JP2001081018A - Hairdressing base - Google Patents

Hairdressing base

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JP2001081018A
JP2001081018A JP25626199A JP25626199A JP2001081018A JP 2001081018 A JP2001081018 A JP 2001081018A JP 25626199 A JP25626199 A JP 25626199A JP 25626199 A JP25626199 A JP 25626199A JP 2001081018 A JP2001081018 A JP 2001081018A
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hair
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hairdressing
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浩二 土橋
Yuujirou Uchiyama
雄二朗 内山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a hairdressing base highly adherable to the hair, subject to no flaking phenomena, capable of imparting the hair with good luster, wiriness and especially good slipperiness, and having good set retention. SOLUTION: This hairdressing base comprises a block copolymer obtained by block copolymerization between monomer components comprising (A) a monomer of the formula (X is an oxygen atom or NH group; R1 is a hydrogen atom or methyl group; R2 is a 2-3C alkylene group) and (B) an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester in the presence of a polysiloxane compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、整髪剤用基剤に関
する。さらに詳しくは、毛髪に対する付着性にすぐれ、
フレーキング現象を起こさず、毛髪にすぐれた光沢、し
なやかさおよびとくにすぐれた滑り感を付与し、かつ良
好なセット保持力を有する整髪剤用基剤に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a hairdressing base. More specifically, it has excellent adhesion to hair,
The present invention relates to a hair styling preparation base which does not cause a flaking phenomenon, imparts excellent gloss, suppleness, and particularly excellent sliding feeling to hair, and has good set holding power.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、頭髪に所望の形状を付与するため
に樹脂で固定するが、かかる頭髪に適用した樹脂を洗髪
にて除去するには、整髪用樹脂が水溶性であることが要
求される。
2. Description of the Related Art Usually, hair is fixed with a resin in order to give a desired shape to the hair. However, in order to remove the resin applied to the hair by washing the hair, it is required that the hairdressing resin is water-soluble. You.

【0003】このような整髪用樹脂として、ノニオン
系、カチオン系、アニオン系および両性イオン系のもの
が従来から使用されている。
[0003] Nonionic, cationic, anionic and zwitterionic resins have been conventionally used as such hair styling resins.

【0004】しかしながら、前記ノニオン系樹脂は高温
多湿下ではセット力に欠け、低湿度下ではフレーキング
現象を起こしやすいという問題点を有する。
[0004] However, the nonionic resin has a problem that it lacks set force under high temperature and high humidity, and easily causes a flaking phenomenon under low humidity.

【0005】前記カチオン系樹脂は毛髪への親和性には
すぐれるものの、ノニオン系樹脂以上に湿度の影響を受
けやすく、やはりセット力に乏しいという問題点を有す
る。
[0005] Although the cationic resin has excellent affinity for hair, it has a problem that it is more susceptible to humidity than a nonionic resin and has poor setting power.

【0006】前記アニオン系樹脂は湿度による影響を受
けにくくセット力にすぐれているものの、その反面得ら
れるフィルムが硬く、毛髪への親和性も小さいためにフ
レーキング現象を起こしやすい。
Although the anionic resin is hardly affected by humidity and is excellent in setting power, on the other hand, the resulting film is hard and has a low affinity for hair, so that it tends to cause a flaking phenomenon.

【0007】前記両性イオン系樹脂、いわゆるベタイン
構造を有する両性共重合体系樹脂は、毛髪への親和性や
自然な風合いの付与効果にはすぐれているものの、滑り
感としなやかさに劣る。そこでこの滑り感としなやかさ
の改質のために、シリコン油剤を添加する処方がなされ
ているが、一部が溶出したり、毛髪のきしみ感が増した
り、べたつき、脂ぎるなどの問題点が生じてしまう。
The amphoteric copolymer resin having a so-called betaine structure has excellent affinity for hair and an effect of imparting natural texture, but is inferior in slipperiness and flexibility. In order to improve the slipperiness and suppleness, silicone oil has been added.However, there are problems such as partial elution, increased squeakiness of the hair, stickiness and greasyness. Will happen.

【0008】そこで現在は、これらの問題点を補うため
に前記各種樹脂を組み合わせることが試みられており、
たとえば特開平9−157339号公報には、ポリシロ
キサンセグメントとエチレン性不飽和カルボン酸単位を
構成成分としたブロック共重合体からなる頭髪化粧料用
基剤が提案されているが、すべての問題点を解決し得る
すぐれた整髪剤用基剤は未だ得られていないのが現状で
ある。
Therefore, at present, attempts have been made to combine the various resins in order to compensate for these problems.
For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-157339 proposes a hair cosmetic base comprising a block copolymer comprising a polysiloxane segment and an ethylenically unsaturated carboxylic acid unit as constituents. At present, an excellent base for a hairdressing agent that can solve the above problem has not yet been obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術に鑑みてなされたものであり、毛髪への付着性および
セット保持力が高く、フレーキング現象を起こさず、か
つすぐれた光沢、すぐれた滑り感およびしなやかさを毛
髪に付与し得る整髪剤用基剤を提供することを目的とす
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned prior art, and has high adhesion to hair and set holding power, does not cause a flaking phenomenon, and has excellent gloss and excellentness. It is an object of the present invention to provide a hairdressing preparation base that can impart a slippery feeling and suppleness to hair.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、ポリシロキサ
ン化合物の存在下に、一般式(I):
According to the present invention, there is provided a compound represented by the general formula (I):

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1
は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアル
キレン基を示す)で表わされるモノマー(A)およびエ
チレン性不飽和カルボン酸エステル(B)を含有したモ
ノマー成分をブロック共重合させて得られたブロック共
重合体からなる整髪剤用基剤に関する。
(Where X is an oxygen atom or an NH group, R 1
Is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms), and a monomer component containing an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester (B) represented by the following formula: The present invention relates to a hairdressing base comprising the obtained block copolymer.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の整髪剤用基剤は、前記し
たように、ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式
(I):
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As described above, the base for a hairdressing composition of the present invention is prepared by reacting a compound of the formula (I) in the presence of a polysiloxane compound.

【0014】[0014]

【化3】 Embedded image

【0015】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1
は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアル
キレン基を示す)で表わされるモノマー(A)およびエ
チレン性不飽和カルボン酸エステル(B)を含有したモ
ノマー成分をブロック共重合させて得られたブロック共
重合体からなるものである。
(Where X is an oxygen atom or an NH group, R 1
Is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms), and a monomer component containing an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester (B) represented by the following formula: It consists of the obtained block copolymer.

【0016】このように、本発明の整髪剤用基剤は特定
のブロック共重合体からなるものであるので、従来の各
種整髪剤用樹脂の問題点が解決され、毛髪に対する付着
性にすぐれ、フレーキング現象を起こさず、毛髪にすぐ
れた光沢、しなやかさおよびとくにすぐれた滑り感を付
与し、かつ良好なセット保持力を有するのである。
As described above, since the base for a hairdressing composition of the present invention is made of a specific block copolymer, the problems of conventional resins for various hairdressing compositions are solved, and excellent adhesion to hair is achieved. It does not cause a flaking phenomenon, imparts excellent gloss, suppleness and particularly excellent slipping feeling to hair, and has good set holding power.

【0017】本発明に用いられるブロック共重合体を得
るには、ポリシロキサン化合物の存在下にブロック共重
合が行なわれる。前記ポリシロキサン化合物としては、
たとえばアゾ基含有ポリシロキサン化合物が好ましく例
示される。該アゾ基含有ポリシロキサン化合物の代表例
としては、たとえば一般式(II):
In order to obtain the block copolymer used in the present invention, block copolymerization is carried out in the presence of a polysiloxane compound. As the polysiloxane compound,
For example, an azo group-containing polysiloxane compound is preferably exemplified. Representative examples of the azo group-containing polysiloxane compound include, for example, a compound represented by the following general formula (II):

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】(式中、R3は水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基またはシアノ基(ただし、2つのR3は同一
であってもよく、異なっていてもよい)、R4は水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のハロア
ルキル基またはアリール基(ただし、6つのR4は同一
であってもよく、異なっていてもよい)、A1はNHま
たはO、A2は酸素原子を介していてもよい炭素数1〜
6のアルキレン基、pは0または1〜6の整数、qは0
または1〜200の整数を示す)で表わされる繰り返し
単位を有するポリシロキサン化合物、該一般式(II)で
表わされる繰り返し単位と一般式(III):
Wherein R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a cyano group (however, two R 3 may be the same or different), and R 4 is hydrogen An atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group (however, six R 4 may be the same or different), A 1 is NH or O , A 2 has 1 to 1 carbon atoms which may be via an oxygen atom.
6 is an alkylene group, p is 0 or an integer of 1 to 6, q is 0
Or a polysiloxane compound having a repeating unit represented by the following general formula (II) and a general formula (III):

【0020】[0020]

【化5】 Embedded image

【0021】(式中、−CO−A3−CO−はマロン酸
残基、コハク酸残基、グルタル酸残基、アジピン酸残
基、セバシン酸残基、フタル酸残基、イソフタル酸残
基、テレフタル酸残基、ピメリン酸残基、スベリン酸残
基、アゼライン酸残基、フマル酸残基、マレイン酸残
基、イタコン酸残基、リンゴ酸残基、シトラコン酸残
基、メサコン酸残基、1,4−ナフタレンジカルボン酸
残基、4,4′−ビフェニルジカルボン酸残基などの二
塩基酸残基、R4、A1、A2およびqは前記と同じ)で
表わされる繰り返し単位とを有するポリシロキサン化合
物などがあげられ、その具体例としては、たとえば式
(IV):
(Wherein -CO-A 3 -CO- is a malonic acid residue, a succinic acid residue, a glutaric acid residue, an adipic acid residue, a sebacic acid residue, a phthalic acid residue, an isophthalic acid residue) , Terephthalic acid residue, pimelic acid residue, suberic acid residue, azelaic acid residue, fumaric acid residue, maleic acid residue, itaconic acid residue, malic acid residue, citraconic acid residue, mesaconic acid residue A dibasic acid residue such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid residue, 4,4′-biphenyldicarboxylic acid residue, and R 4 , A 1 , A 2 and q are the same as defined above); And specific examples thereof include, for example, a compound represented by the formula (IV):

【0022】[0022]

【化6】 Embedded image

【0023】で表わされる繰り返し単位を6〜8有する
化合物(数平均分子量:30000〜40000、セグ
メント分子量:約5000、和光純薬工業(株)製、以
下、化合物(S−1)という)、前記式(IV)で表わさ
れる繰り返し単位を7〜9有する化合物(数平均分子
量:70000〜90000、セグメント分子量:約1
0000、和光純薬工業(株)製、以下、化合物(S−
2)という)などがあげられる。
A compound having 6 to 8 repeating units represented by the following formula (number average molecular weight: 30000 to 40000, segment molecular weight: about 5000, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .; hereinafter, referred to as compound (S-1)); A compound having 7 to 9 repeating units represented by the formula (IV) (number average molecular weight: 70000 to 90000, segment molecular weight: about 1
0000, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .;
2)).

【0024】前記ポリシロキサン化合物の量は、あまり
にも少ない場合には、得られるブロック共重合体のフィ
ルムが光沢、しなやかさおよび滑り感が乏しくなるなど
の問題を生じるため、ポリシロキサン化合物とモノマー
成分との合計量の0.5重量%以上、好ましくは1重量
%以上、さらに好ましくは5重量%以上となるように調
整することが望ましい。一方、ポリシロキサン化合物の
量は、あまりにも多い場合には、毛髪のセット保持力が
低下し、ブロック共重合体の整髪剤として必要な洗髪性
がいちじるしく低下するおそれがあるため、ポリシロキ
サン化合物とモノマー成分との合計量の25重量%以
下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは18
重量%以下となるように調整することが望ましい。
If the amount of the polysiloxane compound is too small, the resulting block copolymer film may have problems such as gloss, flexibility, and poor slipperiness. It is desirable to adjust the total amount to 0.5% by weight or more, preferably 1% by weight or more, and more preferably 5% by weight or more. On the other hand, if the amount of the polysiloxane compound is too large, the set holding power of the hair is reduced, and the hair washability required as a hairdressing agent for the block copolymer may be significantly reduced. 25% by weight or less, preferably 20% by weight or less, more preferably 18% by weight or less of the total amount with the monomer component.
It is desirable to adjust so as to be not more than% by weight.

【0025】本発明に用いられるモノマー(A)は、前
記したように、一般式(I)で表わされるベタイン構造
を有する両性モノマーで、得られる整髪剤用基剤に水溶
性および毛髪への親和性を付与し、密着性を向上させる
成分である。
The monomer (A) used in the present invention is, as described above, an amphoteric monomer having a betaine structure represented by the general formula (I). It is a component that imparts properties and improves adhesion.

【0026】なお、モノマー(A)を表わす一般式
(I)において、ブロック共重合反応中にエステル交換
などの副反応を受けにくいという点から、R1はメチル
基であることが好ましい。
In the general formula (I) representing the monomer (A), R 1 is preferably a methyl group from the viewpoint that it is less susceptible to side reactions such as transesterification during the block copolymerization reaction.

【0027】前記モノマー(A)の具体例としては、た
とえばN−(メタ)アクリロイルオキシエチル−N,N
−ジメチルアンモニウム−α−N−メチルカルボキシベ
タイン、N−(メタ)アクリロイルアミドプロピル−
N,N−ジメチルアンモニウム−α−N−メチルカルボ
キシベタインなどがあげられ、これらは単独でまたは2
種以上を混合して用いることができる。
Specific examples of the monomer (A) include, for example, N- (meth) acryloyloxyethyl-N, N
-Dimethylammonium-α-N-methylcarboxybetaine, N- (meth) acryloylamidopropyl-
N, N-dimethylammonium-α-N-methylcarboxybetaine and the like.
A mixture of more than one species can be used.

【0028】モノマー(A)の量は、あまりにも少ない
場合には、得られるブロック共重合体のフィルムが水に
難溶で、洗髪の際に洗浄除去が困難となる可能性が高い
うえ、両性樹脂の特徴である毛髪への親和性が付与され
ず、その結果フレーキング現象の発生、帯電防止効果の
低下、自然な風合いの低下などの問題が生じるため、ポ
リシロキサン化合物とモノマー成分との合計量の20重
量%以上、好ましくは25重量%以上、さらに好ましく
は30重量%以上となるように調整することが望まし
い。一方、モノマー(A)の量は、あまりにも多い場合
には、得られるブロック共重合体のフィルムがブロッキ
ング感を示し、毛髪のセット保持力も低下し、またエア
ゾール用として使用する場合、現在広範に使用されてい
る天然ガスへの溶解性がいちじるしく低下するおそれが
あるため、ポリシロキサン化合物とモノマー成分との合
計量の60重量%以下、好ましくは55重量%以下、さ
らに好ましくは53重量%以下となるように調整するこ
とが望ましい。
If the amount of the monomer (A) is too small, the obtained block copolymer film is hardly soluble in water, so that it is highly likely that washing and removal during hair washing is difficult, and amphoteric. Affinity to the hair, which is a characteristic of the resin, is not imparted, and as a result, problems such as occurrence of flaking phenomenon, reduction of antistatic effect, and reduction of natural texture occur. It is desirable to adjust the amount to be 20% by weight or more, preferably 25% by weight or more, more preferably 30% by weight or more of the amount. On the other hand, when the amount of the monomer (A) is too large, the obtained block copolymer film shows a blocking feeling, reduces the set holding power of hair, and when used for aerosol, it is widely used at present. Since the solubility in the used natural gas may be significantly reduced, the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component is 60% by weight or less, preferably 55% by weight or less, more preferably 53% by weight or less. It is desirable to adjust so that

【0029】本発明に用いられるエチレン性不飽和カル
ボン酸エステル(B)(以下、モノマー(B)という)
は、得られるブロック共重合体のフィルムに適度の耐湿
性を付与し、高湿度下でのセット保持力を向上させるた
めの成分である。
The ethylenically unsaturated carboxylic acid ester (B) used in the present invention (hereinafter referred to as monomer (B))
Is a component for imparting appropriate moisture resistance to the obtained block copolymer film and improving the set holding power under high humidity.

【0030】前記モノマー(B)としては、たとえば一
般式(V):
As the monomer (B), for example, a compound represented by the general formula (V):

【0031】[0031]

【化7】 Embedded image

【0032】(式中、R5は水素原子またはメチル基、
6は直鎖状、分岐鎖状または環状の炭素数1〜18の
アルキル基を示す)で表わされるアルキル(メタ)アク
リレート;一般式(VI):
(Wherein R 5 is a hydrogen atom or a methyl group,
R 6 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms) represented by general formula (VI):

【0033】[0033]

【化8】 Embedded image

【0034】(式中、R7は水素原子またはメチル基、
8およびR9はそれぞれ独立して水素原子または炭素数
1〜4のアルキル基(ただし、R8およびR9は同時に水
素原子ではない)、rは1〜3の整数を示す)で表わさ
れるアミノアルキル(メタ)アクリレート;該アミノア
ルキル(メタ)アクリレートの4級化物などがあげられ
る。
(Wherein R 7 is a hydrogen atom or a methyl group,
R 8 and R 9 are each independently represented by a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (provided that R 8 and R 9 are not hydrogen atoms at the same time), and r represents an integer of 1 to 3) Aminoalkyl (meth) acrylate; quaternized aminoalkyl (meth) acrylate and the like.

【0035】なお、前記一般式(V)において、得られ
るブロック共重合体のフィルムの柔軟性を向上させ、フ
レーキング現象の発生を抑制するといった効果を充分に
発現し得るという点から、アルキル基の炭素数は4〜1
8であることが好ましい。また、得られるブロック共重
合体のフィルムの水溶性を微妙にコントロールするた
め、重合前または重合後に酸中和することで、ブロック
共重合体の水溶性に変化を与えるアミノアルキル(メ
タ)アクリレートおよびその4級化物を好適に使用する
ことができる。
In the above general formula (V), the alkyl group is preferred because the effect of improving the flexibility of the obtained block copolymer film and suppressing the occurrence of the flaking phenomenon can be sufficiently exhibited. Has 4 to 1 carbon atoms
8 is preferable. Further, in order to finely control the water solubility of the resulting block copolymer film, aminoalkyl (meth) acrylate which changes the water solubility of the block copolymer by neutralizing the acid before or after the polymerization, and The quaternized product can be suitably used.

【0036】前記モノマー(B)の具体例としては、た
とえばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレ
ート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル
(メタ)アクリレート;N,N−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、N−t−ブチルアミノエチル
(メタ)アクリレートなどのアミノアルキル(メタ)ア
クリレート;これらアミノアルキル(メタ)アクリレー
トの4級化物などがあげられ、これらは単独でまたは2
種以上を混合して用いることができる。
Specific examples of the monomer (B) include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate Alkyl (meth) acrylates such as N; N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, aminoalkyl (meth) acrylates such as N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate and Nt-butylaminoethyl (meth) acrylate Acrylates; quaternized products of these aminoalkyl (meth) acrylates;
A mixture of more than one species can be used.

【0037】モノマー(B)の量は、あまりにも少ない
場合には、得られるブロック共重合体のフィルムの耐湿
性が低下し、セット保持力が弱くなるなどの問題が生じ
るため、ポリシロキサン化合物とモノマー成分との合計
量の20重量%以上、好ましくは25重量%以上、さら
に好ましくは30重量%以上となるように調整すること
が望ましい。一方、モノマー(B)の量は、あまりにも
多い場合には、得られるブロック共重合体のフィルムが
水に難溶となり、洗髪時の洗浄除去が困難になるなどの
問題が生じるため、ポリシロキサン化合物とモノマー成
分との合計量の75重量%以下、好ましくは70重量%
以下、さらに好ましくは65重量%以下となるように調
整することが望ましい。
If the amount of the monomer (B) is too small, problems such as a decrease in the moisture resistance of the film of the obtained block copolymer and a decrease in the set holding power occur, and thus the amount of the polysiloxane compound and It is desirable that the amount is adjusted to be 20% by weight or more, preferably 25% by weight or more, more preferably 30% by weight or more of the total amount with the monomer component. On the other hand, if the amount of the monomer (B) is too large, the resulting block copolymer film becomes poorly soluble in water, which causes problems such as difficulties in washing and removing during hair washing. 75% by weight or less, preferably 70% by weight of the total amount of the compound and the monomer component
Below, it is more desirable to adjust so that it may be 65% by weight or less.

【0038】本発明の整髪剤用基剤は、前記したよう
に、モノマー(A)およびモノマー(B)を含有したモ
ノマー成分をポリシロキサン化合物の存在下でブロック
共重合させて得られたブロック共重合体からなるもので
あるが、本発明においては、これらモノマー(A)およ
びモノマー(B)の他にも、モノマー成分として、これ
らモノマー(A)およびモノマー(B)と共重合可能な
エチレン性不飽和モノマー(C)を用いることができ
る。
As described above, the base for a hairdressing composition of the present invention comprises a block copolymer obtained by subjecting a monomer component containing the monomer (A) and the monomer (B) to block copolymerization in the presence of a polysiloxane compound. In the present invention, in addition to the monomer (A) and the monomer (B), an ethylenic copolymerizable with the monomer (A) and the monomer (B) may be used as a monomer component. Unsaturated monomers (C) can be used.

【0039】本発明に用いられるモノマー(C)は、得
られるブロック共重合体のフィルムに適度の柔軟性およ
び適度の硬度を付与して感触を変化させ得る成分であ
る。
The monomer (C) used in the present invention is a component capable of imparting appropriate flexibility and appropriate hardness to the obtained block copolymer film to change the feel.

【0040】モノマー(C)の具体例としては、たとえ
ばN−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、酢
酸ビニル、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエ
チレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコール(メタ)アクリレート、t−ブチルアクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミドなどがあげら
れ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いるこ
とができる。
Specific examples of the monomer (C) include, for example, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, vinyl acetate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate And polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, t-butylacrylamide, diacetoneacrylamide, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0041】モノマー(C)の量は、あまりにも少ない
場合には、かかるモノマー(C)を用いた効果をほとん
ど確認することができないので、ポリシロキサン化合物
とモノマー成分との合計量の0.1重量%以上、好まし
くは2重量%以上となるように調整することが望まし
い。一方、モノマー(C)の量は、あまりにも多い場合
には、高湿度下でのセット保持力にすぐれ、しかも頭髪
との親和性にすぐれた自然で強力なセット性を有する整
髪剤用基剤を得るのが困難となる傾向があるため、ポリ
シロキサン化合物とモノマー成分との合計量の25重量
%以下、好ましくは20重量%以下となるように調整す
ることが望ましい。
If the amount of the monomer (C) is too small, the effect of using the monomer (C) can hardly be confirmed, so that the amount of the monomer (C) is 0.1% of the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component. It is desirable to adjust the amount to be at least 2% by weight, preferably at least 2% by weight. On the other hand, if the amount of the monomer (C) is too large, a base for a hairdressing composition having excellent set holding power under high humidity and having a natural and strong setting property having excellent affinity with the hair. Therefore, it is desirable to adjust the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component to 25% by weight or less, preferably 20% by weight or less.

【0042】本発明の整髪剤用基剤を構成するブロック
共重合体は、前記ポリシロキサン化合物と前記モノマー
(A)、モノマー(B)および必要に応じてモノマー
(C)を含有したモノマー成分との所望量を調整し、水
や有機溶媒中で、ポリシロキサン化合物の存在下に、モ
ノマー成分をブロック共重合させることによって得るこ
とができる。
The block copolymer constituting the base for a hairdressing composition of the present invention comprises the above-mentioned polysiloxane compound and the above-mentioned monomer (A), monomer (B) and, if necessary, a monomer component containing monomer (C). Can be obtained by subjecting the monomer component to block copolymerization in water or an organic solvent in the presence of a polysiloxane compound by adjusting the desired amount of the monomer component.

【0043】前記有機溶媒としては、たとえばn−ヘキ
サン、シクロヘキサン、トルエンなどの炭化水素類;酢
酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類;アセトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類;ジクロロエタン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;炭素数が1〜4
の脂肪族1〜4価アルコール;エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、ジオキサン、ジメチルホルムアミドなど
があげられるが、これらのなかでは1〜2価アルコール
が化粧品原料として扱ううえでとくに望ましい。
Examples of the organic solvent include hydrocarbons such as n-hexane, cyclohexane and toluene; esters such as ethyl acetate and methyl acetate; ketones such as acetone and cyclohexanone; halogenated hydrocarbons such as dichloroethane and chloroform. Class; having 1 to 4 carbon atoms
Aliphatic mono- to tetrahydric alcohols; ethyl cellosolve, butyl cellosolve, dioxane, dimethylformamide and the like, among which monohydric alcohols are particularly desirable for handling as cosmetic raw materials.

【0044】前記1価アルコールの具体例としては、た
とえばメタノール、エタノール、イソプロパノールなど
があげられる。また2価アルコールの具体例としては、
たとえばプロピレングリコールなどがあげられる。
Specific examples of the monohydric alcohol include, for example, methanol, ethanol and isopropanol. Specific examples of the dihydric alcohol include:
For example, propylene glycol and the like can be mentioned.

【0045】また本発明の整髪剤用基剤は、人体の皮膚
に付着することがあるので、安全性を考慮すれば、前記
有機溶媒のなかではエタノールおよびイソプロパノール
がとくに望ましい。
The base for a hairdressing composition of the present invention may adhere to the skin of a human body. Therefore, in consideration of safety, among the organic solvents, ethanol and isopropanol are particularly desirable.

【0046】ブロック共重合に際しては、前記水または
有機溶媒は、ポリシロキサン化合物とモノマー成分との
混合物の濃度が10〜70重量%程度となるように調整
して用いることが望ましい。なお、前記混合物の濃度が
50重量%をこえる場合には、混合物を分割して徐々に
添加し、ブロック共重合を行なうことが、急激な重合熱
の発生を抑制し、安全に重合を行なううえで望ましい。
In the block copolymerization, the water or the organic solvent is preferably used by adjusting the concentration of the mixture of the polysiloxane compound and the monomer component to about 10 to 70% by weight. When the concentration of the mixture is more than 50% by weight, the mixture is divided and gradually added, and block copolymerization is performed, which suppresses rapid generation of polymerization heat and allows safe polymerization. Is desirable.

【0047】前記ブロック共重合の方法としては、たと
えば溶液重合、懸濁重合、乳化重合などがあげられる。
本発明においては、モノマー(A)、モノマー(B)お
よび必要に応じてモノマー(C)の所望量を調整して水
や有機溶媒に溶解させ、ポリシロキサン化合物を添加
し、必要に応じて重合開始剤を添加し、チッ素ガスなど
の不活性ガス気流下で加熱しながら撹拌することにより
ブロック共重合を行なうことができる。
The block copolymerization method includes, for example, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization and the like.
In the present invention, desired amounts of the monomer (A), the monomer (B) and, if necessary, the monomer (C) are adjusted and dissolved in water or an organic solvent, a polysiloxane compound is added, and polymerization is performed, if necessary. Block copolymerization can be performed by adding an initiator and stirring while heating under an inert gas stream such as nitrogen gas.

【0048】前記重合開始剤としては、一般にラジカル
重合開始剤として用いられているものであればとくに限
定はなく、その具体例としては、たとえば過酸化ベンゾ
イル、過酸化ラウロイルなどの過酸化物;2,2′−ア
ゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2′−アゾ
ビスイソブチレートなどのアゾ系化合物などがあげられ
る。なお本発明においては、たとえばアミノ基含有モノ
マーを用いる場合があり、過酸化物重合開始剤特有の望
ましくないレドックス分解を防止し得るという点から、
アゾ系化合物を用いることが望ましい。
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it is generally used as a radical polymerization initiator. Specific examples thereof include peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide; And azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile and dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate. In the present invention, for example, an amino group-containing monomer may be used, for example, from the viewpoint that undesirable redox decomposition specific to a peroxide polymerization initiator can be prevented.
It is desirable to use an azo compound.

【0049】ブロック共重合時の重合温度は、低すぎる
とたとえばポリシロキサン化合物としてアゾ基含有ポリ
シロキサン化合物を用いた場合に、アゾ基の分解が少な
いため重合の進行が遅くなり、また高すぎるとたとえば
前記アゾ基の分解が多くなるため重合の制御が困難にな
るという問題が生じるので、通常20〜150℃、好ま
しくは40〜120℃の範囲で選択される。とくに、た
とえばポリシロキサン化合物としてアゾ基含有ポリシロ
キサン化合物を用いた場合に、かかるアゾ基含有ポリシ
ロキサン化合物と必要に応じて添加した重合開始剤の1
0時間半減期温度とすることが好ましく、さらには用い
た溶媒の還流温度に近いことが、より再現性の高い重合
を行なうことができるので望ましい。
If the polymerization temperature during block copolymerization is too low, for example, when an azo group-containing polysiloxane compound is used as the polysiloxane compound, the decomposition of the azo group is small, so that the progress of polymerization is slow. For example, a problem arises in that the control of polymerization becomes difficult because the decomposition of the azo group increases, so that the temperature is usually selected in the range of 20 to 150 ° C, preferably 40 to 120 ° C. In particular, for example, when an azo group-containing polysiloxane compound is used as the polysiloxane compound, the azo group-containing polysiloxane compound and one of the polymerization initiators added as necessary
It is preferable that the temperature be a half-life time of 0 hour, and it is more preferable that the temperature is close to the reflux temperature of the solvent used, since polymerization with higher reproducibility can be performed.

【0050】ブロック共重合時の重合時間は、重合温度
や重合濃度、またはブロック共重合に供する前記ポリシ
ロキサン化合物、モノマー(A)、モノマー(B)およ
びモノマー(C)の種類などによって異なるが、通常2
〜36時間の範囲から選択される。重合時間が短すぎる
場合、重合が不完全となって未反応のモノマーが残存す
ることがあるため、8時間以上、好ましくは10〜36
時間とすることが望ましい。
The polymerization time during the block copolymerization depends on the polymerization temperature and the polymerization concentration, or the type of the polysiloxane compound, monomer (A), monomer (B) and monomer (C) to be subjected to the block copolymerization. Usually 2
~ 36 hours. If the polymerization time is too short, the polymerization may be incomplete and unreacted monomers may remain.
Time is desirable.

【0051】なお、残存モノマーが存在するか否かは、
一般的な手法、たとえばPSDB法などにより、二重結
合が存在するか否かを測定することにより確認すること
ができる。
The presence or absence of the residual monomer is determined by
It can be confirmed by measuring whether or not a double bond exists by a general method, for example, the PSDB method.

【0052】かくして得られるブロック共重合体の粘度
平均分子量は、セット保持力を維持させるという点か
ら、またあまりにも高分子化して洗浄性を損なわないよ
うにするという点から、40000程度以上、好ましく
は70000程度以上、また200000程度以下、好
ましくは140000程度以下であることが望ましい。
The viscosity-average molecular weight of the block copolymer thus obtained is preferably about 40,000 or more, from the viewpoint of maintaining the set holding power, and from the fact that it is excessively polymerized so as not to impair the detergency. Is preferably about 70,000 or more, about 200,000 or less, preferably about 140,000 or less.

【0053】前記ブロック共重合体をたとえばエタノー
ル、水や、エタノール/天然ガス、エタノール/天然ガ
ス−ジメチルエーテル、エタノール−水/ジメチルエー
テルなどに再溶解させ、0.5〜10重量%程度の溶液
にするなどして本発明の整髪剤用基剤を得ることができ
る。
The block copolymer is redissolved in, for example, ethanol, water, ethanol / natural gas, ethanol / natural gas-dimethyl ether, ethanol-water / dimethyl ether, etc., to give a solution of about 0.5 to 10% by weight. Thus, the base for a hairdressing composition of the present invention can be obtained.

【0054】得られた本発明の整髪剤用基剤のpH、水
溶性などを微妙にコントロールするために、ブロック共
重合体中のアミノ基を酸で中和することができる。使用
し得る酸の具体例としては、たとえば塩酸、硫酸、リン
酸などの無機酸および酢酸、乳酸、グリコール酸、クエ
ン酸、アミノ酸などの有機酸があげられる。またその使
用量は、皮膚への悪影響を考慮すると、整髪剤用基剤の
pHが4未満にならないように調整することが望まし
い。
The amino group in the block copolymer can be neutralized with an acid in order to finely control the pH, water solubility, etc. of the obtained hairdressing preparation base of the present invention. Specific examples of acids that can be used include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, lactic acid, glycolic acid, citric acid, and amino acids. Also, considering the adverse effect on the skin, it is desirable to adjust the amount of use so that the pH of the base for a hairdressing agent does not become less than 4.

【0055】本発明の整髪剤用基剤は、毛髪に対する付
着性にすぐれ、フレーキング現象を起こさず、毛髪にす
ぐれた光沢、しなやかさおよびとくにすぐれた滑り感を
付与し、かつ良好なセット保持力を有するものであるの
で、たとえばヘアブロー剤(ヘアミスト)、ヘアムー
ス、ヘアスプレー、ヘアジェルなどとして好適に用いる
ことができる。
The base for hair styling of the present invention has excellent adhesion to hair, does not cause a flaking phenomenon, imparts excellent gloss, suppleness and particularly excellent slipping feeling to hair, and has good set holding properties. Since it has power, it can be suitably used as, for example, a hair blowing agent (hair mist), a hair mousse, a hair spray, a hair gel and the like.

【0056】[0056]

【実施例】つぎに、本発明の整髪剤用基剤を実施例に基
づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例
のみに限定されるものではない。
Next, the base for a hairdressing composition of the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0057】実施例1 還流冷却器、温度計、チッ素ガス導入管および撹拌装置
を取り付けた500ml容の5つ口フラスコに、メタク
リロイルオキシエチレンジメチルアンモニウムカルボキ
シメチルベタイン40重量部(以下、部という)、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート27部、ステアリルア
クリレート12部、アルキルメタクリレート(デシルメ
タクリレート:ドデシルメタクリレート≒1:1(重量
比)の混合物)15部、乳酸25モル%(ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート中のアミノ基全量に対して)お
よび無水エタノールを入れて30重量%溶液とした。こ
れに化合物(S−1)6部の30重量%イソプロパノー
ル溶液および2,2′−アゾビスイソブチロニトリル
(以下、AIBNという)30ppm(ポリシロキサン
化合物とモノマー成分との合計量に対して)を加えた。
なおAIBNの量は、ポリシロキサン化合物のAIBN
換算量とAIBN添加量との合計が最終的に2000p
pmとなるように調整したものである。
Example 1 40 parts by weight of methacryloyloxyethylene dimethylammonium carboxymethyl betaine (hereinafter referred to as "parts") was placed in a 500 ml five-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube and a stirrer. 27 parts of dimethylaminoethyl methacrylate, 12 parts of stearyl acrylate, 15 parts of alkyl methacrylate (a mixture of decyl methacrylate: dodecyl methacrylate ≒ 1: 1 (weight ratio)), 25 mol% of lactic acid (to the total amount of amino groups in dimethylaminoethyl methacrylate) ) And absolute ethanol to give a 30% by weight solution. To this, 30 parts by weight of a solution of 6 parts of the compound (S-1) in isopropanol and 2,2'-azobisisobutyronitrile (hereinafter referred to as AIBN) 30 ppm (based on the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component) Was added.
The amount of AIBN is determined based on the polysiloxane compound AIBN.
The total of the conversion amount and the AIBN addition amount is finally 2000p
pm.

【0058】ついで、これらの混合物溶液をチッ素ガス
気流下に撹拌しながら、80℃で加熱還流して重合を開
始した。重合開始5時間後にAIBN900ppm(ポ
リシロキサン化合物とモノマー成分との合計量に対し
て)を追添し、さらに4時間重合させて反応を完結さ
せ、この反応溶液をn−ヘキサン中に滴下し、ブロック
共重合体を析出させた。析出物をろ取し、n−ヘキサン
にて洗浄後、60℃で3時間減圧乾燥し、ブロック共重
合体を得た。
Then, the mixture was heated and refluxed at 80 ° C. while stirring under a nitrogen gas stream to initiate polymerization. Five hours after the start of the polymerization, 900 ppm of AIBN (based on the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component) was added, and the reaction was completed for another 4 hours to complete the reaction. The copolymer was precipitated. The precipitate was collected by filtration, washed with n-hexane, and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 3 hours to obtain a block copolymer.

【0059】得られたブロック共重合体の収率は77.
5%であり、粘度平均分子量は108000であった。
The yield of the obtained block copolymer was 77.
The viscosity average molecular weight was 108,000.

【0060】この乾燥させたブロック共重合体をエタノ
ールに再溶解させて30重量%溶液となるように調整
し、整髪剤用基剤を得た。得られた整髪剤用基剤を水で
10重量倍に希釈したもののpHは7であった。
The dried block copolymer was redissolved in ethanol to prepare a 30% by weight solution to obtain a hairdressing preparation base. The pH of the resulting hair dressing base diluted to 10 times by weight with water was 7.

【0061】実施例2〜6 ポリシロキサン化合物およびモノマー成分を表1に示す
ように変更したほかは、実施例1と同様にしてブロック
共重合体を得、整髪剤用基剤を調製した。
Examples 2 to 6 A block copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polysiloxane compound and the monomer component were changed as shown in Table 1, and a hair dressing base was prepared.

【0062】ブロック共重合の際のアミノ基全量に対す
る酸(乳酸)の使用量(モル%)、ブロック共重合体の
粘度平均分子量および整髪剤用基剤(水にて10重量倍
に希釈)のpHをあわせて表1に示す。
The amount of the acid (lactic acid) used (mol%) relative to the total amount of amino groups in the block copolymerization, the viscosity average molecular weight of the block copolymer and the base for the hairdressing agent (diluted 10 times by weight with water). Table 1 shows the pH values.

【0063】実施例7 還流冷却器、温度計、チッ素ガス導入管および撹拌装置
を取り付けた500ml容の5つ口フラスコに、メタク
リロイルオキシエチレンジメチルアンモニウムカルボキ
シメチルベタイン40部、ジメチルアミノエチルメタク
リレート27部、ステアリルアクリレート12部、アル
キルメタクリレート(デシルメタクリレート:ドデシル
メタクリレート≒1:1(重量比)の混合物)16部、
乳酸25モル%(ジメチルアミノエチルメタクリレート
中のアミノ基全量に対して)、無水エタノールおよび無
水イソプロパノールを入れて30.8重量%溶液とし
た。これに化合物(S−2)5部の20重量%イソプロ
パノール溶液およびAIBN1015ppm(ポリシロ
キサン化合物とモノマー成分との合計量に対して)を加
えた。なおAIBNの量は、ポリシロキサン化合物のA
IBN換算量とAIBN添加量との合計が最終的に20
00ppmとなるように調整したものである。また反応
溶媒は、無水エタノール:無水イソプロパノール=7:
3(重量比)となるようにした。
Example 7 40 parts of methacryloyloxyethylene dimethylammonium carboxymethyl betaine and 27 parts of dimethylaminoethyl methacrylate were placed in a 500 ml five-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube and a stirrer. , 12 parts of stearyl acrylate, 16 parts of alkyl methacrylate (a mixture of decyl methacrylate: dodecyl methacrylate ≒ 1: 1 (weight ratio)),
25 mol% of lactic acid (based on the total amount of amino groups in dimethylaminoethyl methacrylate), anhydrous ethanol and anhydrous isopropanol were added to prepare a 30.8% by weight solution. To this were added a solution of 5 parts of compound (S-2) in 20% by weight of isopropanol and 1015 ppm of AIBN (based on the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component). The amount of AIBN is determined by the amount of A in the polysiloxane compound.
The total of the IBN conversion amount and the AIBN addition amount is finally 20
It was adjusted to be 00 ppm. The reaction solvent was anhydrous ethanol: isopropanol = 7:
3 (weight ratio).

【0064】ついで、これらの混合物溶液をチッ素ガス
気流下に撹拌しながら、80℃で加熱還流して重合を開
始した。重合開始5時間後にAIBN900ppm(ポ
リシロキサン化合物とモノマー成分との合計量に対し
て)追添し、さらに4時間重合させて反応を完結させ、
この反応溶液をn−ヘキサン中に滴下し、ブロック共重
合体を析出させた。析出物をろ取し、n−ヘキサンにて
洗浄後、60℃で3時間減圧乾燥し、ブロック共重合体
を得た。
Then, the mixture was heated and refluxed at 80 ° C. while stirring under a nitrogen gas stream to initiate polymerization. Five hours after the start of the polymerization, 900 ppm of AIBN (based on the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component) were added, and the polymerization was further performed for 4 hours to complete the reaction.
This reaction solution was dropped into n-hexane to precipitate a block copolymer. The precipitate was collected by filtration, washed with n-hexane, and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 3 hours to obtain a block copolymer.

【0065】得られたブロック共重合体の収率は67.
7%であり、粘度平均分子量は89000であった。
The yield of the obtained block copolymer was 67.
And a viscosity average molecular weight of 89000.

【0066】この乾燥させたブロック共重合体をエタノ
ールに再溶解させて30重量%溶液となるように調整
し、整髪剤用基剤を得た。得られた整髪剤用基剤を水で
10重量倍に希釈したもののpHは7であった。
The dried block copolymer was redissolved in ethanol and adjusted to a 30% by weight solution to obtain a hair dressing base. The pH of the resulting hair dressing base diluted to 10 times by weight with water was 7.

【0067】実施例8〜9 ポリシロキサン化合物およびモノマー成分を表2に示す
ように変更したほかは、実施例7と同様にしてブロック
共重合体を得、整髪剤用基剤を調製した。
Examples 8 to 9 A block copolymer was obtained in the same manner as in Example 7 except that the polysiloxane compound and the monomer component were changed as shown in Table 2, and a hairdressing preparation base was prepared.

【0068】ブロック共重合の際のアミノ基全量に対す
る酸(乳酸)の使用量(モル%)、ブロック共重合体の
粘度平均分子量および整髪剤用基剤(水にて10重量倍
に希釈)のpHをあわせて表2に示す。
The amount of the acid (lactic acid) used (mol%) based on the total amount of amino groups in the block copolymerization, the viscosity average molecular weight of the block copolymer and the base for the hairdressing agent (diluted 10 times by weight with water). Table 2 shows the pH values.

【0069】実施例10 ポリシロキサン化合物およびモノマー成分を表2に示す
ように変更し、反応溶媒を無水エタノール:無水イソプ
ロパノール=5:5(重量比)となるように変更したほ
かは、実施例7と同様にしてブロック共重合体を得、整
髪剤用基剤を調製した。
Example 10 Example 7 was repeated except that the polysiloxane compound and the monomer component were changed as shown in Table 2 and that the reaction solvent was changed so that anhydrous ethanol: isopropanol = 5: 5 (weight ratio). In the same manner as in the above, a block copolymer was obtained, and a base for a hairdressing agent was prepared.

【0070】ブロック共重合の際のアミノ基全量に対す
る酸(乳酸)の使用量(モル%)、ブロック共重合体の
粘度平均分子量および整髪剤用基剤(水にて10重量倍
に希釈)のpHをあわせて表2に示す。
The amount (mol%) of the acid (lactic acid) used, the viscosity average molecular weight of the block copolymer and the base for the hairdressing agent (diluted 10 times by weight with water) based on the total amount of amino groups in the block copolymerization. Table 2 shows the pH values.

【0071】実施例1〜10にて得られた整髪剤用基剤
の物性として、外観、水溶性およびエタノールとの相溶
性を以下の方法にしたがって調べた。その結果を表3に
示す。
The physical properties of the hair styling preparations obtained in Examples 1 to 10 were examined for appearance, water solubility and compatibility with ethanol according to the following methods. Table 3 shows the results.

【0072】(イ)外観 整髪剤用基剤(30重量%ポリマーエタノール溶液)の
外観を目視により観察した。
(A) Appearance The appearance of the hair styling preparation base (30% by weight polymer ethanol solution) was visually observed.

【0073】(ロ)水溶性 整髪剤用基剤(30重量%ポリマーエタノール溶液)
に、液温を25℃に保ちながら精製水を添加して希釈さ
れるか否かを調べ、以下の評価基準に基づいて評価し
た。
(B) Water-soluble base for hair styling (30% by weight polymer solution in ethanol)
Then, while maintaining the liquid temperature at 25 ° C., it was examined whether or not the solution was diluted by adding purified water, and evaluated based on the following evaluation criteria.

【0074】(評価基準) A:無限に希釈される。 B:水を添加すると濁りを生じる。 C:水を添加するとポリマーが凝集析出する。(Evaluation Criteria) A: Infinite dilution. B: Turbidity occurs when water is added. C: Polymer is coagulated and precipitated when water is added.

【0075】(ハ)エタノールとの相溶性 整髪剤用基剤(30重量%ポリマーエタノール溶液)
に、液温を5〜10℃に保ちながらエタノールを添加し
て希釈されるか否かを調べ、以下の評価基準に基づいて
評価した。
(C) Compatibility with ethanol Base for hair styling agent (30% by weight polymer ethanol solution)
Then, while maintaining the liquid temperature at 5 to 10 ° C., it was examined whether or not ethanol was added for dilution, and evaluated based on the following evaluation criteria.

【0076】(評価基準) A:無限に希釈される。 B:エタノールを添加すると濁りを生じる。 C:エタノールを添加するとポリマーが凝集析出する。(Evaluation Criteria) A: Infinite dilution. B: Turbidity occurs when ethanol is added. C: Polymer is coagulated and precipitated when ethanol is added.

【0077】なお、表1〜2中の各略語は以下のことを
意味する。 MOEDMB:メタクリロイルオキシエチレンジメチル
アンモニウムカルボキシメチルベタイン MAmPDMB:メタクリロイルアミドプロピルジメチ
ルアンモニウムカルボキシメチルベタイン AAmPDMB:アクリロイルアミドプロピルジメチル
アンモニウムカルボキシメチルベタイン DMMA:ジメチルアミノエチルメタクリレート DMDS:ジメチルアミノエチルメタクリレートジエチ
ル硫酸塩 DMAPMA:ジメチルアミノプロピルメタクリルアミ
ド DMAPAA:ジメチルアミノプロピルアクリルアミド EMA:エチルメタクリレート BMA:n−ブチルメタクリレート TBMA:t−ブチルメタクリレート TBA:t−ブチルアクリレート SLMA:デシルメタクリレートとドデシルメタクリレ
ートとの混合物(約1:1の重量比) SMA:ステアリルメタクリレート HEMA:ヒドロキシエチルメタクリレート HPA:ヒドロキシプロピルアクリレート M90G:メトキシポリエチレングリコールモノメタク
リレート(n=9) NVP:N−ビニルピロリドン NVA:N−ビニルアセトアミド DAAm:ダイアセトンアクリルアミド TBAAm:t−ブチルアクリルアミド
The abbreviations in Tables 1 and 2 mean the following. MOEDMB: methacryloyloxyethylene dimethyl ammonium carboxymethyl betaine MAmPDMB: methacryloylamidopropyl dimethyl ammonium carboxymethyl betaine AAmPDMB: acryloylamidopropyl dimethyl ammonium carboxymethyl betaine DMMA: dimethylaminoethyl methacrylate DMDS: dimethylaminoethyl methacrylate diethyl sulfate DMAPMA: dimethylaminopropyl Methacrylamide DMAPAA: Dimethylaminopropylacrylamide EMA: Ethyl methacrylate BMA: n-butyl methacrylate TBMA: t-butyl methacrylate TBA: t-butyl acrylate SLMA: Mixture of decyl methacrylate and dodecyl methacrylate (about 1) SMA: stearyl methacrylate HEMA: hydroxyethyl methacrylate HPA: hydroxypropyl acrylate M90G: methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (n = 9) NVP: N-vinylpyrrolidone NVA: N-vinylacetamide DAAm: diacetone acrylamide TBAAm: t-butylacrylamide

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】[0079]

【表2】 [Table 2]

【0080】[0080]

【表3】 [Table 3]

【0081】表3に示された結果から、実施例1〜10
で得られた整髪剤用基剤は、いずれも外観、水溶性およ
びエタノールとの相溶性にすぐれたものであることがわ
かる。
From the results shown in Table 3, Examples 1 to 10
It can be seen that the hair styling preparations obtained in the above were all excellent in appearance, water solubility and compatibility with ethanol.

【0082】比較例1 N−メタクリロイルオキシエチル−N,N−ジメチルア
ンモニウム−α−N−メチルカルボキシベタイン−メタ
クリル酸アルキルエステル共重合体(商品名:RAMレ
ジン−1000、大阪有機化学工業(株)製)を用い、
ポリマー含量30重量%のエタノール溶液である整髪剤
用基剤を調製した。この整髪剤用基剤は高水溶性を示す
ものであった。
Comparative Example 1 N-methacryloyloxyethyl-N, N-dimethylammonium-α-N-methylcarboxybetaine-methacrylic acid alkyl ester copolymer (trade name: RAM Resin-1000, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) Made)
A hairdressing base was prepared as an ethanol solution having a polymer content of 30% by weight. This hair dressing base exhibited high water solubility.

【0083】処方例1〜10および比較処方例1 実施例1〜10および比較例1で得られた整髪剤用基剤
10部にエタノール65部およびイオン交換水25部を
添加し、ポリマー含量が3重量%の均一な透明液(ポリ
マー3部、エタノール72部およびイオン交換水25
部)を得た。この透明液を100ml容のミストポンプ
容器に充填し、噴射口付きの蓋をしてヘアローション整
髪剤製品とした。
Formulation Examples 1 to 10 and Comparative Formulation Example 1 To 10 parts of the hairdressing preparation obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Example 1, 65 parts of ethanol and 25 parts of ion-exchanged water were added. 3% by weight of a uniform transparent liquid (3 parts of polymer, 72 parts of ethanol and 25 parts of ion-exchanged water)
Part). This clear liquid was filled into a 100 ml mist pump container, and a lid with a jet opening was provided to obtain a hair lotion hair styling product.

【0084】得られたヘアローション整髪剤製品を用
い、セット保持力、しなやかさおよび形成されたフィル
ムの物性を以下の方法にしたがって調べた。その結果を
表4に示す。
Using the obtained hair lotion hair styling product, set holding power, flexibility, and physical properties of the formed film were examined according to the following methods. Table 4 shows the results.

【0085】(イ)セット保持力 長さ25cmの毛髪2gにヘアローション整髪剤1gを
均一に塗布し、この毛髪を外形1.2cmのカーラーに
巻き、40℃の温風で60分間かけて乾燥した。乾燥
後、カーラーから毛髪をはずし、温度30℃、相対湿度
90%の雰囲気中に垂直に吊した直後の長さ(L1(c
m))と3時間後の長さ(L2(cm))とを測定し、
カールリテンション(%)を次式から計算した。 カールリテンション(%)={(25−L2)/(25
−L1)}×100
(A) Set holding power 1 g of hair lotion hairdressing agent is uniformly applied to 2 g of hair having a length of 25 cm, and the hair is wound around a curler having an outer shape of 1.2 cm, and dried with warm air at 40 ° C. for 60 minutes. did. After drying, the hair was removed from the curler, and the hair was immediately suspended vertically in an atmosphere at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 90% (L 1 (c)
m)) and the length (L 2 (cm)) after 3 hours,
The curl retention (%) was calculated from the following equation. Curl retention (%) = {(25−L 2 ) / (25
−L 1 )} × 100

【0086】なお、カールリテンションが75%以上の
ものを合格(表4中、Aと表示)、75%未満のものを
不合格(表4中、Bと表示)とした。
Those having a curl retention of 75% or more were evaluated as pass (indicated by A in Table 4), and those having a curl retention of less than 75% were rejected (indicated by B in Table 4).

【0087】(ロ)しなやかさ 長さ25cmの毛髪2gにヘアローション整髪剤1gを
均一に塗布し、市販の櫛で毛並みを整えたのち、40℃
の温風で60分間かけて乾燥し、しなやかさを以下の評
価基準に基づいて評価した。
(B) Suppleness 1 g of a hair lotion hairdressing agent was evenly applied to 2 g of 25 cm long hair, and the hair was adjusted with a commercially available comb.
Was dried with warm air for 60 minutes, and the flexibility was evaluated based on the following evaluation criteria.

【0088】(評価基準) A:手で触れるとごわつきがなく、自然な感触である。 B:手で触れると少しごわつきがある。 C:手で触れるとごわつきがひどく、かたい感触であ
る。
(Evaluation Criteria) A: There is no stiffness when touched by hand, and the feel is natural. B: There is slight stiffness when touched by hand. C: Roughness is severe when touched by hand, giving a hard feel.

【0089】(ハ)フィルムの物性 光沢性 長さ25cmの毛髪2gにヘアローション整髪剤1gを
均一に塗布し、40℃の温風で60分間かけて乾燥し
た。この毛髪の光沢を目視にて観察し、以下の評価基準
に基づいて評価した。
(C) Physical Properties of Film Gloss 1 g of a hair lotion hairdressing agent was uniformly applied to 2 g of hair having a length of 25 cm, and dried with warm air at 40 ° C. for 60 minutes. The gloss of the hair was visually observed and evaluated based on the following evaluation criteria.

【0090】(評価基準) A:非常に光沢がある。 B:若干光沢がある。 C:光沢がない。(Evaluation Criteria) A: Very glossy. B: Slightly glossy. C: No gloss.

【0091】柔軟性(フレーキング現象の有無の確
認) 長さ25cmの毛髪2gにヘアローション整髪剤1gを
均一に塗布し、40℃の温風で60分間かけて乾燥し
た。この毛髪の中心から約1cm間隔のところを指では
さみ、上下に曲げる操作を10回繰り返してコーティン
グフィルムの変化を目視にて観察し、以下の評価基準に
基づいて評価した。
Flexibility (Confirmation of Flaking Phenomenon) 1 g of a hair lotion hairdressing agent was uniformly applied to 2 g of hair having a length of 25 cm and dried with warm air at 40 ° C. for 60 minutes. The operation of holding the hair at an interval of about 1 cm from the center of the hair and bending the hair up and down was repeated 10 times, and the change in the coating film was visually observed, and evaluated based on the following evaluation criteria.

【0092】(評価基準) A:フィルムの剥離は見られない。 B:フィルムが剥離している。 C:曲げた箇所全体が白くなり、粉が飛び散る。(Evaluation Criteria) A: No peeling of the film was observed. B: The film has peeled off. C: The entire bent portion becomes white, and the powder scatters.

【0093】平滑性(滑り感) 2.5cm×7.5cmのガラス板上にヘアローション
整髪剤0.5gを均一に塗布し、40℃の温風で60分
間かけて乾燥した。このフィルム面の感触を指で調べ、
平滑性を以下の評価基準に基づいて評価した。
Smoothness (Slipperiness) 0.5 g of a hair lotion hairdressing agent was uniformly applied on a 2.5 cm × 7.5 cm glass plate and dried with warm air at 40 ° C. for 60 minutes. Check the feel of this film surface with your finger,
The smoothness was evaluated based on the following evaluation criteria.

【0094】(評価基準) A:非常になめらかである。 B:なめらかである。 C:ざらつきがある。(Evaluation Criteria) A: Very smooth. B: Smooth. C: There is roughness.

【0095】洗浄性 2.5cm×7.5cmのガラス板上にヘアローション
整髪剤0.5gを均一に塗布し、40℃の温風で60分
間かけて乾燥した。このガラス板を40℃、0.2重量
%シャンプー含有温水に静置浸漬し、フィルムの溶解状
態の経時変化を調べ、以下の評価基準に基づいて評価し
た。
Detergency 0.5 g of a hair lotion hairdressing agent was uniformly applied on a 2.5 cm × 7.5 cm glass plate and dried with warm air at 40 ° C. for 60 minutes. The glass plate was immersed in warm water containing shampoo at 40 ° C. and 0.2% by weight, and the change with time in the dissolution state of the film was examined and evaluated based on the following evaluation criteria.

【0096】(評価基準) A:30分間以内に完全に溶解する。 B:40分間以内に完全に溶解する。 C:40分間以後もフィルムが残存する。(Evaluation Criteria) A: Completely dissolved within 30 minutes. B: Dissolve completely within 40 minutes. C: The film remains even after 40 minutes.

【0097】[0097]

【表4】 [Table 4]

【0098】表4に示された結果から、実施例1〜10
で得られた整髪剤用基剤からなる処方例1〜10のヘア
ローション整髪剤は、いずれもセット保持力およびしな
やかさにすぐれ、形成されたフィルムが光沢性、柔軟
性、平滑性および洗浄性に同時にすぐれたものであるこ
とがわかる。
From the results shown in Table 4, Examples 1 to 10
Each of the hair lotion hair styling compositions of Formulation Examples 1 to 10 comprising the hair styling base obtained in the above is excellent in set holding power and suppleness, and the formed film has gloss, flexibility, smoothness and detergency. At the same time.

【0099】[0099]

【発明の効果】本発明の整髪剤用基剤は、整髪剤として
必要な特性であるセット保持力、しなやかさ、柔軟性、
洗浄性を充分に備えているだけでなく、フレーキング現
象の少なさと光沢性および滑り感にもすぐれている。
The base for a hairdressing composition of the present invention is characterized in that the properties required for a hairdressing composition include set holding power, flexibility, flexibility,
Not only has sufficient washing properties, but also excellent flaking, glossiness and slipperiness.

【0100】また本発明の整髪剤用基剤は、従来のベタ
イン型両性整髪剤用基剤と同様に、毛髪への親和性が高
く、帯電防止効果があり、また自然な風合いを付与する
ことができる。
The base for a hairdressing composition of the present invention has a high affinity for hair, has an antistatic effect, and imparts a natural texture, similarly to a conventional betaine-type amphoteric hairdressing base. Can be.

【0101】さらに本発明の整髪剤用基剤は、水やエタ
ノールなどの各種有機溶剤との相溶性にすぐれたもので
あるので、たとえばヘアブロー剤(ヘアミスト)、ヘア
ムース、ヘアスプレー、ヘアジェルなどに用いる場合
に、噴霧容器内やエアゾール容器内、またはノズル内で
ポリマーが凝集析出することがなく、最後まで均一な状
態で、安定して噴霧、噴射させることができる。
Further, since the base for a hairdressing agent of the present invention has excellent compatibility with various organic solvents such as water and ethanol, it is used for, for example, a hair blowing agent (hair mist), a hair mousse, a hair spray, a hair gel and the like. In this case, the polymer can be stably sprayed and sprayed in a uniform state to the end without coagulation and precipitation of the polymer in the spray container, the aerosol container, or the nozzle.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C083 AC102 AC172 AD091 AD092 AD151 AD152 CC32 DD08 EE07 EE25 FF01 4J026 AB44 BA27 BA39 HA11 HA20 HA22 HA46  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4C083 AC102 AC172 AD091 AD092 AD151 AD152 CC32 DD08 EE07 EE25 FF01 4J026 AB44 BA27 BA39 HA11 HA20 HA22 HA46

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリシロキサン化合物の存在下に、一般
式(I): 【化1】 (式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子ま
たはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示
す)で表わされるモノマー(A)およびエチレン性不飽
和カルボン酸エステル(B)を含有したモノマー成分を
ブロック共重合させて得られたブロック共重合体からな
る整髪剤用基剤。
1. In the presence of a polysiloxane compound, a compound of the general formula (I): Wherein X is an oxygen atom or an NH group, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, and an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester A hairdressing base comprising a block copolymer obtained by subjecting a monomer component containing (B) to block copolymerization.
【請求項2】 ポリシロキサン化合物の量がポリシロキ
サン化合物とモノマー成分との合計量の0.5〜25重
量%である請求項1記載の整髪剤用基剤。
2. The hairdressing composition according to claim 1, wherein the amount of the polysiloxane compound is 0.5 to 25% by weight of the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component.
【請求項3】 ポリシロキサン化合物がアゾ基含有ポリ
シロキサン化合物である請求項1記載の整髪剤用基剤。
3. The hairdressing composition according to claim 1, wherein the polysiloxane compound is an azo group-containing polysiloxane compound.
【請求項4】 モノマー(A)の量がポリシロキサン化
合物とモノマー成分との合計量の20〜60重量%であ
る請求項1記載の整髪剤用基剤。
4. The hairdressing composition according to claim 1, wherein the amount of the monomer (A) is 20 to 60% by weight of the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component.
【請求項5】 エチレン性不飽和カルボン酸エステル
(B)の量がポリシロキサン化合物とモノマー成分との
合計量の20〜75重量%である請求項1記載の整髪剤
用基剤。
5. The hairdressing composition according to claim 1, wherein the amount of the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester (B) is 20 to 75% by weight of the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component.
【請求項6】 モノマー成分がモノマー(A)およびエ
チレン性不飽和カルボン酸エステル(B)と共重合可能
なエチレン性不飽和モノマー(C)をポリシロキサン化
合物とモノマー成分との合計量の0.1〜25重量%含
有したものである請求項1記載の整髪剤用基剤。
6. An ethylenically unsaturated monomer (C) whose monomer component can be copolymerized with the monomer (A) and the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester (B) is 0.1% of the total amount of the polysiloxane compound and the monomer component. The hair styling preparation base according to claim 1, which contains 1 to 25% by weight.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002363045A (en) * 2001-06-01 2002-12-18 Osaka Organic Chem Ind Ltd Base for hair dressing, and cosmetic for hair dressing comprising the same
JP2003081742A (en) * 2001-09-13 2003-03-19 Mitsubishi Chemicals Corp Resin composition for cosmetic and cosmetic using the same
WO2003024414A1 (en) * 2001-09-13 2003-03-27 Mitsubishi Chemical Corporation Resin compositions for cosmetics and cosmetics
JP2003286142A (en) * 2002-03-29 2003-10-07 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and the resulting hair cosmetic
JP2003335637A (en) * 2002-05-21 2003-11-25 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2003342133A (en) * 2002-05-30 2003-12-03 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2003342132A (en) * 2002-05-28 2003-12-03 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2004051549A (en) * 2002-07-19 2004-02-19 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2004051569A (en) * 2002-07-22 2004-02-19 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2008505242A (en) * 2004-07-02 2008-02-21 ロレアル NOVEL ETHYLENE COPOLYMER, COMPOSITION CONTAINING THE COPOLYMER, PREPARATION AND PROCESSING METHOD
WO2014087779A1 (en) * 2012-12-03 2014-06-12 花王株式会社 Organopolysiloxane graft polymer
JP2019206685A (en) * 2018-04-05 2019-12-05 東洋インキScホールディングス株式会社 Block copolymer, cell culture substrate treatment agent including the block copolymer, and use therefor

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002363045A (en) * 2001-06-01 2002-12-18 Osaka Organic Chem Ind Ltd Base for hair dressing, and cosmetic for hair dressing comprising the same
JP2003081742A (en) * 2001-09-13 2003-03-19 Mitsubishi Chemicals Corp Resin composition for cosmetic and cosmetic using the same
WO2003024414A1 (en) * 2001-09-13 2003-03-27 Mitsubishi Chemical Corporation Resin compositions for cosmetics and cosmetics
JP2003286142A (en) * 2002-03-29 2003-10-07 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and the resulting hair cosmetic
JP2003335637A (en) * 2002-05-21 2003-11-25 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2003342132A (en) * 2002-05-28 2003-12-03 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2003342133A (en) * 2002-05-30 2003-12-03 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2004051549A (en) * 2002-07-19 2004-02-19 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2004051569A (en) * 2002-07-22 2004-02-19 Mitsubishi Chemicals Corp Polymer composition for hair cosmetic and hair cosmetic using the same
JP2008505242A (en) * 2004-07-02 2008-02-21 ロレアル NOVEL ETHYLENE COPOLYMER, COMPOSITION CONTAINING THE COPOLYMER, PREPARATION AND PROCESSING METHOD
WO2014087779A1 (en) * 2012-12-03 2014-06-12 花王株式会社 Organopolysiloxane graft polymer
US9351920B2 (en) 2012-12-03 2016-05-31 Kao Corporation Organopolysiloxane graft polymer
JP2019206685A (en) * 2018-04-05 2019-12-05 東洋インキScホールディングス株式会社 Block copolymer, cell culture substrate treatment agent including the block copolymer, and use therefor
JP7305997B2 (en) 2018-04-05 2023-07-11 東洋インキScホールディングス株式会社 Block copolymer, cell cultureware treatment agent containing block copolymer, and use thereof

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