the rotation axis of the plate-making roll are viewed from the plane, the extension line of the rotation axis of the grinding wheel is perpendicular to the rotation axis of the plate-making roll. It is preferable to perform polishing to reduce the surface roughness, which is performed in a state in which a chord line parallel to the diameter line is brought into contact with the generatrix of the plate-making roll.

【0015】第三のロール直径計測・精度不良のロール
の排除の工程は、印刷基材ロールをロール直径計測装置
の装着し、印刷基材ロールの一端から他端まで一定ピッ
チ毎に、例えば10mmピッチ毎に、例えば5μm単位
の精度で直径計測する(図示しない)。この計測の結
果、真円精度が低いロールと円筒精度が低いロールはリ
サイクルに適さないので排除する。
In the third step of measuring the roll diameter and eliminating the roll having an inaccurate accuracy, the printing substrate roll is mounted on a roll diameter measuring device, and from one end to the other end of the printing substrate roll at a constant pitch, for example, 10 mm. For each pitch, the diameter is measured with an accuracy of, for example, 5 μm (not shown). As a result of this measurement, a roll having a low roundness accuracy and a roll having a low cylindrical accuracy are not suitable for recycling and are therefore excluded.

【0016】第四の濡れ性表面処理を施す工程は、例え
ば、0.15%のシランカップリング剤の水溶液、或いは蒸
留水に少量のアンモニアを混ぜた液をを撒布して乾燥す
る。
In the step of performing the fourth wettability surface treatment, for example, a 0.15% aqueous solution of a silane coupling agent or a mixed solution of a small amount of ammonia and distilled water is sprayed and dried.

【0017】第五のメッキ可能なレーザアブレーション
被膜の形成の工程は、ヤグレーザやエキシマレーザ等に
より、レーザアブレーションが可能でかつ導電性を有し
ていてクロムメッキが可能な材料をディッピング法やス
キャンコート法(特願平1−246049号)等によって30μ
m〜40μmの厚みとなるように均一に塗布して乾固す
る。 (1)クロムメッキが可能なレーザアブレーション材料と
して、例えば、体積比でバインダーポリマー(5 %)と
光開始剤(10%)と光重合性又は光架橋性を有するモノ
マー(5 %)と粒径が1〜2μm位の亜鉛末(70〜60
%)とカーボンブラック(10〜20%)を、ペイント塗料
と同程度の粘性となるように溶剤に分散した粘性液を使
用する場合は、塗布した後にUV光線を照射して速乾で
きる。 (2)クロムメッキが可能なレーザアブレーション材料と
して、例えば、体積比でバインダーポリマー(5 %)と
光開始剤(10%)と光重合性又は光架橋性を有するモノ
マー(5 %)と粒径が1〜2μm位の亜鉛末(80%)
を、ペイント塗料と同程度の粘性となるように溶剤に分
散した粘性液を使用する場合は、塗布した後にUV光線
を照射して速乾できる。 (3)クロムメッキが可能なレーザアブレーション材料と
して、例えば、体積比でバインダーポリマー(5 %)と
光開始剤(10%)と光重合性又は光架橋性を有するモノ
マー(5 %)とカーボンブラック(80%)を、ペイント
塗料と同程度の粘性となるように溶剤に分散した粘性液
を使用する場合は、塗布した後にUV光線を照射して速
乾できる。 (4)クロムメッキが可能なレーザアブレーション材料と
して、例えば、体積比でバインダーポリマー( 5〜8
%)と乾燥促進剤(2%)と粒径が1〜2μm位の亜鉛
末(83〜70%)とカーボンブラック(10〜20%)を、ペ
イント塗料と同程度の粘性となるように溶剤に分散した
粘性液を使用する場合は、塗布した後に熱風を当てて速
乾できる。 (5)クロムメッキが可能なレーザアブレーション材料と
して、例えば、体積比でバインダーポリマー( 5〜8
%)と乾燥促進剤(2%)と粒径が1〜2μm位の亜鉛
末(93〜90%)を、ペイント塗料と同程度の粘性となる
ように溶剤に分散した粘性液を使用する場合は、塗布し
た後に熱風を当てて速乾できる。 (6)クロムメッキが可能なレーザアブレーション材料と
して、例えば、体積比でバインダーポリマー(5〜8
%)と乾燥促進剤(2%)とカーボンブラック(93〜90
%)を、ペイント塗料と同程度の粘性となるように溶剤
に分散した粘性液を使用する場合は、塗布した後に熱風
を当てて速乾できる。速乾性は本願発明の構成要件では
ないが、レーザアブレーションしたときに被製版基材の
面が露出しない例えば30〜40μm膜厚となるように版形
成用被膜を形成するので、乾固する時間を短くするため
に、光開始剤及びモノマー又は乾燥促進剤を入れるもの
である。光開始剤及びモノマーは、潜像を作るために配
合するものではない。亜鉛末とカーボンブラックの量を
極めて多くするのは、導電性を確保して良好な電気クロ
ムメッキができるようにするためである。レーザアブレ
ーションしたときに被製版基材の面が露出しない例えば
30〜40μm膜厚となるように版形成用被膜を形成するこ
ととする理由は、例えば10ミクロンの薄い膜厚にする
と、レーザアブレーションするとブラビア版のセルの底
が版形成用基板面(銅メッキ面)となってシャドウ部で
は、被膜の版形成用基板面に対する結合力がドクターの
インキ掻き取り力に対して十分な抵抗力を有しないこ
と、及び、メッキがセルの底の銅メッキ面に多くついて
セルを埋めてしまう不具合があるためである。本願発明
は、エッチングを行なわないので、現像残滓によるエッ
チング不良のような問題は生じない。むしろ、本願発明
は、膜厚を大きくしてレーザアブレーションするとブラ
ビア版のセルの底に版形成用基板面が露出しないように
することが重要である。なお、バインダーポリマーとし
て、可燃性物質(ニトロセルロース、やエチレン酢酸ビ
ニル共重合体、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、アリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリアセタール、天然ゴ
ム等の何れか一種又は複数種:75重量%)を選択するこ
とができ、酸化剤(硝酸アンモニウムや塩素酸化合物:
10重量%)を混ぜるのが良い。亜鉛末に変えて酸化亜鉛
末でもよい。
The fifth step of forming a plateable laser ablation film is a dipping method or a scan coating method using a laser-ablationable, conductive, chromium-plateable material using a yag laser or an excimer laser. 30μ by law (Japanese Patent Application No. 1-246049)
It is applied uniformly to a thickness of m to 40 μm and dried. (1) As a laser ablation material capable of chromium plating, for example, a binder polymer (5%), a photoinitiator (10%), a photopolymerizable or photocrosslinkable monomer (5%), and a particle size in a volume ratio. Is about 1-2 μm zinc powder (70-60
%) And carbon black (10 to 20%) are dispersed in a solvent so as to have the same viscosity as that of the paint paint. (2) As a laser ablation material capable of chromium plating, for example, a binder polymer (5%), a photoinitiator (10%), a photopolymerizable or photocrosslinkable monomer (5%), and a particle size by volume ratio. Is about 1-2μm zinc powder (80%)
When a viscous liquid dispersed in a solvent so as to have the same viscosity as that of a paint paint is used, it can be quickly dried by irradiating UV light after application. (3) As a laser ablation material capable of chromium plating, for example, a binder polymer (5%), a photoinitiator (10%), a photopolymerizable or photocrosslinkable monomer (5%), and carbon black by volume ratio When using a viscous liquid in which (80%) is dispersed in a solvent so as to have the same viscosity as that of a paint, it can be dried quickly by irradiating with UV light after application. (4) As a laser ablation material capable of chromium plating, for example, a binder polymer (5 to 8
%), A drying accelerator (2%), zinc powder (83-70%) having a particle size of about 1-2 μm, and carbon black (10-20%) in a solvent so as to have the same viscosity as that of the paint. When using a viscous liquid dispersed in water, it can be dried quickly by applying hot air after coating. (5) As a laser ablation material capable of chromium plating, for example, a binder polymer (5 to 8
%), A drying accelerator (2%) and zinc powder (93-90%) having a particle size of about 1-2 μm dispersed in a solvent so as to have the same viscosity as paint paint. Can be quickly dried by applying hot air after application. (6) As a laser ablation material capable of chromium plating, for example, a binder polymer (5 to 8
%) And a drying accelerator (2%) and carbon black (93 to 90%)
%), A viscous liquid dispersed in a solvent so as to have the same viscosity as that of the paint paint is used. Although quick-drying is not a constituent requirement of the present invention, since a plate-forming coating is formed so as to have a thickness of, for example, 30 to 40 μm in which the surface of the plate-making base material is not exposed when laser ablation is performed, the drying time is reduced. For shortening, a photoinitiator and a monomer or a drying accelerator are added. Photoinitiators and monomers are not compounded to create a latent image. The reason why the amounts of zinc dust and carbon black are extremely large is to secure conductivity and perform good electrochromic plating. The surface of the plate making substrate is not exposed when laser ablation is performed.
The reason why the film for forming a plate is formed so as to have a thickness of 30 to 40 μm is that, for example, when the film thickness is as thin as 10 μm, the bottom of the cell of the bra via plate is subjected to laser ablation and the surface of the plate for forming a plate (copper plating) In the shadow portion, the bonding strength of the coating to the plate forming substrate surface does not have sufficient resistance to the ink scraping force of the doctor, and the plating is applied to the copper plating surface at the bottom of the cell. This is because there is a problem that many cells are filled. Since the present invention does not perform etching, problems such as poor etching due to development residues do not occur. Rather, in the present invention, it is important that the plate-forming substrate surface is not exposed at the bottom of the cell of the bravia plate when the laser ablation is performed by increasing the film thickness. The binder polymer may be a combustible substance (any one of nitrocellulose, ethylene-vinyl acetate copolymer, unsaturated polyester resin, epoxy resin, allyl resin, polyurethane resin, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyacetal, natural rubber, etc.) Or a plurality of types: 75% by weight, and an oxidizing agent (ammonium nitrate or chloric acid compound:
10% by weight). Instead of zinc powder, zinc oxide powder may be used.

【0018】第六のレーザーアブレーションによる凹版
又は凸版の形成の工程は、ヤグレーザ或いはエキシマレ
ーザを用いて、被膜に対して、画線部に対応する部分に
ポヂチブに照射してそこの被膜をレーザアブレイション
する。すなわち、レーザ光を被膜に吸収させ熱に変換し
瞬間に加熱蒸発させ、もって、凹版又は凸版を形成す
る。被膜の下引き面、即ち銅メッキ面等の導電面を露出
させると、該導電面とレーザーアブレーション材料の電
気伝導度が相違しメッキが良好に行われないので、レー
ザアブレイションによる彫り込みの深さは、膜厚の寸法
未満とする。もしも、レーザーアブレーション材料が亜
鉛末を含まない場合には、波長が800nm 前後のレーザ光
を放射する半導体レーザを用いることができる。
In the sixth step of forming an intaglio or relief printing plate by laser ablation, the coating is irradiated to a portion corresponding to the image portion by using a yag laser or an excimer laser to irradiate the coating with a laser. Ration. That is, the laser beam is absorbed by the film, converted into heat, and heated and evaporated instantaneously, thereby forming an intaglio or letterpress. When the undercoating surface of the coating, that is, a conductive surface such as a copper plating surface is exposed, the electrical conductivity between the conductive surface and the laser ablation material is different and plating is not performed well, so that the depth of engraving by laser ablation is performed. Is less than the thickness dimension. If the laser ablation material does not contain zinc dust, a semiconductor laser that emits laser light having a wavelength of about 800 nm can be used.

【0019】第七のクロムメッキの工程は、銅メッキの
版面では耐刷力がないので、耐刷力を付けるために、5
〜7μmクロムメッキする。
In the seventh chromium plating step, since there is no printing durability on the copper-plated printing plate, 5
Chrome plating of ~ 7 μm.

【0020】第八のサンドペーパー掛け・クロムメッキ
のバリ取りの工程は、クロムメッキを行なうとセルの縁
にバリがでるので、このバリを除去するとともに、非画
線部を鏡面でなく適当なサンドペーパー痕を付けること
によりドクターブレードに対して自己潤滑性を有する面
として版かぶりの発生を防止するために行なう。
In the eighth step of sanding and chrome plating deburring, the chromium plating causes burrs on the edges of the cells. Therefore, the burrs are removed and the non-image areas are not properly mirrored but are not mirror-finished. This is performed in order to prevent the occurrence of plate fogging as a surface having a self-lubricating property with respect to the doctor blade by forming a sandpaper mark.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように、本願発明によれば以下の
効果を有する。版形成用被膜を形成し、レーザアブレー
ションしクロムメッキすれば凹版又は凸版を製作でき、
極めて短い工程で迅速な製版が行なえて、製版コストを
半減できる。湿式工程は塗布による被膜の形成だけにな
り、廃液処理が無くなる。現像、エッチングがなくなる
ので、使用する水の種類や温度管理・時間管理といった
熟練とデータ管理から開放される。レーザーアブレーシ
ョンにより凹版又は凸版を彫り込むので、セルの大きさ
に応じて深さもコントロールできるから、精巧なグラデ
ーションが実現できる。銅メッキ工程、砥石による円筒
研磨工程、バフ研磨による鏡面加工工程、感光膜の塗布
形成の工程、レーザー露光工程、現像工程、エッチング
工程、レジスト剥離工程が不要である。これらの設備が
必要でないから、今までよりも半分以下のスペースで製
版が行えて、製版設備コストが半減する。一回のリサイ
クル製版におけるロール研磨によるロール径の縮径値が
極めて小さく抑えられ、しかも迅速な研磨ができる。そ
して、十数回リサイクル製版したときに砥石研磨による
ロール径の累積縮径値が大きくなり、十数回に一回だ
け、銅メッキを行なって砥石円筒研磨して最初のロール
径に拡径するようにすればリサイクルの度に足りる。従
来のようにリサイクル製版の度に厚くメッキして砥石円
筒研磨・鏡面研磨を行なう必要はない。
As described above, the present invention has the following effects. Intaglio or letterpress can be manufactured by forming a coating for plate formation, laser ablation and chrome plating,
Rapid plate making can be performed in an extremely short process, and plate making costs can be halved. In the wet process, only a film is formed by coating, and waste liquid treatment is eliminated. Since development and etching are eliminated, skill and data management such as the type of water used, temperature management and time management are released. Since the intaglio or letterpress is engraved by laser ablation, the depth can be controlled according to the size of the cell, so that a fine gradation can be realized. A copper plating step, a cylindrical polishing step using a grindstone, a mirror finishing step using buff polishing, a step of coating and forming a photosensitive film, a laser exposure step, a development step, an etching step, and a resist peeling step are unnecessary. Since these facilities are not required, plate making can be performed in less than half the space as before, and plate making equipment costs are reduced by half. The diameter reduction value of the roll diameter due to the roll polishing in one recycling plate making is extremely small, and quick polishing is possible. When the plate is recycled more than ten times, the cumulative diameter of the roll diameter due to the grinding stone increases, and once every ten or more times, copper plating is performed and the grinding wheel cylinder is polished to expand to the first roll diameter. That way, it's enough for every recycling. It is not necessary to perform thick grinding and cylindrical grinding / mirror polishing each time recycling plate making is performed as in the related art.

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年10月15日(1999.10.
15)
[Submission date] October 15, 1999 (1999.10.
15)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0004[Correction target item name] 0004

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0004】又、従来の電子彫刻機によるグラビア製版
方法は、例えば、以下の1)〜12) の工程により製作され
る。 1)クロムメッキを希硫酸の水溶液によりエッチング除
去。 2)印刷ロールの一端から他端までの三箇所ないし五箇所
を直径計測し、真円精度が低いロールと円筒精度が低い
ロールを排除する。 3)#350の粗仕上げ砥石で精密な円筒精度にする補正研磨
をする。 4)同一番手の粗仕上げ砥石で最大深さのセルが無くなる
まで落版研磨をする。 5)#500の粗仕上げ砥石、#800の粗仕上げ砥石で順に表面
粗さを微少化する研磨をする。 6)メッキ厚が15μm 位になるようにニッケルメッキして
から、メッキ厚が80μm〜100μm位になるように銅メッ
キする。 7)#800〜#1200 の中仕上げ砥石でメッキ地肌を除去する
円筒研磨をする。 8)#1500 〜#4000 の上仕上げ砥石で表面粗さを微少化す
る研磨をする。 9)バフで鏡面研磨する。 10)電子彫刻機によりセルを形成する。 11)クロムメッキする。 12)クロムメッキのバリ取りをする。
A gravure plate making method using a conventional electronic engraving machine is manufactured by, for example, the following steps 1) to 12). 1) The chromium plating is removed by etching with an aqueous solution of dilute sulfuric acid. 2) Measure the diameter of three to five points from one end to the other end of the printing roll, and eliminate the roll with low roundness accuracy and the roll with low cylindrical accuracy. 3) Perform corrective polishing to achieve precise cylindrical accuracy with a # 350 rough finish whetstone. 4) Using the same coarse finishing whetstone, perform plate drop polishing until the cells with the maximum depth are eliminated. 5) Polish the surface with a coarse finishing whetstone of # 500 and a rough finishing whetstone of # 800 in order to reduce the surface roughness. 6) Nickel plating so that the plating thickness is about 15 μm, and then copper plating so that the plating thickness is about 80 μm to 100 μm. 7) Polish the cylinder with a semi-finishing whetstone # 800 to # 1200 to remove the plating surface. 8) Polish the surface with # 1500 to # 4000 top finish whetstone to minimize surface roughness. 9) Mirror polishing with buff. 10) Form cells with an electronic engraving machine. 11) Chrome plating. 12) Deburr chrome plating.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性の被製版基材の面に、クロムメッ
キが可能なレーザアブレーション材料により、レーザア
ブレーションしたときに被製版基材の面が露出しない所
要の膜厚となるように版形成用被膜を形成し、次いで、
レーザ光を画線部に対応する部分に照射してそこの被膜
部分をアブレーションして凹版又は凸版を形成し、次い
で、耐刷力を付与するためのクロムメッキを形成するこ
とを特徴とする製版方法。
1. A plate is formed on a surface of a conductive plate-making base material with a laser ablation material capable of being chromium-plated so as to have a required film thickness such that the surface of the plate-making base material is not exposed when laser ablation is performed. To form a coating for
A plate making characterized by irradiating a portion corresponding to an image portion with a laser beam to ablate the coating portion thereof to form an intaglio or letterpress, and then forming chrome plating for imparting printing durability. Method.
【請求項2】 使用済みの印刷ロールのクロムメッキを
除去し、次いでレーザアブレーション材料からなる被膜
を除去して再使用する印刷基材ロールとし、該基材面
に、クロムメッキが可能なレーザアブレーションが可能
なレーザアブレーション材料により、レーザアブレーシ
ョンしたときに被製版基材の面が露出しない所要の膜厚
となるように版形成用被膜を形成し、次いで、レーザ光
を画線部に対応する部分に照射してそこの被膜部分をア
ブレーションして凹版又は凸版を形成し、次いで、耐刷
力を付与するためのクロムメッキを形成することを特徴
とする製版方法。
2. A chromium plating on a used printing roll is removed, and then a coating made of a laser ablation material is removed to form a printing substrate roll to be reused. A laser ablation material is used to form a plate-forming film so as to have a required thickness so that the surface of the plate-making substrate is not exposed when laser ablation is performed. A plate making method characterized by forming a stencil plate or a relief plate by irradiating the film portion to form an intaglio or letterpress plate, and then forming chrome plating for imparting printing durability.
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