JP2001013309A - Reflection mirror - Google Patents

Reflection mirror

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JP2001013309A
JP2001013309A JP2000075105A JP2000075105A JP2001013309A JP 2001013309 A JP2001013309 A JP 2001013309A JP 2000075105 A JP2000075105 A JP 2000075105A JP 2000075105 A JP2000075105 A JP 2000075105A JP 2001013309 A JP2001013309 A JP 2001013309A
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oxide
aluminum
metal layer
magnesium
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JP2000075105A
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Inventor
Shinichi Aoki
Shinji Noguchi
Katsumi Watanabe
加津己 渡辺
晋治 野口
慎一 青木
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
松下電工株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a reflection mirror which is produced by forming a metal layer on the surface of a base material and forming an overcoat Layer on the surface of the metal layer, which hardly causes color change in the metal layer, and which has excellent reflectance. SOLUTION: The overcoat layer 16 is formed on the surface of the metal layer 14 with an intermediate layer 15 interposed which consists of at least one kind of inorganic material selected from a group of magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet. Or, the overcoat layer 16 consists of a metal oxide or nitride layer containing at least one kind of element selected from a group of yttrium, magnesium and aluminum, or of a DLC(diamond like carbon) layer.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射鏡に関し、具体的には、照明器具に用いられる、高効率な反射鏡に関するものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a reflector, in particular, used in a lighting fixture, to a high-efficiency reflector.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来より、ダウンライトやスポットライトや投光器等の各種照明器具に用いられる反射鏡として、金属板を所定の形状に成形した反射鏡や、フェノール樹脂、ポリエーテルイミド樹脂等の樹脂組成物の成形品又は金属板等の基材の表面に、アルミニウム等の金属を蒸着することにより光反射用の金属層を形成した反射鏡等が使用されている。 Conventionally, as a reflecting mirror used for various lighting fixtures such as down lights and spotlights and projectors, a metal plate reflector and which was formed into a predetermined shape, phenol resins, resins of polyetherimide resin the molded article or the surface of a substrate such as a metal plate, of the composition, the reflecting mirror to form a metal layer for the light reflection by depositing metal such as aluminum or the like is used.

【0003】なお、金属板を所定の形状に成形した反射鏡の場合、反射率が低いという問題があり、また、基材の表面にアルミニウム等の金属を蒸着して形成した反射鏡の場合、基材と金属層の密着性が低く、金属層が剥がれ落ちやすいという問題があった。 [0003] In the case of the reflection mirror formed by molding a metal plate into a predetermined shape, there is a problem that the reflectance is low, and when the reflector formed by depositing a metal such as aluminum on the surface of the substrate, low adhesion between the substrate and the metal layer, there is a problem that the metal layer is easily peeled off. そのため、図3に示すような、基材10の表面に、エポキシ樹脂系、アクリルウレタン樹脂系、ポリブタジエン樹脂系等の有機塗料を塗布することによって、密着性が優れたアンダーコート層12を形成した後、そのアンダーコート層12の表面にアルミニウムを蒸着することにより金属層14を形成することや、金属層14の表面に、アクリルメラミン樹脂系、シリコンアクリル樹脂系等の有機系や、二酸化ケイ素等の無機系のオーバーコート層16を形成することが行われている(例えば特開昭55−130006 Therefore, as shown in FIG. 3, the surface of the base material 10, epoxy resin, acrylic urethane resin, by applying an organic paint polybutadiene resin or the like, to form an undercoat layer 12 which adhesion is excellent after its or forming a metal layer 14 by depositing aluminum on the surface of the undercoat layer 12, the surface of the metal layer 14, an acrylic melamine resin, organic or silicon acrylic resin or the like, such as silicon dioxide It has been conducted to the form an overcoat layer 16 of inorganic (for example, JP 55-130006
号、特開昭59−79901号)。 JP, JP-A-59-79901).

【0004】近年、アルミニウムを蒸着することに代えて、銀を蒸着することにより光反射性が優れた金属層を形成することが検討されている(例えば実開平5−73 Recently, instead of depositing aluminum, silver forming a metal layer light reflectivity superior it has been studied by depositing (e.g., real-Open No. 5-73
809号)。 No. 809). 銀は、アルミニウムより反射特性が優れるため、アルミニウムの金属層を形成した場合と比較して、10〜50%程度効率アップを図ることができ、高効率な照明器具を提供することが可能になったり、特に繰り返し反射での減衰が少ないため、深型ダウンライトのような繰り返し反射が多い器具で顕著な効果を発揮するという特徴がある。 Silver is the reflection characteristic of aluminum is excellent, as compared with the case of forming a metal layer of aluminum, it is possible to approximately 10-50% efficiency up, it is possible to provide a highly efficient lighting fixtures or, in particular repeatedly because less attenuation in reflection, is characterized in that a significant effect in multiple reflections often instruments such as deep downlight.

【0005】しかし銀は、化学的に不安定なため、空気中の酸素、水分、亜硫酸ガス、硫化水素、アンモニアガス等や、器具温度の上昇によって基材の内部からガス化して流出してくる水分、未反応の樹脂等と容易に反応して、褐色や黒色の酸化銀や硫化銀等に変化しやすく、変色しやすいという問題があった。 However silver, since chemically unstable, oxygen in the air, water, sulfur dioxide, hydrogen sulfide, and ammonia gas, etc., flowing out is gasified from the interior of the substrate by increasing the instrument temperature water, readily reacts with resin or the like unreacted easily changed to brown or black silver oxide or silver sulfide, etc., there is liable to discoloration. そしてこの変色した反射鏡は、反射率が劣るという問題があった。 And this discolored reflectors, there is a problem that the reflectance is poor.

【0006】そのため、オーバーコート層を形成する材料として、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコンアクリル樹脂系等の、比較的ガスバリア性の優れた有機塗料を用いることにより、空気中の酸素等の影響を防ぎ、反射率の低下を防ぐことが検討されている。 [0006] Therefore, as a material for forming the overcoat layer, epoxy resins, acrylic resins, silicon acrylic resin or the like, by using a relatively gas barrier properties of excellent organic coating, the influence of the oxygen in the air it has been considered to prevent the prevent, decrease in reflectivity. しかし、上記のようなガスバリア性の優れた有機塗料は、耐熱性が低く、例えば100℃程度までの環境でしか使用できないという問題があった。 However, gas barrier properties of excellent organic coating as described above, low heat resistance, there is a problem that can only be used, for example up to about 100 ° C. environment.

【0007】一方、二酸化ケイ素等の無機系のオーバーコート層を形成した場合は、有機系のオーバーコート層を形成した場合と比較して耐熱性は優れるが、金属層が変色しやすく、反射率が低下しやすいという問題があった。 On the other hand, when forming the overcoat layer of inorganic such as silicon dioxide, is excellent in heat resistance as compared with the case of forming an overcoat layer of organic, metal layer tends to discolor, reflectance but there is a problem that is likely to decrease. 特に、高出力コンパクト蛍光灯や、白熱灯や、メタルハライドランプ等に用いる反射鏡の場合、光源から出る多量の紫外線によって変色しやすく、特に反射率が低下しやすいという問題があった。 In particular, high output compact fluorescent lamps and, or incandescent lamps, when the reflecting mirror used in the metal halide lamp, easily discolored by a large amount of ultraviolet rays emitted from the light source, in particular the reflectivity is disadvantageously apt to reduce. そのため、無機系のオーバーコート層を形成した場合であっても、金属層が変色しにくく、反射率が低下しにくい反射鏡が望まれている。 Therefore, even when forming the overcoat layer of inorganic, metallic layer is hardly discolored, reflectance is desired is unlikely reflector decreases.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点を改善するために成されたもので、その目的とするところは、基材の表面に金属層が形成され、その金属層の表面にオーバーコート層が形成されてなる反射鏡であって、金属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡を提供することにある。 [SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to improve the above problems, it is an object of the metal layer is formed on the surface of the substrate, the surface of the metal layer to a reflecting mirror overcoat layer are formed, the metal layer is hardly discolored, it is to provide a superior reflecting mirror reflectance.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る反射鏡は、基材の表面に金属層が形成され、その金属層の表面に無機系のオーバーコート層が形成されてなる反射鏡において、オーバーコート層が、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、 Means for Solving the Problems] mirror according to claim 1 of the present invention, the metal layer is formed on the surface of the substrate, an overcoat layer of an inorganic system is formed on the surface of the metal layer reflecting in the mirror, overcoat layer, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate,
窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1 At least one selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet
種の無機物の層を介して、金属層の表面に形成されてなることを特徴とする。 Through a layer of seeds inorganics characterized by comprising formed on the surface of the metal layer.

【0010】上記オーバーコート層は、二酸化ケイ素又はDLCの層であると好ましく、また、上記金属層は、 [0010] The overcoat layer, preferable to be a layer of silicon dioxide or DLC, also, the metal layer,
二酸化ケイ素、DLC、フッ化マグネシウム、酸化チタン及び酸化アルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層を介して、基材の表面に形成されてなると好ましく、また、上記金属層は、銀又は銀合金の金属層であると好ましい。 Silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, through a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of titanium oxide and aluminum oxide, comprising the preferably formed on the surface of the substrate, also, the metal layer It is preferably a metal layer of silver or silver alloy. なお、DLC(Diamon In addition, DLC (Diamon
d Like Carbon)は、例えば、炭化水素基を有する原料ガス及びキャリアガスの存在下でプラズマCVDすることにより形成される、ラマン分光1600〜1400c d Like Carbon), for example, is formed by plasma CVD in the presence of a raw material gas and the carrier gas having a hydrocarbon group, Raman spectroscopy 1600~1400c
m-1程度の炭素の層である。 A layer of m-1 of about carbon.

【0011】本発明の請求項2に係る反射鏡は、オーバーコート層が、二酸化ケイ素又はDLCの層であることを特徴とする。 [0011] mirror according to claim 2 of the present invention, the overcoat layer, characterized in that a layer of silicon dioxide or DLC.

【0012】本発明の請求項3に係る反射鏡は、金属層が、二酸化ケイ素、DLC、フッ化マグネシウム、酸化チタン及び酸化アルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層を介して、基材の表面に形成されてなることを特徴とする。 [0012] mirror according to claim 3 of the present invention, the metal layer is silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, at least one layer of inorganic material selected from the group consisting of titanium oxide and aluminum oxide through it, characterized by comprising formed on the surface of the substrate.

【0013】本発明の請求項4に係る反射鏡は、基材の表面に金属層が形成され、その金属層の表面にオーバーコート層が形成されてなる反射鏡において、オーバーコート層が、イットリウム、マグネシウム及びアルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の元素を含有する金属酸化物若しくは窒化物、又はDLCの層であることを特徴とする。 [0013] mirror according to claim 4 of the present invention, the metal layer is formed on the surface of the substrate, the reflecting mirror overcoat layer formed on the surface of the metal layer, overcoat layer, yttrium , wherein the metal oxide or nitride containing at least one element selected from the group consisting of magnesium and aluminum, or a layer of DLC.

【0014】上記オーバーコート層は、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であると好ましく、また、上記金属層は、銀又は銀合金の金属層であると好ましい。 [0014] The overcoat layer, magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, magnesium aluminate, if it is a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet preferably, also, the metal layer is preferably a metal layer of silver or silver alloy.

【0015】本発明の請求項5に係る反射鏡は、オーバーコート層が、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、 [0015] mirror according to claim 5 of the present invention, the overcoat layer is magnesium oxide, aluminum oxide,
酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であることを特徴とする。 Yttrium oxide, magnesium aluminate, characterized in that a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet.

【0016】本発明の請求項6に係る反射鏡は、金属層が、銀又は銀合金の金属層であることを特徴とする。 The mirror according to claim 6 of the present invention, a metal layer, characterized in that a metal layer of silver or silver alloy.

【0017】本発明の請求項7に係る反射鏡は、金属層とオーバーコート層との間に中間層が介在するようにして形成されていることを特徴とする。 The mirror according to claim 7 of the present invention is characterized in that the intermediate layer is formed so as to be interposed between the metal layer and the overcoat layer.

【0018】本発明の請求項8に係る反射鏡は、中間層が、DLC、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、 The mirror according to claim 8 of the present invention, the intermediate layer, DLC, magnesium fluoride, magnesium oxide,
酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であることを特徴とする。 Aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, characterized in that a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet.

【0019】本発明の請求項9に係る反射鏡は、中間層が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有するものであることを特徴とする。 The mirror according to claim 9 of the present invention, the intermediate layer, characterized in that it is intended to contain one or both of an oxide or nitride containing magnesium element, the aluminum element.

【0020】本発明の請求項10に係る反射鏡は、基材と金属層との間にアンダーコート層が介在するようにして形成されていることを特徴とする。 The mirror according to claim 10 of the present invention is characterized in that the undercoat layer is formed so as to be interposed between the substrate and the metal layer.

【0021】本発明の請求項11に係る反射鏡は、アンダーコート層が、二酸化ケイ素、DLC、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、 The mirror according to claim 11 of the present invention, the undercoat layer, silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium dioxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride,
酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であることを特徴とする。 Yttrium oxide, magnesium aluminate, characterized in that a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet.

【0022】本発明の請求項12に係る反射鏡は、アンダーコート層が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有するものであることを特徴とする。 The mirror according to claim 12 of the present invention, the undercoat layer, characterized in that it is intended to contain one or both of an oxide or nitride containing magnesium element, the aluminum element.

【0023】本発明の請求項13に係る反射鏡は、アンダーコート層の組成を基材側付近と金属層側付近とで変えていることを特徴とする。 The mirror according to claim 13 of the present invention is characterized in that by changing the composition of the undercoat layer in the vicinity of the substrate side and the metal layer side near.

【0024】 [0024]

【発明の実施の形態】本発明に係る反射鏡の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。 It will be described in detail with reference to embodiments of the mirror according to the embodiment of the present invention in the drawings.

【0025】図1及び図2は本発明の請求項1に係る反射鏡の一実施の形態を説明する、破断して示した図であり、図3は本発明の請求項4に係る反射鏡の一実施の形態を説明する破断して示した図である。 [0025] Figures 1 and 2 illustrating an embodiment of a reflecting mirror according to claim 1 of the present invention, is a diagram showing, in broken, Figure 3 is mirror according to claim 4 of the present invention It illustrates is broken by describing an exemplary embodiment.

【0026】[本発明の請求項1に係る反射鏡]本発明の請求項1に係る反射鏡の一実施の形態は、図2に示すような、反射鏡1の光源2側の面に、光を反射するための反射膜が設けられた照明器具3用の反射鏡1である。 [0026] One embodiment of the mirror according to claim 1 of the present invention [the reflector according to a first aspect of the present invention] is shown in Figure 2, the surface on the light source 2 side of the reflecting mirror 1, a reflector 1 for lighting apparatus 3 which reflecting film is provided for reflecting light.
この反射膜は、図1に示すように、基材10の側から、 The reflection film, as shown in FIG. 1, from the side of the substrate 10,
アンダーコート層12、金属層14、中間層15、オーバーコート層16の4層構造となっている。 Undercoat layer 12, metal layer 14, intermediate layer 15, has a four-layer structure of the overcoat layer 16.

【0027】基材10は、光源2から発生する熱に耐え、光軸の変化を起こしにくい材料を用いて、所定の配光が得られるような形状に形成されたものであり、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄合金、ステンレス等の金属板を用いて、プレス成形、ヘラ絞り成形等により形成したものや、ガラスをプレス成形したものや、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ナイロン樹脂等の樹脂組成物を、 The substrate 10 may withstand the heat generated from the light source 2, by using a hard material undergoes a change in optical axis, which predetermined light distribution is formed in a shape such as obtained, for example, aluminum , aluminum alloy, with iron, iron alloy, a metal plate such as stainless steel, press molding, which is formed by a spatula drawing etc. and, that the glass press-molded and, polyetherimide resins, polyether ether ketone resin, polyamide resins, polyphenylene sulfide resins, polyether sulfone resins, polybutylene terephthalate resins, the resin composition of the nylon resin,
射出成形等により成形したものや、セラミックを焼成したもの等が挙げられる。 And those formed by injection molding or the like, and those obtained by firing the ceramics.

【0028】アンダーコート層12は、光源から発生する熱に耐える無機物等を用いて、基材10の表面に形成した層である。 The undercoat layer 12, using an inorganic substance or the like to withstand the heat generated from the light source is a layer formed on the surface of the substrate 10. すなわち、基材10と金属層14との間にアンダーコート層12が介在するようにして形成されているものである。 That, in which the undercoat layer 12 is formed so as to be interposed between the substrate 10 and the metal layer 14.

【0029】なお、このアンダーコート層12は、必ず形成することに限定するものではないが、アンダーコート層12を形成すると、基材10の表面に凹凸を有する場合であっても、アンダーコート層12の表面は平滑性の良好な面となるため、基材10の表面形状に影響されずに反射率が優れた反射鏡を形成することが可能となると共に、金属層14との密着性が高くなり好ましい。 [0029] Note that this undercoat layer 12 include, but are not limited to always formed, to form an undercoat layer 12, even if having an uneven surface of the substrate 10, an undercoat layer for 12 surface of which a good surface smoothness, it becomes possible to form the reflectivity excellent reflector without being affected by the surface shape of the substrate 10, the adhesion between the metal layer 14 high Nari preferred.

【0030】アンダーコート層12の厚みとしては、基材10の表面の凹凸を吸収し、かつ、金属層14との密着性を高めることが可能な厚みであれば特に限定するものではないが、0.5〜20μm程度が好ましい。 [0030] The thickness of the undercoat layer 12 absorbs the irregularities of the surface of the substrate 10, and is not particularly limited as long as it is a thickness capable of enhancing adhesion between the metal layer 14, about 0.5~20μm is preferable. なお、基材10が、ガラス板のように、表面の凹凸が小さく、かつ、内部から水分や未反応の樹脂等が流出しない基材10の場合には、アンダーコート層12は形成しなくても良い。 Incidentally, the base material 10 is, as a glass plate, unevenness of the surface is small and, in the case of the base material 10 resin such as moisture and unreacted internal does not flow out, the undercoat layer 12 is not formed it may be.

【0031】なお、アンダーコート層12を、二酸化ケイ素、DLC(Diamond Like Carbon)、フッ化マグネシウム、酸化チタン及び酸化アルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物で形成した場合、これらは特に基材10との密着性及び濡れ性が優れた無機物であるため、鏡面性と密着性に優れた金属層1 It should be noted, an undercoat layer 12, silicon dioxide, DLC (Diamond Like Carbon), magnesium fluoride, when formed with at least one inorganic material selected from the group consisting of titanium oxide and aluminum oxide, these since it is particularly adhesion and wettability excellent inorganic and base 10, the metal layer 1 with excellent adhesion to the specularity
4を、アンダーコート層12の表面に形成することができ好ましい。 4, it is possible to preferably formed on the surface of the undercoat layer 12.

【0032】特に、アンダーコート層12が、二酸化ケイ素、DLC、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であると、鏡面性と密着性に優れた金属層14を、アンダーコート層12 [0032] In particular, an undercoat layer 12, silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium dioxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide, and yttrium · When aluminum selected from the group consisting of garnet is at least one layer of inorganic material, a metal layer 14 having excellent adhesion to the specular, undercoat layer 12
の表面に確実に形成することができる点で好ましいものである。 In that it can be reliably formed on the surface of those preferred.

【0033】また、アンダーコート層12が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有するものであると、鏡面性と密着性に優れた金属層14を、アンダーコート層12の表面により一層確実に形成することができる点で好ましいものとなる。 Further, the undercoat layer 12, magnesium element and those containing one or both of an oxide or nitride containing aluminum element, a metal layer 14 having excellent adhesion to the specular, undercoat which it is preferable in that it can be more reliably formed by the surface of the layer 12.

【0034】そして、アンダーコート層12の組成を基材10側付近と金属層14側付近とで変えていると、鏡面性と密着性に優れた金属層14を、アンダーコート層12の表面により一層確実に形成することができる点で好ましいものとなる。 [0034] When the composition of the undercoat layer 12 is changed in the vicinity of the metal layer 14 side near the substrate 10 side, a metal layer 14 having excellent adhesion to the specular, the surface of the undercoat layer 12 which is preferable in that it can be more reliably formed.

【0035】このアンダーコート層12の形成方法しては、特に限定するものではなく、蒸着法や、CVD法(化学的蒸着法)等が挙げられる。 [0035] As a method of forming the undercoat layer 12 is not particularly limited, and deposition method, CVD method (chemical vapor deposition), and the like. 上記DLCの層を形成する具体的方法としては、例えば、基材10を真空槽中に配置した後、その真空槽中にメタン、エタン、アセチレン、メタノール等の炭化水素基を有する原料ガスと、水素、酸素等のキャリアガスとを供給し、プラズマCVD法等により、DLCの層を形成する。 As a specific method for forming a layer of the DLC, for example, after placing the base material 10 in a vacuum chamber, a raw material gas with methane, ethane, acetylene, a hydrocarbon group such as methanol in the vacuum vessel, hydrogen, supplying a carrier gas such as oxygen, by a plasma CVD method or the like to form a layer of DLC.

【0036】なお、光源2から発生する熱に耐えるものであれば、エポキシ樹脂系、エポキシメラミンアクリル樹脂系、シリコン変性アクリル樹脂系、シリコンアルキッド樹脂系等の熱硬化性樹脂を用いて、スプレー法、浸漬法、静電塗装法等により、アンダーコート層12を形成しても良い。 It should be noted, as long as it withstand the heat generated from the light source 2, an epoxy resin, an epoxy melamine acrylic resin, silicone-modified acrylic resin, by using a thermosetting resin of silicone alkyd resin or the like, spraying , dipping method, an electrostatic coating method or the like, it may be formed an undercoat layer 12.

【0037】また、金属板を用いて製造された基材10 Further, it produced using the metal plate substrate 10
の表面にアンダーコート層12を形成する場合には、基材10の表面を羽布研磨し、次いで化学研磨や電解研磨等を行った後、アンダーコート層12を形成すると、基材10とアンダーコート層12との密着性が高まり好ましい。 When forming the undercoat layer 12 on the surface of the surface of the substrate 10 is polished hub, then after a chemical polishing or electrolytic polishing or the like, to form an undercoat layer 12, substrate 10 and the under It is enhanced preferable adhesion to the coating layer 12.

【0038】金属層14は、銀、アルミニウム等を用いて、所定の光学特性が得られるように形成したものであれば特に限定するものではないが、銀又は銀合金の金属層14の場合、特に反射率が優れた反射鏡となると共に、特に本発明の金属層14が変色しにくく、反射率が優れる効果が大きく好ましい。 The metal layer 14 is silver, with aluminum or the like is not particularly limited as long as it is formed so that a predetermined optical characteristics can be obtained if silver or a silver alloy of the metal layer 14, especially with the reflectance excellent reflection mirror, in particular a metal layer 14 is difficult to discoloration of the present invention, reflectance excellent effect greatly preferred. この銀合金としては、銀マグネシウム、銀パラジウム、銀白金、銀ロジウム等の合金が挙げられる。 As the silver alloy, silver magnesium, silver palladium, silver platinum, an alloy of silver rhodium. また、この金属層14の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。 As a method for forming the metal layer 14, vacuum deposition, sputtering, and ion plating method.

【0039】この金属層14の厚みとしては、所定の光学特性が得られる厚みであれば特に限定するものではないが、100〜300nm、より好ましくは150〜2 [0039] The thickness of the metal layer 14 is not particularly limited as long as it is a thickness that a predetermined optical characteristics can be obtained, 100 to 300 nm, more preferably 150 to 2
50nm程度が好ましい。 About 50nm is preferable. 100nm未満の場合、充分な反射特性が得られない場合があり、300nmを越える場合、金属層14の表面が白濁し、反射率が低下する場合がある。 If it is less than 100 nm, there are cases where sufficient reflection characteristics can not be obtained, if it exceeds 300 nm, there are cases where the surface of the metal layer 14 was opaque and reflectance decreases.

【0040】中間層15としては、例えば、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)からなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物(以下、特定無機物Aと記す)の層であり、オーバーコート層16は、この中間層15を介して、金属層14の表面に形成されている。 [0040] As the intermediate layer 15, for example, selected magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet (YAG) at least one inorganic material (hereinafter, referred to as specific inorganic a) was a layer of overcoat layer 16 via the intermediate layer 15 is formed on the surface of the metal layer 14.

【0041】この特定無機物Aは、プラズマによる金属層14の変色を防止することが可能な無機物であると共に、透明性を有する無機物であるため、金属層14の表面に中間層15を形成して覆った場合、オーバーコート層16を形成する際に行うプラズマによる金属層14の変色を防いで高い反射率を維持することができ、金属層14が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。 [0041] The particular inorganic A, together with an inorganic capable of preventing discoloration of the metal layer 14 by the plasma, because it is a inorganic material having transparency, to form an intermediate layer 15 on the surface of the metal layer 14 If covered, to prevent discoloration of the metal layer 14 by the plasma performed in forming the overcoat layer 16 can maintain a high reflectance, a metal layer 14 is hardly discolored, a reflecting mirror reflectivity and excellent Become.

【0042】この中間層15の厚みとしては、オーバーコート層16や金属層14との密着性及び層の透明性等により、1〜300nm程度が好ましく、また、この中間層15の形成方法としては、真空蒸着法、電子銃蒸着法(ED蒸着法)等が挙げられる。 [0042] The thickness of the intermediate layer 15, by adhesion and transparency such as a layer between the overcoat layer 16 and the metal layer 14 is preferably about 1 to 300 nm, also, as a method of forming the intermediate layer 15 , vacuum evaporation, electron gun evaporation method (ED vapor deposition), and the like.

【0043】オーバーコート層16は、光源2から発生する熱に耐える無機物を用いて、中間層15の表面に形成した層であり、その厚みとしては、0.5〜3μm程度が好ましい。 [0043] The overcoat layer 16, using an inorganic substance to withstand the heat generated from the light source 2, a layer formed on the surface of the intermediate layer 15, as is its thickness, about 0.5~3μm is preferred. なお、オーバーコート層16を、二酸化ケイ素又はDLC(DiamondLike Carbon)で形成した場合、これらは特に耐熱性や透明性が優れているため、特に反射率が優れた反射鏡となり好ましい。 Incidentally, an overcoat layer 16, when formed of silicon dioxide or DLC (DiamondLike Carbon), which are especially due to the heat resistance and transparency are excellent, preferable be particularly reflectance excellent reflection mirror. このオーバーコート層16の形成方法しては、高密度プラズマCVD It is to a method of forming the overcoat layer 16, a high-density plasma CVD
法や、高密度イオンプレーティング法等が挙げられる。 Law and include high density ion plating method.

【0044】[本発明の請求項4に係る反射鏡]本発明の請求項4に係る反射鏡の一実施の形態は、図2に示すような、反射鏡1の光源2側の面に、光を反射するための反射膜が設けられた照明器具3用の反射鏡1である。 [0044] One embodiment of the mirror according to claim 4 of the present invention [the reflector according to claim 4 of the present invention] is shown in Figure 2, the surface on the light source 2 side of the reflecting mirror 1, a reflector 1 for lighting apparatus 3 which reflecting film is provided for reflecting light.
この反射膜は、図3に示すように、基材10の側から、 The reflection film, as shown in FIG. 3, from the side of the substrate 10,
アンダーコート層12、金属層14、オーバーコート層16の3層構造となっている。 Undercoat layer 12, metal layer 14 has a three-layer structure of the overcoat layer 16.

【0045】基材10、アンダーコート層12及び金属層14は、本発明の請求項1に係る反射鏡の場合と同様の物、厚み、形成方法等が挙げられる。 The substrate 10, an undercoat layer 12 and the metal layer 14, the same ones in the case of the mirror according to claim 1 of the present invention, the thickness, forming method, and the like. また、本発明の請求項1に係る反射鏡の場合と同様に、アンダーコート層12は、必ず形成することに限定するものではなく、 Also, as in the case of the mirror according to claim 1 of the present invention, the undercoat layer 12 is not limited to always formed,
又、金属層14が、銀又は銀合金の金属層14である場合、特に金属層14が変色しにくく、特に反射率が優れた反射鏡となる。 Further, the metal layer 14, if a metal layer 14 of silver or silver alloy, particularly difficult metal layer 14 is discolored, the particular reflectance excellent reflection mirror.

【0046】オーバーコート層16は、イットリウム、 The overcoat layer 16, yttrium,
マグネシウム及びアルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の元素を含有する金属酸化物若しくは窒化物、又はDLC(以下、これらを合わせて特定無機物Bと記す)よりなる層である。 Metal oxide or nitride containing at least one element selected from the group consisting of magnesium and aluminum, or DLC (hereinafter, these referred to as a specific inorganic material B combined) is a layer made of.

【0047】この特定無機物Bは、ガスバリア性に優れると共に、耐食性、耐候性、耐熱性に優れ、且つ、透明性を有する無機物であるため、この特定無機物Bで金属層14の表面を覆った場合、金属層14の変色を防いで高い反射率を維持することができ、金属層14が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。 [0047] The particular inorganic B has excellent gas barrier properties, corrosion resistance, weather resistance, excellent heat resistance, and, because it is a inorganic material having transparency, when covering the surface of the metal layer 14 in this particular inorganic B , it is possible to maintain high reflectivity to prevent discoloration of the metal layer 14, metal layer 14 is less likely to discolor, the reflectance excellent reflection mirror.

【0048】このオーバーコート層16の厚みとしては、反射率や防食性等より、0.5〜3μm程度が好ましく、また、このオーバーコート層16の形成方法としては、高密度プラズマイオンプレーティング法や、高密度プラズマCVD法や、高密度イオンプレーティング法等が挙げられる。 [0048] The thickness of the overcoat layer 16, than the reflectivity and corrosion resistance, etc., is preferably about 0.5 to 3 [mu] m, also, as a method of forming the overcoat layer 16, a high-density plasma ion plating and, and high-density plasma CVD method, and a high density ion plating method.

【0049】なお、特定無機物Bのうち、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物でオーバーコート層16を形成した場合、これらは特にガスバリア性等が優れた無機物であるため、特に反射率が優れた反射鏡となり好ましい。 [0049] Among the specific inorganic material B, magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, magnesium aluminate, overcoated with at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet when forming the layer 16, which are especially for gas barrier property, etc. are excellent inorganic, preferably it is particularly reflectance excellent reflection mirror.

【0050】なお、図1に示すように、金属層14とオーバーコート層16との間に介在するように中間層15 [0050] Incidentally, as shown in FIG. 1, the intermediate layer 15 so as to be interposed between the metal layer 14 and the overcoat layer 16
を形成すると、特に金属層が変色しにくく、特に反射率が優れた反射鏡となり好ましい。 When forming a, particularly metal layer is hardly discolored, preferably be particularly reflectance excellent reflection mirror.

【0051】また、中間層15が、DLC、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であると、金属層が確実に変色しにくく、反射率が確実に優れた反射鏡となり好ましいものである。 [0051] The intermediate layer 15 has been chosen DLC, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet When it is at least one layer of inorganic material, hardly metal layer is discolored reliably, but the reflectance is preferably becomes reliably better reflector.

【0052】そして、中間層15が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有するものであると、金属層がより一層確実に変色しにくく、反射率がより一層確実に優れた反射鏡となり好ましいものである。 [0052] Then, the intermediate layer 15, magnesium element and those containing one or both of an oxide or nitride containing aluminum element, hardly discolored more reliably the metal layer, the reflectivity is further it is preferred it ensures excellent reflector.

【0053】 [0053]

【実施例】以下、本発明の実施例および比較例を詳しく説明する。 BRIEF DESCRIPTION Examples and Comparative Examples of the present invention in detail.

【0054】(実施例1)アルミニウム板をパラボラ状に絞り加工して形成した基材の表面に、熱硬化シリコン変性アクリル樹脂組成物[大日本インキ化学工業社製、 [0054] (Example 1) on the surface of the aperture of the aluminum plate parabolically processed to form the substrate, the thermosetting silicone-modified acrylic resin composition [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.,
品番HC6208K]を用いてスプレー塗装した後、1 After the spray coating by using the part number HC6208K], 1
50℃で45分加熱して、厚み7μmのアンダーコート層を形成した。 By heating 45 minutes at 50 ° C., to form an undercoat layer having a thickness of 7 [mu] m. 次いで、そのアンダーコート層の表面に、スパッタリング法により銀の金属層を150nm形成した。 Then, the surface of the undercoat layer, a metal layer of silver was 150nm formed by sputtering.

【0055】次いで、その金属層の表面に、真空蒸着法によりフッ化マグネシウムの層(中間層)を100nm [0055] Then, the surface of the metal layer, 100 nm a layer of magnesium fluoride (intermediate layer) by vacuum evaporation
形成した後、その中間層の表面に、2.54GHzのマイクロ波プラズマCVD法により、二酸化ケイ素の層(オーバーコート層)を1μm成して反射鏡を得た。 After forming, the surface of the intermediate layer, by the microwave plasma CVD method 2.54 GHz, to obtain a reflecting mirror to form 1μm layer of silicon dioxide (overcoat layer).

【0056】(実施例2)中間層として、アルミン酸マグネシウムの層をスパッタリング法により150nm形成したこと、及び、オーバーコート層を厚み1.3μm [0056] (Example 2) an intermediate layer, it has 150nm formed by sputtering a layer of magnesium aluminate, and thickness 1.3μm an overcoat layer
形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 Except that the formed got reflector in the same manner as in Example 1.

【0057】(実施例3)中間層として、酸化イットリウムの層を電子銃蒸着法により50nm形成したこと、 [0057] (Example 3) as the intermediate layer, it has 50nm form a layer of yttrium oxide by electron gun evaporation,
及び、オーバーコート層として、DLCの層を高密度プラズマCVD法により1μm形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 And, as an overcoat layer, except that it has 1μm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 1 by a layer of DLC high-density plasma CVD method.

【0058】(実施例4)アンダーコート層として、D [0058] (Example 4) undercoat layer, D
LCの層を高周波プラズマCVD法により800nm形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 Except that the 800nm ​​formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 1 by a layer of LC high-frequency plasma CVD method.

【0059】(実施例5)アンダーコート層として、D [0059] (Example 5) undercoat layer, D
LCの層を高周波プラズマCVD法により800nm形成したこと、及び、中間層として、酸化アルミニウムの層を電子銃蒸着法により50nm形成したこと、及び、 It was 800nm ​​form a layer of LC by high frequency plasma CVD method, and, as an intermediate layer, it has 50nm form a layer of aluminum oxide by electron gun evaporation, and,
オーバーコート層として、DLCの層を高密度プラズマCVD法により1μm形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 As an overcoat layer, except that it has 1μm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 1 by a layer of DLC high-density plasma CVD method.

【0060】(実施例6)基材として、ポリエーテルイミド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名ウルテム1000−1000]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、中間層として、酸化マグネシウムの層を電子銃蒸着法により50nm形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 [0060] (Example 6) substrate, a polyether imide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Ultem 1000-1000] that was used to form by injection molding a parabolically, and the intermediate layer as, except that the 50nm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in example 1 by a layer of magnesium oxide the electron gun evaporation.

【0061】(実施例7)基材として、ポリエーテルイミド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名ウルテム1000−1000]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、アンダーコート層を形成せずに、基材の表面に直接金属層を形成したこと、及び、中間層として、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)の層を真空蒸着法により80nm形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 [0061] (Example 7) substrate, a polyether imide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Ultem 1000-1000] that was used to form by injection molding a parabolically, and undercoat without forming the layer, to the formation of the direct metal layer on the surface of the substrate, and, as an intermediate layer, except that it has 80nm formed by vacuum deposition a layer of yttrium aluminum garnet (YAG) example 1 to obtain a reflecting mirror in the same manner as.

【0062】(実施例8)基材として、ポリエーテルエーテルケトン樹脂[住友化学工業社製、商品名VICT [0062] (Example 8) substrate, a polyether ether ketone resin [manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name VICT
REX450G]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、中間層として、酸化アルミニウムの層を電子銃蒸着法により50nm形成したこと、 REX450G] that was used to form by injection molding parabolically with and, as an intermediate layer, it has 50nm form a layer of aluminum oxide by electron gun evaporation,
及び、オーバーコート層として、DLCの層を高密度プラズマCVDにより1μm形成したこと以外は実施例1 And, as an overcoat layer, except that a layer of DLC to 1μm formed by high-density plasma CVD Example 1
と同様にして反射鏡を得た。 To obtain a reflecting mirror in the same manner as.

【0063】(実施例9)基材として、ポリエーテルエーテルケトン樹脂[住友化学工業社製、商品名VICT [0063] (Example 9) substrate, a polyether ether ketone resin [manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name VICT
REX450G]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、中間層として、窒化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により50nm形成したこと、及び、オーバーコート層として、窒化酸化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により1μm REX450G] that was used to form by injection molding parabolically with and, as an intermediate layer, it has 50nm formed by a layer of aluminum nitride reactive sputtering method, and, as an overcoat layer, the aluminum nitride oxide 1μm by a reactive sputtering layer
形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 Except that the formed got reflector in the same manner as in Example 1.

【0064】(実施例10)基材として、ポリフェニレンサルファイド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名スーペック]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、中間層として、窒化酸化アルミニウムの層を電子銃蒸着法により100nm形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 [0064] (Example 10) substrate, polyphenylene sulfide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Supekku] that was used to form by injection molding a parabolically, and, as an intermediate layer, nitride oxide except that the 100nm formed by a layer of aluminum electron gun deposition method in the same manner as in example 1 to obtain a reflecting mirror.

【0065】(比較例1)中間層を形成せずに、金属層の表面に直接オーバーコート層を形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 [0065] without forming (Comparative Example 1) middle layer, except for forming a direct overcoat layer on the surface of the metal layer to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 1.

【0066】(比較例2)基材として、ポリフェニレンオキサイド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名ノリル]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、アンダーコート層として、熱硬化ウレタン系樹脂組成物[藤倉化成社製、品番EXP1440A [0066] (Comparative Example 2) substrate, polyphenylene oxide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Noryl] that was used to form by injection molding a parabolically, and, as an undercoat layer, thermal curing urethane resin composition [manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., No. EXP1440A
/B/C]を用いてスプレー塗装した後、140℃で6 / B / C] was spray painted with, 6 at 140 ° C.
0分加熱して、厚み13μmのアンダーコート層を形成したこと、及び、中間層を形成せずに、金属層の表面に直接オーバーコート層を形成したこと、及び、オーバーコート層として、常温硬化シリコン変性アクリル樹脂組成物[大日本インキ化学工業社製、品番HC5800/ And heated 0 min, to the formation of the undercoat layer having a thickness of 13 .mu.m, and, without forming the intermediate layer, it was formed directly overcoat layer on the surface of the metal layer, and, as an overcoat layer, cold curing silicone-modified acrylic resin composition [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., No. HC5800 /
HC5800C]を用いてスプレー塗装した後、90℃ After the spray coating using a HC5800C], 90 ℃
で30分加熱して、厚み11μmのオーバーコート層を形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 In heated 30 minutes, except for forming the overcoat layer having a thickness of 11μm was obtained reflector in the same manner as in Example 1.

【0067】(比較例3)基材として、ポリフェニレンオキサイド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名ノリル]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、アンダーコート層として、ポリブタジエン系樹脂組成物[藤倉化成社製、品番VB9453L] [0067] (Comparative Example 3) substrate, polyphenylene oxide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Noryl] that was used to form by injection molding a parabolically, and, as an undercoat layer, polybutadiene system resin composition [manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., No. VB9453L]
を用いてスプレー塗装した後、120℃で60分加熱して、厚み13μmのアンダーコート層を形成したこと、 After spray coating using a heated 60 minutes at 120 ° C., to the formation of the undercoat layer having a thickness of 13 .mu.m,
及び、中間層を形成せずに、金属層の表面に直接オーバーコート層を形成したこと、及び、オーバーコート層として、常温硬化アクリル樹脂組成物[藤倉化成社製、品番VT8052L]を用いてスプレー塗装した後、80 And, without forming the intermediate layer, it was formed directly overcoat layer on the surface of the metal layer, and, as an overcoat layer, room temperature curing acrylic resin composition [manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., No. VT8052L] using a spray after painting, 80
℃で60分加熱して、厚み15μmのオーバーコート層を形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 ℃ heated 60 minutes, except for forming the overcoat layer having a thickness of 15μm was obtained reflector in the same manner as in Example 1.

【0068】(比較例4)基材として、ポリブチレンテレフタレート樹脂[東レ社製、品番1401−X06] [0068] (Comparative Example 4) substrate, polybutylene terephthalate resin [manufactured by Toray Industries, Inc., part number 1401-X06]
をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、アンダーコート層として、ウレタン系樹脂組成物[東洋工業塗料社製、品番UPH]を用いてスプレー塗装した後、120℃で90分加熱して、厚み13μ That was used to form by injection molding parabolically, and, as an undercoat layer, urethane resin composition [Toyo Kogyo paint Co., No. UPH] After spraying with, at 120 ° C. 90 by dividing heating, thickness 13μ
mのアンダーコート層を形成したこと、及び、中間層を形成せずに、金属層の表面に直接オーバーコート層を形成したこと、及び、オーバーコート層として、常温硬化シリコン変性アクリル樹脂組成物[東洋工業塗料社製、 To the formation of the undercoat layer of m, and, without forming the intermediate layer, it was formed directly overcoat layer on the surface of the metal layer, and, as an overcoat layer, cold curing silicone-modified acrylic resin composition [ Toyo Kogyo paint Co., Ltd.,
品番RT−130]を用いてスプレー塗装した後、70 After the spray coating by using the part number RT-130], 70
℃で60分加熱して、厚み11μmのオーバーコート層を形成したこと以外は実施例1と同様にして反射鏡を得た。 ℃ heated 60 minutes, except for forming the overcoat layer having a thickness of 11μm was obtained reflector in the same manner as in Example 1.

【0069】(実施例11)アルミニウム板をパラボラ状に絞り加工して形成した基材の表面に、熱硬化シリコン変性アクリル樹脂組成物[大日本インキ化学工業社製、品番HC6208K]を用いてスプレー塗装した後、150℃で60分加熱して、厚み7μmのアンダーコート層を形成した。 [0069] On the surface of (Example 11) squeezing the aluminum plate parabolically processed to form the substrate, the thermosetting silicone-modified acrylic resin composition [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., part number HC6208K] using a spray after coating, and heated for 60 minutes at 0.99 ° C., to form an undercoat layer having a thickness of 7 [mu] m. 次いで、そのアンダーコート層の表面に、スパッタリング法により銀の金属層を150n Then, the surface of the undercoat layer, a metal layer of silver by sputtering 150n
m形成した。 And m formed. 次いで、その金属層の表面に、高密度プラズマイオンプレーティング法により、厚み1μmのイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)の層(オーバーコート層)を形成して反射鏡を得た。 Then, the surface of the metal layer, the high density plasma ion plating, to form a layer of yttrium aluminum garnet thick 1 [mu] m (YAG) (overcoat layer) was obtained reflector.

【0070】(実施例12)アンダーコート層を形成せずに、基材の表面に直接金属層を形成したこと、及び、 [0070] (Example 12) without forming the undercoat layer, it was formed directly metal layer on the surface of the substrate, and,
オーバーコート層として、酸化イットリウムの層を高密度プラズマイオンプレーティング法により1μm形成したこと以外は実施例11と同様にして反射鏡を得た。 As an overcoat layer, except that it has 1μm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 11 by a layer of yttrium oxide high-density plasma ion plating.

【0071】(実施例13)基材として、ポリエーテルエーテルケトン樹脂[住友化学工業社製、商品名VIC [0071] (Example 13) as a base material, a polyether ether ketone resin [manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name VIC
TREX450G]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、及び、アンダーコート層の表面に、中間層として、窒化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により50nm形成したこと、及び、オーバーコート層として、窒化酸化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により1μm形成したこと以外は実施例11と同様にして反射鏡を得た。 TREX450G] that was used to form by injection molding parabolically to and on the surface of the undercoat layer, an intermediate layer, it has 50nm form a layer of aluminum nitride by reactive sputtering, and the overcoat as a layer, except that it has 1μm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in example 11 by a layer of aluminum nitride oxide reactive sputtering method.

【0072】(実施例14)アルミニウム板をパラボラ状に絞り加工して形成した基材の表面に、アンダーコート層として、窒化酸化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により0.5μm形成した。 [0072] On the surface of (Example 14) The aluminum plate aperture parabolically processed to form the substrate, as an undercoat layer was 0.5μm formed by a layer of aluminum nitride oxide reactive sputtering method. 次いで、そのアンダーコート層の表面に、スパッタリング法により銀の金属層を180nm形成した。 Then, the surface of the undercoat layer, a metal layer of silver was 180nm formed by sputtering.

【0073】次いで、その金属層の表面に、中間層として、アルミン酸マグネシウムの層をスパッタリング法により150nm形成した後、その中間層の表面に、オーバーコート層として、2.54GHzのマイクロ波プラズマCVD法により、二酸化ケイ素の層を1.3μm形成して反射鏡を得た。 [0073] Then, the surface of the metal layer, as an intermediate layer, was 150nm formed by sputtering a layer of magnesium aluminate, the surface of the intermediate layer, as an overcoat layer, microwave plasma CVD of 2.54GHz by law, to obtain a reflector with 1.3μm forming a layer of silicon dioxide.

【0074】(実施例15)基材として、ポリフェニレンサルファイド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名スーペック]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、アンダーコート層として、窒化チタンの層を電子銃蒸着法により0.7μm形成したこと、および、中間層として、窒化酸化アルミニウムの層を電子銃蒸着法により200nm形成したこと以外は実施例1 [0074] (Example 15) substrate, polyphenylene sulfide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Supekku] that was used to form by injection molding a parabolically, as an undercoat layer, a titanium nitride it was 0.7μm form a layer by electron gun evaporation, and, as an intermediate layer, except that it has 200nm formed by electron gun vapor deposition layer of aluminum nitride oxide example 1
4と同様にして反射鏡を得た。 4 to obtain a reflecting mirror in the same manner as.

【0075】(実施例16)アンダーコート層として、 [0075] (Example 16) undercoat layer,
窒化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により0.5μm形成したこと、中間層として、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)の層を真空蒸着法により80nm形成したこと、および、オーバーコート層として、DLCの層を高密度プラズマCVD法により1μm形成したこと以外は実施例14と同様にして反射鏡を得た。 It was 0.5μm formed by a layer of aluminum nitride reactive sputtering method, an intermediate layer, it has 80nm form a layer of yttrium aluminum garnet (YAG) by a vacuum deposition method, and, as an overcoat layer, the DLC except that it has 1μm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in example 14 by a layer high density plasma CVD method.

【0076】(実施例17)基材として、ポリエーテルイミド樹脂[日本GEプラスチック社製、商品名ウルテム1000−1000]をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこと、アンダーコート層として、窒化ケイ素の層を反応性スパッタリング法により0.5μ [0076] (Example 17) substrate, a polyether imide resin [Nippon GE Plastics Co., Ltd., trade name Ultem 1000-1000] that was used to form by injection molding a parabolically, as an undercoat layer , 0.5 [mu] a layer of silicon nitride by reactive sputtering
m形成したこと、および、中間層として、酸化イットリウムの層を電子銃蒸着法により50nm形成したこと以外は実施例14と同様にして反射鏡を得た。 It has m formed, and, as an intermediate layer, except that it has 50nm formed to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 14 by a layer of yttrium oxide the electron gun evaporation.

【0077】(実施例18)アンダーコート層として、 [0077] (Example 18) undercoat layer,
酸化イットリウムの層を高密度プラズマイオンプレーティング法により厚み1μm形成したこと、中間層を形成しなかったこと、および、オーバーコート層として、酸化イットリウムの層を高密度プラズマイオンプレーティング法により厚み1μm形成したこと以外は実施例14 It has a thickness 1μm formed by a layer of yttrium oxide high-density plasma ion plating, for not forming the intermediate layer, and, as an overcoat layer, the thickness 1μm by high-density plasma ion plating a layer of yttrium oxide except that the formed example 14
と同様にして反射鏡を得た。 To obtain a reflecting mirror in the same manner as.

【0078】(比較例5)アンダーコート層として、ポリブタジエン系樹脂組成物[藤倉化成社製、品番VB9 [0078] (Comparative Example 5) as an undercoat layer, a polybutadiene resin composition [manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., No. VB9
453L]を用いてスプレー塗装した後、120℃で6 After spray coating using a 453L], 6 at 120 ° C.
0分加熱して、厚み13μmのアンダーコート層を形成したこと、及び、オーバーコート層として、常温硬化シリコン変性アクリル樹脂組成物[大日本インキ化学工業社製、品番HC5800/HC5800C]を用いてスプレー塗装した後、90℃で30分加熱して、厚み11 And heated 0 min, to the formation of the undercoat layer having a thickness of 13 .mu.m, and, as an overcoat layer, cold curing silicone-modified acrylic resin composition [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., No. HC5800 / HC5800C] using a spray after coating, it was heated for 30 minutes at 90 ° C., thickness 11
μmのオーバーコート層を形成したこと以外は実施例1 Except for forming the overcoat layer of μm Example 1
1と同様にして反射鏡を得た。 To obtain a reflecting mirror in the same manner as 1.

【0079】(比較例6)アンダーコート層として、ウレタン系樹脂組成物[東洋工業塗料社製、品番UPH] [0079] (Comparative Example 6) the undercoat layer, urethane resin composition [Toyo Kogyo paint Co., No. UPH]
を用いてスプレー塗装した後、120℃で90分加熱して、厚み13μmのアンダーコート層を形成したこと、 After spray coating using a heated 90 minutes at 120 ° C., to the formation of the undercoat layer having a thickness of 13 .mu.m,
及び、オーバーコート層として、常温硬化シリコン変性アクリル樹脂組成物[東洋工業塗料社製、品番RT−1 And, as an overcoat layer, cold curing silicone-modified acrylic resin composition [Toyo Kogyo paint Co., No. RT-1
30]を用いてスプレー塗装した後、70℃で60分加熱して、厚み11μmのオーバーコート層を形成したこと以外は実施例11と同様にして反射鏡を得た。 After spraying with 30], and heated 60 minutes at 70 ° C., except for forming the overcoat layer having a thickness of 11μm was obtained reflector in the same manner as in Example 11.

【0080】(評価、結果)各実施例及び各比較例で得られた反射鏡の、金属層の変色性及び反射率の評価として、耐硫化水素性試験と耐湿性試験と耐熱性試験を行った。 [0080] (Evaluation results) of the reflector obtained in each of Examples and Comparative Examples, the evaluation of the discoloration and the reflectivity of the metal layer, performing a hydrogen sulfide test and moisture resistance test and heat resistance test It was.

【0081】耐硫化水素性試験は、波長555nmの反射率を自記分光光度計(日立製作所社製、商品名U−4 [0081] hydrogen sulfide resistance test, the reflectance of the wavelength of 555nm recording spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name U-4
000)を用いて測定して、初期状態の反射率を求めた後、硫化水素ガス濃度が20ppm、温度が25℃に調整されたデシケーター中に反射鏡を24時間放置し、次いで取り出した後、波長555nmの反射率を同様に測定した。 Measured using 000), after obtaining the reflectance in the initial state, after the hydrogen gas concentration sulfide 20 ppm, a reflecting mirror in a desiccator in which the temperature is adjusted to 25 ° C. for 24 hours, then taken out, the reflectance of the wavelength of 555nm was measured in the same manner. そして、初期状態の反射率に対する処理後の反射率の低下比率を求め、その低下が3%未満であり、変色が認められなかった場合を◎、反射率の低下が3%を越え10%未満であり、変色が若干認められた場合を○、反射率の低下が10%を越え20%未満であり、変色が認められた場合を△、反射率の低下が20%を越え、変色が著しい場合を×とした。 Then, a reduction ratio of reflectance after processing for reflectance in the initial state, the decrease is less than 3%, a case where discoloration was observed ◎, reduction in reflectance is less than 10% exceed 3% in and, ○ a case where discoloration was observed slightly, a decrease of less than 20% more than 10% of the reflectivity, a case where discoloration was observed △, decrease in reflectivity exceeds 20%, significant discoloration when was the ×.

【0082】耐湿性試験は、耐硫化水素性試験と同様にして初期状態の反射率を求めた後、MIL規格STD [0082] Moisture resistance test, after obtaining the reflectance in the initial state in the same manner as the hydrogen sulfide test, MIL standard STD
202Dに準拠して、106℃で24時間サイクル試験を7サイクル行い、次いで、耐硫化水素性試験の場合と同様に波長555nmの反射率を測定して、◎、○、 Conforms to 202D, performed 7 cycles 24-hour cycle test at 106 ° C., then, by measuring the reflectance of similarly wavelength 555nm in the case of hydrogen sulfide test, ◎, ○,
△、×の判定を行った。 △, it was judgment of ×.

【0083】耐熱性試験は、耐硫化水素性試験と同様にして初期状態の反射率を求めた後、温度が160℃に調整された恒温槽に反射鏡を168時間放置し、次いで、 [0083] Heat resistance test After determining the reflectance in the initial state in the same manner as the hydrogen sulfide test, the temperature reflector in a constant temperature bath adjusted to 160 ° C. and for 168 hours, then,
耐硫化水素性試験の場合と同様に波長555nmの反射率を測定して、◎、○、△、×の判定を行った。 For hydrogen sulfide test and by measuring the reflectance of Likewise wavelength 555nm, ◎, ○, △, it was determined ×.

【0084】その結果は、表に示すように、実施例1〜 [0084] As a result, as shown in the table, Examples 1
10で得られた反射鏡は、比較例1〜4で得られた反射鏡と比べ、又、実施例11〜18で得られた反射鏡は、 The resulting reflector has a 10, compared with the reflectors obtained in Comparative Examples 1 to 4, also the reflector obtained in Example 11 to 18,
比較例5,6で得られた反射鏡と比べて、金属層が変色しにくく、反射率が低下しにくいことが確認された。 Compared obtained reflection mirror and in Comparative Examples 5 and 6, the metal layer is hardly discolored, reflectance was confirmed to be less lowered.

【0085】 [0085]

【表1】 [Table 1]

【0086】 [0086]

【発明の効果】本発明の請求項1に係る反射鏡は、オーバーコート層が、上記特定無機物Aの層を介して、金属層の表面に形成されているため、金属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。 Effects of the Invention mirror according to claim 1 of the present invention, the overcoat layer over the layer of the specific inorganic material A, because it is formed on the surface of the metal layer, the metal layer is hardly discolored, reflectance is excellent reflector.

【0087】本発明の請求項2に係る反射鏡は、特に金属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。 [0087] mirror according to claim 2 of the present invention are particularly difficult to discolor the metal layer, a reflecting mirror reflectivity and excellent.

【0088】本発明の請求項3に係る反射鏡は、上記の効果に加え、鏡面性と密着性に優れた金属層が形成された反射鏡となる。 [0088] mirror according to claim 3 of the present invention, in addition to the above effects, the reflector excellent metallic layer adhesion and specularity is formed.

【0089】本発明の請求項4に係る反射鏡は、オーバーコート層が、上記特定無機物Bの層であるため、金属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。 [0089] mirror according to claim 4 of the present invention, the overcoat layer, since a layer of the specific inorganic material B, the metal layer is hardly discolored, the reflectance excellent reflection mirror.

【0090】本発明の請求項5に係る反射鏡は、特に金属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。 [0090] mirror according to claim 5 of the present invention are particularly difficult to discolor the metal layer, a reflecting mirror reflectivity and excellent.

【0091】本発明の請求項6ないし請求項13に係る反射鏡は、上記記載のものに加えて、金属層がより一層確実に変色しにくくなり、反射率がより一層確実に優れた反射鏡となる。 [0091] mirror according to claims 6 to 13 of the present invention, in addition to those described above, the metal layer is less likely to discolor more reliably, reflecting mirror reflectivity and excellent more reliably to become.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の請求項1に係る反射鏡の一実施の形態を説明する、破断して示した図である。 Illustrating an embodiment of a reflecting mirror according to claim 1 of the present invention, the temporal changes being shown broken.

【図2】本発明の請求項1に係る反射鏡の一実施の形態を説明する、破断して示した図である。 [Figure 2] illustrates an embodiment of a reflecting mirror according to claim 1 of the present invention and shows cutaway.

【図3】本発明の請求項4に係る反射鏡の一実施の形態、及び従来の反射鏡を説明する破断して示した図である。 Figure 3 is an embodiment of the mirror according to claim 4, and illustrated with broken illustrating a conventional reflector figures in this invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 反射鏡 2 光源 10 基材 12 アンダーコート層 14 金属層 15 中間層 16 オーバーコート層 1 reflector 2 light source 10 substrate 12 undercoat layer 14 metal layer 15 intermediate layer 16 overcoat layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 加津己 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 2H042 DA04 DA10 DA11 DA12 DA15 DA18 DB06 DC02 DC03 DC04 DE04 ────────────────────────────────────────────────── ─── front page of the continuation (72) inventor Katsu Watanabe his own Osaka Prefecture Kadoma Oaza Kadoma 1048 address Matsushita Electric Works Co., Ltd. in the F-term (reference) 2H042 DA04 DA10 DA11 DA12 DA15 DA18 DB06 DC02 DC03 DC04 DE04

Claims (13)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 基材の表面に金属層が形成され、その金属層の表面に無機系のオーバーコート層が形成されてなる反射鏡において、オーバーコート層が、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層を介して、金属層の表面に形成されてなることを特徴とする反射鏡。 1. A metal layer on the surface of the substrate is formed, the reflection mirror overcoat layer of an inorganic system is formed on the surface of the metal layer, overcoat layer, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum, via aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet, becomes formed on the surface of the metal layer reflector, characterized in that.
  2. 【請求項2】 オーバーコート層が、二酸化ケイ素又はDLCの層であることを特徴とする請求項1記載の反射鏡。 Wherein the overcoat layer is, the reflecting mirror according to claim 1, characterized in that a layer of silicon dioxide or DLC.
  3. 【請求項3】 金属層が、二酸化ケイ素、DLC、フッ化マグネシウム、酸化チタン及び酸化アルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層を介して、基材の表面に形成されてなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の反射鏡。 Wherein the metal layer is silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, through a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of titanium oxide and aluminum oxide, is formed on the surface of the substrate claim 1 or claim 2 reflector, wherein the composed Te.
  4. 【請求項4】 基材の表面に金属層が形成され、その金属層の表面にオーバーコート層が形成されてなる反射鏡において、オーバーコート層が、イットリウム、マグネシウム及びアルミニウムからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の元素を含有する金属酸化物若しくは窒化物、又はDLCの層であることを特徴とする反射鏡。 The metal layer is formed on the surface of 4. A substrate, the reflecting mirror overcoat layer formed on the surface of the metal layer, overcoat layer, yttrium, from the group consisting of magnesium and aluminum metal oxide or nitride containing at least one element selected, or the reflector, characterized in that a layer of DLC.
  5. 【請求項5】 オーバーコート層が、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であることを特徴とする請求項4記載の反射鏡。 5. The overcoat layer, magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, magnesium aluminate, is a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet reflector according to claim 4, wherein a.
  6. 【請求項6】 金属層が、銀又は銀合金の金属層であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の反射鏡。 6. A metal layer reflector as claimed in any one of claims 5, characterized in that a metal layer of silver or silver alloy.
  7. 【請求項7】 金属層とオーバーコート層との間に中間層が介在するようにして形成されていることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の反射鏡。 7. A reflector as claimed in any one of claims 6 to the intermediate layer is characterized by being formed so as to be interposed between the metal layer and the overcoat layer.
  8. 【請求項8】 中間層が、DLC、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、 8. A intermediate layer, DLC, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate,
    窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1 At least one selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet
    種の無機物の層であることを特徴とする請求項7記載の反射鏡。 Reflector according to claim 7, characterized in that a layer of seed inorganic.
  9. 【請求項9】 中間層が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有するものであることを特徴とする請求項7または請求項8記載の反射鏡。 9. intermediate layer, oxide or reflector according to claim 7 or claim 8, wherein the are those containing one or both of the nitride containing magnesium element, the aluminum element.
  10. 【請求項10】 基材と金属層との間にアンダーコート層が介在するようにして形成されていることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれかに記載の反射鏡。 10. A reflector as claimed in any one of claims 9 undercoat layer is characterized by being formed so as to be interposed between the substrate and the metal layer.
  11. 【請求項11】 アンダーコート層が、二酸化ケイ素、 11. The undercoat layer, silicon dioxide,
    DLC、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・ DLC, magnesium fluoride, titanium dioxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide, and yttrium
    アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機物の層であることを特徴とする請求項10記載の反射鏡。 Reflector of claim 10, wherein the a layer of at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum garnet.
  12. 【請求項12】 アンダーコート層が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有するものであることを特徴とする請求項10または請求項11記載の反射鏡。 12. undercoat layer, magnesium element, oxide or reflector according to claim 10 or claim 11, wherein the are those containing one or both of a nitride containing aluminum element.
  13. 【請求項13】 アンダーコート層の組成を基材側付近と金属層側付近とで変えていることを特徴とする請求項10から請求項12のいずれかに記載の反射鏡。 13. The reflector according to have changed the composition of the undercoat layer in the vicinity of the substrate side and near the metal layer side of claim 10, wherein in any one of claims 12.
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