JP2001057153A - 平面形放電管の製造方法及びその装置 - Google Patents
平面形放電管の製造方法及びその装置Info
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- JP2001057153A JP2001057153A JP11233688A JP23368899A JP2001057153A JP 2001057153 A JP2001057153 A JP 2001057153A JP 11233688 A JP11233688 A JP 11233688A JP 23368899 A JP23368899 A JP 23368899A JP 2001057153 A JP2001057153 A JP 2001057153A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスの肉厚を大きくすることなく広い面積
のものを製造可能とする。 【解決手段】 真空容器１１内に取出し自在に放電管容
器１２を配し、供給弁４３，４７を閉じた状態で流量調
節弁３５、排気弁３９を通じ放電管容器１２内を、ポン
プ４１，４２で真空引きを行ない、同様に、流量調節弁
３６、排気弁４５を通じてポンプ４６により真空容器１
１内を真空引きし各容器１２，１１内の圧力ＰS ，ＰP
を圧力計３７，３８で測定し、ＰP がＰS に追従するよ
うに、流動調整制御装置４９により調節弁３５，３６の
少なくとも一方を制御する。放電ガスを容器１２へ供給
時も、窒素ガスを容器１１へ供給し、ＰS にＰP が追従
するように制御する。
のものを製造可能とする。 【解決手段】 真空容器１１内に取出し自在に放電管容
器１２を配し、供給弁４３，４７を閉じた状態で流量調
節弁３５、排気弁３９を通じ放電管容器１２内を、ポン
プ４１，４２で真空引きを行ない、同様に、流量調節弁
３６、排気弁４５を通じてポンプ４６により真空容器１
１内を真空引きし各容器１２，１１内の圧力ＰS ，ＰP
を圧力計３７，３８で測定し、ＰP がＰS に追従するよ
うに、流動調整制御装置４９により調節弁３５，３６の
少なくとも一方を制御する。放電ガスを容器１２へ供給
時も、窒素ガスを容器１１へ供給し、ＰS にＰP が追従
するように制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば液晶のバ
ックライト等に用いられ平面形蛍光灯などの放電管、特
に大きな面積の放電管の製造方法及びその製造装置に関
する。
ックライト等に用いられ平面形蛍光灯などの放電管、特
に大きな面積の放電管の製造方法及びその製造装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来においては平面形放電管を大気中に
配置した状態で、そのガス排気／注入用パイプ（チップ
管）を通じて、空気を十分排気した後放電ガスを充填し
ていた。
配置した状態で、そのガス排気／注入用パイプ（チップ
管）を通じて、空気を十分排気した後放電ガスを充填し
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法におい
て平面形放電管内を排気した段階で大気圧により放電管
を構成するガラスに大きな荷重がかかるため、ガラスの
肉厚を大としてその荷重に耐えられるようにする必要が
あった。このため従来ではガラスの厚さが２ミリの場合
90× 120mm2 程度の大きさが限度であった。
て平面形放電管内を排気した段階で大気圧により放電管
を構成するガラスに大きな荷重がかかるため、ガラスの
肉厚を大としてその荷重に耐えられるようにする必要が
あった。このため従来ではガラスの厚さが２ミリの場合
90× 120mm2 程度の大きさが限度であった。
【０００４】平面蛍光ランプの製造方法として特許第２
５５８５８２号（特開平６−１７６６９３号）におい
て、２枚のマザーガラス基板上に電極膜、誘電体膜、蛍
光体膜の積層膜体を、間隔をあけてそれぞれ複数形成
し、１つの積層膜体を囲んでフリットガラスを設け、こ
れらマザーガラスを積層膜体を互いに対向させて真空容
器に配し、その真空容器内を排気した後、放電ガスを導
入し、加熱加圧してフリットガラスで両マザーガラスを
互いに接着させ、その後、真空容器からマザーガラスを
取出して、各積層膜体の対ごとにて分割して複数の平面
蛍光ランプを作成することが提案されている。
５５８５８２号（特開平６−１７６６９３号）におい
て、２枚のマザーガラス基板上に電極膜、誘電体膜、蛍
光体膜の積層膜体を、間隔をあけてそれぞれ複数形成
し、１つの積層膜体を囲んでフリットガラスを設け、こ
れらマザーガラスを積層膜体を互いに対向させて真空容
器に配し、その真空容器内を排気した後、放電ガスを導
入し、加熱加圧してフリットガラスで両マザーガラスを
互いに接着させ、その後、真空容器からマザーガラスを
取出して、各積層膜体の対ごとにて分割して複数の平面
蛍光ランプを作成することが提案されている。
【０００５】この方法によれば、真空容器内で処理する
ため、真空にした時に、ガラス管に大きな荷重が加わる
問題は生じない。しかし、排気、ガス注入後に、ガラス
フリットを加熱してマザーガラスを互いに接着させるた
め、ガラスフリットから不純物ガスが発生し、これが出
来上がった蛍光ランプ内に残り、良品の蛍光ランプを得
ることは困難である。
ため、真空にした時に、ガラス管に大きな荷重が加わる
問題は生じない。しかし、排気、ガス注入後に、ガラス
フリットを加熱してマザーガラスを互いに接着させるた
め、ガラスフリットから不純物ガスが発生し、これが出
来上がった蛍光ランプ内に残り、良品の蛍光ランプを得
ることは困難である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、平面
形放電管容器を真空容器内に配し、放電管容器内のガス
を排気する際に、その放電管容器内の圧力にほぼ追従さ
せて真空容器内のガスを排気し、圧力を減少させると共
に、放電管容器内に放電ガスを充填する際に、その放電
管容器内の圧力にほぼ追従させて、真空容器内にガスを
供給して圧力を増加させる。
形放電管容器を真空容器内に配し、放電管容器内のガス
を排気する際に、その放電管容器内の圧力にほぼ追従さ
せて真空容器内のガスを排気し、圧力を減少させると共
に、放電管容器内に放電ガスを充填する際に、その放電
管容器内の圧力にほぼ追従させて、真空容器内にガスを
供給して圧力を増加させる。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１にこの発明の実施例の全体を
示し、図２にこの真空容器部分の具体例を示す。真空容
器１１内に平面形放電管容器１２が配される。平面形放
電管容器１２は２枚のガラス板が対向して設けられ、こ
れら両ガラス板の内面に電極、誘電体膜、蛍光体膜がそ
れぞれ形成され、ガラス板の周縁部はフリットガラスで
互いに溶着されて封止されている。放電管容器１２には
ガス排気／注入用パイプ（チップ管）１３が連結され、
チップ管１３は真空容器１１より外部に導出されてい
る。真空容器１１内には加熱器１４も設けられ、加熱器
１４は外部の加熱制御器１５と接続されている。
示し、図２にこの真空容器部分の具体例を示す。真空容
器１１内に平面形放電管容器１２が配される。平面形放
電管容器１２は２枚のガラス板が対向して設けられ、こ
れら両ガラス板の内面に電極、誘電体膜、蛍光体膜がそ
れぞれ形成され、ガラス板の周縁部はフリットガラスで
互いに溶着されて封止されている。放電管容器１２には
ガス排気／注入用パイプ（チップ管）１３が連結され、
チップ管１３は真空容器１１より外部に導出されてい
る。真空容器１１内には加熱器１４も設けられ、加熱器
１４は外部の加熱制御器１５と接続されている。
【０００８】真空容器１１の具体例を図２に示す。真空
容器１１内で支持片１６を介して真空容器１１の底板１
１ａ上に加熱器１４が取付けられ、加熱器１４上に平面
形放電管容器１２が配置される。放電管容器１２は例え
ば図３に示すように対向ガラス板の内面にそれぞれ電極
１２ａ，１２ｂが形成され、電極１２ａ，１２ｂ上に誘
電体膜１２ｃ，１２ｄをそれぞれ介して蛍光体膜１２
ｅ，１２ｆが形成され、放電管容器１２内と連通してチ
ップ管１３が外部に突出されている。この例では放電管
容器１２上に耐火煉瓦などからなる保温材１７が乗せら
れている。真空容器１１の上板１１ｂには大きな開口１
８が形成され、この開口１８は上蓋１１ｃで塞がれてい
る。上蓋１１ｃは例えば上板１１ｂに対し、ボルト１９
とナット２１により取外し自在に取付けられ、上板１１
ｂと上蓋１１ｃと接触面にＯリング２２が介在されて気
密性が保持されている。
容器１１内で支持片１６を介して真空容器１１の底板１
１ａ上に加熱器１４が取付けられ、加熱器１４上に平面
形放電管容器１２が配置される。放電管容器１２は例え
ば図３に示すように対向ガラス板の内面にそれぞれ電極
１２ａ，１２ｂが形成され、電極１２ａ，１２ｂ上に誘
電体膜１２ｃ，１２ｄをそれぞれ介して蛍光体膜１２
ｅ，１２ｆが形成され、放電管容器１２内と連通してチ
ップ管１３が外部に突出されている。この例では放電管
容器１２上に耐火煉瓦などからなる保温材１７が乗せら
れている。真空容器１１の上板１１ｂには大きな開口１
８が形成され、この開口１８は上蓋１１ｃで塞がれてい
る。上蓋１１ｃは例えば上板１１ｂに対し、ボルト１９
とナット２１により取外し自在に取付けられ、上板１１
ｂと上蓋１１ｃと接触面にＯリング２２が介在されて気
密性が保持されている。
【０００９】上蓋１１ｃには小穴２３が形成され、小穴
２３に導出管２４の一端部が嵌合接着され、この導出管
２４を通ってチップ管１３が真空容器１１の外部へ導出
される。この導出部はチップ管１３が真空容器１１に対
して、伸縮を許容し、かつ気密性が保持されるようにな
されている。例えば導出管２４の中間部にベローズ２５
が挿入され、導出管２４の突出端に周鍔２６が固定さ
れ、中心孔が形成された袋ナット２７が周鍔２６の周面
のねじにねじ結合される。袋ナット２７及び周鍔２６間
に保持されたＯリング２８と、袋ナット２７の中心孔と
にチップ管１３が挿通され、その後、袋ナット２７を周
鍔２６に締付けてＯリング２８をチップ管１３の周面に
密着させて外部との気密性を保持する。
２３に導出管２４の一端部が嵌合接着され、この導出管
２４を通ってチップ管１３が真空容器１１の外部へ導出
される。この導出部はチップ管１３が真空容器１１に対
して、伸縮を許容し、かつ気密性が保持されるようにな
されている。例えば導出管２４の中間部にベローズ２５
が挿入され、導出管２４の突出端に周鍔２６が固定さ
れ、中心孔が形成された袋ナット２７が周鍔２６の周面
のねじにねじ結合される。袋ナット２７及び周鍔２６間
に保持されたＯリング２８と、袋ナット２７の中心孔と
にチップ管１３が挿通され、その後、袋ナット２７を周
鍔２６に締付けてＯリング２８をチップ管１３の周面に
密着させて外部との気密性を保持する。
【００１０】真空容器１１の側壁に内部と連通する排気
／注入口２９が設けられる。また真空容器１１の側壁の
他の部分に小孔が設けられ、その小孔が端子板３１で塞
がれ、端子板３１の端子３２を介して加熱器１４と外部
の加熱制御器１５とが接続される。図１の説明に戻っ
て、真空容器１１より導出されたチップ管１３にパイプ
３３が連結され、また真空容器１１の排気／注入口２９
にパイプ３４が連結される。パイプ３３、３４にそれぞ
れ流量調節弁３５、３６が設けられ、これら流量調節弁
３５、３６の放電管容器１２、真空容器１１側のパイプ
３３、３４に圧力計３７、３８がそれぞれ取付けられ、
放電管容器１２内、真空容器１１内の各圧力を測定でき
るようにされている。パイプ３３の流量調節弁３５に対
し放電管容器１２と反対側に排気弁３９を介して、真空
ポンプとしてロータリポンプ４１とブースタポンプ４２
が接続され、弁３５、３９の間のパイプ３３に対し、供
給弁４３を介して放電ガス源、例えば、Xe（キセノン）
ガスボンベ４４が連結される。パイプ３４の流量調節弁
３６の真空容器１１と反対側に、排気弁４５を介して真
空ポンプとしてロータリポンプ４６が接続され、弁３
６、４５の間のパイプ３４に供給弁４７を介してガス
源、例えば窒素ガスボンベ４８が連結される。
／注入口２９が設けられる。また真空容器１１の側壁の
他の部分に小孔が設けられ、その小孔が端子板３１で塞
がれ、端子板３１の端子３２を介して加熱器１４と外部
の加熱制御器１５とが接続される。図１の説明に戻っ
て、真空容器１１より導出されたチップ管１３にパイプ
３３が連結され、また真空容器１１の排気／注入口２９
にパイプ３４が連結される。パイプ３３、３４にそれぞ
れ流量調節弁３５、３６が設けられ、これら流量調節弁
３５、３６の放電管容器１２、真空容器１１側のパイプ
３３、３４に圧力計３７、３８がそれぞれ取付けられ、
放電管容器１２内、真空容器１１内の各圧力を測定でき
るようにされている。パイプ３３の流量調節弁３５に対
し放電管容器１２と反対側に排気弁３９を介して、真空
ポンプとしてロータリポンプ４１とブースタポンプ４２
が接続され、弁３５、３９の間のパイプ３３に対し、供
給弁４３を介して放電ガス源、例えば、Xe（キセノン）
ガスボンベ４４が連結される。パイプ３４の流量調節弁
３６の真空容器１１と反対側に、排気弁４５を介して真
空ポンプとしてロータリポンプ４６が接続され、弁３
６、４５の間のパイプ３４に供給弁４７を介してガス
源、例えば窒素ガスボンベ４８が連結される。
【００１１】更に圧力計３７、３８の測定値が流量調整
制御装置４９に入力され、放電管容器１２内の圧力に、
真空容器１１内の圧力がほぼ追従するように流量調節弁
３５、３６が制御される。この構成において、放電管容
器１２を真空容器１１内に配し、供給弁４３、４７を閉
とし、流量調節弁３５、３６、排気弁３９、４５を開と
して、ロータリポンプ４１により放電管容器１２内を真
空引きする。この際に放電管容器１２内の圧力ＰS を圧
力計３７で測定し、この圧力ＰS に、真空容器１１内の
圧力ＰP がほぼ追従するように、流量調整制御装置４９
により流量調節弁３６、必要に応じて流量調節弁３５が
制御される。従って例えば図３に示すように放電管容器
１２内の圧力ＰS が時間経過と共に減少すると、これに
ほぼ追従して真空容器１１内の圧力ＰP も減少し、放電
管容器１２内の圧力ＰS と真空容器１１内の圧力ＰPと
の圧力差はわずかであって、放電管容器１２に大きな荷
重が加わることはない。
制御装置４９に入力され、放電管容器１２内の圧力に、
真空容器１１内の圧力がほぼ追従するように流量調節弁
３５、３６が制御される。この構成において、放電管容
器１２を真空容器１１内に配し、供給弁４３、４７を閉
とし、流量調節弁３５、３６、排気弁３９、４５を開と
して、ロータリポンプ４１により放電管容器１２内を真
空引きする。この際に放電管容器１２内の圧力ＰS を圧
力計３７で測定し、この圧力ＰS に、真空容器１１内の
圧力ＰP がほぼ追従するように、流量調整制御装置４９
により流量調節弁３６、必要に応じて流量調節弁３５が
制御される。従って例えば図３に示すように放電管容器
１２内の圧力ＰS が時間経過と共に減少すると、これに
ほぼ追従して真空容器１１内の圧力ＰP も減少し、放電
管容器１２内の圧力ＰS と真空容器１１内の圧力ＰPと
の圧力差はわずかであって、放電管容器１２に大きな荷
重が加わることはない。
【００１２】放電管容器１２に対して十分な真空度とす
る点から、ブースタポンプ４２を利用してＰS が１０-6
気圧程度になるまで真空引きする。一方真空容器１１は
ＰPが１０-3気圧程度になるまでよい。従って例えば図
４Ａに示すように、放電管容器１２の圧力ＰS が１気圧
から時間の経過と共に下がるに従って、真空容器１１の
圧力ＰP もＰS に追従して下り、ＰS が１０-3気圧にな
ってもそれ以下に低下されるが、ＰP は１０-3気圧のま
まとされる。しかし、ＰS が１０-6気圧になってもＰP
との気圧差は１０-3気圧とわずかであり、圧力の目盛を
等間隔にすれば図４Ｂに示すように、放電管容器１２内
の気圧ＰS と真空容器１１内の気圧ＰPの差は極くわず
かである。
る点から、ブースタポンプ４２を利用してＰS が１０-6
気圧程度になるまで真空引きする。一方真空容器１１は
ＰPが１０-3気圧程度になるまでよい。従って例えば図
４Ａに示すように、放電管容器１２の圧力ＰS が１気圧
から時間の経過と共に下がるに従って、真空容器１１の
圧力ＰP もＰS に追従して下り、ＰS が１０-3気圧にな
ってもそれ以下に低下されるが、ＰP は１０-3気圧のま
まとされる。しかし、ＰS が１０-6気圧になってもＰP
との気圧差は１０-3気圧とわずかであり、圧力の目盛を
等間隔にすれば図４Ｂに示すように、放電管容器１２内
の気圧ＰS と真空容器１１内の気圧ＰPの差は極くわず
かである。
【００１３】放電管容器１２内の圧力を１０-6気圧とし
た状態で、加熱器１４により例えば２５０°Ｃで５分間
程度の加熱を放電管容器１２に与えてベーキングを行な
い、放電管容器１２内の不純物を除去する。その後、排
気弁３９，４５を閉じ、供給弁４３，４７を開き、Xeガ
スボンベ４４からXeガスを放電管容器１２内へ供給す
る。この場合も、放電管容器１２内の圧力ＰS を測定
し、真空容器１１内の圧力ＰP がＰS にほぼ追従するよ
うに、流量調整制御装置４９により流量調節弁３６、必
要に応じて流量調節弁３５を制御して、窒素ガスボンベ
４８から窒素ガスを真空容器１１内へ供給する。このよ
うにして放電管容器１２内にXeガスが供給され、その圧
力ＰS がほぼ１気圧程度になるようにされるが、この圧
力ＰS の上昇中、真空容器１１内の圧力ＰP もＰSに追
従するように窒素ガスが供給され、放電管容器１２内の
圧力ＰS と真空容器１１内の圧力ＰP との差は僅かに保
持される。
た状態で、加熱器１４により例えば２５０°Ｃで５分間
程度の加熱を放電管容器１２に与えてベーキングを行な
い、放電管容器１２内の不純物を除去する。その後、排
気弁３９，４５を閉じ、供給弁４３，４７を開き、Xeガ
スボンベ４４からXeガスを放電管容器１２内へ供給す
る。この場合も、放電管容器１２内の圧力ＰS を測定
し、真空容器１１内の圧力ＰP がＰS にほぼ追従するよ
うに、流量調整制御装置４９により流量調節弁３６、必
要に応じて流量調節弁３５を制御して、窒素ガスボンベ
４８から窒素ガスを真空容器１１内へ供給する。このよ
うにして放電管容器１２内にXeガスが供給され、その圧
力ＰS がほぼ１気圧程度になるようにされるが、この圧
力ＰS の上昇中、真空容器１１内の圧力ＰP もＰSに追
従するように窒素ガスが供給され、放電管容器１２内の
圧力ＰS と真空容器１１内の圧力ＰP との差は僅かに保
持される。
【００１４】このようにして放電管容器１２内に放電ガ
スを所定圧まで供給すると、流量調節弁３５，３６およ
び供給弁４３，４７を閉じ、真空容器１１の外部のこれ
に近い第１溶断部Ｐ１でチップ管１３をガスバーナなど
で、内部の放電ガスが漏れないように溶断し、その後、
上蓋１１Ｃを外して放電管容器１２を真空容器１１から
取出し、その後、チップ管１３の根本付近の第２溶断部
Ｐ２を同様に放電ガスが漏れないように溶断する。
スを所定圧まで供給すると、流量調節弁３５，３６およ
び供給弁４３，４７を閉じ、真空容器１１の外部のこれ
に近い第１溶断部Ｐ１でチップ管１３をガスバーナなど
で、内部の放電ガスが漏れないように溶断し、その後、
上蓋１１Ｃを外して放電管容器１２を真空容器１１から
取出し、その後、チップ管１３の根本付近の第２溶断部
Ｐ２を同様に放電ガスが漏れないように溶断する。
【００１５】上述では流量調整弁３５、３６を流量調整
制御装置４９により制御した。この制御によれば放電管
１２内の圧力ＰS に対し、真空容器１１内の圧力Ｐ
P を、わずかなタイムラグで、可成精度よく追従させる
ことができる。しかし、流量調整弁３５、３６流量調整
制御装置４９は比較的高価なものである。一方、放電管
容器１２内の圧力ＰS と真空容器１１内の圧力ＰP との
差が１／20気圧程度以内であれば、放電管容器１２のガ
ラスの肉厚が２mmで240 ×290mm 2 という比較的大きな
面積のものでも、圧力差にもとづく破損などの問題は生
じない。
制御装置４９により制御した。この制御によれば放電管
１２内の圧力ＰS に対し、真空容器１１内の圧力Ｐ
P を、わずかなタイムラグで、可成精度よく追従させる
ことができる。しかし、流量調整弁３５、３６流量調整
制御装置４９は比較的高価なものである。一方、放電管
容器１２内の圧力ＰS と真空容器１１内の圧力ＰP との
差が１／20気圧程度以内であれば、放電管容器１２のガ
ラスの肉厚が２mmで240 ×290mm 2 という比較的大きな
面積のものでも、圧力差にもとづく破損などの問題は生
じない。
【００１６】この点より例えば図５に一部を示すよう
に、流量調節弁３５、３６の代わりに電磁的にオンオフ
制御される安価な開閉弁５１、５２を設け、排気弁３
９、４５、供給弁４３、４７も電磁的にオン、オフ制御
される開閉弁を用い、弁４５、４７と弁５２との間のパ
イプ３４にアキュムレータ５３を連結し、放電管容器１
２の内容積と真空容器１１の内容積との比に、弁３９、
５１内のパイプ３３ａの内容積と弁４５、５２間のパイ
プ３３ａの内容積及びアキュムレータ５３の内容積の和
との比がほぼ一致するようにされる。
に、流量調節弁３５、３６の代わりに電磁的にオンオフ
制御される安価な開閉弁５１、５２を設け、排気弁３
９、４５、供給弁４３、４７も電磁的にオン、オフ制御
される開閉弁を用い、弁４５、４７と弁５２との間のパ
イプ３４にアキュムレータ５３を連結し、放電管容器１
２の内容積と真空容器１１の内容積との比に、弁３９、
５１内のパイプ３３ａの内容積と弁４５、５２間のパイ
プ３３ａの内容積及びアキュムレータ５３の内容積の和
との比がほぼ一致するようにされる。
【００１７】真空引き制御においては制御装置５４によ
り、供給弁４３、４７を閉にした状態で、開閉弁５１、
５２を閉にして排気弁３９、４５を共に開とし、パイプ
３３ａ内、パイプ３４ａ及びアキュムレータ５３内をそ
れぞれポンプで真空引きし、その後排気弁３９、４５を
共に閉じて開閉弁５１、５２を共に開として、パイプ３
３ａ内に放電管容器１２内のガスを、また、パイプ３４
ａ内及びアキュムレータ５３内に真空容器１１内のガス
をそれぞれ吸引し、以下同様に開閉弁５１、５２を閉と
して排気弁３９、４５を開とし、その後、排気弁３９、
４５を閉として開閉弁５１、５２を開とすることを繰返
す。このような制御により簡単な構成で、かつ簡単な操
作により、放電管容器１２内の圧力ＰS を減少させると
共にこれに追従して真空容器１１内の圧力ＰP を減少さ
せることができる。なお、圧力計３７による測定値ＰS
と圧力計３８による測定値ＰP とを監視し、その差があ
る程度以上になると、その差が小さくなるように弁３
９、５１に対する制御と弁４５、５２に対する制御の一
方を一回乃至数回停止すればよい。
り、供給弁４３、４７を閉にした状態で、開閉弁５１、
５２を閉にして排気弁３９、４５を共に開とし、パイプ
３３ａ内、パイプ３４ａ及びアキュムレータ５３内をそ
れぞれポンプで真空引きし、その後排気弁３９、４５を
共に閉じて開閉弁５１、５２を共に開として、パイプ３
３ａ内に放電管容器１２内のガスを、また、パイプ３４
ａ内及びアキュムレータ５３内に真空容器１１内のガス
をそれぞれ吸引し、以下同様に開閉弁５１、５２を閉と
して排気弁３９、４５を開とし、その後、排気弁３９、
４５を閉として開閉弁５１、５２を開とすることを繰返
す。このような制御により簡単な構成で、かつ簡単な操
作により、放電管容器１２内の圧力ＰS を減少させると
共にこれに追従して真空容器１１内の圧力ＰP を減少さ
せることができる。なお、圧力計３７による測定値ＰS
と圧力計３８による測定値ＰP とを監視し、その差があ
る程度以上になると、その差が小さくなるように弁３
９、５１に対する制御と弁４５、５２に対する制御の一
方を一回乃至数回停止すればよい。
【００１８】放電管容器１２への放電ガスの供給時に、
真空容器１１への窒素ガスの供給を、弁４３、５１と、
弁４７、５２を同様に制御して、放電管容器１２内の圧
力Ｐ S と真空容器１１内の圧力ＰP との差を小さく保つ
ことが出来る。上述において放電管容器１２内へ供給す
る放電ガスとしてはＸｅガスに限らず、ＸｅガスとＨｅ
（ヘリウム）ガスの混合ガス、その他であってもよい。
また真空容器１１へ供給するガスも窒素ガスに限らず、
空気であってもよい。
真空容器１１への窒素ガスの供給を、弁４３、５１と、
弁４７、５２を同様に制御して、放電管容器１２内の圧
力Ｐ S と真空容器１１内の圧力ＰP との差を小さく保つ
ことが出来る。上述において放電管容器１２内へ供給す
る放電ガスとしてはＸｅガスに限らず、ＸｅガスとＨｅ
（ヘリウム）ガスの混合ガス、その他であってもよい。
また真空容器１１へ供給するガスも窒素ガスに限らず、
空気であってもよい。
【００１９】
【発明の効果】以上述べたように、放電管容器１２内の
排気の間、また放電ガスの供給の間、放電管容器１２の
内外の圧力差は小さな値に保持され、従って、例えばこ
の圧力差を１／２０気圧程度にすれば、ガラスの肉厚が
２mmで240 ×290mm 2 の比較的大きな面積のもので作る
ことができ、しかも、圧力差を１／20気圧程度に保つ制
御は比較的簡単に行なうことができる。
排気の間、また放電ガスの供給の間、放電管容器１２の
内外の圧力差は小さな値に保持され、従って、例えばこ
の圧力差を１／２０気圧程度にすれば、ガラスの肉厚が
２mmで240 ×290mm 2 の比較的大きな面積のもので作る
ことができ、しかも、圧力差を１／20気圧程度に保つ制
御は比較的簡単に行なうことができる。
【００２０】また十分真空引きした状態で放電管容器を
加熱ベーキングすることを真空容器１１内で行うが、こ
の際にチップ管１３が熱膨張により伸びても、これに応
じて図２に示した構造によればベローズ２５が伸びて気
密状態を保持したままチップ管１３の伸縮が許容され、
チップ管１３が破損するおそれはない。
加熱ベーキングすることを真空容器１１内で行うが、こ
の際にチップ管１３が熱膨張により伸びても、これに応
じて図２に示した構造によればベローズ２５が伸びて気
密状態を保持したままチップ管１３の伸縮が許容され、
チップ管１３が破損するおそれはない。
【図１】この発明の実施例を示す図。
【図２】図１中の真空容器１１の具体例を示す断面図。
【図３】放電管１２の断面を示す図。
【図４】この発明方法による放電管容器内圧力ＰS の変
化に真空容器１１内の圧力ＰPの変化を追従させる様子
を示す図。
化に真空容器１１内の圧力ＰPの変化を追従させる様子
を示す図。
【図５】放電管容器１２、真空容器１１に対する真空引
き、ガス供給の他の手法を示す図。
き、ガス供給の他の手法を示す図。
Claims (3)
- 【請求項１】 平面形放電管容器を、開閉自在とされた
真空容器内に配し、 上記放電管容器内のガスを排気する際に、その放電管容
器内の圧力にほぼ追従させて上記真空容器内のガスを排
気して圧力を減少させると共に上記放電管容器内に放電
ガスを充填する際に、その放電管容器内の圧力にほぼ追
従させて、上記真空容器内にガスを供給して圧力を増加
させることを特徴とする平面形放電管の製造方法。 - 【請求項２】 平面形放電管容器を取出し自在に収容す
る真空容器と、 上記放電管容器内のガスを排気する第１排気手段と、 上記真空容器内のガスを排気する第２排気手段と、 上記放電管容器内に放電ガスを充填する第１ガス供給手
段と、 上記真空容器内にガスを充填する第２ガス供給手段と、 上記放電管容器内の圧力を測定する第１圧力計と、 上記真空容器内の圧力を測定する第２圧力計と、 上記第１圧力計の測定値に上記第２圧力計の測定値がほ
ぼ追従するように上記真空容器内のガス圧を調整する手
段と、 を具備する平面形放電管製造装置。 - 【請求項３】 上記真空容器内に設けられ、上記放電管
容器を加熱する加熱器と、 上記放電管容器に連結され、上記真空容器の外部に導出
されたガス排気／注入用パイプの伸縮を、外部に対する
気密性を保持した状態で許容するパイプ導出手段とを備
えることを特徴とする請求項２記載の平面形放電管製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11233688A JP2001057153A (ja) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | 平面形放電管の製造方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11233688A JP2001057153A (ja) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | 平面形放電管の製造方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001057153A true JP2001057153A (ja) | 2001-02-27 |
Family
ID=16958992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11233688A Pending JP2001057153A (ja) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | 平面形放電管の製造方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001057153A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100423166C (zh) * | 2006-09-01 | 2008-10-01 | 浙江大学 | 多功能气体掺杂真空装置 |
| WO2010094801A1 (en) * | 2009-02-22 | 2010-08-26 | Mapper Lithography Ip B.V. | A method and arrangement for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
-
1999
- 1999-08-20 JP JP11233688A patent/JP2001057153A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100423166C (zh) * | 2006-09-01 | 2008-10-01 | 浙江大学 | 多功能气体掺杂真空装置 |
| WO2010094801A1 (en) * | 2009-02-22 | 2010-08-26 | Mapper Lithography Ip B.V. | A method and arrangement for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
| US8366423B2 (en) | 2009-02-22 | 2013-02-05 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and arrangement for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
| US8857465B2 (en) | 2009-02-22 | 2014-10-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and system for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
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|---|---|---|---|
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