JP2001091772A - Waveguide type optical circuit and its manufacturing method - Google Patents

Waveguide type optical circuit and its manufacturing method

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JP2001091772A
JP2001091772A JP26882999A JP26882999A JP2001091772A JP 2001091772 A JP2001091772 A JP 2001091772A JP 26882999 A JP26882999 A JP 26882999A JP 26882999 A JP26882999 A JP 26882999A JP 2001091772 A JP2001091772 A JP 2001091772A
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core
waveguide
input
optical circuit
type optical
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Akihiro Hiruta
昭浩 蛭田
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Hitachi Cable Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waveguide type optical circuit, in which connection loss to an optical fiber is greatly reduced, and its manufacturing method. SOLUTION: A waveguide type optical circuit has a optical waveguide 10 consisting of a core 4 which has input output sections 2 and 3 on a substrate that are connected to the core of an optical fiber and clad which covers the core 4. In the manufacturing method of the circuit, a first core film is heaped up on the substrate, the film is formed into a waveguide pattern, the pattern is etched for several times so as to leave the portions that become the sections 2 and 3 and to form a step section, and a second core film is heaped up to cover the step section. Then, the second core film is etched to make the waveguide pattern so as to form a tapered section 4h on the core 4 of the sections 2 and 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光伝送モジュール
用素子に用いられる導波路型光回路及びその製造方法に
係り、特に入出力部のコアがテーパ状に形成された導波
路型光回路及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waveguide type optical circuit used for an element for an optical transmission module and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a waveguide type optical circuit in which an input / output unit core is formed in a tapered shape. The present invention relates to the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の導波路型光回路を図6及び図7を
用いて説明する。
2. Description of the Related Art A conventional waveguide type optical circuit will be described with reference to FIGS.

【0003】図6に従来の導波路型光回路の平面図を示
す。
FIG. 6 shows a plan view of a conventional waveguide type optical circuit.

【0004】図6に示すように、この導波路型光回路
は、ガラス基板11上にコアとなる石英系ガラスと、そ
のコアを覆うようにクラッドとなる石英系ガラスとが積
層されて形成されていると共に、3段階で分岐された枝
状の導波路20が形成されている。
As shown in FIG. 6, this waveguide type optical circuit is formed by laminating a silica-based glass as a core and a silica-based glass as a clad on a glass substrate 11 so as to cover the core. In addition, a branched waveguide 20 branched in three stages is formed.

【0005】そして、その枝状の導波路20の分岐元の
一端部に1つの入力ポート(入力部)12が形成されて
おり、分岐先の他端部に8つの出力ポート(出力部)1
3が形成されている。
One input port (input section) 12 is formed at one end of the branch source of the branch waveguide 20, and eight output ports (output sections) 1 are formed at the other end of the branch destination.
3 are formed.

【0006】図7にこの各入出力部12,13が形成さ
れた領域Aの拡大斜視図を示す。
FIG. 7 is an enlarged perspective view of a region A in which the input / output units 12 and 13 are formed.

【0007】図7に示すように、導波路型光回路の各入
出力部12,13は、光ファイバと素子とを実装する際
に比屈折率差が大きくなるに従って光ファイバとの接続
損失が大きくなるため、この接続損失が小さくなるよう
に、コア14の幅方向に入出力部端面に向かって広くな
るテーパ状に形成されている。
As shown in FIG. 7, each of the input / output sections 12 and 13 of the waveguide type optical circuit has a connection loss with the optical fiber as the relative refractive index difference increases when the optical fiber and the element are mounted. In order to reduce the connection loss, the core 14 is formed in a tapered shape that becomes wider toward the input / output section end face in the width direction of the core 14.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導波路
型光回路は、コア14をその幅方向にテーパ状に広げて
形成するだけでは、コア14の高さ方向は光ファイバの
コア径と大きく異なるため、接続損失を小さくするのに
は限界があった。
However, in the waveguide type optical circuit, the height direction of the core 14 is greatly different from the core diameter of the optical fiber only by forming the core 14 in a tapered shape in the width direction thereof. Therefore, there is a limit in reducing the connection loss.

【0009】そこで、本発明の目的は、光ファイバとの
接続損失を大きく低減できる導波路型光回路及びその製
造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a waveguide type optical circuit and a method for manufacturing the same, which can greatly reduce the connection loss with an optical fiber.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1の発明は、基板上に光ファイバのコアと接続
される入出力部を有するコアとそのコアを覆うクラッド
とからなる光導波路が形成された光伝送モジュール用導
波路型光回路において、上記コアの入出力部を、幅方
向、高さ方向共に入出力部端面に向かって広くなるテー
パ状に形成したものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an optical waveguide comprising: a core having an input / output portion connected to a core of an optical fiber on a substrate; and a cladding covering the core. In the waveguide type optical circuit for an optical transmission module in which a wave path is formed, the input / output portion of the core is formed in a tapered shape that becomes wider toward the end face of the input / output portion in both the width direction and the height direction.

【0011】請求項2の発明は、上記入出力部以外のコ
ア幅及びコア高さは、上記入出力部に接続される光ファ
イバの接続部のコア径よりも狭く形成されているもので
ある。
According to a second aspect of the present invention, the core width and the core height other than the input / output section are formed to be smaller than the core diameter of the connection section of the optical fiber connected to the input / output section. .

【0012】請求項3の発明は、上記テーパの角度が
0.3°から1°の範囲にあるものである。
According to a third aspect of the present invention, the angle of the taper is in the range of 0.3 ° to 1 °.

【0013】請求項4の発明は、基板上に光ファイバの
コアと接続される入出力部を有するコアとそのコアを覆
うクラッドとからなる光導波路を形成する導波路型光回
路の製造方法において、上記基板上に第1のコア膜を堆
積した後、その第1のコア膜を導波路パターンに形成
し、入出力部とする部分が残るようにその導波路パター
ンを複数回エッチングして階段状の階段部を形成し、そ
の階段部を覆うように第2のコア膜を堆積した後、上記
導波路パターンになるように第2のコア膜をエッチング
することにより上記入出力部のコアをテーパ状に形成す
る方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a waveguide type optical circuit, wherein an optical waveguide comprising a core having an input / output portion connected to a core of an optical fiber and a clad covering the core is formed on a substrate. After depositing a first core film on the substrate, the first core film is formed in a waveguide pattern, and the waveguide pattern is etched a plurality of times so that a portion serving as an input / output portion remains, and the step is performed. After forming a stepped portion having a shape of a circle and depositing a second core film so as to cover the stepped portion, the core of the input / output portion is etched by etching the second core film so as to form the waveguide pattern. This is a method of forming a tapered shape.

【0014】請求項5の発明は、上記第1のコア膜を、
コアの長さ方向と高さ方向との為す角度が0.3°から
1°の範囲となるように階段状にエッチングする方法で
ある。
According to a fifth aspect of the present invention, the first core film comprises:
This is a stepwise etching method in which the angle between the length direction and the height direction of the core is in the range of 0.3 ° to 1 °.

【0015】請求項6の発明は、上記第2のコア膜を、
光ファイバとのモードフィールドミスマッチ損失が0.
1dB/1箇所未満のコアとなるような厚さに堆積する
方法である。
According to a sixth aspect of the present invention, the second core film comprises:
The mode field mismatch loss with the optical fiber is 0.
This is a method of depositing a core having a thickness of less than 1 dB / 1.

【0016】上記構成によれば、導波路の入出力部のコ
ア幅及びコア高さが、光ファイバのコア径と等しくな
り、導波路のコア断面形状が光ファイバのコア断面形状
に近い形となる。これにより、モードフィールド径が大
きくなり、光ファイバとの接続損失が低減される。
According to the above configuration, the core width and the core height of the input / output portion of the waveguide are equal to the core diameter of the optical fiber, and the core cross-sectional shape of the waveguide is close to the core cross-sectional shape of the optical fiber. Become. As a result, the mode field diameter increases, and the connection loss with the optical fiber is reduced.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】次に、本発明の好適一実施の形態
を添付図面に基づいて詳述する。
Next, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0018】図2に本発明にかかる導波路型光回路の平
面図を示す。
FIG. 2 is a plan view of a waveguide type optical circuit according to the present invention.

【0019】図2に示すように、導波路型光回路は、ガ
ラス基板1上にコアと、そのコアを覆うようにクラッド
が積層されて形成されていると共に、3段階で分岐され
た枝状の導波路10が形成されている。
As shown in FIG. 2, the waveguide type optical circuit is formed by laminating a core and a clad on the glass substrate 1 so as to cover the core, and also has a branch shape branched in three stages. Waveguide 10 is formed.

【0020】この導波路10は、コアとクラッドの比屈
折率差が0.5%となるように、コアは屈折率が1.4
653の石英系ガラスで形成され、クラッドは屈折率が
1.458の石英系ガラスで形成されている。
The core of the waveguide 10 has a refractive index of 1.4 so that the relative refractive index difference between the core and the clad is 0.5%.
The cladding is made of quartz glass having a refractive index of 1.458.

【0021】そして、その枝状の導波路10の分岐元の
一端部に1つの入力ポート(入力部)2が形成されてお
り、分岐先の他端部に8つの出力ポート(出力部)3が
形成されている。
One input port (input section) 2 is formed at one end of the branch source of the branch waveguide 10, and eight output ports (output sections) 3 are formed at the other end of the branch destination. Are formed.

【0022】図1にこの各入出力部2,3が形成された
領域Aの拡大斜視図を示す。
FIG. 1 is an enlarged perspective view of a region A in which the input / output units 2 and 3 are formed.

【0023】図1に示すように、導波路10の入出力部
2,3以外のコア4のコア幅及びコア高さは、入出力部
2,3に接続される光ファイバの接続部のコア径に応じ
てそれよりも狭く形成されており、例えば、シングルモ
ード伝送とするためにはコア膜、及びコア高さは6μm
に形成される。この時のモードフィールド径は7.28
μmとなる。
As shown in FIG. 1, the core width and the core height of the core 4 other than the input / output sections 2 and 3 of the waveguide 10 are the same as those of the connection section of the optical fiber connected to the input / output sections 2 and 3. It is formed narrower according to the diameter. For example, for single mode transmission, the core film and the core height are 6 μm.
Formed. The mode field diameter at this time is 7.28
μm.

【0024】また、導波路型光回路の各入出力部2,3
は、光ファイバと素子とを実装する際に比屈折率差が大
きくなるに従って光ファイバとの接続損失が大きくなる
ため、この接続損失が小さくなるように、コア4の幅方
向及び高さ方向に入出力部端面2a,3aに向かって広
くなるテーパ状のテーパ部4h,4wが形成されてい
る。このテーパ部の角度は0.3°から1°の範囲であ
る。
Each of the input / output units 2 and 3 of the waveguide type optical circuit
When mounting the optical fiber and the element, the connection loss with the optical fiber increases as the relative refractive index difference increases, so that the connection loss is reduced in the width direction and the height direction of the core 4. The tapered portions 4h and 4w are formed so as to become wider toward the input / output unit end faces 2a and 3a. The angle of this tapered portion ranges from 0.3 ° to 1 °.

【0025】次に、本発明の製造方法を作用と共に図3
(a)〜図3(e)、図4(a)〜図4(e)を用いて
説明する。
Next, the manufacturing method of the present invention will be described together with the operation in FIG.
This will be described with reference to FIGS. 4A to 4E and FIGS.

【0026】図3(a)〜図3(e)は本発明にかかる
導波路型光回路となる基板の平面図であり、図4(a)
〜図4(e)は本発明にかかる導波路型光回路となる基
板の側面図である。
FIGS. 3A to 3E are plan views of a substrate to be a waveguide type optical circuit according to the present invention, and FIG.
FIG. 4E is a side view of a substrate serving as a waveguide type optical circuit according to the present invention.

【0027】尚、本実施の形態では、比屈折率差0.5
%、一般的な光ファイバのコア径より2μm小さいコア
径(幅、高さ)6μmの光導波路型光回路を製造する場
合について説明する。
In this embodiment, the relative refractive index difference is 0.5
%, A case where an optical waveguide type optical circuit having a core diameter (width, height) of 6 μm smaller than the core diameter of a general optical fiber by 2 μm will be described.

【0028】本発明にかかる導波路型光回路を製造する
に際しては、初めにガラス基板上に石英系ガラスからな
る第1のコア膜を2μm堆積(1回目のコア膜形成)す
る。そして、コアの幅方向にテーパ部を形成するための
マスクパターン(導波路パターン)を作成し、図3
(a)に示すようにガラス基板31上に堆積されたコア
膜をエッチングして、幅方向にテーパ部32wを有する
コア32を形成する。
In manufacturing the waveguide type optical circuit according to the present invention, first, a first core film made of quartz glass is deposited to 2 μm on a glass substrate (first core film formation). Then, a mask pattern (waveguide pattern) for forming a tapered portion in the width direction of the core is formed, and FIG.
As shown in (a), the core film deposited on the glass substrate 31 is etched to form a core 32 having a tapered portion 32w in the width direction.

【0029】その後、図4(a)に示すガラス基板31
上に形成された2μmのコア32を、図4(b)に示す
ように入出力側コア部(長さ数百μm)32aがエッチ
ングされないようにタングステンシリサイドなどでマス
クし、残りのコア部32bを0.5μmエッチングす
る。これにより、図3(b)に示すようにコア32の幅
方向のテーパ部32wはそのままで高さ方向だけエッチ
ングされる。
Thereafter, the glass substrate 31 shown in FIG.
The 2 μm core 32 formed above is masked with tungsten silicide or the like so that the input / output side core part (several hundred μm in length) 32 a is not etched as shown in FIG. 4B, and the remaining core part 32 b Is etched by 0.5 μm. Thereby, as shown in FIG. 3B, the tapered portion 32w in the width direction of the core 32 is etched only in the height direction without being changed.

【0030】さらに、図3(c)に示すように入出力側
コア部32aと0.5μmエッチングしたコア部32b
を、入出力部端面から長さ50μm程度をタングステン
シリサイドなどでマスクしてエッチングされないように
し、再び0.5μmエッチングする。
Further, as shown in FIG. 3C, the input / output side core portion 32a and the core portion 32b etched by 0.5 μm are formed.
Is masked with tungsten silicide or the like to a length of about 50 μm from the end face of the input / output section to prevent etching, and then etched again by 0.5 μm.

【0031】同様にして、図3(d)に示すように入出
力側コア部32aと2段階で0.5μmエッチングした
コア部32b,32cを、つづいて図3(e)に示すよ
うに入出力側コア部32aと3段階で0.5μmエッチ
ングしたコア部32b〜32dを、タングステンシリサ
イドなどでマスクしてエッチングされないようにし、ガ
ラス基板31が露出するまで順次0.5μmステップで
エッチングして、階段状の階段部33を形成する。
Similarly, as shown in FIG. 3D, the input / output side core portion 32a and the core portions 32b and 32c etched by 0.5 μm in two stages are subsequently inserted as shown in FIG. 3E. The output side core part 32a and the core parts 32b to 32d etched at 0.5 μm in three stages are masked with tungsten silicide or the like so as not to be etched, and are sequentially etched in 0.5 μm steps until the glass substrate 31 is exposed. A step-like step portion 33 is formed.

【0032】図4(c)に示すように、この階段部33
は、コアの長さ方向と高さ方向との為す角度θ(階段状
コアの漸近線の角度)が0.3°から1°の範囲となる
ようにエッチングする。すなわち、階段状コア部の長さ
32lを、階段状コア高さ32hの100倍程度になる
ように形成する。
As shown in FIG. 4C, the stairs 33
Is etched so that the angle θ (the angle of the asymptote of the stepped core) between the length direction and the height direction of the core is in the range of 0.3 ° to 1 °. That is, the length 32l of the stepped core portion is formed to be about 100 times the height 32h of the stepped core.

【0033】そして、階段状コアが形成できたら、図4
(d)に示すように、この階段状コア(階段部33)の
上に、そのコアと同じ屈折率の石英系ガラスからなる第
2のコア膜34を6μm堆積(2回目のコア膜形成)し
た後、上述した導波路パターンになるように第2のコア
膜34をエッチングし、入出力部がテーパ状のコア30
を形成する。
After the step-shaped core is formed, FIG.
As shown in (d), a second core film 34 made of quartz glass having the same refractive index as that of the stepped core (stepped portion 33) is deposited to a thickness of 6 μm (second core film formation). After that, the second core film 34 is etched so as to have the above-described waveguide pattern, and the input / output portion has a tapered core 30.
To form

【0034】以上のプロセスにより、導波路型光回路
は、入出力部の高さHが8μm、入出力部以外が高さ6
μmのコア30を得ることができる。
According to the above process, the waveguide type optical circuit has a height H of the input / output section of 8 μm and a height H of 6 μm except the input / output section.
A μm core 30 can be obtained.

【0035】このように形成されたコア30は、入出力
部とそれ以外のコアの接続部の漸近線の角度θが0.3
°から1°の緩やかなテーパ状になるため、このテーパ
部での放射損失は無視できる。
The core 30 thus formed has an asymptote angle θ between the input / output portion and the connection portion of the other cores of 0.3.
Since the taper has a gentle taper of from 1 ° to 1 °, the radiation loss at this tapered portion can be ignored.

【0036】最後に、図4(e)に示すように、このコ
ア30の上にオーバークラッド40を堆積して、導波路
型光回路の製造が完了する。
Finally, as shown in FIG. 4E, an over clad 40 is deposited on the core 30 to complete the manufacture of the waveguide type optical circuit.

【0037】このようにして製造された導波路型光回路
のコア径に対するモードフィールドミスマッチ損失値を
図5に示す。
FIG. 5 shows the mode field mismatch loss value with respect to the core diameter of the thus manufactured waveguide type optical circuit.

【0038】一般的な光ファイバのコア径は約8μmで
あり、波長1.3μmの時のモードフィールド径は約
9.5μmとなる。この光ファイバと導波路型光回路を
接続した時、光ファイバと導波路コアのモードフィール
ドミスマッチ損失は1箇所当たり0.30dBとなる。
The core diameter of a general optical fiber is about 8 μm, and the mode field diameter at a wavelength of 1.3 μm is about 9.5 μm. When this optical fiber and the waveguide type optical circuit are connected, the mode field mismatch loss between the optical fiber and the waveguide core is 0.30 dB per location.

【0039】これに対し、図5に示すように、導波路型
光回路の入出力部のコアの幅方向をテーパ状に8μmま
で広げるとモードフィールド径は7.78μmとなり、
光ファイバと導波路コアのモードフィールドミスマッチ
損失は1箇所当り0.17dBまで低減できる。
On the other hand, as shown in FIG. 5, when the width direction of the core of the input / output portion of the waveguide type optical circuit is tapered to 8 μm, the mode field diameter becomes 7.78 μm.
The mode field mismatch loss between the optical fiber and the waveguide core can be reduced to 0.17 dB per location.

【0040】さらに、導波路型光回路の入出力部のコア
の高さ方向をテーパ状に8μmまで広げるとモードフィ
ールド径は8.40μmとなり、光ファイバと導波路コ
アのモードフィールドミスマッチ損失は1箇所当り0.
08dBと大きく低減できる。
Further, when the height direction of the core of the input / output portion of the waveguide type optical circuit is tapered to 8 μm, the mode field diameter becomes 8.40 μm, and the mode field mismatch loss between the optical fiber and the waveguide core becomes 1 0 per location.
It can be greatly reduced to 08 dB.

【0041】以上説明したように、本発明によれば、光
ファイバとのモードフィールドミスマッチ損失が0.1
dB未満と低損失になり、かつ光回路の放射損失の少な
い導波路型光回路を製造することができる。
As described above, according to the present invention, the mode field mismatch loss with the optical fiber is 0.1%.
It is possible to manufacture a waveguide type optical circuit having a low loss of less than dB and a small radiation loss of the optical circuit.

【0042】尚、本実施の形態では、ガラス基板上に石
英系ガラスを積層して形成された素子について述べた
が、Si基板上に石英系ガラスを積層して形成された素
子についても、適用可能であり、本実施の形態と同様の
効果が得られる。
In this embodiment, an element formed by laminating quartz glass on a glass substrate has been described. However, the present invention is also applicable to an element formed by laminating quartz glass on a Si substrate. It is possible, and the same effects as in the present embodiment can be obtained.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、導波路型
光回路コアの幅方向のみならず、コアの高さ方向も光フ
ァイバのモードフィールド径と同等まで広げることによ
り、光ファイバとのモードフィールドミスマッチ損失を
大きく低減することができる。
In summary, according to the present invention, not only the width direction of the waveguide type optical circuit core but also the height direction of the core are expanded to the same as the mode field diameter of the optical fiber, so that the mode with the optical fiber can be improved. Field mismatch loss can be greatly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる導波路型光回路の入出力部の拡
大斜視図である。
FIG. 1 is an enlarged perspective view of an input / output unit of a waveguide type optical circuit according to the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態を示す導波路型光回路の
平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a waveguide type optical circuit showing one embodiment of the present invention.

【図3】本発明にかかる導波路型光回路の製造方法を説
明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a method of manufacturing a waveguide type optical circuit according to the present invention.

【図4】本発明にかかる導波路型光回路の製造方法を説
明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a waveguide type optical circuit according to the present invention.

【図5】コア径に対するモードフィールドミスマッチ損
失の大きさを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the magnitude of mode field mismatch loss with respect to the core diameter.

【図6】従来の導波路型光回路の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a conventional waveguide type optical circuit.

【図7】図6の導波路型光回路の部分拡大斜視図であ
る。
FIG. 7 is a partially enlarged perspective view of the waveguide type optical circuit of FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 入力ポート(入力部) 3 出力ポート(出力部) 4 コア 4h テーパ部 10 導波路 2 input port (input section) 3 output port (output section) 4 core 4h taper section 10 waveguide

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に光ファイバのコアと接続される
入出力部を有するコアと該コアを覆うクラッドとからな
る光導波路が形成された光伝送モジュール用導波路型光
回路において、上記コアの入出力部を、幅方向、高さ方
向共に入出力部端面に向かって広くなるテーパ状に形成
したことを特徴とする導波路型光回路。
In a waveguide type optical circuit for an optical transmission module, an optical waveguide comprising a core having an input / output unit connected to a core of an optical fiber and a clad covering the core is formed on a substrate. Wherein the input / output section is formed in a tapered shape which becomes wider toward the end face of the input / output section in both the width direction and the height direction.
【請求項2】 上記入出力部以外のコア幅及びコア高さ
は、上記入出力部に接続される光ファイバの接続部のコ
ア径よりも狭く形成されている請求項1記載の導波路型
光回路。
2. The waveguide type according to claim 1, wherein a core width and a core height other than the input / output section are formed smaller than a core diameter of a connection section of an optical fiber connected to the input / output section. Optical circuit.
【請求項3】 上記テーパの角度が0.3°から1°の
範囲にある請求項1記載の導波路型光回路。
3. The waveguide type optical circuit according to claim 1, wherein the angle of the taper is in a range of 0.3 ° to 1 °.
【請求項4】 基板上に光ファイバのコアと接続される
入出力部を有するコアと該コアを覆うクラッドとからな
る光導波路を形成する導波路型光回路の製造方法におい
て、上記基板上に第1のコア膜を堆積した後、該第1の
コア膜を導波路パターンに形成し、入出力部とする部分
が残るように該導波路パターンを複数回エッチングして
階段状の階段部を形成し、該階段部を覆うように第2の
コア膜を堆積した後、上記導波路パターンになるように
第2のコア膜をエッチングすることにより上記入出力部
のコアをテーパ状に形成することを特徴とする導波路型
光回路の製造方法。
4. A method for manufacturing an optical waveguide circuit, comprising: forming an optical waveguide comprising a core having an input / output portion connected to a core of an optical fiber on a substrate and a clad covering the core; After depositing the first core film, the first core film is formed into a waveguide pattern, and the waveguide pattern is etched a plurality of times so that a portion serving as an input / output portion remains to form a stepped step portion. After forming and depositing a second core film so as to cover the step portion, the second core film is etched so as to have the waveguide pattern, thereby forming the core of the input / output portion in a tapered shape. A method for manufacturing a waveguide-type optical circuit, comprising:
【請求項5】 上記第1のコア膜を、コアの長さ方向と
高さ方向との為す角度が0.3°から1°の範囲となる
ように階段状にエッチングする請求項4記載の導波路型
光回路の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the first core film is etched stepwise so that an angle between a length direction and a height direction of the core is in a range of 0.3 ° to 1 °. A method for manufacturing a waveguide type optical circuit.
【請求項6】 上記第2のコア膜を、光ファイバとのモ
ードフィールドミスマッチ損失が0.1dB/1箇所未
満のコアとなるような厚さに堆積する請求項4記載の導
波路型光回路の製造方法。
6. The waveguide type optical circuit according to claim 4, wherein the second core film is deposited to a thickness such that a mode field mismatch loss with the optical fiber is less than 0.1 dB / 1. Manufacturing method.
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