JP2001037201A - Motor device, stage equipment and exposure device - Google Patents

Motor device, stage equipment and exposure device

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JP2001037201A
JP2001037201A JP20570699A JP20570699A JP2001037201A JP 2001037201 A JP2001037201 A JP 2001037201A JP 20570699 A JP20570699 A JP 20570699A JP 20570699 A JP20570699 A JP 20570699A JP 2001037201 A JP2001037201 A JP 2001037201A
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JP20570699A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Tanaka
慶一 田中
Original Assignee
Nikon Corp
株式会社ニコン
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70691Handling of masks or wafers

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a motor device excellent in controllability which can reduce a cost by miniaturization and improvement of efficiency of assembling work. SOLUTION: An armature coil 44 is so wound that both end portions 64a, 64b of a coil winding exist outside the coil. Terminal pins 65a, 65b are collectively formed integrally with the coil 44 interposing a molding member 49, and both of the end portions 64a, 64b are connected with the terminal pins 65a, 65b. On a retaining member 12 on which the coil is mounted, sockets 22 are arranged corresponding to the respective terminal pins. Only by connecting the terminal pins 65a, 65b with the corresponding sockets 22, fixing and electrical connection of the coil is completed in one-shot action. An armature unit is constituted of a large number of the coils 44 and generates thrust excellent in linearlity by electromagnetic mutual action with a magnetic pole unit.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、モータ装置、ステージ装置及び露光装置に係り、さらに詳しくは、電機子ユニットと磁極ユニットとの間に生じる電磁相互作用によって駆動力を発生する高効率なモータ装置、該モータ装置を備えたステージ装置、及び該ステージ装置を備えた露光装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a motor apparatus, it relates to a stage device and an exposure device, more particularly, high-efficiency motor which generates a driving force by electromagnetic interaction generated between the armature unit and the magnetic pole unit apparatus, a stage apparatus provided with the motor device, and an exposure apparatus having the stage apparatus.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来より、半導体素子、液晶表示等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)に形成されたパターンを投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板(以下,適宜「ウエハ又は基板」という)上に転写する露光装置が用いられている。 Conventionally, semiconductor devices, in a lithography process for manufacturing a liquid crystal display or the like, a mask or reticle (hereinafter generally referred to as "reticle") resist through the projection optical system formed pattern or the like There substrate such as a wafer coated with a glass plate or the (hereinafter, appropriately referred to as "wafer or substrate") is coated with a resist on. かかる露光装置としては,近年、いわゆるステッパやいわゆるスキャニング・ステッパ等の逐次移動型の投影露光装置が主として用いられている。 Such an exposure apparatus, in recent years, successive movement type projection exposure apparatus such as a so-called stepper or the so-called scanning stepper is mainly used. この種の露光装置では,レチクルに形成されたパターンをウエハ上の複数のショット領域に順次転写する必要から、ウエハを保持して2次元移動する基板ステージが設けられている。 In this type of exposure apparatus, the need to sequentially transfer a pattern formed on a reticle onto a plurality of shot areas on the wafer, a substrate stage which moves holding the wafer 2-dimensional is provided.
また、この種の露光装置では、レチクルとウエハとの重ね合せを高精度に行うことが重要であることから、ステージの移動中にウエハが位置ずれしないよう、ウエハはステージ上に設けられたウエハホルダ上に真空吸着あるいは静電吸着により保持される。 Further, in this type of exposure apparatus, since carrying out the superposition of the reticle and the wafer with high accuracy is important, so that the wafer is not misaligned during the movement of the stage, the wafer is provided on the stage holder It is held by vacuum suction or electrostatic attraction on.

【0003】基板ステージの駆動装置として、従来は、 [0003] as a driving device for the substrate stage, the prior art,
回転モータと送りねじあるいはボールねじとを組み合わせた接触式の駆動装置が用いられていたが、半導体素子の高集積化、ウエハの大型化等に伴い、近年では,ウエハをより高速に、機械的な案内面の精度等に影響されず高精度に位置制御するとともに,機械的な摩擦を回避して長寿命とするために、ウエハが載置されたステージ(テーブル)を非接触で2次元方向に駆動するステージ装置が開発されている。 While feeding a rotating motor in combination with a screw or a ball screw contact type drive has been used, high integration of semiconductor devices, along with the size or the like of the wafer, in recent years, the wafer faster, mechanical with position control with high precision without being affected by the precision of Do guide surface, in order to avoid to life mechanical friction, two dimensions wafer placed on the stage (the table) in a non-contact stage apparatus has been developed to drive the. かかる非接触駆動のステージ装置の駆動源としては、1軸リニアモータを2次元配置したもの、あるいは直接的にステージを2次元駆動する磁気浮上型あるいは空気浮上型の2次元リニアアクチュエータ(平面モータ)が用いられる。 The driving source of the stage apparatus according contactless drive, uniaxial ones and the linear motor are arranged two-dimensionally, or magnetic levitation type or two-dimensional linear actuator of the air floating type that directly drives the stage 2 dimensional (planar motor) It is used.

【0004】リニアモータあるいは平面モータの駆動方式としては、可変磁気抵抗駆動方式とローレンツ電磁力駆動方式とがあるが、近年では、発生推力が大きく、小型化が容易である点に着目して可変磁気抵抗駆動方式が主流であった。 As a driving method of the linear motor or planar motor, it is a variable reluctance drive system and Lorentz electromagnetic force drive method, in recent years, large generating thrust, by paying attention to the point size reduction is easy variable magnetoresistance drive method has been mainly used.

【0005】その後、永久磁石の高性能化に伴い、磁気回路設計が容易で推力リプルが小さく、このため高分解能な位置制御が可能となる電磁力駆動方式のリニアモータが見直されており、このリニアモータを2次元方向に展開した平面モータも提案されている(例えば、米国特許第519,745号参照)。 [0005] After that, as the performance of the permanent magnet, a small thrust ripple easy magnetic circuit design, and the linear motor of the electromagnetic force drive method Therefore high-resolution position control can be is reviewed, the also planar motor developed a linear motor in a two-dimensional direction has been proposed (e.g., see U.S. Pat. No. 519,745). 電磁力駆動方式はローレンツ力に基づく理論的設計が容易であり、高帯域まで電流と推力との線形性が良く、特に無鉄心の場合には推力むらも少ないため、制御性に優れている利点があるが、 Benefits electromagnetic force drive method is easy to theoretically design based on the Lorentz force, good linearity between the current and the thrust up to a high band, which in particular for smaller thrust unevenness in the case of no core, excellent controllability Although there are,
可変磁気抵抗駆動方式並みの駆動力を発生する電磁力駆動方式のリニアモータあるいは平面モータの実現のためには、より高性能な永久磁石が必要不可欠である。 For the realization of the linear motor or planar motor electromagnetic force drive method for generating a drive force comparable variable reluctance drive system, it is essential higher performance permanent magnets. かかる電磁力駆動方式のモータの実現のため、より高性能な永久磁石の出現が待望されていたのであるが、最近になって、エネルギ積が40MGOe以上の高性能磁石が市場に出始めてきており、再び電磁力駆動方式が脚光を集めるに至っている。 Consuming because of the electromagnetic force drive method of realization of the motor, but it had been long-awaited appearance of more high-performance permanent magnets, recently, the energy product is more than a high-performance magnet 40MGOe have begun to appear on the market cage, which again led to the electromagnetic force drive method has attracted a lot of interest.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】電磁力駆動方式の平面モータ等は、周知の如く、磁極ユニットと電機子ユニットとを備え、電機子ユニットは、固定子側及び可動子側のいずれに配置される場合にも複数の電機子コイルを有している。 Planar motor, etc. of the electromagnetic force drive method [0005] is, as is well known, a magnetic pole unit and the armature unit, the armature unit is disposed at any side of the stator and the mover-side and a plurality of armature coils is also the case that. これは、例えば、電機子ユニットを固定子側とする場合には、可動子のストローク範囲の全範囲にわたって多くの電機子コイルを配置する必要があり、電機子ユニットを可動子側とする場合には、安定した駆動力を継続的に発生するためには複数の電機子コイルを必要とするからである。 This, for example, when the armature unit and the stator side, it is necessary to place more armature coils over the entire range of the stroke range of the movable element, the armature unit when the movable section in order to continuously generate a stable driving force because it requires multiple armature coils.

【0007】ところで、無鉄心の電機子コイルは、従来、心材のまわりに導電性の線材(コイル巻き線)を内側から外側に巻回した後、巻回された線材から心材を取り外すという工程を経て製造されていたことから、必然的に、電流供給回路に受電のため接続される線材の両端(以下、適宜「受電端」と呼ぶ)の一方は、電機子コイルの内側(中空部)に存在し、他方は電機子コイルの外側に存在することとなっていた。 By the way, the armature coils of the free core is conventionally after wound around the outer conductive wire rod (the coil winding) from the inside around the core, the step of removing the core from the wound wire from what has been manufactured through, inevitably, both ends of the wire to be connected for receiving a current supply circuit (hereinafter, appropriately referred to as "receiving end") is one of the inside of the armature coils (hollow portion) exist, the other had become to be present on the outside of the armature coils. このため、配線作業の効率化のため、コイルの外側(又は内側)に受電端の双方を配置しようとすると、内側(又は外側)の受電端を、コイルの上部空間を介して外側(又は内側)に配置するか、コイルを支持するコイル支持部材に凹溝を形成し、その凹溝の内部空間を介して外側(又は内側)に配置する必要があった。 Therefore, for efficient wiring work, an attempt to place both receiving end on the outside of the coil (or inside), the receiving end of the inner (or outer), outside via the upper space of the coil (or inner ) to place or form a groove in the coil support member for supporting the coil, it is necessary to place outside (or inside) through the inner space of the groove. 前者の場合、コイルの上部に余計に配線スペースを確保することが必要となり、結果的に電機子ユニットの大型化の一因になる。 In the former case, it is necessary to ensure extra wiring space on the top of the coil, to contribute in size as a result, the armature unit. 後者の場合には、電機子ユニットの大型化の要因とはならないが、上記の凹溝をコイルの数と同じだけ形成しなければならないので、作業工数が増え、その分コストアップを招いていた。 In the latter case, although not a factor in the size of the armature unit, since it is necessary to form the groove as much as the number of coils, working steps increases, had led to correspondingly cost .

【0008】本発明は、かかる事情の下でなされたものであり、その第1の目的は、小型化及び組み立て作業の効率化によるコストの低減を可能とし、かつ制御性に優れたモータ装置を提供することにある。 The present invention has been made under such circumstances, a first object is to enable cost reduction by efficient size reduction and assembly operations, and excellent motor apparatus controllability It is to provide.

【0009】また、本発明の第2の目的は、組み立て作業の容易化及びコストの低減を図ることができるとともに、ステージの位置制御性の向上が可能なステージ装置を提供することにある。 [0009] It is a second object of the present invention, it is possible to facilitate and reduce the cost of the assembly operation is to provide a stage device that can improve position controllability of the stage.

【0010】更に、本発明の第3の目的は、露光精度及びスループットをともに向上させることができ、かつコストの低減が可能な露光装置を提供することにある。 [0010] A third object of the present invention, the exposure accuracy and throughput can both improve and to provide an exposure apparatus capable of reducing the cost.

【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]

【0011】請求項1に記載の発明は、電機子コイル(44)を複数含む電機子ユニット(61)と、前記電機子コイルとの間に生じる電磁相互作用によって所定方向の駆動力を発生する磁石を有する磁極ユニット(5 [0011] The invention according to claim 1, an armature unit including a plurality of armature coils (44) (61) generates a driving force in a predetermined direction by electromagnetic interaction generated between the armature coil pole having a magnet unit (5
1)とを備えたモータ装置において、前記各電機子コイルは、そのコイル巻き線(64)の両端部(64a、6 In the motor apparatus provided with 1) and, wherein each armature coil, both ends of the coil winding (64) (64a, 6
4b)がともに当該コイルの外側又は内側に存在するように巻かれていることを特徴とする。 Wherein the 4b) are wound together so as to present to the outside or inside of the coil.

【0012】これによれば、各電機子コイルは、そのコイル巻き線の両端部(受電端)がともに当該コイルの外側又は内側に存在するように巻かれているので、何らの困難を伴うことなく、コイルの外側(又は内側)に受電端の双方を配置することができ、配線作業を効率化することができる。 According to this, each armature coil, since both ends of the coil winding (receiving end) is wound together so as to present to the outside or inside of the coil, to involve any difficulties no, it is possible to place both the receiving end on the outside of the coil (or inside), it is possible to streamline the wiring. この場合、前述したコイルの上側の配線スペースの確保や、コイル下側の凹溝の形成等が不要となる。 In this case, securing and wiring spaces of the upper coil as described above, forming such a groove of the coil lower side is not necessary. また、電機子ユニットと磁極ユニットとの間の電磁相互作用によって駆動力を発生する電磁力駆動方式が採用されていることから、制御性の優れたものとなっている。 Also because the electromagnetic force drive method for generating a driving force by electromagnetic interaction between the armature unit and the magnetic pole unit is employed, a excellent controllability. 従って、本発明によると、小型化及び組み立て作業(配線作業)の効率化によるコストの低減、及び電磁力駆動方式による優れた制御性の確保が可能となる。 Therefore, according to the present invention, cost reduction due to the efficiency of size and assembly work (wiring work), and it is possible to ensure excellent controllability by electromagnetic force drive method.

【0013】この場合において、各電機子コイルは、単一のセグメントから成るものであっても良いが、請求項2に記載の発明の如く、前記各電機子コイル(44) [0013] In this case, each armature coil may be comprised of a single segment, but, as in the embodiment described in claim 2, wherein each armature coil (44)
は、積層された複数のセグメント(42)を有し、各セグメント間が接着され、隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士を結線して形成されていても良い。 Has a plurality of stacked segments (42), between each segment is bonded, it may be formed by connecting the ends of the coil windings to form the segments of the adjacent layer. かかる場合には、電機子コイル1個当たりの配設スペースとして予定された空間に合わせて、セグメントの数(層数)を決定することにより、その空間の形状に合わせたコイルを作成することができる。 In such a case, in accordance with the space which is scheduled as a disposition space per armature coil, by determining the number of segments (the number of layers), to create a coil conforming to the shape of the space it can. また、任意の厚みのセグメントを従来の手法により大量生産し、例えば各セグメントを交互に裏表にして偶数層積層し、かつセグメント間を接着し、隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士を結線することにより内入れ内出しのコイルや外入れ外出しのコイルを簡単に製造することができる。 Further, mass-produced by conventional procedures segments of arbitrary thickness, for example, each segment in the sides and the even layers are alternately stacked, and bonded between the segments, the ends of the coil windings to form the segments of the adjacent layer the coil and the outer insertion going out of the coil of the inner placed inside out can be easily prepared by connecting to each other.

【0014】この場合において、請求項3に記載の発明の如く、前記隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士を所望の位置で結線しても良い。 [0014] In this case, as in the invention described in claim 3, the ends of the coil windings to form a segment of the adjacent layers may be connected in a desired position. 例えば、 For example,
隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士をそれぞれのセグメントの外側の任意の位置で結線することにより、結線作業の能率が向上する。 By connecting the ends of the coil windings to form the segments of the adjacent layer at an arbitrary position outside the respective segments, which improves the efficiency of the connection work. 特に、隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士をそれぞれのセグメントの外側の4隅の位置で結線すると、例えば平面モータ装置などにおいて、平面視角型の電機子コイルを複数隣接してマトリクス状に配列させる場合に、隣接コイルとの間に生じるデッドスペースにその結線部の半田のはみ出しを位置させることができるので、 In particular, when connecting the ends of the coil windings to form the segments of the adjacent layer at the four corners of the position outside the respective segments, such as in a planar motor apparatus, a plurality adjacent flat viewing angle type armature coil in the case where the arranged in a matrix, it is possible to position the protrusion of the solder of the connection portion in the dead space formed between the adjacent coils,
電機子コイルの配置の密集度を向上させることができ、 It is possible to improve the density of the arrangement of the armature coil,
結果的にスペース効率の向上が可能である。 Resulting in improvement of the space efficiency is possible.

【0015】請求項1〜3に記載の各発明に係るモータ装置において、各電機子コイルのコイル巻き線(電線) [0015] In the motor apparatus according to the invention described in claims 1 to 3, the coil winding of the armature coils (wires)
は断面円形の電線であっても良いが、請求項4に記載の発明の如く、前記各電機子コイルのコイル巻き線は、平角偏平電線であることが望ましい。 Although it may be a circular cross section of the wire, as in the embodiment described in claim 4, the coil winding of each armature coil is preferably a flat flat wire. かかる場合には、長方形断面を有する平角偏平電線が各電機子コイルのコイル巻き線として用いられるので、隣り合うコイル巻き線同士が面接触をし、隣り合う電線同士が線接触をする断面丸型の電線を使用した場合と比べ、電機子コイルにおける電線の占積率が向上し、それに応じて電流密度を向上させることができ、結果的に装置を大型化することなく、発生推力(発生するローレンツ電磁力)の向上が可能になる。 In such a case, since the rectangular flat wire having a rectangular cross section is used as a coil winding of each armature coil, cross-sectional round coil winding between the adjacent to the surface contact, the wire adjacent to the line contact compared to the use of the electric wire, to improve the space factor of the wire in the armature coils, it is possible to improve the current density in response thereto, resulting in device without increasing the size of the, thrust generated (generated it is possible to improve the Lorentz electromagnetic force).

【0016】請求項1〜4に記載の各発明に係るモータ装置において、請求項5に記載の発明の如く、前記各電機子コイルには、電気的絶縁体から成り所定の一方の面に一対の受電用端子(65a、65b)が一体的に設けられたモールド部材(49)が取り付けられ、前記コイル巻き線の両端部が前記一対の受電用端子にそれぞれ接続されていても良い。 [0016] In the motor apparatus according to the invention described in claims 1 to 4, as in the invention recited in claim 5, the pair said each armature coil, to a predetermined one of the surfaces made of electrically insulating material receiving terminals (65a, 65b) of may be connected to the attached molded member provided integrally (49), the power receiving terminal end portions of the pair of the coil winding. かかる場合には、各電機子コイルを組み付ける際に、受電用端子をこれに対応する給電用端子に接続するのみで、電機子コイルに対する給電のための電気的な接続が完了し、組み付け時に半田等を用いて受電用端子と電機子コイルの端部とを結線する等の作業が不要となり、組み付け作業(配線作業)が容易となる。 In such a case, when assembling the respective armature coils, the receiving terminal only connected to the power supply terminal corresponding to an electrical connection for the power supply to the armature coil is completed, the solder during assembly and an end portion of the power receiving terminal and the armature coil operation such that connection becomes unnecessary by using the like, the assembly operation (wiring operation) is facilitated.

【0017】この場合において、請求項6に記載の発明の如く、前記複数の電機子コイル(44)を支持する支持部材(12)を更に備え、該支持部材には、前記各電機子コイルの前記一対の受電用端子(65a、65b) [0017] In this case, according as the invention described in claim 6, further comprising a plurality of support members for supporting the armature coil (44) to (12), the said support member, said each armature coil the pair of power receiving terminals (65a, 65b)
のそれぞれに対応する給電用端子(24)を有し、前記受電用端子が着脱自在に接続されるソケット(22)が複数所定間隔で設けられることが望ましい。 Of having a power supply terminal corresponding to each (24), a socket (22) to said power receiving terminal is connected detachably desirable be provided in multiple predetermined intervals. かかる場合には、支持部材に設けられたソケットに電機子コイルに設けられた受電用端子を嵌合するだけで、ワンタッチで、支持部材への電機子コイルの固定と、電流供給のための配線とが完了するので、電機子コイルの組み付け作業、ひいては装置の組み立て作業を容易にすることができる。 In such a case, simply fitting the power receiving terminals provided in the armature coil into the socket provided on the support member, with one touch, fixing of the armature coils to the support member, the wiring for current supply since bets is completed, the assembly of the armature coils work, it is possible to facilitate assembly work of the turn device.

【0018】さらに、この場合において、請求項7に記載の発明の如く、前記支持部材は、前記各電機子コイルへの給電パターンが形成されたプリント基板(66)を有し、前記ソケットは、前記各給電パターン毎に設けられていることが望ましい。 Furthermore, in this case, as in the invention described in claim 7, wherein the support member has a printed circuit board power supply pattern is formed of the each armature coil (66), said socket, wherein it is desired to provided for each feeding pattern. かかる場合には、各電機子コイルへの給電配線時に、各電機子コイルの端部と電流供給装置の端子とを導線によって接続する作業と比較すると、非常に効率的な作業を行うことが可能となる。 In such a case, when the feed line to each armature coil and a terminal end and a current supply device for each armature coil is compared with the operation of connecting the wires, it can be performed very efficient work to become.

【0019】上記請求項1〜7に記載の各発明に係るモータ装置において、請求項8に記載の発明の如く、前記複数の電機子コイルは、所定の一軸方向に沿って所定間隔で配置されていても良く、あるいは請求項9に記載の発明の如く、前記複数の電機子コイルは、マトリクス状に配置されていても良い。 [0019] In the motor apparatus according to the invention described in claims 1 to 7, as in the embodiment described in claim 8, wherein the plurality of armature coils are arranged at predetermined intervals along a predetermined axial direction even if well, or as in the embodiment described in claim 9, wherein the plurality of armature coils may be arranged in a matrix. 前者の場合には、電機子ユニットと磁極ユニットとをローレンツ電磁力により、前記所定の一軸方向に相対駆動する電磁力駆動方式のリニアモータを構成することができ、後者の場合には、電機子ユニットと磁極ユニットとをローレンツ電磁力により、 In the former case, the Lorentz electromagnetic force and the armature unit and the magnetic pole unit, it is possible to configure the linear motor electromagnetic force drive method for relative drive in the predetermined uniaxial direction, in the latter case, the armature the Lorentz electromagnetic force a unit and the magnetic pole units,
2次元平面内で相対駆動する電磁力駆動方式の平面モータを構成することができる。 Relatively driven in a two-dimensional plane can constitute a plane motor electromagnetic drive method.

【0020】請求項10に記載の発明に係るステージ装置は、請求項8又は9に記載のモータ装置と;前記モータ装置によって駆動されるステージとを備えることを特徴とする。 [0020] The stage device according to the invention of claim 10, the motor apparatus and according to claim 8 or 9, characterized in that it comprises a stage which is driven by the motor device.

【0021】これによれば、ステージが、組み立て作業の容易化によるコストの低減が可能で、制御性に優れた電磁力駆動方式のモータ装置によって駆動されるので、 According to this, the stage is capable of cost reduction due to facilitation of assembly operations, are driven by a motor device of excellent electromagnetic force drive method in controllability,
組み立て作業の容易化及びコストの低減を図ることができるとともに、ステージの位置制御性の向上が可能である。 Together can be facilitated and cost reduction of the assembly operations, it is possible to improve the position control of the stage.

【0022】請求項11に記載の発明は、マスク(R) [0022] The invention according to claim 11, the mask (R)
に形成されたパターンを基板(W)上に転写する露光装置であって、前記マスク及び基板の少なくとも一方の駆動装置として、請求項10に記載のステージ装置を具備することを特徴とする。 A pattern formed by an exposure apparatus for transferring onto a substrate (W) to as at least one drive device of the mask and the substrate, characterized by comprising a stage apparatus according to claim 10.

【0023】これによれば、請求項10に記載のステージ装置を、マスク及び基板の少なくとも一方の駆動装置として備えているので、該ステージ装置の作用により、 According to this, the stage apparatus according to claim 10, since with a mask and at least one drive device for the substrate, by the action of the stage device,
組み立て作業の容易化によるコストの低減、マスク及び基板の少なくとも一方の位置制御性の向上が可能になる。 Cost reduction due to easier assembly work, it is possible to mask and improve at least one of the position control of the substrate. 例えば、マスクの位置制御性の向上により、走査型露光装置の場合のマスクと基板の同期精度の向上が可能となり、これにより露光精度(重ね合せ精度)の向上と、同期整定時間の短縮によるスループットの向上とが可能になる。 For example, by improving the position control of the mask, the improvement of the mask and the substrate in synchronization accuracy when the scanning exposure apparatus is possible, thereby the improvement of the exposure accuracy (overlay accuracy) Throughput by shortening the synchronization settling time It will be improved and of. また、例えば、基板の位置制御性の向上により、基板の位置決め精度の向上による露光精度(重ね合せ精度)の向上と、位置決め時間の短縮によるスループットの向上が可能になる。 Further, for example, by improving the position control of the substrate, the improvement of the exposure accuracy by improving the substrate positioning accuracy (overlay accuracy), the throughput can be improved by shortening the positioning time.

【0024】 [0024]

【発明の実施の形態】《第1の実施形態》以下、本発明の第1の実施形態を図1〜図6に基づいて説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS "First Embodiment" The following will be described on the basis of a first embodiment of the present invention in FIGS. 1 to 6.

【0025】図1には、第1の実施形態の露光装置10 [0025] Figure 1, the exposure of the first embodiment device 10
0の全体的な構成が概略的に示されている。 Overall structure of 0 is shown schematically. この露光装置100は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。 Exposure apparatus 100 is a scanning exposure apparatus by a step-and-scan method, namely the so-called scanning stepper. 後述するように、本実施形態では、投影光学系P As described later, in this embodiment, the projection optical system P
Lが設けられているので、以下においては、投影光学系PLの光軸AX方向をZ軸方向、これに直交する面内でマスクとしてのレチクルRと基板としてのウエハWとが相対走査される方向をY軸方向、これらZ軸及びY軸に直交する方向をX軸方向として説明を行う。 Since L is provided, in the following, the optical axis AX direction Z-axis direction of the projection optical system PL, and the reticle R and the wafer W as a substrate as a mask in a plane perpendicular to the relative scanning the direction Y-axis direction, a description and a direction perpendicular thereto Z-axis and the Y-axis as an X-axis direction.

【0026】この露光装置100は、照明系10、レチクルRを保持するマスクステージとしてのレチクルステージRST、投影光学系PL、ウエハWをXY平面内でXY2次元方向に駆動するステージ装置としての基板ステージ装置30、及びこれらの制御系等を備えている。 [0026] The exposure apparatus 100 includes an illumination system 10, a reticle stage RST as a mask stage for holding a reticle R, a projection optical system PL, the substrate stage as a stage device for driving the wafer W in the XY2-dimensional direction within the XY plane 30, and a control system of these parts.

【0027】前記照明系10は、例えば、特開平9−3 [0027] The illumination system 10 is, for example, JP-A-9-3
20956号公報に開示されるように、光源ユニット、 As disclosed in 20956 JP light source unit,
シャッタ、2次光源形成光学系、ビームスプリッタ、集光レンズ系、レチクルブラインド、及び結像レンズ系等(いずれも不図示)から構成され、図1のミラーMへ向けて照度分布のほぼ均一な露光用照明光を射出する。 Shutter, a secondary light source forming optical system, a beam splitter, a condenser lens system, a reticle blind, and an imaging lens system and the like (none not shown) is composed of, a substantially uniform illuminance distribution towards mirror M in FIG. 1 It emits the illumination light for exposure. そして、この照明光がミラーMによってその光路が鉛直下方に折り曲げられ、レチクルR上の矩形(あるいは円弧状)の照明領域IARを均一な照度で照明する。 Then, the illumination light optical path is bent vertically downward by the mirror M, and illuminates the illumination area IAR rectangle on the reticle R (or arcuate) with uniform illumination.

【0028】前記レチクルステージRST上にはレチクルRが、例えば真空吸着により固定されている。 [0028] The reticle R on the reticle stage RST is fixed, for example by vacuum suction. また、 Also,
このレチクルステージRSTは、不図示のレチクルべース上をリニアモータ等で構成されたレチクル駆動部(図示省略)により、走査方向であるY軸方に指定された走査速度で駆動可能となっている。 The reticle stage RST by a reticle driver configured on the reticle base over scan, not shown in the linear motor or the like (not shown), so can be driven at a designated scanning speed in the Y-axis direction is a scanning direction there.

【0029】レチクルステージRST上にはレチクルレーザ干渉計(以下、「レチクル干渉計」という)16からのレーザビームを反射する移動鏡15が固定されており、レチクルステージRSTのステージ移動面内の位置はレチクル干渉計16によって、例えば0.5〜1nm The reticle laser interferometer on the reticle stage RST (hereinafter, "reticle interferometer") and movable mirror 15 for reflecting the laser beam from 16 is fixed, the position of the stage moving plane of the reticle stage RST by the reticle interferometer 16, for example 0.5~1nm
程度の分解能で常時検出される。 It is always detected by the degree of resolution.

【0030】レチクル干渉計16からのレチクルステージRSTの位置情報はステージ制御系19及びこれを介して主制御装置20に送られ、ステージ制御系19では主制御装置20からの指示に応じてレチクルステージR The position information of the reticle stage RST from reticle interferometer 16 is sent via the stage control system 19 and this main control device 20, a reticle stage in accordance with an instruction from the stage control system 19 main controller 20 R
STの位置情報に基づいてレチクル駆動部(図示省略) Reticle drive unit based on the position information of the ST (not shown)
を介してレチクルステージRSTを駆動する。 It drives the reticle stage RST through.

【0031】前記投影光学系PLは、レチクルステージRSTの図1における下方に配置され、ここでは両側テレセントリックな縮小系であり、光軸AX方向(Z軸方向)に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレメントから成る屈折光学系が使用されている。 [0031] The projection optical system PL is disposed below in Figure 1 of the reticle stage RST, wherein a both-side telecentric reduction system is disposed at a predetermined distance along the optical axis AX direction (Z-axis direction) refractive optical system is used comprising a plurality of lens elements. この投影光学系PLの投影倍率は、例えば1/4、1/5あるいは1/6である。 Projection magnification of the projection optical system PL is, for example, 1 / 4,1 / 5 or 1/6. このため、照明系10からの照明光によってレチクルRの照明領域IARが照明されると、このレチクルRを通過した照明光により、投影光学系PL Therefore, when illumination area IAR on the reticle R is illuminated by illumination light from the illumination system 10, illumination light that has passed through the reticle R, a projection optical system PL
を介してレチクルRの照明領域IAR内の回路パターンの縮小像(部分倒立像)が表面にフォトレジストが塗布されたウエハW上の照明領域IARに共役な露光領域I Reticle R illumination area IAR conjugate exposure area I on the wafer W to reduced image (partial inverted image) of photoresist is applied to the surface of the circuit pattern within the illumination area IAR via
Aに形成される。 It is formed in the A.

【0032】前記基板ステージ装置30は、べース21 [0032] The substrate stage device 30, base over the scan 21
と、このべース21の上面の上方に数μm程度のクリアランスを介して不図示のエアスライダにより浮上支持されたステージとしての基板テーブル18と、この基板テーブル18をXY面内で2次元方向に駆動する駆動装置50とを備えている。 When a substrate table 18 serving as a stage that is floatingly supported by the air slider (not shown) via a number μm approximately clearance above the top surface of the base over the scan 21, a two-dimensional direction of the substrate table 18 in the XY plane and a driving device 50 for driving the. 駆動装置50としては、ここでは、べース21の上部に設けられた(埋め込まれた)固定子60と、基板テーブル18の底部(べース対向面側)に固定された可動子51とから成る平面モータが使用されている。 As the driving device 50, here, provided in the upper portion of the base over scan 21 (embedded) stator 60, a bottom mover 51 fixed to the (base over scan facing surface side) of the substrate table 18 planar motor comprising a are used. また、可動子51とべース21(固定子60を含む)によってモータ装置としての平面モータ装置が構成されている。 The planar motor device as a motor device is constituted by the movable element 51 Tobesu 21 (including the stator 60). 以下の説明においては、上記の駆動装置50を、便宜上、平面モータ50と呼ぶものとする。 In the following description, the driving device 50, for convenience, it will be referred to as planar motor 50.

【0033】前記基板テーブル18上に、ウエハWが例えば真空吸着によって固定されている。 [0033] On the substrate table 18, and is fixed by the wafer W is, for example, vacuum suction. また、この基板テーブル18上にはウエハレーザ干渉計(以下「ウエハ干渉計」という)31からのレーザビームを反射する移動鏡27が固定され、外部に配置された前記ウエハ干渉計31により、基板テーブル18のXY面内での位置が例えば0.5〜1nm程度の分解能で常時検出されている。 Further, this on the substrate table 18 is movable mirror 27 for reflecting a laser beam from a wafer laser interferometer (hereinafter referred to as "wafer interferometer") 31 is fixed, by the wafer interferometer 31 arranged externally, a substrate table It is constantly detected at 18 resolution of, for example, about 0.5~1nm position in the XY plane of the.

【0034】ここで、実際には、図2に示されるように、基板テーブル18上には走査方向であるY軸方向に直交する反射面を有する移動鏡27Yと非走査方向であるX軸方向に直交する反射面を有する移動鏡27Xとが設けられ、ウエハ干渉計31は走査方向に1軸、非走査方向には2軸設けられているが、図1ではこれらが代表的に移動鏡27、ウエハ干渉計31として示されている。 [0034] Here, in fact, as shown in FIG. 2, X-axis direction on the substrate table 18 is a movable mirror 27Y and a non-scanning direction having a reflection surface orthogonal to the Y-axis direction is a scanning direction a moving mirror 27X is provided with a reflection surface orthogonal to the wafer interferometer 31 is uniaxial in the scanning direction, although the non-scanning direction is provided two axes, in FIG. 1 these typically movable mirror 27 , it is shown as wafer interferometer 31. 基板テーブル18の位置情報(又は速度情報)はステージ制御系19及びこれを介して主制御装置20に送られ、ステージ制御系19では主制御装置20からの指示に応じて前記位置情報(又は速度情報)に基づいて平面モータ50を介して基板テーブル18のXY面内の移動(Z軸回りの回転、すなわちθz回転を含む)を制御する。 Position information of the substrate table 18 (or speed information) is sent and the stage control system 19 through which the main controller 20, the position information (or speed in response to an instruction from the stage control system 19 main controller 20 through the planar motor 50 on the basis of information) to control the movement of the XY plane of the substrate table 18 (rotation about the Z-axis, i.e. including θz rotation).

【0035】前記基板テーブル18は、図2に示されるように、前記平面モータ50を構成する可動子51の上面(ベース21対向面と反対側の面)にボイスコイルモータ等を含む支持機構32a、32b、32cによって異なる3点で支持されている。 [0035] The substrate table 18, as shown in FIG. 2, the support mechanism 32a including a voice coil motor or the like on the upper surface of the movable element 51 constituting the planar motor 50 (the surface of the base 21 facing surface opposite) , 32b, are supported by three different points by 32c. これらの支持機構32a These support mechanism 32a
〜32cは、図1では図示が省略されているが、実際には不図示の駆動機構を介して図1のステージ制御系19 ~32c is shown in FIG. 1 is omitted, actually stage control of FIG. 1 via a driving mechanism (not shown) system 19
によって独立して駆動制御されるようになっており、これにより、基板テーブル18が、Z軸方向及びXY面に対する傾斜方向(θx方向、θy方向)に微少駆動されるようになっている。 Independently it is adapted to be driven and controlled, thereby the substrate table 18, the inclination direction ([theta] x direction, [theta] y direction) with respect to the Z-axis direction and the XY plane is adapted to be finely driven in. すなわち、本実施形態では、基板テーブル18は、6自由度方向(X、Y、Z、θx、θ That is, in this embodiment, the substrate table 18, in directions of six degrees of freedom (X, Y, Z, θx, θ
y、θz方向)の位置、姿勢が制御可能な構成となっている。 y, the position of the θz direction), and has a posture is controllable configuration.

【0036】本実施形態の露光装置では、図示は省略されているが、実際には、ウエハW表面の前記露光領域I [0036] In the exposure apparatus of the present embodiment, although not shown, in practice, the exposure region I on the surface of the wafer W
A内部分及びその近傍の領域のZ方向(光軸AX方向) A inner portion and Z-direction in the vicinity of the area (optical axis AX)
の位置を検出するための斜入射光式のフォーカス検出系(焦点検出系)の一つである多点フォーカス位置検出系が投影光学系PLを保持する不図示の保持部材に設けられている。 Multiple focal position detection system is provided in the holding member (not shown) that holds the projection optical system PL, which is one of the oblique incident-light for detecting the position of the focus detection system (focus detection system). この多点フォーカス位置検出系は、照射光学系と受光光学系とを有し、例えば特開平6−28340 The multi-point focus position detection system includes a condenser optical system and the light receiving optical system, for example, JP-A-6-28340
3号公報に開示されるものと同様の構成のものが用いられる。 Those disclosed in 3 JP and the same structure is used. ,

【0037】ステージ制御系19では、後述する走査露光時等に、多点フォーカス位置検出系の出力に基づいて、支持機構32a〜32cを制御して基板テーブル1 [0037] In the stage control system 19, the scanning exposure or the like to be described later, based on the output of the multiple focal position detection system, the substrate table 1 controls the supporting mechanism 32a~32c
8をZ・チルト駆動することにより、ウエハW表面を投影光学系PLの焦点深度の範囲内に合致させる。 By 8 to Z · tilt drive, to match the surface of the wafer W within the range of the depth of focus of the projection optical system PL. すなわち、ステージ制御系19により、このようにしてオートフォーカス・オートレベリングが行われるようになっている。 That is, the stage control system 19, the auto focus auto-leveling and the like are performed in this way.

【0038】前記可動子51は、前述の如く、その上面に図2に示される支持機構32a、32b、32cを介して基板テーブル18が設けられているが、この可動子51は、平板状の磁性体部材59(図3参照)と、該磁性体部材59の固定子60との対向面(可動子51における底面)にマトリクス状に配列された多数の磁石とから成る磁極ユニットによって構成されている。 [0038] The movable member 51 is, as described above, the support mechanism 32a shown in FIG. 2 on its upper surface, 32b, although the substrate table 18 is provided through 32c, the mover 51 is plate-shaped magnetic member 59 (see FIG. 3), the surface facing the stator 60 of the magnetic member 59 is constituted by a magnetic pole unit comprising a plurality of magnets arranged in a matrix form (the bottom in the movable element 51) there. 以下の説明においては、この可動子51を、適宜、「磁極ユニット51」とも呼ぶものとする。 In the following description, the movable member 51, as appropriate, it shall be referred to as "the magnetic pole unit 51". この磁極ユニット51には、不図示のエアスライダが一体的に設けられており、 This magnetic pole unit 51, air slider (not shown) is provided integrally,
該エアスライダに設けられた多数の気体静圧軸受けから加圧空気がべース21の上面に向かって吹き出され、べース21の上面と磁極ユニット51との間の加圧気体、 Pressurized gas between the upper surface and the magnetic pole units 51 of the pressurized air from a number of gas hydrostatic bearing provided on the air slider is blown toward the upper surface of the base over the scan 21, base over scan 21,
例えば加圧空気の静圧(いわゆる隙間内圧力)により磁極ユニット51を含んで基板テーブル18が非接触で浮上支持されている。 For example, the substrate table 18 contains magnetic pole unit 51 by the static pressure of the pressurized air (so-called clearance internal pressure) is floatingly supported in a non-contact manner.

【0039】ここで、磁極ユニット51、すなわち可動子51の一例について更に詳述する。 [0039] Here, the magnetic pole unit 51, i.e. more detail an example of the movable member 51. 図3(A)には可動子51の底面図(−Z方向から見た平面図)が、図3 Figure 3 a bottom view of the (A) is the movable element 51 (the plane seen from the -Z direction view) is, FIG. 3
(B)には可動子51の+Y方向から見た側面図が、また、図3(C)には可動子51の図3(A)におけるB Side view as seen from the + Y direction of the mover 51 in (B) is also, B in FIG. 3 of the mover 51 (A) in FIG. 3 (C)
−B線断面図が示されている。 -B line cross-sectional view is shown. この可動子51は、平板状の磁性体部材59と、該磁性体部材59の固定子60 The movable member 51 includes a plate-shaped magnetic member 59, the stator 60 of the magnetic member 59
との対向面(図3(B)における上面、すなわち可動子51における底面)上に、図3(A)に示されるように、マトリクス状に配列された永久磁石52N、52 Facing surface (FIG. 3 (upper surface in B), i.e. the bottom surface of the movable member 51) on, as shown in FIG. 3 (A), the permanent magnets are arranged in a matrix 52N, 52 and
S、53N、54N、及び54Sとを有する。 With S, 53N, 54N, and a 54S. ここで、 here,
永久磁石52N、53N、54Nは、固定子60との対向面がN極面となる磁石であり、また、永久磁石52 Permanent magnets 52N, 53N, 54N are magnet surface facing the stator 60 is N pole face, also, the permanent magnet 52
S、54Sは、固定子60との対向面がS極面となる磁石である。 S, 54S is a magnet surface facing the stator 60 is S-pole surface. 各永久磁石の寸法は、後述する電機子コイルの一辺の長さをP(図2参照)として、図3(A)に示される通りである。 The dimensions of the permanent magnets, the length of one side of the armature coil to be described later as P (see FIG. 2), it is as shown in Figure 3 (A). また、隣接する永久磁石相互間の間隔は、P/3となっている。 The interval between the permanent magnets mutually adjacent has a P / 3.

【0040】前記固定子60を含む前記べース21は、 In one embodiment of the invention, the base over the scan 21, including the stator 60,
その概略縦断面図である図4に示されるように、上面が開口した2段の段付凹部が形成された平面視で矩形状の容器69と、この容器69の高さ方向中央やや下側の下段部に上方から係合され底面にほぼ平行に架設された平板状の支持部材としてのコイル支持部材12と、該コイル支持部材12の上面に、図2に示されるようにマトリクス状に配列された複数(ここでは、8×8=64個) Its is a schematic longitudinal sectional view, as shown in FIG. 4, a rectangular container 69 in the upper surface stepped recess of two-stage having an opening is formed in plan view, the height direction central slightly below this container 69 and the lower portion coil support member 12 as a substantially extending parallel to tabular support member to the bottom surface is engaged from above, the upper surface of the coil support member 12, a matrix in sequence, as shown in FIG. 2 and a plurality (here, 8 × 8 = 64 pieces)
の電機子コイル44と、上部開口を閉塞する状態で一体的に取り付けられたセラミック等の非磁性非導電体材料から成り、その上面に前述した気体静圧軸受けからの加圧空気が吹き付けられるガイド面が形成された平板状部材68とを備えている。 The armature coil 44, in the state for closing the upper opening consists of a non-magnetic non-conductive material such as a ceramic which is integrally attached to, blown pressurized air from the gas static pressure bearing as described above on the upper surface of the guide and a plate member 68 which faces are formed.

【0041】本実形態では、図4に示されるように、複数の電機子コイル44によって電機子ユニットとしての平板状コイル群61が構成され、この平板状コイル群6 [0041] In this real form, as shown in FIG. 4, flat coils 61 of the armature unit is composed of a plurality of armature coils 44, the flat coils 6
1と前記コイル支持部材12とによって、前述した平面モータ50の固定子60が構成されている。 By 1 and the coil supporting member 12, the stator 60 of the planar motor 50 described above is constructed.

【0042】コイル支持部材12は、その上面に複数の電機子コイル44が接触状態で固定された磁性体材料から成る平板状磁性体部材62と、該平板状磁性体部材6 The coil support member 12 includes a plate-shaped magnetic member 62 made of a magnetic material in which a plurality of armature coils 44 are fixed in contact with the upper surface thereof, the flat plate-shaped magnetic member 6
2の電機子コイル44反対側の面に貼り付けられたプリント基板66とを有している。 And a printed circuit board 66 affixed to the surface of the second armature coil 44 opposite.

【0043】次に、本実施形態の特徴点である電機子コイル44及びそのコイル支持部材12に対する取付け構造等について詳細に説明する。 Next, it will be described in detail the mounting structure or the like for the armature coils 44 and the coil support member 12 that is a characteristic point of this embodiment.

【0044】電機子コイル44としては、平面視略正方形のコイルが用いられている(図2参照)。 [0044] As the armature coils 44 are used a coil of plan view a square (see FIG. 2). この電機子コイル44は、図6(C)に示されるように、2層巻き線から成るセグメント42を、2段重ねた4層の巻き線から成る。 The armature coils 44, as shown in FIG. 6 (C), the segments 42 consisting of two layers winding consists windings of two-stage stacked four layers. この電機子コイル44の両端(受電端)64 Both ends of the armature coils 44 (receiving end) 64
a、64bは、ともに当該電機子コイル44の外側に存在する。 a, 64b are both present in the outside of the armature coils 44.

【0045】ここで、図6(A)〜(C)を参照して、 [0045] Referring now to FIG. 6 (A) ~ (C),
この電機子コイル44の製造方法を簡単に説明する。 Briefly the method of manufacturing the armature coils 44.

【0046】まず、第1の工程として、図6(A)に示されるように、断面略正方形で、該正方形の一辺の長さが最終的に製造される電機子コイル44の一辺の長さの1/3である直方体状の軸部材40を軸として、断面長方形の偏平平角電線から成るコイル巻き線64を、その長手方向中央部41から上下両側で互いに逆向きになるように軸部材40の周囲にそれぞれ所定の巻き数だけ巻回する。 [0046] As a first step, as shown in FIG. 6 (A), with a substantially square section length of one side of the armature coil 44 which length of one side of the square is finally produced as axis rectangular shaft member 40 is 1/3, the coil winding 64 consisting of a flat rectangular electric wire of rectangular cross section, the longitudinal center 41 the shaft member 40 so as to be opposite to each other at both upper and lower sides from each is wound by a predetermined number of turns around the. これにより、図6(B)に示される2層巻き線から成るセグメント42が1つ形成される。 Thus, the segments 42 consisting of two layers winding shown in FIG. 6 (B) is formed by one. このセグメント42では、そのコイル巻き線の両端部がともに外側に存在するように巻回されているが、本実施形態では、 In this segment 42, although both end portions of the coil winding are both wound to lie outside, in this embodiment,
電機子コイル44の設置スペースとの関係から、2段重ねのセグメントから成る4層巻きの電機子コイル44が用いられるので、第2の工程として、図6(B)に示されるように、2つのセグメント42を、正方形の四隅を揃えた状態で上下に重ね、セグメント間を接着剤等で接着するとともに、各セグメント42を形成するコイル巻き線64の端部同士を図6(C)に示されるように半田等43により結線する。 From the relationship between the installation space of the armature coils 44, since the four-layer-wound armature coils 44 consisting of two-stage stacked segments used, as a second step, as shown in FIG. 6 (B), 2 One of the segments 42, one on top in a state of aligning the corners of a square, shown intersegment with glued or the like, in FIG. 6 (C) the ends of the coil winding 64 to form the segments 42 to connected by soldering or the like 43 as. これにより、図6(C)に示されるコイル巻き線64の両端部64a、64bがともに外側に存在する4層のコイル巻き線から成る電機子コイル44が完成する。 Accordingly, both end portions 64a, armature coil 44 64b comprises both a coil winding of four layers that exist outside of the coil winding 64 shown in FIG. 6 (C) is completed.

【0047】この場合、図6(C)からも明らかなように、半田等43による結線作業は、電機子コイル44の外側で行われるため、非常に簡単にセグメント42同士の結線を行なうことができる。 [0047] In this case, as is apparent from FIG. 6 (C), the connection operation by soldering or the like 43, to be done outside the armature coils 44, may be carried out very easily segments 42 connected between the it can. また、この場合の結線位置は、任意の位置に設定できるので、例えば、4隅の内のいずれかに設定することにより、コイル支持部材12 Further, since the connecting position of the case, it is set at any position, for example, by setting one of the four corners, the coil support member 12
上に4つの電機子コイル44をマトリクス状に配置する場合に、それぞれのコイルの結線位置を図2中に符号6 Code four armature coils 44 above when arranged in a matrix, a connection position of each coil in FIG 6
5あるいは65'で示される4つの電機子コイル44相互間の本来無駄となる空間(デッドスペース)に集中して位置させることができる。 Original between the four armature coils 44 mutually represented by 5 or 65 'can be positioned to concentrate the waste to become space (dead space). 通常結線位置は、盛り上がる(外側に向かって膨らむ)ため、このようにすることにより、隣接する電機子コイル44相互を密着させることができ、スペース効率を向上させることができる。 Usually connection position, rises (outwardly bulging) Therefore, by doing so, can be brought into close contact with each other armature coils 44 adjacent, thereby improving the space efficiency.

【0048】上述のようにして製造された各電機子コイル44は、図5に示されるように、正方形状の底面(X [0048] Each armature coil 44 fabricated as described above, as shown in FIG. 5, square bottom (X
Y平面と平行な面)を有し、Z軸と平行な中心軸CX付近でZ方向に貫通する中空部47を有する角柱状に成形されている。 It has a Y plane parallel to the plane), and is formed into a prismatic shape having a hollow portion 47 which penetrates in the Z direction in the vicinity of CX Z-axis parallel to the central axis. この中空部47の断面形状は、電機子コイル44の一辺の長さPの1/3(P/3)をその一辺の長さとする正方形状となっている。 Sectional shape of the hollow portion 47 is made 1/3 of the length P of one side of the armature coil 44 (P / 3) and square to the length of one side thereof. この電機子コイル4 The armature coil 4
4には、コイル支持部材12に実装されるのに先立って、図5に示されるような一部に開口部49aが形成された樹脂等の電気的絶縁体から成るモールド部材49 The 4, the coil support member 12 prior to being mounted to the mold member 49 made of electrically insulating material such as resin in which the opening 49a is formed in a portion as shown in FIG. 5
が、その1つのコーナー部分に一体的に取り付けられ、 But integrally attached to one corner portion thereof,
両者が一体化される。 Both are integrated. このモールド部材49には、予め一方の面(図5における下面)に一対の受電用端子としての端子ピン65a、65bが一体的に設けられている。 The molding member 49, advance one face terminal pins 65a as a pair of power receiving terminals (the lower surface in FIG. 5), 65b is integrally provided. 従って、モールド部材49を電機子コイル44に取付けた後、開口部49aを介して端部(受電端)64a Thus, after attaching the mold member 49 to the armature coil 44, the end portion through the opening 49a (the receiving end) 64a
と端子ピン65a、端部(受電端)64bと端子ピン6 The terminal pins 65a, the ends (the receiving end) 64b and the terminal pin 6
5bとをそれぞれ半田付けすることにより、電機子コイル44に対する電流の供給を端子ピン65a、65bを介して行うことが可能になる。 By respectively soldering the 5b, comprising the supply of current to the armature coil 44 terminal pins 65a, it can be performed via 65b.

【0049】更に、本実施形態では、コイル支持部材1 [0049] Further, in this embodiment, the coil supporting member 1
2には、図5に示されるように、前記端子ピン65a、 The 2, as shown in FIG. 5, the terminal pins 65a,
65bに対応して、当該端子ピン65a、65bのそれぞれを着脱自在に接続可能なソケット22が設けられている。 Corresponding to 65b, the terminal pins 65a, socket 22 respectively possible detachably connected to 65b are provided.

【0050】これを更に詳述すると、ソケット22は、 [0050] When this will be described in more detail, the socket 22,
図4に示されるように、コイル支持部材12を構成する磁性体部材62に端子ピン65a(又は65b)に対向して形成された円形開口内に埋め込まれ、その内部に端子ピン65a(又は65b)を着脱自在に接続可能なレセプタクルを有する樹脂製の円筒部材から成り、このソケット22の底面には、プリント基板66に形成されたスルーホール内に挿入され該プリント基板66に形成された給電パターンに接続された給電用端子24が設けられている。 As shown in FIG. 4, it is embedded in the coil supporting member 12 magnetic member 62 to the terminal pins 65a constituting the (or 65b) to face formed an a circular opening, the terminal pins 65a (or 65b therein ) a resin cylindrical member having a detachably connectable receptacle and this on the bottom surface of the socket 22, power supply pattern formed on the printed circuit board 66 is inserted into the through holes formed in the printed circuit board 66 connected power supply terminal 24 is provided.

【0051】本実施形態では、ソケット22は、図5に示されるように、隣接する2行2列で配置される4個の電機子コイル44のコーナーR部が集中する部分に、各電機子コイル44のコーナー部にモールド部材49を介して一体的に設けられた端子ピン65a、65bにそれぞれ対応して、各2つづつ合計8個が集中して設けられている。 [0051] In this embodiment, the socket 22, as shown in FIG. 5, the portion where the corner R portion of the four armature coils 44 are arranged in two adjacent rows and two columns are concentrated, the armature corner portion via the mold member 49 integrally provided with terminal pins 65a of the coil 44, respectively corresponding to 65b, each 2 by one total of eight are provided concentrated. また、これに対応してプリント基板66の底面には、図7に示されるように、各ソケット22に給電用端子24を介して個別に接続された給電パターン26が形成されている。 Further, the bottom surface of the printed circuit board 66 in correspondence with this, as shown in FIG. 7, the feeding pattern 26 is formed that are connected individually via the power supply terminal 24 in each socket 22.

【0052】従って、それぞれの電機子コイル44をコイル支持部材12上に実装するに際しては、各電機子コイル44にモールド部材49を介して一体化され、電気的な接続が完了した端子ピン65a、65bを対応するソケット22にそれぞれ接続(嵌合)するだけで、ワンタッチにて、各電機子コイル44のコイル支持部材12 [0052] Thus, when implementing the respective armature coils 44 on the coil supporting member 12 is integrated with the armature coil 44 via the mold member 49, the terminal pins 65a for electrical connection has been completed, 65b in the corresponding socket 22 only are connected (fitted) at one touch, the coil support member 12 of each armature coil 44
上への物理的な固定と、給電用パターン26を介して不図示の電流供給装置に接続された給電用端子24に対する電気的な接続とを完了することができる。 It can be completed and physical fixation onto the electrical connection to the power supply terminal 24 connected to the current supply device (not shown) via a power-supply pattern 26. 従って、接着剤による電機子コイル44のコイル支持部材12(磁性体部材62)への固定作業が不要となり、また各電機子コイル44を電流供給装置に電気的に接続するための、導線(リード線)を用いた面倒な配線作業が不要となる。 Thus, the fixing work to the coil supporting member 12 of the armature coil 44 by adhesive (magnetic member 62) is not required, also for electrically connecting each armature coil 44 to the current supply device, lead (lead troublesome wiring work using the line) is not required.

【0053】上述の如くして、各電機子コイル44がコイル支持部材12上に実装され、その後、平板状部材6 [0053] In as described above, the armature coil 44 is mounted on the coil supporting member 12, then, the flat plate-like member 6
8が容器19に載置される等の手順を経て、ベース21 8 following the procedure such as to be placed in the container 19, the base 21
の組み立てが完了し、その後更に可動子51上への基板テーブル18の搭載作業など所定の手順を経て、基板ステージ装置30の組み立てが完了する。 The assembly is completed, then further through a predetermined procedure such as mounting operation of the substrate table 18 onto the movable member 51, the assembly of the substrate stage device 30 is completed.

【0054】上記ベース21の組み立て完了後あるいは基板ステージ装置30の組み立て完了後に、不図示の電流供給装置から、プリント基板66上の給電パターン2 [0054] After completing the assembly of the fully assembled or after the substrate stage device 30 of the base 21, from the current supply device (not shown), feed on the printed circuit board 66 of the pattern 2
6、給電用端子24、及び端子ピン65a、65bを介して、電流が供給されると、供給された電流は、図5に示される中心軸CXの周りをほぼ一様な電流密度(体積密度)で流れる。 6, power supply terminal 24, and the terminal pins 65a, via 65b, when current is supplied, the supplied current is substantially uniform current density (volume density around the central axis CX of FIG 5 flowing in). 本実施形態の露光装置100では、ステージ制御系19によって不図示の電流供給装置から電機子コイル44に流れる電流の電流値及び電流方向の少なくとも一方が制御されることにより、基板テーブル1 In exposure apparatus 100 of the present embodiment, by at least one of the current value and current direction of the current flowing from the current supply device (not shown) by the stage control system 19 to the armature coils 44 are controlled, the substrate table 1
8のXY面内での移動が制御される。 8 moves in the XY plane is controlled for.

【0055】ここで、ステージ制御系19による、基板テーブル18の駆動制御方法について、その駆動原理も含めて簡単に説明する。 [0055] Here, according to the stage control system 19, the drive control method of the substrate table 18, also briefly described, including its driving principle.

【0056】磁極ユニット51に対向する電機子コイル44は、図3に示される永久磁石52N,52S等の中心点に応じた位置で絶対値が最大となり、X方向及びY [0056] armature coil 44 which faces the magnetic pole unit 51, the absolute value is maximized at the position corresponding to the center point of the permanent magnets 52N, 52S and the like shown in FIG. 3, X direction and Y
方向に正弦関数によって近似できる形状をした磁束密度分布が存在している状況下に配置されている。 Magnetic flux density distribution in the form that can be approximated by a sine function is placed under circumstances which are present in the direction. そのような電機子コイル44に電流が供給されると、電機子コイル44にローレンツ電磁力が発生する。 When current is supplied to such an armature coil 44, a Lorentz electromagnetic force is generated in the armature coils 44. このローレンツ電磁力の反力が磁極ユニット51に作用し、基板テーブル18(ウエハW)が駆動される。 The reaction force of the Lorentz electromagnetic force acts on the magnetic pole unit 51, the substrate table 18 (wafer W) is driven.

【0057】ところで、電機子コイル44に発生するローレンツ電磁力の大きさ及び方向は、電機子コイル44 By the way, the magnitude and direction of the Lorentz electromagnetic force generated in the armature coil 44, the armature coils 44
に供給される電流の大きさ及び方向、並びに磁極ユニット51と平板状コイル群61との位置関係によって異なるが、ステージ制御系19では、X方向に基板テーブル18を駆動する場合には、磁極ユニット51のX位置に応じてX方向で隣り合う2つの電機子コイル44の対を選択し、各対の電機子コイル44について、磁極ユニット51と平板状コイル群61との位置関係に応じ、互いに位相が90°だけ異なる同一振幅の正弦波電流を供給することにより、ローレンツ電磁力の合力のX成分を磁極ユニット51のX位置によらず一定に制御する。 Magnitude and direction of current supplied to, and varies depending on the positional relationship between the magnetic pole unit 51 and the flat coils 61, the stage control system 19, when the X-direction to drive the substrate table 18, a magnetic pole unit select pairs of two armature coils 44 adjacent in the X direction in accordance with the X position of the 51, the armature coils 44 of each pair, depending on the positional relationship between the magnetic pole unit 51 and the flat coils 61, mutually phase by supplying a sine wave current of the same amplitude differ by 90 °, it controls the X component of the resultant force of Lorentz electromagnetic force constant regardless of the X position of the magnetic pole unit 51. この場合において、ステージ制御系19では、磁極ユニット51をX方向へ駆動する力及び回転力が全体として0となるように、各電機子コイル44に流す電流を調整する。 In this case, the stage control system 19, as the force and rotational force to drive the magnetic pole unit 51 in the X direction becomes 0 as a whole, to adjust the current supplied to the armature coils 44. また、ステージ制御系19では、各電機子コイル4 Further, the stage control system 19, the armature coil 4
4に供給される正弦波電流の振幅及び方向を制御することによって、磁極ユニット51を駆動する力の大きさ及び方向を制御する。 By controlling the amplitude and direction of the sinusoidal current supplied to the 4 to control the magnitude and direction of the force that drives the magnetic pole units 51.

【0058】ステージ制御系19では、磁極ユニット5 [0058] In the stage control system 19, the magnetic pole unit 5
1をY方向に駆動する場合にもX方向の場合と同様にして、磁極ユニット51のY位置によらず一定の駆動力による駆動を行うようになっている。 1 in the same manner as in the X direction when driving in the Y direction, and performs the driving by constant driving force regardless of the Y position of the magnetic pole unit 51.

【0059】また、ステージ制御系19では、上記の磁極ユニット51をX方向に駆動する場合の電流パターンとY方向に駆動する場合の電流パターンとが適当な比率で重ね合わされたパターンの電流を各電機子コイル44 [0059] In the stage control system 19, a current pattern in which the current pattern superimposed in suitable proportions in driving the current patterns and the Y direction in the case of driving the magnetic pole unit 51 in the X direction each armature coil 44
に供給することにより、XY平面に沿った任意の方向に任意の駆動力で磁極ユニット51を駆動することができる。 By supplying, it is possible to drive the magnetic pole unit 51 in any of the driving force in any direction along the XY plane.

【0060】更に、ステージ制御系19では、回転力の相殺を行わず、磁極ユニット51を駆動することにより、所望の回転方向及び所望の回転力で磁極ユニット5 [0060] Further, the stage control system 19, without offsetting the rotational force, by driving the magnetic pole unit 51, the magnetic pole unit 5 in the desired rotational direction and desired rotational force
1の回転駆動を行うことができるようになっている。 And it is capable of performing one rotation drive.

【0061】以上のように、本実施形態の露光装置10 [0061] As described above, the exposure apparatus 10 of this embodiment
0では、ステージ制御系19により、基板テーブル18 In 0, the stage control system 19, the substrate table 18
のXY位置及びθz回転(ヨーイング量)に応じて電機子コイル44に供給する電流が制御され、基板テーブル18ひいてはウエハWの位置制御が行われるようになっている。 The XY position and θz rotation current supplied to the armature coils 44 in accordance with (yawing amount) is controlled, so that the position control of the substrate table 18 and thus the wafer W is performed.

【0062】上記の電機子コイル44への電流の供給により電機子コイル44が発熱し、この熱が平板状部材6 [0062] The armature coil 44 by the supply of current to said armature coil 44 generates heat, this heat plate member 6
8を介して基板テーブル18側に伝達されると、基板テーブル18に保持されたウエハWに熱変形を生じさせたり、基板テーブル18周囲の雰囲気に揺らぎ(温度揺らぎ)を発生させ、基板テーブル18の位置を検出するウエハ干渉計31の検出誤差を招くおそれがある。 Once transferred to the substrate table 18 side through the 8, or cause thermal deformation to the wafer W held on the substrate table 18, it generates a fluctuation (temperature fluctuation) in the atmosphere surrounding the substrate table 18, the substrate table 18 which may cause wafer interferometer 31 that detects a position detection error of. このため、図示は省略されているが、本実施形態の露光装置1 Therefore, although not shown, the exposure apparatus 1 of this embodiment
00では、ベース21内部の空間(平板状部材68と容器69とコイル支持部材12とで囲まれる閉空間、及び容器69とコイル支持部材12とで囲まれる閉空間内に、水あるいはフッ素系不活性液体等の冷却液(冷媒) 00, a closed space surrounded by the base 21 inside the space (plate member 68 and the container 69 and the coil support member 12, and in a closed space surrounded by the container 69 and the coil support member 12, water or a fluorine-based non coolant such as activated liquid (refrigerant)
を流通させて、電機子コイル44の上面側及び下面側から同時に冷却が行われるようになっている。 It was allowed to flow, so that the simultaneous cooling from the upper side and the lower side of the armature coil 44 is performed.

【0063】次に、前述したステージ装置30を含む露光装置100における露光動作の流れについて図1に基づいて簡単に説明する。 Next, briefly described with reference to FIG. 1 the flow of the exposure operation in the exposure apparatus 100 including a stage apparatus 30 described above.

【0064】まず、主制御装置20の管理の下、不図示のレチクルローダ、ウエハローダによって、レチクルロード、ウエハロードが行われ、また、レチクル顕微鏡、 [0064] First, under the control of main controller 20, a reticle loader (not shown), the wafer loader, a reticle loading, wafer loading is performed, also the reticle microscopes,
基板テーブル18上の基準マーク板、オフアクシス・アライメント検出系(いずれも図示省略)等を用いて、レチクルアライメント、ベースライン計測(アライメント検出系の検出中心から投影光学系PLの光軸までの距離の計測)等の準備作業が所定の手順で行われる。 Reference mark plate on the substrate table 18, the off-axis alignment detection system (both not shown) using such reticle alignment, the distance from the detection center of the base line measurement (alignment detection system to the optical axis of the projection optical system PL Preparing the measurement), and the like are performed in a predetermined procedure.

【0065】その後、主制御装置20により、不図示のアライメント検出系を用いてEGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)等のウエハアライメント計測が実行される。 [0065] Then, the main controller 20, EGA (Enhanced Global Alignment) wafer alignment measurement such is performed using the alignment detection system (not shown). このような動作において、ウエハWの移動が必要な場合には、ステージ制御系19が主制御装置20からの指示に応じて、電機子コイル44に供給する電流値、及び電流方向の少なくとも一方を制御することにより、可動子51と一体的にウエハWを保持する基板テーブル18を所定の方向に移動させる。 In such an operation, when the movement of the wafer W is required, the stage control system 19 in response to instructions from main controller 20, a current value supplied to the armature coils 44, and at least one current direction by controlling so as to move the substrate table 18 for holding the integrally wafer W and the movable element 51 in a predetermined direction. 上記のアライメント計測の終了後、以下のようにしてステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行われる。 After completion of the alignment measurement, the exposure operation by the step-and-scan method is performed as follows.

【0066】この露光動作にあたって、まず、ウエハW [0066] In this exposure operation, first, the wafer W
のXY位置が、ウエハW上の最初のショット領域(ファースト・ショット)の露光のための走査開始位置となるように、基板テーブル18が移動される。 XY position of, so that the scanning start position for exposure of a first shot area on the wafer W (first shot), the substrate table 18 is moved. 同時に、レチクルRのXY位置が、走査開始位置となるように、レチクルステージRSTが移動される。 At the same time, XY position of the reticle R, such that the scanning start position, the reticle stage RST is moved. そして、主制御装置20からの指示に基づき、ステージ制御系19がレチクル干渉計16によって検出されたレチクルRのXY位置情報、ウエハ干渉計31によって検出されたウエハWのXY位置情報に基づき、不図示のレチクル駆動部及び平面モータ50を介してレチクルRとウエハWとを同期移動させることにより、走査露光が行われる。 Then, based on instructions from main controller 20, based on the XY position information of the wafer W detected XY position information of the reticle R to the stage control system 19 is detected by the reticle interferometer 16, by the wafer interferometer 31, not by synchronously moving the reticle R and wafer W via reticle driver and planar motor 50 shown, the scanning exposure is performed. このウエハWの移動は、主制御装置20からの指示に応じ、ステージ制御系19が、電機子コイル44に供給する電流値、 The wafer W moves in, in response to instructions from main controller 20, the stage control system 19, a current value supplied to the armature coils 44,
及び電流方向の少なくとも一方を制御することにより行われる。 And it is performed by controlling at least one of the current direction.

【0067】このようにして、1つのショット領域に対するレチクルパターンの転写が終了すると、基板テーブル18が1ショット領域分だけステッピングされて、ショット領域に対する走査露光が行われる。 [0067] Thus, when the transfer of the reticle pattern for one shot area is completed, the substrate table 18 is stepping by one shot area fraction, the scanning exposure for the shot area is performed. このようにして、ステッピングと走査露光とが順次繰り返され、ウエハW上に必要なショット数のパターンが転写される。 In this way, the stepping and scanning exposure are repeated sequentially, the number of shots required pattern on the wafer W is transferred.

【0068】以上説明したように、本実施形態の露光装置100によると、磁気回路設計が容易で推力リプルが小さく、高帯域まで電流と推力との線形性が良く、このため高分解能な位置制御が可能なローレンツ電磁力駆動方式の平面モータ50により、ステージとしての基板テーブル18の駆動装置が構成されていることから、基板テーブル18の駆動装置を回転モータと送りねじとの組み合わせにより構成する場合は勿論、基板テーブル18 [0068] As described above, according to exposure apparatus 100 of the present embodiment, easy thrust ripples small magnetic circuit design, good linearity between the current and the thrust up to a high bandwidth, Therefore high-resolution position control the planar motor 50 of the Lorentz electromagnetic force drive method capable, since the driving device for the substrate table 18 serving as the stage is configured, if constituted by a combination of a rotary motor and feed screw driving device for the substrate table 18 Of course, the substrate table 18
の駆動装置として可変磁気抵抗駆動方式の平面モータ等を用いる場合に比べて、基板テーブル18の位置制御性が向上し、レチクルステージRSTと基板テーブル18 As compared with the case where the use of a planar motor, etc. of a variable reluctance drive system as a drive device, improved position control of the substrate table 18, the reticle stage RST and the substrate table 18
との同期精度の向上、ショット間ステッピング時の位置決め精度の向上等により、露光精度(重ね合せ精度)の向上が可能であるとともに、同期整定時間及び位置決め整定時間の短縮によりスループットの向上が可能になる。 Synchronization accuracy of the by improvement of the positioning accuracy at the time between shots stepping, as well as a possible improvement in exposure accuracy (overlay accuracy), the throughput can be improved by shortening the synchronization settling time and positioning settling time Become.

【0069】また、固定子60を構成する各電機子コイル44のコイル巻き線64として平角偏平電線が用いられていることから、隣り合うコイル巻き線64同士が面接触をし、隣り合うコイル巻き線同士が線接触をする断面丸型の電線を使用した場合と比べ、電機子コイル44 [0069] Furthermore, since used is rectangular flat wire as a coil winding 64 of the armature coils 44 constituting the stator 60, the coil winding 64 with each other in surface contact adjacent, adjacent coil turns compared to the case where the line with each other using a cross-section round the wire to a line contact, the armature coils 44
における電線の占積率が向上する。 Space factor of the wire is improved in. 従って、電機子コイル44の小型化による平面モータ装置の小型化が可能であるとともに、占積率の向上により電流密度を向上させることができ、結果的に発生推力(発生するローレンツ電磁力)の向上が可能になる。 Thus, as well as a possible reduction in size of the planar motor device according to the miniaturization of the armature coils 44, it is possible to improve the current density by improving the space factor, resulting in thrust force generated (Lorentz electromagnetic force generated) improvement is possible. かかる発生推力の向上により、基板テーブル18のより高加速な駆動が可能となり、この点においてもスループットの向上が可能となる。 The improved such generated thrust, enables more high acceleration driving of the substrate table 18, it becomes possible to improve the throughput in this respect.

【0070】また、本実施形態では、各電機子コイル4 [0070] Further, in the present embodiment, the armature coil 4
4はコイル巻き線64の両端部(受電端)64a、64 4 at both ends of the coil winding 64 (receiving end) 64a, 64
bがともに当該電機子コイル44の外側に存在するように巻かれているので、何らの困難を伴うことなく、コイルの外側に受電端の双方を配置することができるので、 Since b is wound together so as to exist outside of the armature coils 44, without any difficulty, it can be arranged both receiving end on the outside of the coil,
配線作業を効率化することができる。 It can be made efficient wiring work. この場合、前述したコイルの上側の配線スペースの確保や、コイル下側の凹溝の形成等が不要となる。 In this case, securing and wiring spaces of the upper coil as described above, forming such a groove of the coil lower side is not necessary.

【0071】また、各電機子コイル44は、当該電機子コイル44の容器69内配設スペースの高さ寸法に合わせて、2つのセグメント42を積層し、かつセグメント42同士を接着するとともに、各セグメント42を形成するコイル巻き線64の端部同士を結線して形成された4層巻き線が用いられている。 [0071] Furthermore, each armature coil 44, together in accordance with the height of the container 69 within the arrangement space of the armature coil 44, the two segments 42 are stacked, and bonding the segments 42 to each other, each 4-layer winding formed by connecting the ends of the coil winding 64 to form the segment 42 is used. この場合、各セグメント42を形成するコイル巻き線64の端部同士をそれぞれのセグメントの外側の位置で結線しているので、半田付け等の結線作業を容易に行なうことができる。 In this case, since the connecting end portions of the coil winding 64 for forming each segment 42 at a position outside of each segment can be performed easily connecting operation such as soldering. .

【0072】さらに、本実施形態では、各電機子コイル44のコイル支持部材12への実装に先立って、その底面に一対の端子ピン65a、65bが一体的に設けられたモールド部材49が取り付けられ、コイル巻き線64 [0072] Further, in the present embodiment, prior to mounting to the coil support member 12 of each armature coil 44, a pair of terminal pins 65a on its bottom surface, 65b is attached the mold member 49 provided integrally , coil winding 64
の両端部64a、64bが一対の端子ピン65a、65 Both end portions 64a, 64b are a pair of terminal pins 65a of 65
bにそれぞれ接続される。 They are respectively connected to the b. また、コイル支持部材12 The coil support member 12
は、各電機子コイル44への給電パターン26が形成されたプリント基板66を含んで構成されるとともに、そのコイル支持部材12には、各給電パターン26のそれぞれに対応する給電用端子24を有し、各電機子コイル44の端子ピン65a又は65bが着脱自在に接続されるソケット22が所定間隔で設けられている。 , Together with the power supply pattern 26 to each armature coil 44 is configured to include a printed circuit board 66 formed, on its coil support member 12, have a power supply terminal 24 corresponding to each of the feeding pattern 26 and, a socket 22 to which the terminal pins 65a or 65b of each armature coil 44 is detachably connected is provided at a predetermined interval. このため、コイル支持部材12に設けられたソケット22に各電機子コイル44に設けられた端子ピン65a、65b Therefore, the terminal pins 65a provided on the armature coil 44 to a socket 22 provided in the coil supporting member 12, 65b
を嵌合するだけで、ワンタッチで、コイル支持部材12 The only fitting, one-touch, the coil support member 12
への電機子コイル44の固定と、電流供給のための配線が完了する。 Fixing of the armature coil 44 to the wiring for current supply is completed. これにより、接着剤による電機子コイル4 Thus, the armature coil 4 with an adhesive
4のコイル支持部材12(磁性体部材)への固定作業、 4 of the fixing work to the coil supporting member 12 (magnetic member)
及び各電機子コイル44を電流供給装置に電気的に接続するための、導線(リード線)を用いた面倒な配線作業が不要となる。 And for electrically connecting the armature coil 44 to the current supply device, troublesome wiring work using a wire (lead wire) is not required. 従って、各電機子コイル44の組み付け作業、配線作業の効率化が可能であり、ベース21の組立作業が容易となり、ひいては基板ステージ装置30、 Accordingly, assembling work of each armature coil 44, it is capable of efficient wiring work, assembly of the base 21 is facilitated, and thus the substrate stage device 30,
更には露光装置100の組立作業の容易化が可能となり、これによるコストの低減が可能である。 Furthermore it is possible to facilitate the assembling operation of the exposure apparatus 100, it is possible to reduce costs by this. 特に、本実施形態のように、電機子ユニットを固定子側として多数の電機子コイルが必要となる、平面モータをステージの駆動源とする場合には、上記の各電機子コイルの組み付け作業、配線作業の効率化が、装置組み立て時間の短縮、コスト低減に大きな効果を発揮する。 In particular, as in this embodiment, the number of armature coils is required armature unit as stator side, in the case of the planar motor as a driving source of the stage, the assembly of the armature coils of the work, efficient wiring work, reduction of device assembly time, very effective in cost reduction.

【0073】なお、上記第1の実施形態で説明した端子ピン65a、65bの配置は一例であり、例えば、電機子コイル44の別々のコーナー部にモールド部材をそれぞれ取付け、それぞれに端子ピン65a、65bを設けることにより、端子ピン65a、65bを電機子コイル44の別々のコーナー部に配置しても良い。 [0073] Incidentally, the first embodiment in the terminal pin 65a described, the arrangement of 65b is one example, for example, mounting the mold members on separate corners of the armature coil 44, terminal pins 65a, respectively, by providing 65b, terminal pins 65a, 65b may be arranged in separate corners of the armature coils 44. かかる場合には、電機子コイル44のコイル支持部材12への固定がより安定する。 In such a case, fixed to the coil supporting member 12 of the armature coil 44 becomes more stable. 勿論、この場合には、給電パターンの配置、ソケットの配置等を上記の端子ピンに合わせる必要がある。 Of course, in this case, it is necessary to match the arrangement of the power supply pattern, the arrangement of the socket terminal pins described above.

【0074】《第2の実施形態》次に、本発明の第2の実施形態を図8及び図9に基づいて説明する。 [0074] "Second Embodiment" Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. ここで、 here,
前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一の符号を用いるとともに、その説明を簡略化し若しくは省略するもとする。 A first embodiment and the same or equivalent constituent parts of the above-described, together with the same reference numerals are based on simplified or omitted. この第2の実施形態の露光装置は、基板ステージ装置30を構成する平面モータ50の固定子60の構成が一部異なるのみで、その他の部分の構成等は前述した第1の実施形態と同一であることから、以下では上記の異なる点を中心として説明する。 The exposure apparatus of the second embodiment, the configuration of the stator 60 of the planar motor 50 which constitutes the substrate stage device 30 is a partially different only, same as the first embodiment configuration of the other parts described above since it is, the following description will focus on different points of the.

【0075】図8には、この第2の実施形態に係る電機子コイル44'が一部を切断された状態で示されている。 [0075] Figure 8 is an armature coil 44 'according to the second embodiment is shown in a state of being partially cut. この電機子コイル44'では、平角偏平電線から成るコイル巻き線を巻回し、該コイル巻き線の両端部(受電端)64a、64bそれぞれを受電用端子としての端子ピン65a、65bに半田付け等により接続している点は、前述した電機子コイル44と同様であるが、コイル巻き線の両端部64a、64bがともに電機子コイル44'の内側、すなわち中央部の中空部47内に存在するようにコイル巻き線が巻回されている点、及びこれに対応して端子ピン65a、65bが一体的に設けられた樹脂等の電気的な絶縁体から成るモールド部材49' In the armature coil 44 'wound around the coil winding composed of rectangular flat wire, both ends of the coil windings (receiving end) 64a, the terminal pins 65a of the respective 64b as power receiving terminals, such as soldering 65b the points connected by, but is similar to the armature coil 44 as described above, there inside, i.e. into the hollow portion 47 of the central portion of the end portions 64a of the coil winding, 64b are both armature coils 44 ' that the coil windings are wound such, and the terminal pins 65a correspondingly, the mold member 49 65b is made of an electrically insulating material such as a resin provided integrally '
が、中空部47内に一体的に取り付けられる点が異なる。 But that is integrally attached to the hollow portion 47 is different.

【0076】ここで、本第2の実施形態に係る電機子コイル44'の製造方法について図9に基づいて説明する。 [0076] Here, a manufacturing method of the present armature coils 44 of the second embodiment 'will be described with reference to FIG.

【0077】まず、第1の工程として、平角偏平電線から成るコイル巻き線64を従来と同様の手法により、内側から外側に順次一定方向に巻回した平面視正方形状のコイル巻き線から成るセグメントを4つ用意する。 [0077] As a first step, by the same method as the conventional coil winding 64 consisting of rectangular flat wire, made of square in plan view shape of the coil winding which sequentially wound in a predetermined direction from the inside to the outer segment It provides four to.

【0078】次に、図9に示されるように、上記4つのセグメントを、見かけ上内側から外側にかけて計回りに巻回されたコイル巻き線64から成る時計回りのセグメント48A 1 、内側から外側にかけて反時計回りに巻回されたコイル巻き線64から成る反時計回りのセグメント48B 1 、時計回りのセグメント48A 2 、反時計回りのセグメント48B 2の順に積み重ねる。 [0078] Next, as shown in FIG. 9, the four segments, clockwise segments 48A 1 consisting of a coil winding 64 wound in total around toward the outside from the apparently inside toward the outside from the inside counterclockwise segment 48B 1 including a coil winding 64 wound counter-clockwise, clockwise segment 48A 2, stacked in this order counterclockwise segment 48B 2. この積み重ねの際に、1層目のセグメント48A 1と2層目のセグメント48B 1とは、コイル巻き線64の外側の端部同士を半田等で結線し、2層目のセグメント48B 1と3層目のセグメント48A 2とはコイル巻き線64の内側の端部同士を結線し、3層目のセグメント48A 2と4層目のセグメント48B 2とはコイル巻き線64の外側の端部同士を結線し、隣接するセグメント間を接着剤により接着することで、両端部(受電端)64a、64bがともに内側の中空部に存在する所望の内入れ内出しの4 During this stacking, the first layer of segments 48A 1 and segment 48B 1 of the second layer, and connecting the ends of the outer coil winding 64 with solder or the like, of the second layer segments 48B 1 and 3 the segment 48A 2 layers th and connect the ends of the inner coil winding 64, the outer ends of the coil winding 64 is 3-layer segments 48A 2 and the fourth layer of the segment 48B 2 and connect, by bonding with an adhesive between adjacent segments, 4 of both end portions (the receiving end) 64a, 64b are both desired inner placed in out present in the hollow portion of the inner
層のコイル巻き線から成る電機子コイル44'が完成する。 Armature coil 44 made of a coil winding layer 'is completed.

【0079】但し、実際には、コイルの内側において半田付け等の結線作業を行うのは技術的に熟練度を要するので、上記第2の工程おいては、セグメントの積層完了後に半田付けをするのではなく、2層目のセグメント4 [0079] However, in practice, since perform connection operation such as soldering inside the coil requires technically proficiency, the keep the second step, the soldering after lamination completion segment instead of, the second layer segments 4
8B 1と3層目のセグメント48A 2との間を予め結線しておき、その後に1層目のセグメント48A 1と2層目のセグメント48B 1との結線および3層目のセグメント48A 2と4層目のセグメント48B 2の結線をするか、あるいは1層目〜4層目の順番に上方へセグメントを積み重ねながら随時結線をしていくことが望ましい。 8B 1 and advance connection between the third layer segments 48A 2, then the first layer of segments 48A 1 and second layer segment 48B 1 segment 48A 2 of connection and the third layer 4 or the connection segments 48B 2 layers th or it is desirable to continue to at any time connected with stacking the segments upward in the order of the first layer to fourth layer.

【0080】なお、2層目、3層目のセグメント間の内側における半田等による結線を省略するため、セグメント48A 2 、48B 1の代わりに第1の実施形態におけるセグメント42を使用しても良い。 [0080] Incidentally, the second layer, in order to omit the connection by soldering or the like on the inside between the third layer segments may be used a segment 42 of the first embodiment, instead of the segment 48A 2, 48B 1 . かかる場合には、1 In such a case, 1
層目と4層目にはセグメント48A 1 、48B 2をそのまま用いることで、半田等による結線作業をすべて外側で行うことが可能となる。 The layer and fourth-layer by using the segment 48A 1, 48B 2 as it is, it is possible to perform outside all connection work by soldering or the like.

【0081】そして、上述の如くして製造された、各電機子コイル44'に、モールド部材49'を取付け、コイル巻き線の両端部64a、64bと端子ピン65a、 [0081] Then, were prepared as described above, 'the mold member 49' each armature coils 44 attached to both end portions 64a of the coil winding, 64b and the terminal pins 65a,
65bとの接続を行うことにより、図8に示される端子ピン一体型の電機子コイル44'が完成する。 By performing the connection with 65b, the armature coil 44 of the terminal pins integral 'is completed as shown in FIG.

【0082】また、図示は省略したが、本第2の実施形態で用いられるコイル支持部材12は、基本的には前述した第1の実施形態と同様に構成されるが、前記端子ピン65a、65bの位置に対応する位置にソケット22 [0082] Also, although not shown, the coil supporting member 12 used in the second embodiment, is basically the same construction as the first embodiment described above, the terminal pins 65a, socket 22 at a position corresponding to 65b of the position
がそれぞれ設けられ、プリント基板66には該ソケット22に接続された受電用端子24にそれぞれ対応して給電パターン26が形成されている。 There is provided, respectively, the feeding pattern 26 in correspondence to the power receiving terminal 24 connected to the socket 22 is formed on the printed circuit board 66.

【0083】従って、それぞれの電機子コイル44'をコイル支持部材12上に実装するに際しては、各電機子コイル44'にモールド部材49'を介して一体化され、電気的な接続が完了した端子ピン65a、65bを対応するソケット22にそれぞれ接続(嵌合)するだけで、ワンタッチにて、各電機子コイル44'のコイル支持部材12への物理的な固定と、給電用パターン26を介して不図示の電流供給装置に接続された給電用端子2 [0083] Thus, each of the armature coils 44 'when the implement on the coil supporting member 12, each armature coil 44' are integrated via the mold member 49 ', a terminal of the electrical connection is completed only each pin 65a, 65b is in the corresponding socket 22 for connecting (mating) at one touch, and physical fixation of the coil support member 12 of each armature coil 44 ', via a power-supply pattern 26 feeding terminal connected to a current supply device (not shown) 2
4に対する電気的な接続とを完了することができる。 It is possible to complete the electrical connections to 4.

【0084】その他の部分の構成、作用等は、前述した第1の実施形態と同様になっている。 [0084] Other parts structure, operation, etc., has become similar to the first embodiment described above.

【0085】このようにして構成された本第2の実施形態の露光装置によると、前述した第1の実施形態と同等の効果を得られる他、電機子コイル44'の中空部(内側)に両端部64a、64b及び2つの端子ピン65 [0085] According to the exposure apparatus of the thus present that is configured second embodiment, in addition to obtain a similar effect as the first embodiment described above, the hollow portion of the armature coil 44 '(inner) both end portions 64a, 64b and two terminal pins 65
a、65bが存在するので、隣接する電機子コイル4 a, because 65b is present, the adjacent armature coils 4
4'同士を一層近接させた状態でコイル支持部材12上に配置することができるとともに、各電機子コイル4 4 'together may be disposed on the coil support member 12 in a state that was allowed to further close to each other, each armature coil 4
4'が中空部47部分においてコイル支持部材12に固定されるので、振動などで各電機子コイル44,44' 4 'so it is fixed to the coil supporting member 12 in the hollow portion 47 portion, each armature coil in vibration 44, 44'
がコイル支持部材12から外れ難いという効果がある。 There is an effect that hardly disengaged from the coil support member 12.

【0086】なお、上記第1、第2の実施形態では、コイル支持部材12が、給電パターン26が形成されたプリント基板66を含み、各給電パターン26毎にソケット22が設けられた場合について説明したが、本発明がこれに限定されることはなく、プリント基板を設けることなく、各ソケット22に接続された給電用端子24と電流供給装置とをリード線等によって電気的に接続しても良い。 [0086] Incidentally, in the first and second embodiments, the coil support member 12 comprises a printed circuit board 66 power supply pattern 26 is formed, the case where the socket 22 is provided for each power supply pattern 26 described but it was not that the invention be limited thereto, without providing a printed circuit board, be electrically connected to the current supply device power supply terminal 24 connected to the respective sockets 22 by a lead wire or the like good. かかる場合であっても、複数の電機子コイル4 Even in such a case, a plurality of armature coils 4
4を支持する支持部材に、各電機子コイルの一対の端子ピンにそれぞれ対応する給電用端子を有し、前記端子ピンが着脱自在に接続されるソケット22を複数所定間隔で設けることにより、支持部材に設けられたソケット2 4 the support member for supporting the having the power supply terminals corresponding respectively to the pair of terminal pins of each armature coil, by providing a socket 22 that the terminal pin is detachably connected to a plurality predetermined intervals, a support socket provided on member 2
2に電機子コイル44に設けられた端子ピン65a、6 2 to the terminal pin 65a provided on the armature coil 44, 6
5bを嵌合するだけで、ワンタッチで、支持部材への電機子コイルの固定と、電流供給のための配線が完了するので、電機子コイルの組み付け作業、ひいては装置の組み立て作業を容易にすることができる。 5b is only fitting, with one touch, fixing of the armature coils to the support member, since the wiring for current supply is completed, the assembly of the armature coils work, to facilitate the assembly operation of the thus device can.

【0087】また、上記実施形態で説明したソケット2 [0087] Also, the socket 2 as described in the above embodiments
2も必ずしも設ける必要はない。 2 is also not necessarily need to be provided. すなわち、各電機子コイルに、電気的絶縁体から成り所定の一方の面に一対の受電用端子(上記実施形態では端子ピン65a、65 That is, each armature coil, a pair of power receiving terminals (the above-described embodiment to a predetermined one of the surfaces made of electrically insulating material terminal pins 65a, 65
b)が一体的に設けられたモールド部材が取り付けられ、コイル巻き線64の両端部が一対の受電用端子にそれぞれ接続されていれば、各電機子コイルを組み付ける際に、受電用端子をこれに対応する給電用端子に接続するのみで、電機子コイルに対する給電のための電気的な接続が完了し、組み付け時に半田等を用いて受電用端子と電機子コイルの端部とを結線する等の作業が不要となり、組み付け作業(配線作業)が容易となるからである。 b) is attached molded member integrally provided with, if both ends of the coil winding 64 is only to be connected to the pair of power receiving terminals, when assembling the respective armature coils, which power receiving terminals only connected to the power supply terminal corresponding to the electrical connection for the power supply to the armature coil is complete, equal to wires the ends of the power receiving terminal and the armature coils using solder or the like during assembly work is unnecessary, because the assembling work (wiring operation) is facilitated.

【0088】さらに、上記各実施形態で説明したモールド部材も必ずしも設ける必要はない。 [0088] Moreover, it is not necessarily provided even mold members described in the above embodiments. すなわち、例えば上記第1の実施形態に係る電機子コイル44を構成する隣接層のセグメント42を形成するコイル巻き線64の端部同士を外側の所望の位置、例えばそれぞれのセグメントの外側の4隅の位置で結線すると、上記実施形態と同様に、平面視角型の電機子コイルを複数隣接してマトリクス状に配列させる場合に、隣接コイルとの間に生じるデッドスペース(4つの電機子コイルの角の部分が集中するスペース)にその結線部の半田のはみ出しを位置させることができるので、電機子コイルの配置の密集度を向上させることができ、結果的にスペース効率の向上が可能だからである。 That is, for example, desired position the ends outside the coil winding 64 to form the segments 42 of the adjacent layers constituting the armature coil 44 according to the first embodiment, for example, four corners of the outer each segment Tying in position, as in the above embodiment, the case of arranging the flat viewing angle type armature coil into a plurality adjacent to a matrix, the corners of the dead space (four armature coils that occurs between the adjacent coils since the protruding portion of the solder of the connection portion in the space) to focus the can be located, it is possible to improve the density of the arrangement of the armature coils, and capability for consequently improving the space efficiency .

【0089】また、上記第1、第2の実施形態では、共に4層巻きの電機子コイルを用いる場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではなく、要は、 [0089] Further, in the first and second embodiments, descriptions have been given of the case using the both 4-layer winding of the armature coil, but the present invention is not limited thereto. In short,
電機子コイル1個当たりの配設スペースとして予定された空間に合わせて、セグメントの数(層数)を決定すれば良い。 In accordance with the scheduled space as a disposition space per armature coils, it may be determined the number of segments (the number of layers). このようにすると、その空間の形状に合わせたコイルを作成することができる。 In this way, it is possible to create a coil conforming to the shape of the space. また、任意の厚みのセグメントを従来の手法により大量生産し、例えば各セグメントを交互に裏表にして偶数層積層し、かつセグメント間を接着し、隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士を結線することにより内入れ内出しのコイルや外入れ外出しのコイルを簡単に製造することができる。 Further, mass-produced by conventional procedures segments of arbitrary thickness, for example, each segment in the sides and the even layers are alternately stacked, and bonded between the segments, the ends of the coil windings to form the segments of the adjacent layer the coil and the outer insertion going out of the coil of the inner placed inside out can be easily prepared by connecting to each other.

【0090】なお、上記第1、第2の実施形態では、電機子コイルのコイル巻き線に偏平平角電線を使用したが、例えば、スペース的に余裕がある場合には、コイル巻き線として安価な断面が丸型の電線を使用しても良い。 [0090] Incidentally, in the first and second embodiment uses a flat rectangular electric wire to the coil winding of the armature coils, for example, if the space to a margin is inexpensive as a coil winding cross-section may be used round the wire.

【0091】また、上記各実施形態では、可動子51を浮上支持するエアスライダを構成する気体静圧軸受けから加圧気体として加圧空気がガイド面に対して噴出される場合について説明したが、これに限らず、例えばAr [0091] In the above embodiments, although the pressurized air as a pressurized gas from the gas static pressure bearing constituting an air slider flying supporting the mover 51 has been described a case where ejected with respect to the guide surface, the present invention is not limited to this, for example, Ar
FエキシマレーザやF 2レーザを露光光源とし、露光装置のチャンバ内に窒素、あるいはヘリウムを充填させるような環境下では、加圧気体としてのそれらのガスを用いれば良い。 F excimer laser or F 2 laser as the exposure light source, a nitrogen or in an environment that is filled with helium, in the chamber of the exposure apparatus may be used for their gas as pressurized gas.

【0092】なお、上記各実施形態では、本発明が電磁力駆動方式の平面モータに適用され、電機子コイルがマトリクス状に配置された場合について説明したが、これに限らず、複数の電機子コイルを、所定の一軸方向に沿って所定間隔で配置するリニアモータにも本発明は適用可能である。 [0092] In the above embodiments, the present invention is applied to the planar motor of the electromagnetic force drive method, but the armature coil case has been described which are arranged in a matrix is ​​not limited thereto, a plurality of armatures the coil, the present invention is also applicable to linear motors arranged at predetermined intervals along a predetermined axial direction is applicable.

【0093】図10には、本発明に係るモータ装置の他の実施形態として、円筒型リニアモータ(シャフトモータ)73が示されている。 [0093] Figure 10 is another embodiment of the motor apparatus according to the present invention, a cylindrical linear motor (shaft motor) 73 is shown. このシャフトモータ73は、 The shaft motor 73,
多数の円柱型永久磁石から成る磁極ユニット72と、この周囲に装着され、磁極ユニット72との間に生じるローレンツ電磁力により磁極ユニット72に沿って駆動される電機子ユニット71とを備えている。 A magnetic pole unit 72 comprising a plurality of cylindrical permanent magnets, mounted on the periphery, and a armature unit 71 which is driven along the magnetic pole unit 72 by Lorentz electromagnetic force generated between the magnetic pole unit 72. 電機子ユニット71を構成する電機子コイル44としてコイル巻き線の両端部がともにコイルの外側に存在する電機子コイルが用いられている。 Armature coil both ends of the coil winding is present both on the outside of the coil as the armature coils 44 constituting the armature unit 71 is used.

【0094】この図10のシャフトモータ73では、従来のリニアモータで使用されていた電機子コイルのように片方の端部を内側から外側へ引き出して配線をするということが無くなるので、隣り合う電機子コイルの間隔を狭くすることができ、シャフトモータ73の発生推力の向上を図ることができる。 [0094] In the shaft motor 73 in FIG. 10, since that is the wiring drawn out to the outer end portion of the one from the inside as in the conventional linear motor armature coils that were used in disappears, adjacent electrical it is possible to narrow the gap of the child coils, it is possible to improve the thrust generated the shaft motor 73. 従って、このシャフトモータ73をXY2次元方向に配置し、これによってステージを駆動する駆動装置を構成すれば、高加速駆動が可能で、ステージの位置制御性に優れたステージ装置が実現される。 Accordingly, the shaft motor 73 is arranged in the XY2 dimensional direction, thereby be configured to drive apparatus for driving a stage, capable of high acceleration driving, superior stage device to the position control of the stage is realized. そして、このステージ装置を、例えば、上記実施形態と同様の走査型露光装置のマスク又は基板の駆動装置として用いることにより、上述した実施形態と同様に、露光精度の向上とスループットの向上とを実現することができる。 Then, the stage apparatus, for example, by using as a driving device of the mask or substrate in the above embodiment the same scanning exposure apparatus, similarly to the embodiment described above, realizing the improvement of improvement and throughput of the exposure accuracy can do.

【0095】なお、コイル巻き線の両方の端部が電機子コイルの内側に存在する電機子コイルをシャフトモータに用いても上述の2つの端部が外側に存在する電機子コイルを使用したシャフトモータ73と同等の効果を得ることができる。 [0095] Incidentally, the shaft the two ends of the above also with reference to the armature coil both ends of the coil winding is present on the inside of the armature coil to the shaft motor was used armature coil present outside it is possible to obtain the same effects as the motor 73.

【0096】また、上記第1、第2の実施形態では、本発明に係るモータ装置及びステージ装置がスキャニング・ステッパの基板の駆動装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、例えばレチクルの駆動装置に本発明に係るモータ装置及びステージ装置を適用することも可能である。 [0096] Further, in the first and second embodiments, the motor apparatus and the stage apparatus according to the present invention has been described when applied to a driving device for the substrate scanning stepper, not limited to this, for example, it is also possible to apply the motor unit and the stage apparatus according to the present invention the drive of the reticle. また、本発明に係るモータ装置及びステージ装置は、スキャニング・ステッパ等の走査型露光装置に限らず、ステップ・アンド・リピート方式のステッパ等の静止露光型の露光装置における基板の駆動装置にも適用できる。 Further, the motor apparatus and the stage apparatus according to the present invention is not limited to the scanning exposure apparatus such as a scanning stepper, applied to the driving device of the substrate in a stationary exposure type exposure apparatus such as a stepper step-and-repeat method it can. かかる場合、組み立て作業の容易化によるコストの低減、基板の位置決め精度の向上による露光精度(重ね合せ精度)の向上と、位置決め時間の短縮によるスループットの向上が可能になる。 In this case, cost reduction by simplification of the assembly operations, and improvements in exposure accuracy due to improvement in substrate positioning accuracy (overlay accuracy), the throughput can be improved by shortening the positioning time.

【0097】なお、本発明は、投影光学系を用いることなくマスクと基板とを密接させてマスクのパターンを基板に転写するプロキシミティ露光装置にも適用することができる。 [0097] The present invention can also be applied to a proximity exposure apparatus by close contact between the mask and the substrate without using a projection optical system for transferring a pattern of a mask onto a substrate.

【0098】また、本発明は、露光用照明光としてDU [0098] Further, the present invention is, DU as exposure illumination light
V光を用いる露光装置に限らず、ArFエキシマレーザ光やF レーザ光(波長157nm)等の真空紫外(V Not only to an exposure apparatus using V light, ArF excimer laser light or F 2 laser beam (wavelength: 157 nm) or the like of the vacuum ultraviolet (V
UV)光を用いる露光装置は勿論、波長5〜30nm程度の軟X線領域の光(いわゆるEUV光)を用いる露光装置、更には、電子線露光装置等の荷電粒子線露光装置などの露光装置にも好適に適用できる。 Of course the exposure apparatus that uses UV) light, an exposure apparatus using light (so-called EUV light) in a soft X-ray region having a wavelength of about 5 to 30 nm, further, the exposure device such as a charged particle beam exposure apparatus such as an electron beam exposure apparatus It can be suitably applied to.

【0099】投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良い。 [0099] magnification of the projection optical system can be either such as magnifying system or a magnifying not only a reduction system. 投影光学系としては、 The projection optical system,
エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F In the case of using the far ultraviolet rays such as an excimer laser using a material which transmits far ultraviolet rays such as quartz and fluorite as glass material, F
2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または反射系の光学系(レチクルも反射型タイプのものを用いる)にし、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いれば良い。 When using a 2 laser or X-rays to catadioptric system or a reflective system optical system (reticle also used as a reflective type), also an electron lens and a deflector as an optical system in the case of using an electron beam it may be used for the electron optical system.
なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。 The optical path through which an electron beam passes is naturally a vacuum state.

【0100】露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスブレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気へッドを製造するための露光装置にも広く適用できる。 [0100] Without being limited to the exposure apparatus for manufacturing semiconductor use of the exposure apparatus, for example, exposure apparatus for liquid crystal which exposes a liquid crystal display device pattern onto a glass blanking rate of the square, the thin-film magnetic head It can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing.

【0101】更に、本発明に係るモータ装置及びステージ装置は、露光装置以外の装置、例えば検査装置や基板搬送装置等のステージを備えた装置にも好適に適用できる。 [0102] In addition, the motor apparatus and the stage apparatus according to the present invention, apparatus other than the exposure apparatus, for example can be suitably applied to an apparatus provided with a stage, such as the inspection apparatus or the substrate transfer apparatus.

【0102】なお、複数のレンズから構成される照明光学系及び投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整するとともに、レチクルステージRST及び電機子コイル44又は44'が組み込まれたステージ装置30を露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整(電機調整、動作確認等)をすることにより上記各実施形態の露光装置を製造することができる。 [0102] Incidentally, while the embedded optical adjustment to the exposure apparatus main body an illumination optical system and projection optical system composed of a plurality of lenses, an exposure stage device 30 which reticle stage RST and the armature coils 44 or 44 'is incorporated attached to the apparatus body connecting the wires and pipes can be manufactured an exposure apparatus of the above embodiments by further the overall adjustment (electrical adjustment, operation confirmation, etc.). なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。 The exposure apparatus is preferably performed in a clean room where the temperature and cleanliness are controlled.

【0103】また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した各実施形態の露光装置により所定のパターンをウエハに転写するステップ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経て製造される。 [0103] Further, the semiconductor device is a predetermined step, the step of fabricating a reticle based on the designing step, a step of fabricating a wafer of silicon material, the exposure apparatus according to the embodiments described above that designs the functions and performance of the device the step of transferring a pattern onto a wafer, a device assembly step (dicing, bonding, including packaging step), and an inspection step or the like.

【0104】 [0104]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜9に記載の各発明によれば、小型化及び組み立て作業の効率化によるコストの低減を可能とし、かつ制御性に優れたモータ装置を提供するができる。 As described in the foregoing, according to the invention described in claims 1-9, the motor device to allow the cost reduction due to the efficiency of size and assembly operations, and excellent controllability It can will be provided.

【0105】また、請求項10に記載の発明によれば、 [0105] According to the invention described in claim 10,
組み立て作業の容易化及びコストの低減を図ることができるとともに、ステージの位置制御性の向上が可能なステージ装置を提供することができる。 Together can be facilitated and cost reduction of the assembling work can be improved position control of the stage to provide a stage device possible.

【0106】更に、請求項11に記載の発明によれば、 [0106] Further, according to the invention described in claim 11,
露光精度及びスループットをともに向上させることができ、かつコストの低減が可能な露光装置を提供することができる。 Exposure accuracy and throughput can both improve and it is possible to provide a reduced capable exposure apparatus cost.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】第1の実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。 1 is a diagram showing a schematic arrangement of an exposure apparatus of the first embodiment.

【図2】図1のステージ装置を示す平面図である。 2 is a plan view showing a stage apparatus of FIG.

【図3】図3(A)は磁極ユニットを示す底面図、図3 [3] FIG. 3 (A) a bottom view showing a magnetic pole unit, FIG. 3
(B)は図3(A)を−Y方向から見た側面図、図3 (B) is a side view as seen FIG. 3 (A) from the -Y direction, FIG. 3
(C)は図3(A)のB−B線断面図である。 (C) is a sectional view taken along line B-B in FIG. 3 (A).

【図4】図1のベースの内部構成を示す縦断面図である。 4 is a longitudinal sectional view showing an internal structure of the base of Figure 1.

【図5】電機子コイルの支持部材への実装方法を説明するための図である。 5 is a diagram for explaining a method for mounting the support member of the armature coils.

【図6】図6(A)〜(C)は、第1の実施形態に係る電機子コイルの製造方法を説明するための図である。 [6] FIG. 6 (A) ~ (C) are diagrams for explaining a manufacturing method of armature coils according to the first embodiment.

【図7】プリント基板に形成された給電パターンの一例を示す図である。 7 is a diagram showing an example of the power supply pattern formed on the printed board.

【図8】第2の実施形態に係る電機子コイルを示す一部切断した斜視図である。 8 is a perspective view taken partially showing the armature coil according to the second embodiment.

【図9】第2の実施形態に係る電機子コイルの製造方法を説明するための図である。 9 is a diagram for explaining a manufacturing method of armature coils according to the second embodiment.

【図10】本発明に係るモータ装置の他の実施形態を示す図である。 Is a view showing another embodiment of a motor device according to the invention; FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

12…コイル支持部材(支持部材)、18…基板テーブル(ステージ)、21…ベース(モータ装置の一部)、 12 ... coil supporting member (supporting member), 18 ... substrate table (stage), 21 ... base (part of the motor system),
22…ソケット、24…給電用端子、26…給電パターン、30…基板ステージ装置(ステージ装置)、42… 22 ... socket, 24 ... power supply terminal, 26 ... power supply pattern, 30 ... substrate stage device (stage apparatus), 42 ...
セグメント、44…電機子コイル、49…モールド部材、51…可動子(磁極ユニット、モータ装置の一部)、61…平板状コイル群(電機子ユニット)、64 Segment, 44 ... armature coil, 49 ... sealing member, 51 ... movable element (magnetic pole units, a portion of the motor device), 61 ... plate-shaped coils (armature units), 64
…コイル巻き線、65a、65b…端子ピン(受電用端子)、66…プリント基板、100…露光装置、R…レチクル(マスク)、W…ウエハ(基板)。 ... coil windings, 65a, 65b ... terminal pin (power-receiving terminal), 66 ... printed circuit board, 100 ... exposure apparatus, R ... reticle (mask), W ... wafer (substrate).

フロントページの続き Fターム(参考) 5F046 BA05 CC01 CC02 CC03 CC18 CC20 5H603 AA00 AA09 BB01 BB09 BB15 CA01 CA02 CA05 CB01 CB12 CB13 CB26 CC14 CC19 CD21 CD28 CE02 EE01 EE09 FA16 5H641 BB06 BB14 BB15 GG02 GG03 GG05 GG07 GG11 GG12 GG15 GG24 GG26 GG29 HH03 HH05 HH11 JA06 JB05 Front page of the continued F-term (reference) 5F046 BA05 CC01 CC02 CC03 CC18 CC20 5H603 AA00 AA09 BB01 BB09 BB15 CA01 CA02 CA05 CB01 CB12 CB13 CB26 CC14 CC19 CD21 CD28 CE02 EE01 EE09 FA16 5H641 BB06 BB14 BB15 GG02 GG03 GG05 GG07 GG11 GG12 GG15 GG24 GG26 GG29 HH03 HH05 HH11 JA06 JB05

Claims (11)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 電機子コイルを複数含む電機子ユニットと、前記電機子コイルとの間に生じる電磁相互作用によって所定方向の駆動力を発生する磁石を有する磁極ユニットとを備えたモータ装置において、 前記各電機子コイルは、そのコイル巻き線の両端部がともに当該コイルの外側又は内側に存在するように巻かれていることを特徴とするモータ装置。 And 1. A armature comprising a plurality of armature coil unit, the motor apparatus and a magnetic pole unit having a magnet for generating a predetermined direction of the driving force by electromagnetic interaction generated between the armature coil, wherein each armature coil, motor and wherein the both ends of the coil windings are wound together so as to present to the outside or inside of the coil.
  2. 【請求項2】 前記各電機子コイルは、積層された複数のセグメントを有し、各セグメント間が接着され、隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士を結線して形成されていることを特徴とする請求項1に記載のモータ装置。 Wherein said each armature coil has a plurality of segments that are stacked, between the segments is bonded, is formed by connecting the ends of the coil windings to form the segments of the adjacent layer motor apparatus according to claim 1, characterized in that there.
  3. 【請求項3】 前記隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士が所望の位置で結線されていることを特徴とする請求項2に記載のモータ装置。 3. A motor according to claim 2, wherein the ends of the coil windings to form the segments of adjacent layers are connected at a desired position.
  4. 【請求項4】 前記各電機子コイルのコイル巻き線は、 Wherein said coil winding of each armature coil,
    平角偏平電線であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のモータ装置。 Motor apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the flat is flat wires.
  5. 【請求項5】 前記各電機子コイルには、電気的絶縁体から成り所定の一方の面に一対の受電用端子が一体的に設けられたモールド部材が取り付けられ、前記コイル巻き線の両端部が前記一対の受電用端子にそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のモータ装置。 The method according to claim 5, wherein each armature coil, a pair of power receiving terminals in a predetermined one of the surfaces made of electrically insulating material is attached the mold member provided integrally with both ends of the coil winding There motor apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that it is connected to the pair of power receiving terminals.
  6. 【請求項6】 前記複数の電機子コイルを支持する支持部材を更に備え、該支持部材には、前記各電機子コイルの前記一対の受電用端子のそれぞれに対応する給電用端子を有し、前記受電用端子が着脱自在に接続されるソケットが複数所定間隔で設けられていることを特徴とする請求項5に記載のモータ装置。 6. further comprising a support member for supporting the plurality of armature coils, the said support member has a power supply terminal corresponding to each of the pair of power receiving terminals of each of the armature coils, motor apparatus according to claim 5, characterized in that the socket where the power receiving terminal is detachably connected is provided at a plurality of predetermined intervals.
  7. 【請求項7】 前記支持部材は、前記各電機子コイルへの給電パターンが形成されたプリント基板を有し、前記ソケットは、前記各給電パターン毎に設けられていることを特徴とする請求項6に記載のモータ装置。 Wherein said support member has a printed circuit board power supply pattern is formed of the each armature coil, said socket claims, characterized in that said are provided for each feeding pattern motor according to 6.
  8. 【請求項8】 前記複数の電機子コイルは、所定の一軸方向に沿って所定間隔で配置されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のモータ装置。 Wherein said plurality of armature coils, the motor apparatus according to any one of claims 1 to 7, characterized in that are arranged at predetermined intervals along a predetermined axial direction.
  9. 【請求項9】 前記複数の電機子コイルは、マトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のモータ装置。 Wherein said plurality of armature coils, the motor apparatus according to any one of claims 1 to 7, characterized in that it is arranged in a matrix.
  10. 【請求項10】 請求項8又は請求項9に記載のモータ装置と;前記モータ装置によって駆動されるステージとを備えることを特徴とするステージ装置。 Stage apparatus characterized by comprising a stage that is driven by the motor apparatus; 10. The motor apparatus and according to claim 8 or claim 9.
  11. 【請求項11】 マスクに形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、 前記マスク及び基板の少なくとも一方の駆動装置として、請求項10に記載のステージ装置を具備することを特徴とする露光装置。 11. The pattern formed on a mask there is provided an exposure apparatus for transferring onto a substrate, as at least one drive device of the mask and the substrate, and characterized by including a stage apparatus according to claim 10 exposure apparatus that.
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