JP2000354728A - Gas-liquid contact device - Google Patents

Gas-liquid contact device

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JP2000354728A
JP2000354728A JP11169227A JP16922799A JP2000354728A JP 2000354728 A JP2000354728 A JP 2000354728A JP 11169227 A JP11169227 A JP 11169227A JP 16922799 A JP16922799 A JP 16922799A JP 2000354728 A JP2000354728 A JP 2000354728A
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JP
Japan
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gas
liquid
liquid contact
gas flow
spray nozzle
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Application number
JP11169227A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Ishiguro
淑亮 石黒
Hiroshi Ishizaka
浩 石坂
Hirobumi Yoshikawa
博文 吉川
Naruhito Takamoto
成仁 高本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas-liq. contact device capable of simultaneously solving the problem of high gas speed and the suppression of an increase in air ventilation loss. SOLUTION: In the gas-liq. contacting device operating at a high gas speed/ high liq. density of >=5m/s gas speed in a gas flow passage in which the mixed gas containing plural components flows and >=10 kg/Nm3 liq./gas ratio, plural steps of screening bodies 11 low in ventilation resistance (constitution substantially free from causing the hold up of absorbing liq. on either screen body 11, for example, meshlike body having >=50% perforation rate) are provided in the gas-liq. contacting device, and the regulation of the mixed gas such as boiler waste gas is executed, and simultaneously the absorbing liq. is sprayed from a spray nozzle 8 toward the screen bodies 11 to disperse the absorbing liq. The holding up of the absorbing liq. is prevented while achieving a prescribed desulfurization rate since absorbing liq. drop is renewed at the time when the mixed gas passes the screen bodies 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、火力発電
設備において、排ガス中の硫黄酸化物を除去する湿式排
煙脱硫装置における吸収塔などの、混合ガス中の特定成
分の吸収を行う気液接触装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas-liquid system for absorbing a specific component in a mixed gas, such as an absorption tower in a wet flue gas desulfurization unit for removing sulfur oxides in exhaust gas in a thermal power plant. It relates to a contact device.

【0002】[0002]

【従来の技術】混合ガス中の特定成分の吸収を行う気液
接触装置として、例えば化学反応による生成ガスの精製
をする精製塔などが知られている。この中で火力発電設
備において、ボイラ排ガス中の硫黄酸化物を除去する湿
式排煙脱硫装置の主要な装置である吸収塔が代表的な気
液接触装置であるので、以下、火力発電設備の吸収塔を
例にして説明する。
2. Description of the Related Art As a gas-liquid contact device for absorbing a specific component in a mixed gas, for example, a purification tower for purifying a gas produced by a chemical reaction is known. In the thermal power plant, the absorption tower, which is the main device of the wet flue gas desulfurization unit that removes sulfur oxides from the boiler exhaust gas, is a typical gas-liquid contact device. This is explained using a tower as an example.

【0003】火力発電設備においてボイラから排出され
る燃焼排ガス中に含まれる硫黄酸化物を除去するための
処理装置として石灰石−石膏法による湿式排煙脱硫装置
が広く用いられている。本装置は、排ガスと石灰石およ
び石膏を含んだスラリ状の吸収液を接触させ、硫黄酸化
物を吸収させる気液接触装置を備えた吸収塔と、吸収塔
で吸収した吸収液中の硫黄酸化物を最終的に石膏として
回収するためのいくつかの装置からなる。
[0003] As a treatment apparatus for removing sulfur oxides contained in combustion exhaust gas discharged from a boiler in a thermal power plant, a wet flue gas desulfurization apparatus using a limestone-gypsum method is widely used. This device is composed of an absorption tower equipped with a gas-liquid contacting device that absorbs sulfur oxides by bringing exhaust gas into contact with a slurry-like absorption liquid containing limestone and gypsum, and sulfur oxides in the absorption liquid absorbed by the absorption tower. Consists of several devices for finally recovering as gypsum.

【0004】吸収塔の形式としては従来、多孔板塔、充
填塔、スプレ塔などが用いられてきた。多孔板塔は、薄
い金属板に、例えば直径30mm程度の孔を多数あけ、
金属板全体の面積に対する開口部の割合(開口率)を3
0%程度とした多孔板を吸収塔内に複数段設け、多孔板
下から排ガスを上昇させ、多孔板上から吸収液を流下さ
せることによってガスと吸収液を接触させ、ガス吸収
(硫黄酸化物の吸収)を行うものである。
[0004] Conventionally, as the type of absorption tower, a perforated plate tower, a packed tower, a spray tower and the like have been used. The perforated plate tower makes a large number of holes with a diameter of, for example, about 30 mm in a thin metal plate,
The ratio of the opening to the total area of the metal plate (opening ratio) is 3
A plurality of perforated plates of about 0% are provided in the absorption tower, the exhaust gas is raised from below the perforated plates, and the absorbing solution is caused to flow down from above the perforated plates to bring the gas and the absorbing solution into contact with each other, thereby absorbing the gas (sulfur oxide). Absorption).

【0005】充填塔は、吸収塔内に表面積の大きな物
体、例えば円筒状又は環状の物体を多数充填した充填層
を設け、充填塔の下部より、排ガスを上昇させ、上部か
ら吸収液を流下させることによって排ガスと吸収液を接
触させ、ガス吸収を行うものである。
[0005] The packed tower is provided with a packed bed filled with a large number of objects having a large surface area, for example, cylindrical or annular objects, in the absorption tower, the exhaust gas is raised from the lower part of the packed tower, and the absorbent is allowed to flow down from the upper part. Thus, the exhaust gas is brought into contact with the absorbing liquid to absorb the gas.

【0006】また、スプレ塔は、吸収塔内にスプレノズ
ルを設置し、スプレノズルから排ガス流に向けて吸収液
を散布/分散させることによって排ガスと吸収液を接触
させ、ガス吸収を行うものである。
[0006] In the spray tower, a spray nozzle is installed in an absorption tower, and the exhaust gas and the absorbing liquid are brought into contact with each other by spraying / dispersing the absorbing liquid from the spray nozzle toward the exhaust gas flow, thereby performing gas absorption.

【0007】近年では、発電コストの低減並びに発電設
備の設置面積縮小の要請が強く、脱硫装置のコンパクト
化、特に吸収塔の塔高あるいは容積の低減を図った設計
がなされるようになってきており、これに伴い吸収塔内
のガス流速が高速化する傾向にある。そのため、脱硫装
置は、できるだけ簡易な構造を採用すると同時にガス流
速を高めた構造を採用する必要があるが、ガス流速を高
めた際に通風損失の大幅な増大を招かぬような装置が望
まれている。
In recent years, there has been a strong demand for reduction in power generation cost and reduction in the installation area of power generation equipment, and designs have been made to reduce the size of desulfurization units, particularly to reduce the height or volume of absorption towers. Accordingly, the gas flow velocity in the absorption tower tends to increase. For this reason, the desulfurization unit must adopt a structure that is as simple as possible and a structure that increases the gas flow rate. However, a device that does not cause a significant increase in ventilation loss when the gas flow rate is increased is desired. It is rare.

【0008】ところで、脱硫装置の性能指標である脱硫
率η(%)は、吸収塔入口の未処理排ガス中における硫
黄酸化物濃度をCp、吸収塔出口における処理排ガス中
の硫黄酸化物濃度をCtとすると、以下の(1)式で表
される。
The desulfurization rate η (%), which is a performance index of the desulfurizer, is defined as Cp, the concentration of sulfur oxides in the untreated exhaust gas at the inlet of the absorption tower, and Ct as the sulfur oxide concentration in the exhaust gas at the outlet of the absorption tower. Then, it is represented by the following equation (1).

【0009】 η=(Cp−Ct)/Cp×100(%) (1) 同一の吸収塔における脱硫率は、吸収液量L(kg)と
ガス量G(Nm)の比、L/G(液ガス比)に左右さ
れる。ある特定のガス流量の時に吸収液流量を増大させ
ると、すなわち液ガス比L/Gを高くすると脱硫率は向
上する。逆に吸収液流量を低減させる、すなわち液ガス
比L/Gを低くすると脱硫率は低下する。
Η = (Cp−Ct) / Cp × 100 (%) (1) The desulfurization rate in the same absorption tower is determined by the ratio of the absorption liquid amount L (kg) to the gas amount G (Nm 3 ), L / G. (Liquid-gas ratio). When the absorption liquid flow rate is increased at a certain gas flow rate, that is, when the liquid / gas ratio L / G is increased, the desulfurization rate is improved. Conversely, if the absorption liquid flow rate is reduced, that is, if the liquid / gas ratio L / G is reduced, the desulfurization rate decreases.

【0010】未処理排ガス中の硫黄酸化物濃度Cpは、
使用する燃料中の硫黄分の含有量よって変動し、処理排
ガス中の硫黄酸化物濃度Ctは、予め上限が定められて
いるので、達成すべき脱硫率ηは、未処理排ガス中の硫
黄酸化物濃度Cpに依存し、それに応じた液ガス比L/
Gで運転する必要がある。
[0010] The sulfur oxide concentration Cp in the untreated exhaust gas is:
The sulfur oxide concentration Ct in the treated exhaust gas fluctuates depending on the sulfur content in the fuel used, and the upper limit of the sulfur oxide concentration Ct in the treated exhaust gas is set in advance. It depends on the concentration Cp, and the liquid / gas ratio L /
You need to drive in G.

【0011】上記3種類の吸収塔を比較すると多孔板塔
や充填塔は、構造は複雑であるが気液接触面積が大き
く、比較的低い液ガス比L/Gでも高い脱硫率を得やす
いという特徴を有している。しかしながら、両者とも通
風損失が大きいので、低ガス流速のプラント向きといえ
る。
Comparing the above three types of absorption towers, the perforated plate tower and the packed tower have a complicated structure but a large gas-liquid contact area, and it is easy to obtain a high desulfurization rate even at a relatively low liquid / gas ratio L / G. Has features. However, both have large ventilation losses, so they can be said to be suitable for plants with low gas flow rates.

【0012】一方、スプレ塔は他の吸収塔に比べると構
造が単純で通風損失が小さい特徴を有し、従来の脱硫装
置ではガス流速は最大約3m/s、液ガス比L/Gは少
なくとも10以上になるように設計がなされている。
On the other hand, the spray tower has a feature that the structure is simple and the ventilation loss is small as compared with other absorption towers. In the conventional desulfurization apparatus, the gas flow rate is a maximum of about 3 m / s, and the liquid / gas ratio L / G is at least. It is designed to be 10 or more.

【0013】通風損失は、ほぼガス流速の2乗に比例し
て増大するので、前述のように多孔板塔や充填塔はスプ
レ塔に比べ、高ガス流速化による通風損失の増加量が多
大なものとなって不利である。したがって、通風損失の
増大を最小限に抑えるという観点からするとスプレ塔が
上記3種類の吸収塔の中では最も有利である。
Since the ventilation loss increases almost in proportion to the square of the gas flow velocity, the perforated plate tower and the packed tower increase the ventilation loss by increasing the gas flow velocity as compared with the spray tower as described above. It is disadvantageous. Therefore, from the viewpoint of minimizing the increase in ventilation loss, the spray tower is the most advantageous among the above three types of absorption towers.

【0014】図12は従来技術の石灰石ー石膏法による
湿式排煙脱硫装置の内、スプレ塔式の縦型吸収塔の主要
部分の概要図を示す。この吸収塔は、その側壁部に未処
理の排ガス1の入口ダクト2があり、塔の下部に循環タ
ンク4を備え、塔内の上部には多段のスプレヘッダ7と
各ヘッダ7に多数のスプレノズル8を設けたものであ
る。スプレノズル8から噴霧される吸収液は排ガスと気
液接触して排ガス中の硫黄酸化物を吸収して循環タンク
4に落下する。硫黄酸化物を除かれ、浄化された処理排
ガス9は出口ダクト10から排出する。
FIG. 12 is a schematic view showing a main part of a vertical absorption tower of a spray tower type in a conventional wet flue gas desulfurization apparatus using the limestone-gypsum method. This absorption tower has an inlet duct 2 for untreated exhaust gas 1 on its side wall, a circulation tank 4 at the bottom of the tower, and a multi-stage spray header 7 at the top of the tower and a number of spray nozzles 8 at each header 7. Is provided. The absorbing liquid sprayed from the spray nozzle 8 comes into gas-liquid contact with the exhaust gas, absorbs sulfur oxides in the exhaust gas, and falls into the circulation tank 4. The treated exhaust gas 9 from which the sulfur oxides have been removed and which has been purified is discharged from an outlet duct 10.

【0015】図12に示すようなスプレ塔式の吸収塔は
構造が単純で通風損失が小さい特徴を有するが、入口ダ
クト2から導入された排ガスの流れを吸収塔断面全体に
均一に分布させ、また、スプレノズル8から噴霧する吸
収液を均一に分散させて、気液接触操作を行うことが難
しいという問題を抱えている。
The spray tower type absorption tower as shown in FIG. 12 has a feature that the structure is simple and the ventilation loss is small, but the flow of the exhaust gas introduced from the inlet duct 2 is evenly distributed over the cross section of the absorption tower. Further, there is a problem that it is difficult to perform the gas-liquid contact operation by uniformly dispersing the absorbing liquid sprayed from the spray nozzle 8.

【0016】前述のように脱硫率は液ガス比L/Gに依
存することから、所定の脱硫率を達成するためには、高
ガス流速の吸収塔になればなるほど、吸収液の噴霧量を
高密度にする必要がある。
As described above, since the desulfurization rate depends on the liquid / gas ratio L / G, in order to achieve a predetermined desulfurization rate, the higher the gas flow rate becomes in the absorption tower, the more the spray amount of the absorption liquid becomes. High density is required.

【0017】ガス流速が最大3m/sである従来型のス
プレ塔式の吸収塔を小型化することで(近年そのような
要望が高い)高ガス流速化する場合、具体的には5m/
s以上のガス流速とする場合において、所定の脱硫率を
達成するためには、液ガス比L/G=10で運転すると
して、従来に比べ、吸収液の噴霧量を5/3倍以上に高
密度化する必要がある。
In the case of increasing the gas flow rate by increasing the size of a conventional spray tower type absorption tower having a gas flow rate of 3 m / s at the maximum (in recent years, such a demand is high), specifically 5 m / s
In order to achieve a predetermined desulfurization rate when the gas flow rate is not less than s, the operation is performed at a liquid / gas ratio of L / G = 10. It is necessary to increase the density.

【0018】ところが、気液接触装置において、特にガ
ス流れ方向が変化するものは、ガス流れの不均一による
ショートパス領域が発生して気液接触が不良となり、脱
硫率が低下する可能性があって、その影響はガス流速を
高くし、かつ吸収液の噴霧量を高密度化するほど大きな
ものとなる。
However, in the gas-liquid contacting apparatus, particularly in the case where the gas flow direction changes, a short path region is generated due to the uneven gas flow, so that the gas-liquid contact becomes poor, and the desulfurization rate may decrease. Thus, the effect becomes greater as the gas flow velocity is increased and the spray amount of the absorbing liquid is increased.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】そこで、吸収塔の入口
ダクト2から導入された排ガス1の流れを吸収塔断面全
体に均一に分布させてから、吸収液と気液接触させる目
的で、例えば図12に示すように、縦型吸収塔のガス入
口ダクト直上の吸収塔断面に開口率30%程度の多孔板
15を設置することがある。
Therefore, for the purpose of uniformly distributing the flow of the exhaust gas 1 introduced from the inlet duct 2 of the absorption tower over the entire cross section of the absorption tower, and then bringing it into gas-liquid contact with the absorbing liquid, for example, FIG. As shown in FIG. 12, a perforated plate 15 having an aperture ratio of about 30% may be provided in the section of the absorption tower immediately above the gas inlet duct of the vertical absorption tower.

【0020】また、図12に示す多孔板15の代わり
に、例えば開口形状が菱型の網状体を複数段配置して、
スプレノズルから噴霧された液体が、網状体を通過した
混合ガスと接触して効率的にガス吸収を行うようにした
気液接触装置が特開平7−100324号公報に記載さ
れている。
In place of the perforated plate 15 shown in FIG.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-100324 describes a gas-liquid contact device in which a liquid sprayed from a spray nozzle is brought into contact with a mixed gas that has passed through a mesh to efficiently absorb gas.

【0021】多孔板は、網状体に比して通風損失が大き
く、特に吸収液流量が増加すると多孔板上に液滴が滞留
する、いわゆるホールドアップの状態が起こりやすくな
る。また、網状体も開口率の選定を適切に行わないと上
記ホールドアップが発生する。上記網状体を設けた特開
平7−100324号公報記載の発明については、気液
接触効率が良い装置であると考えられるが、上述の高ガ
ス流速化を図った装置ではないためか、いわゆるホール
ドアップについては、全く配慮されていないし、その他
のスプレ式の気液接触装置に関する従来技術において
も、そのようなことを示唆したものはない。
The perforated plate has a large ventilation loss as compared with the mesh body, and particularly when the flow rate of the absorbing liquid is increased, a so-called hold-up state in which droplets stay on the perforated plate tends to occur. In addition, if the aperture ratio of the mesh body is not properly selected, the hold-up occurs. The invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-100324, in which the mesh is provided, is considered to be a device having good gas-liquid contact efficiency. No consideration is given to the up-up, and there is no suggestion in the prior art relating to other spray type gas-liquid contact devices.

【0022】ところで、図4は、ガス流速並びに液ガス
比L/Gと通風損失との関係を模式的に表すものである
が、同一の液ガス比L/G条件では、通風損失はガス流
速のほぼ2乗に比例して増大する。同一のガス流速条件
では、通風損失は、ほぼ液ガス比L/Gの増加量に比例
して上昇するが、液ガス比L/Gを所定値以上に増大さ
せるとホールドアップが起こり、通風損失は急増する。
図4には、このホールドアップが起こる状態をHで表し
ている。
FIG. 4 schematically shows the relationship between the gas flow rate and the liquid / gas ratio L / G and the ventilation loss. Under the same liquid / gas ratio L / G conditions, the ventilation loss is equal to the gas flow rate. Increases in proportion to approximately the square of. Under the same gas flow rate condition, the ventilation loss increases almost in proportion to the increase amount of the liquid / gas ratio L / G, but when the liquid / gas ratio L / G is increased to a predetermined value or more, hold-up occurs, and the ventilation loss Increases rapidly.
In FIG. 4, the state in which this hold-up occurs is represented by H.

【0023】また、ホールドアップの発生はガス流速が
高くなるほど低い液ガス比L/Gでも起こりやすくな
る。例えば、従来空塔速度基準で、最大2〜3m/s程
度のガス流速であったものが、高ガス流速化の要請で、
最近は少なくとも5m/s、最大では部分的に10m/
s以上にまで引き上げられるようになってきた。
The higher the gas flow rate, the more likely the hold-up occurs even at a low liquid / gas ratio L / G. For example, a gas flow rate of a maximum of about 2 to 3 m / s based on the superficial superficial velocity has been increased.
Recently at least 5m / s, at most 10m / s
s or more.

【0024】従来の多孔板15(図12)は吸収液滴が
滞留しやすいので、このような条件下では、容易にホー
ルドアップが発生し、きわめて大きな通風動力が必要と
なる。一方、通風動力を抑えるため、ホールドアップが
発生しない液ガス比L/Gで運用しようとすれば、十分
な脱硫率を達成することができなくなる。
In the conventional perforated plate 15 (FIG. 12), the absorbing liquid droplets are apt to stay, so that under such conditions, hold-up easily occurs and extremely large ventilation power is required. On the other hand, if an attempt is made to operate at a liquid / gas ratio L / G at which no hold-up occurs in order to suppress the ventilation power, a sufficient desulfurization rate cannot be achieved.

【0025】したがって、従来の技術では、上述した湿
式排煙脱硫装置の吸収塔におけるガス流速を高くするこ
とと通風損失の増大を抑制すること同時に解決すること
ができなかった。
Therefore, in the conventional technique, it was not possible to simultaneously increase the gas flow velocity in the absorption tower of the above-mentioned wet flue gas desulfurization apparatus and suppress the increase in ventilation loss.

【0026】本発明の課題は、上記従来技術の問題点を
解消し、高ガス流速化と通風損失の増大の抑制という課
題を同時に解決する気液接触装置を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a gas-liquid contact device which solves the above-mentioned problems of the prior art and simultaneously solves the problems of increasing the gas flow rate and suppressing the increase in ventilation loss.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、複
数の成分を含む混合ガスが流れるガス流路に、少なくと
も1段のスプレノズルから混合ガスにガス吸収液を噴霧
し、前記混合ガス中の特定成分を吸収液に吸収させる気
液接触領域を設け、かつ、最大負荷状態における該気液
接触領域でのガス流速が5m/s以上で、液/ガス比
(kg/Nm)が10以上である高ガス流速・高液密
度で運転する気液接触装置において、前記気液接触領域
には、スプレノズルと、該スプレノズルからの吸収液噴
霧方向に前記混合ガス流れと対向して配置される複数の
スクリーン体とを設け、気液接触領域は、前記複数のス
クリーン体のいずれのスクリーン体上にも実質的に吸収
液のホールドアップを生じない構成とした気液接触装置
により達成される。
An object of the present invention is to spray a gas absorbing solution onto a gas mixture from at least one stage spray nozzle into a gas flow path through which a gas mixture containing a plurality of components flows. Is provided in the gas-liquid contact region where the specific component is absorbed by the absorbent, the gas flow rate in the gas-liquid contact region under the maximum load condition is 5 m / s or more, and the liquid / gas ratio (kg / Nm 3 ) is 10 In the gas-liquid contact device operating at a high gas flow rate and a high liquid density as described above, the spray nozzle and the mixed gas flow are arranged in the gas-liquid contact region in the spraying direction of the absorbing liquid from the spray nozzle. A plurality of screens are provided, and the gas-liquid contact area is achieved by a gas-liquid contact device configured to substantially not hold up the absorbing liquid on any of the plurality of screens.

【0028】本発明では、気液接触装置内に通風抵抗の
少ないスクリーン体を複数段設置し、混合ガスの整流を
行うと同時に、スプレノズルから吸収液を前記スクリー
ン体に向けて噴霧して吸収液を分散させ、前記スクリー
ン体を混合ガスが通過する際に、吸収液滴を更新させる
ので、例えば、所定の脱硫率を達成しつつ、スクリーン
体上に吸収液がホールドアップすることを防ぐことがで
きる。
In the present invention, a plurality of screens having low ventilation resistance are installed in the gas-liquid contacting device to rectify the mixed gas, and at the same time, the absorbing liquid is sprayed from the spray nozzle toward the screen to absorb the absorbing liquid. Is dispersed, and when the mixed gas passes through the screen body, the absorbing droplets are renewed.For example, it is possible to prevent the absorbing liquid from being held up on the screen body while achieving a predetermined desulfurization rate. it can.

【0029】上記本発明の気液接触装置において、前記
気液接触領域に設けた一以上のスクリーン体と一つのス
プレノズルとを組み合わせたものを、一つのユニットと
し、該ユニットを同一の混合ガスの流れ方向に対して直
列に複数収納する構成とすることで、吸収液と混合ガス
の接触の機会を多くし、また混合ガスが気液接触領域を
バイパスすることを防ぐことができる。
In the gas-liquid contact device of the present invention, one or more screens provided in the gas-liquid contact area and one spray nozzle are combined into one unit, and the unit is formed of the same mixed gas. By adopting a configuration in which a plurality of liquids are stored in series in the flow direction, the chance of contact between the absorbing liquid and the mixed gas can be increased, and the mixed gas can be prevented from bypassing the gas-liquid contact region.

【0030】本発明のスクリーン体とは、直径が数分の
1〜数mm程度の線状体を、例えば互いに平行に並べて
配置した構成及び線状体を交差させた構成などを言う。
また、本発明の複数のスクリーン体のいずれのスクリー
ン体上にも実質的に吸収液のホールドアップを生じない
気液接触領域の構成とは、例えば、各スクリーン体の開
口率を50%以上とすることである。
The screen body of the present invention refers to, for example, a configuration in which linear bodies having a diameter of a fraction of several millimeters to several millimeters are arranged in parallel with each other and a configuration in which the linear bodies cross each other.
Further, the configuration of the gas-liquid contact region that does not substantially cause the hold-up of the absorbing liquid on any one of the plurality of screen bodies of the present invention means, for example, that the aperture ratio of each screen body is 50% or more. It is to be.

【0031】また、本発明の気液接触装置は、混合ガス
流路の途中からガス流れの方向を排ガス導入側のガス流
路でのガス流れ方向とは反転させたガス流路とし、それ
ぞれのガス流路に少なくとも1段のスプレノズルを配置
し、該スプレノズルからの吸収液噴霧方向に、前記混合
ガス流れと対向して配置した複数のスクリーン体を設け
た気液接触領域を設けた構成とすることもできる。
In the gas-liquid contact device of the present invention, the gas flow direction is reversed from the gas flow direction in the gas flow path on the exhaust gas introduction side from the middle of the mixed gas flow path. At least one stage spray nozzle is disposed in the gas flow path, and a gas-liquid contact region is provided in which a plurality of screens are disposed facing the mixed gas flow in the direction of spraying the absorbing liquid from the spray nozzle. You can also.

【0032】この構成からなる気液接触装置内で高速の
ガス流れを反転させると、ガス流れが不均一になり、気
液接触が不良と成りやすいが、スクリーン体を設置し
て、整流することにより、気液接触を良好なものとする
ことができる。
When the high-speed gas flow is reversed in the gas-liquid contact device having this configuration, the gas flow becomes uneven and the gas-liquid contact is likely to be poor. Thereby, good gas-liquid contact can be achieved.

【0033】また、高ガス流速化に伴い、吸収塔内容積
が小さくなる一方、吸収液を散布する密度は大きくなる
ので、吸収塔内に設置するスプレヘッダ7やスプレノズ
ル8の通風抵抗も低ガス流速の場合に比べ、相対的に大
きなものとなる。そのため、本発明の気液接触装置を、
ガス流路を構成する壁面の外側にスプレヘッダ及びスプ
レノズルの一部または全部を配置し、ガス流路を構成す
る壁面の内側にスプレノズルの噴霧口を設けた構成にす
ると、ガス流速を高速化しても、スプレヘッダ7および
スプレノズル8がガス流れの抵抗体となることを防止す
ることができる。
As the gas flow rate increases, the volume inside the absorption tower decreases, while the density at which the absorbing liquid is sprayed increases, so that the ventilation resistance of the spray header 7 and the spray nozzle 8 installed in the absorption tower also decreases. Is relatively large compared to the case of Therefore, the gas-liquid contact device of the present invention,
If a part or all of the spray header and the spray nozzle is arranged outside the wall constituting the gas flow path and the spray nozzle of the spray nozzle is provided inside the wall constituting the gas flow path, even if the gas flow rate is increased, , The spray header 7 and the spray nozzle 8 can be prevented from becoming a gas flow resistor.

【0034】本発明の気液接触装置はボイラ排ガス中の
脱硫装置に限らず、混合ガス中の有害成分や不要成分の
除去、有用成分の回収、化学反応による生成ガスの回
収、精製などに用いられる。
The gas-liquid contact device of the present invention is used not only for the desulfurization device in the boiler exhaust gas, but also for the removal of harmful and unnecessary components in the mixed gas, the recovery of useful components, the recovery and purification of gases produced by chemical reactions, and the like. Can be

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
てボイラ排ガス中の硫黄酸化物を除去する湿式排煙脱硫
装置の主要な装置であるスプレ塔式の吸収塔を気液接触
装置の典型例として、図面と共に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention are described below. A spray tower type absorption tower, which is a main apparatus of a wet flue gas desulfurization apparatus for removing sulfur oxides from boiler exhaust gas, is a typical gas-liquid contactor. An example will be described with reference to the drawings.

【0036】図1は、石灰石ー石膏法による湿式排煙脱
硫装置の縦型吸収塔主要部分の概要を示している。な
お、ここでは図示を省略しているが実際の脱硫装置では
吸収液に含まれる石灰石を供給するための設備を始め、
吸収した硫黄酸化物と石灰石との反応生成物の酸化や最
終的に生成した石膏の脱水に係わる機器・配管・設備類
が付帯している。
FIG. 1 shows an outline of a main part of a vertical absorption tower of a wet type flue gas desulfurization apparatus using a limestone-gypsum method. In addition, although illustration is omitted here, in an actual desulfurization apparatus, equipment for supplying limestone contained in the absorbing solution is started,
Equipment, piping, and equipment for oxidation of the reaction product of the absorbed sulfur oxide and limestone and dehydration of the finally formed gypsum are attached.

【0037】図12に示した従来の吸収塔と同様に、図
1に示す吸収塔も、未処理の排ガス1の入口ダクト2、
循環タンク4、スプレヘッダ7、スプレノズル8、出口
ダクト10などが設けられている。図1に示す吸収塔で
は、図12に示した従来の吸収塔で設けた多孔板15は
用いないで、塔内の入口ダクト2の排ガス1導入部より
下流側の各スプレノズル8からの吸収液(石灰石ー石膏
スラリ)の噴霧域にスクリーン体11を設けたことこと
に特徴がある。スクリーン体11は各スプレノズル8の
吸収液噴霧域に複数段設ける。
As with the conventional absorption tower shown in FIG. 12, the absorption tower shown in FIG.
A circulation tank 4, a spray header 7, a spray nozzle 8, an outlet duct 10, and the like are provided. In the absorption tower shown in FIG. 1, the perforated plate 15 provided in the conventional absorption tower shown in FIG. 12 is not used, and the absorption liquid from each spray nozzle 8 downstream of the exhaust gas 1 introduction portion of the inlet duct 2 in the tower is used. It is characterized in that the screen body 11 is provided in the spray area of (limestone-gypsum slurry). The screen body 11 is provided in a plurality of stages in the spray area of the absorbing liquid of each spray nozzle 8.

【0038】未処理排ガス1は、入口ダクト2より吸収
塔の内部へ導入され、吸収塔内に導入されたガス流れの
向きは上方へ変化させられ、塔断面における流速の分布
にばらつきが生じやすいが、吸収塔内に導入された排ガ
ス1はスクリーン体11に当って整流されるため、排ガ
ス1が塔内を上昇し、スクリーン体11を通過するにつ
れ、ガス流れが均一化していく。
The untreated exhaust gas 1 is introduced from the inlet duct 2 into the absorption tower, the direction of the gas flow introduced into the absorption tower is changed upward, and the distribution of the flow velocity in the tower cross section tends to vary. However, since the exhaust gas 1 introduced into the absorption tower strikes the screen body 11 and is rectified, the exhaust gas 1 rises in the tower, and as the gas passes through the screen body 11, the gas flow becomes uniform.

【0039】吸収液5は循環タンク4から循環ポンプ6
を用いて汲み上げられ、スプレヘッダ7に取り付けられ
た多数のスプレノズル8から排ガス1に向けて噴霧さ
れ、吸収液と上昇する排ガス1が向流接触することによ
り排ガス1中の硫黄酸化物が吸収液に吸収・除去され、
処理ガス9として出口ダクト10から吸収塔外へ排出さ
れる。
The absorbent 5 is supplied from the circulation tank 4 to the circulation pump 6
And sprayed from a large number of spray nozzles 8 attached to the spray header 7 toward the exhaust gas 1, and the absorbing liquid and the rising exhaust gas 1 come into countercurrent contact, so that the sulfur oxides in the exhaust gas 1 become the absorbing liquid. Absorbed and removed,
The gas is discharged from the outlet duct 10 to the outside of the absorption tower as the processing gas 9.

【0040】ここで、図12に示す従来技術では、多孔
板15に到達するまでスプレヘッダ7またはスプレノズ
ル8以外に、衝突により、吸収液滴を更新するものはな
いが、図1に示す吸収塔では各気液接触領域のスプレノ
ズル8から吸収液がスクリーン体11に向けて噴霧され
るので吸収液滴が更新され、気液接触効率が高まる。こ
のように、本発明の吸収塔では、入口ダクト2から導入
された排ガス1の流れを整流させると同時に、吸収液滴
をスクリーン体11に衝突・更新させ気液接触を行うよ
うにしているのである。
Here, in the prior art shown in FIG. 12, there is nothing to renew the absorbing droplets by collision except for the spray header 7 or the spray nozzle 8 until reaching the perforated plate 15, but in the absorbing tower shown in FIG. Since the absorbing liquid is sprayed toward the screen body 11 from the spray nozzle 8 in each gas-liquid contact area, the absorbing liquid droplets are updated, and the gas-liquid contact efficiency increases. As described above, in the absorption tower of the present invention, the flow of the exhaust gas 1 introduced from the inlet duct 2 is rectified, and at the same time, the absorbing liquid droplets collide with the screen body 11 and are renewed to perform gas-liquid contact. is there.

【0041】図3は、実験室的に求められた吸収塔内に
設置する1個のスプレノズル当たりの多孔板及びスクリ
ーン体の段数と脱硫率の関係を示している。
FIG. 3 shows the relationship between the number of stages of perforated plates and screens per spray nozzle installed in an absorption tower and the desulfurization rate determined in a laboratory.

【0042】本実験で使用したスクリーン体は、例えば
直径0.9mmの円形断面を有するステンレス線を図7
に示すように等間隔で互いに平行に配置したもの、又は
図10に示すように交互に直交させたメッシュ状のもの
であり、開口率は約70%である。なお、多孔板は開口
径8mmのアクリル板で開口率は30%である。また、
吸収塔は縦型の円筒状で、下部よりガスを流入させ、上
部のスプレノズル8から吸収液を噴霧した。
The screen used in this experiment is, for example, a stainless wire having a circular cross section of 0.9 mm in diameter as shown in FIG.
Are arranged in parallel with each other at equal intervals as shown in FIG. 10, or are in a mesh shape alternately orthogonal as shown in FIG. 10, and the aperture ratio is about 70%. The perforated plate is an acrylic plate having an opening diameter of 8 mm and the opening ratio is 30%. Also,
The absorption tower had a vertical cylindrical shape, gas was introduced from the lower part, and the absorbing liquid was sprayed from the upper spray nozzle 8.

【0043】1個のスプレノズル当たり、挿入する多孔
板またはスクリーン体の段数が増大するに従って脱硫率
が向上し、4段挿入した時の多孔板とスクリーン体の脱
硫率はほぼ同等となった。一方、図5は一定の液ガス比
L/G条件における多孔板またはスクリーン体からなる
挿入物の種類と通風損失の関係を模式的に示すものであ
る。多孔板並びにスクリーン体は図3の実験におけるも
のと同一のものを使用して、それぞれ4段挿入した。
The desulfurization rate was improved as the number of perforated plates or screens inserted per spray nozzle was increased, and the desulfurization rates of the perforated plates and screens when four stages were inserted were almost equal. On the other hand, FIG. 5 schematically shows the relationship between the type of insert made of a perforated plate or a screen and the ventilation loss under a constant liquid / gas ratio of L / G. The same perforated plate and screen as those in the experiment of FIG. 3 were used, and four stages were inserted.

【0044】多孔板の場合は、ガス流速および液ガス比
L/Gを徐々に増大させていく過程で最下段より吸収液
のホールドアップが生じ、通風損失が急増、ガス流速:
1.5m/s、液ガスL/G=10の条件では全ての段
にホールドアップが観察された。多孔板に比べ、空塔で
の通風損失が小さいスクリーン体は、ガス流速:5m/
sとした上、液ガス比L/Gを10まで増大させても全
ての段でホールドアップが生じなかった。
In the case of a perforated plate, during the process of gradually increasing the gas flow rate and the liquid / gas ratio L / G, hold-up of the absorbing liquid occurs from the lowermost stage, so that the ventilation loss sharply increases.
Under the conditions of 1.5 m / s and liquid gas L / G = 10, hold-up was observed in all stages. Compared to the perforated plate, the screen body having a small ventilation loss in the empty tower has a gas flow rate of 5 m /
In addition, the hold-up did not occur at all stages even when the liquid / gas ratio L / G was increased to 10.

【0045】なお、スクリーン体とか多孔板などの挿入
物なしの条件では、圧力損失は最も低くなるが、多孔板
またはスクリーン体を挿入したときと同等まで脱硫率を
高めるにはL/Gを相当に大きくしなければならず、こ
のため循環ポンプ6(図1)の動力の増大が著しい。
The pressure loss is the lowest under the condition without an insert such as a screen or a perforated plate, but L / G is required to increase the desulfurization rate to the same level as when the perforated plate or the screen is inserted. Therefore, the power of the circulation pump 6 (FIG. 1) is significantly increased.

【0046】上記の図3、図5に示す実験結果は、多孔
板に比べ開口率の大きなスクリーン体を複数段、吸収塔
に設置することにより、以下のことが実現されることを
示している。
The experimental results shown in FIGS. 3 and 5 indicate that the following can be realized by installing a plurality of screens having a larger aperture ratio than the perforated plate in the absorption tower. .

【0047】すなわち、第1にスクリーン体によっても
たされるガスの整流効果またはスクリーン体に衝突する
吸収液滴の更新により気液接触効率が向上し、多孔板と
同等の脱硫率が達成できる。第2に、高ガス流速、高液
ガス比L/Gの条件まで吸収液のホールドアップが生じ
ないので、前記挿入物を用いない場合の通風損失に対す
る通風損失の増加量を低く抑えられる。
That is, firstly, the gas rectification effect of the gas produced by the screen body or the renewal of the absorbed droplets colliding with the screen body improves the gas-liquid contact efficiency, and the desulfurization rate equivalent to that of the perforated plate can be achieved. Secondly, since the hold-up of the absorbing liquid does not occur up to the conditions of the high gas flow rate and the high liquid gas ratio L / G, the increase in the ventilation loss with respect to the ventilation loss when the insert is not used can be suppressed low.

【0048】吸収液のホールドアップ発生を左右するス
クリーン体の構造的な要素は、スクリーン体の全体的な
形状(スクリーン体を構成するスクリーン材の交差状態
など)、開口率、隣接するスクリーン材同士の間隔(ス
パン)、スクリーン体の各段の間隔(ピッチ)、各スク
リーン材の幅(ガス流れに直交する方向の長さ)、スク
リーン材の断面形状などである。
The structural elements of the screen body that influence the hold-up of the absorbing liquid include the overall shape of the screen body (such as the crossing state of the screen materials constituting the screen body), the aperture ratio, and the adjacent screen materials. , The interval (pitch) of each step of the screen body, the width of each screen material (the length in the direction orthogonal to the gas flow), the cross-sectional shape of the screen material, and the like.

【0049】以下、これらの要素の適正な組み合わせに
ついて述べる。まず、スクリーン体の全体的な形状であ
るが、前述の実験では、円形断面を有するステンレス線
を等間隔で交互に直交させたメッシュ状のものを用いた
が、本発明に係るスクリーン体の形状は、これに限定さ
れるものではない。スクリーン体の全体的な形状として
最もホールドアップが生じにくいのは、図7に示す複数
のスクリーン材を互いに平行に並べたものであり、これ
に交差するスクリーン材を加えるにつれホールドアップ
は発生しやすくなる。
Hereinafter, an appropriate combination of these elements will be described. First, regarding the overall shape of the screen body, in the above-described experiment, a mesh-like shape in which stainless wires having a circular cross section were alternately orthogonally arranged at regular intervals was used, but the shape of the screen body according to the present invention was used. Is not limited to this. The most unlikely occurrence of hold-up in the overall shape of the screen body is a plurality of screen materials shown in FIG. 7 arranged in parallel with each other, and hold-up is likely to occur as screen materials intersecting with this are added. Become.

【0050】この現象は、複数のスクリーン材を交差さ
せるとスクリーン材の間隔は交点に近づくにつれて狭ま
っていき、液滴が滞留しやすくなるためである。したが
って、ホールドアップ発生防止の観点からはスクリーン
材の交差点を少なくし、また交差させる場合はスクリー
ン材同士のなす角度を大きくとることが望ましい。例え
ば、2本のスクリーン材を直交させるのが最良である。
This phenomenon is because, when a plurality of screen materials are crossed, the distance between the screen materials is reduced as approaching the intersection, and the liquid droplets tend to stay. Therefore, from the viewpoint of preventing the occurrence of hold-up, it is desirable to reduce the number of intersections between the screen materials, and when they intersect, it is desirable to increase the angle between the screen materials. For example, it is best to make two screen materials orthogonal.

【0051】次に、スクリーン体の開口率について説明
する。各段のスクリーン体の開口率は、高ガス流速また
は高液ガス比L/Gでの条件で運転される装置ほど大き
な値にする必要がある。前述の図3と図5に示す実験で
用いたスクリーン体は開口率約70%であるが、同一の
開口率でも、例えば、隣接するスクリーン材同士の間隔
(スパン)が小さい場合は、吸収液の表面張力によって
隣接するスクリーン材の間に液滴の架橋ができ、ホール
ドアップを招きやすい状況となる。一方、上記スパンが
吸収液滴の径に比べ相当に大きい場合は、ホールドアッ
プし難くなるが、衝突による液滴の更新効果は小さくな
る。
Next, the aperture ratio of the screen body will be described. The aperture ratio of the screen body in each stage needs to be set to a larger value as the device is operated under the condition of a high gas flow rate or a high liquid gas ratio L / G. The screen body used in the experiments shown in FIGS. 3 and 5 has an aperture ratio of about 70%. Even if the aperture ratio is the same, for example, when the interval (span) between adjacent screen materials is small, the absorbing liquid Due to the surface tension of the liquid crystal, droplets can be cross-linked between adjacent screen materials, and a situation in which hold-up is likely to be caused. On the other hand, when the span is considerably larger than the diameter of the absorbing droplet, it is difficult to hold up, but the effect of updating the droplet due to collision is reduced.

【0052】従って前記開口率の下限は、その他の諸要
素の組み合わせが最もホールドアップを発生しにくい条
件であるときに実施可能な最小の値ということができ
る。また、前記開口率の上限は、逆にその他の諸要素が
最もホールドアップを発生しやすい条件であるときの開
口率であるか、もしくは、スクリーン材の幅によって影
響を受けるスクリーン材の強度的要件(耐摩耗性を含
む)に基づき求められる実施可能な限界を表す開口率で
ある。
Therefore, it can be said that the lower limit of the aperture ratio is the minimum value that can be implemented when the combination of other elements is the condition in which the hold-up hardly occurs. On the other hand, the upper limit of the aperture ratio is, on the contrary, the aperture ratio when other elements are most likely to cause hold-up, or the strength requirement of the screen material affected by the width of the screen material. It is an aperture ratio representing a practicable limit required based on (including abrasion resistance).

【0053】しかしながら、前述したような直径数分の
1mm〜数mmの線状体から構成される、いわゆる一般
的な網では、前記開口率は50%以上が適当といえる。
However, in the case of a so-called general net composed of a linear body having a diameter of a fraction of a millimeter to several millimeters as described above, the aperture ratio of 50% or more is appropriate.

【0054】次に、隣接するスクリーン材同士の間隔
(スパン)について説明する。
Next, the interval (span) between adjacent screen materials will be described.

【0055】同一スクリーン内の隣接するスクリーン材
の間隔(スパン)は、以下の基準によって定められる。
すなわち、スパンの下限は、前述のとおり、吸収液の表
面張力によって隣接するスクリーン材の間に液滴の架橋
ができ、ホールドアップが発生しやすくならないような
ものとする必要がある。運転条件、飛散する液滴の径に
も依存するが、経験的にいってスパンは5mm以上であ
ることが望ましい。
The interval (span) between adjacent screen materials in the same screen is determined by the following criteria.
That is, as described above, the lower limit of the span needs to be such that the surface tension of the absorbing liquid causes the cross-linking of the droplets between the adjacent screen materials so that the hold-up does not easily occur. Although it depends on the operating conditions and the diameter of the scattered droplets, it is empirically determined that the span is preferably 5 mm or more.

【0056】なお、スクリーン材の交差する部分が少な
いほどスパンを小さくできる。スクリーン段の間隔(ピ
ッチ)についてみると、ピッチは近接させ過ぎると液滴
の再飛散が阻害されやすくなることと、ガス流れを均一
にさせにくくなることから、ピッチの下限は、そのよう
な問題が生じないようにする必要がある。
The span can be made smaller as the number of intersections of the screen materials is smaller. Regarding the screen step interval (pitch), if the pitch is too close, the re-dispersion of droplets is likely to be hindered, and it is difficult to make the gas flow uniform, so the lower limit of the pitch is such a problem. Must not occur.

【0057】ピッチはスクリーン材断面の長さあるいは
形状によっても影響を受けるが、実験を積み重ねた結
果、スクリーン材の幅(ガス流れに直交する方向の長
さ)をWx、断面の長さ(ガス流れ方向の長さ)をWz
としたときにピッチPが P≧500×Wx/Wz(mm) となるようにすることが望ましいことが分かった。
Although the pitch is affected by the length or shape of the cross section of the screen material, as a result of repeated experiments, the width of the screen material (the length in the direction perpendicular to the gas flow) is Wx, and the length of the cross section (gas Wz)
It was found that it was desirable to set the pitch P so that P ≧ 500 × Wx / Wz (mm).

【0058】なお、スプレノズル方向から見たスクリー
ン体を構成する各スクリーン材が重なりあってないも
の、すなわち千鳥配置されている場合は、上記した条件
よりピッチPは短縮できる。ピッチの上限は、特に限定
されるものではないが、吸収塔のレイアウト、吸収液の
分散、衝突による液滴の更新効果などを考慮する必要が
ある。
When the screen members constituting the screen member viewed from the spray nozzle direction do not overlap each other, that is, when the screen members are arranged in a staggered manner, the pitch P can be reduced under the above-described conditions. The upper limit of the pitch is not particularly limited, but it is necessary to consider the layout of the absorption tower, the dispersion of the absorbing liquid, the effect of renewing the droplet by collision, and the like.

【0059】スクリーン材の幅(ガス流れに直交する方
向の長さ)と断面の長さ(ガス流れ方向の長さ)につい
てみると、スクリーン材の幅および断面長さの下限は、
スクリーン材の強度または耐摩耗性などから決定され
る。材質によっても左右されるが、例えばステンレス線
材の場合、0.5mm以上が望ましい。またその上限
は、特に限定されるものではないが、衝突による液滴の
更新、再飛散する液滴径を考慮する必要がある。
Looking at the width (length in the direction perpendicular to the gas flow) and the cross-sectional length (length in the gas flow direction) of the screen material, the lower limit of the width and the cross-sectional length of the screen material is as follows.
It is determined from the strength or abrasion resistance of the screen material. Although it depends on the material, for example, in the case of a stainless steel wire, it is preferably 0.5 mm or more. The upper limit is not particularly limited, but it is necessary to take into account the renewal of the droplet due to collision and the diameter of the droplet re-scattered.

【0060】次に、スクリーン材の断面形状について説
明する。スクリーン材の断面形状は、本実施の形態では
円形のものを示したが、前述したように楕円、角形、翼
形等、種々のものが適用できる。図6は、スクリーン材
の断面形状を示すものである。
Next, the cross-sectional shape of the screen material will be described. In this embodiment, the cross-sectional shape of the screen material is circular, but various shapes such as an ellipse, a square, and an airfoil can be applied as described above. FIG. 6 shows a cross-sectional shape of the screen material.

【0061】(1)は断面が円形または楕円形のものを
示し、円形のものは一般の線材を用いて構成できるの
で、比較的容易に製作でき、吸収液のホールドアップが
生じにくい形状である。楕円形のものは、円形のものよ
りも抵抗が小さくなるので、より好ましい。
(1) shows a circular or elliptical cross section. Since a circular one can be formed using a general wire, it can be manufactured relatively easily and has a shape in which the hold-up of the absorbing liquid is hard to occur. . Elliptical ones are more preferred because they have lower resistance than circular ones.

【0062】(2)は角形断面の例であり、他の形状に
比べると、抵抗が大きく、吸収液のホールドアップは発
生しやすく、通風損失は増大しやすくなる。一方、加工
は例えば薄板を打ち抜きするなど容易にできる利点があ
る。
(2) is an example of a rectangular cross section, which has a higher resistance than other shapes, easily causes hold-up of the absorbing liquid, and increases ventilation loss. On the other hand, there is an advantage that processing can be easily performed, for example, by punching a thin plate.

【0063】(3)は波状断面を有するもので気液接触
面積を大きくとれる利点がある。
(3) has a wavy cross section, and has an advantage that a gas-liquid contact area can be increased.

【0064】(4)は翼状断面を有するものであり、ガ
スの整流効果が高く、空塔部での通風損失が最も低く、
高ガス流速の装置に適している。
(4) has a wing-shaped cross section, has a high gas rectification effect, has the lowest ventilation loss in the air column,
Suitable for equipment with high gas flow rate.

【0065】上記のスクリーン材の各断面形状に関し、
それぞれの先端部の半径は小径であるほど付着した液滴
が再飛散する際の液滴径が小さくなり、気液接触が良好
となる効果が現れる。
Regarding each cross-sectional shape of the above-mentioned screen material,
The smaller the radius of each tip is, the smaller the diameter of the droplet when the attached droplet re-scatters, and the effect of improving the gas-liquid contact appears.

【0066】図7は、上記した点を考慮して構成したス
クリーン体11の具体構成であり、以下の寸法を持つ全
体的な形状は断面が円形のスクリーン材12を平行に配
置し、端部を外枠14で囲んだパネル13を1つの単位
としている。
FIG. 7 shows a specific structure of the screen body 11 constructed in consideration of the above points. The overall shape having the following dimensions is such that a screen material 12 having a circular cross section is arranged in parallel, Are enclosed by an outer frame 14 as one unit.

【0067】開口率:80%(1パネルあたり) 隣接するスクリーン材同士の間隔(スパン):12mm スクリーン材の幅(ガス流れに直交する方向の長さ):
3mm 図8はスプレヘッダ7の複数のスプレノズル8からの吸
収液散布方向に前記のスクリーン体11を複数段設けた
気液接触装置の概要を示している。
Opening ratio: 80% (per panel) Interval between adjacent screen materials (span): 12 mm Width of screen material (length in the direction perpendicular to gas flow):
3 mm FIG. 8 shows an outline of a gas-liquid contact device in which the screen body 11 is provided in a plurality of stages in the direction of spraying the absorbing liquid from the plurality of spray nozzles 8 of the spray header 7.

【0068】スクリーン体11の各段は、前記のパネル
13を支持梁(ビーム)平面上に並べたものである。従
って、スクリーン体11の各段の開口率は支持梁(ビー
ム)の分を差し引く必要がある。
Each stage of the screen body 11 has the above-mentioned panels 13 arranged on a support beam (beam) plane. Therefore, the aperture ratio of each step of the screen body 11 needs to subtract the amount of the support beam.

【0069】なお、各スクリーン体11を図7に示す互
いに平行に配置した線状体からなるもので構成した場合
は、各スクリーン体11の各段をスプレノズル8側から
みたそれぞれのスクリーン材の各配列は、図9に示すよ
うに、例えば3段にすれば60°の角度で線状体が互い
に交差するような位置に配置にするのが望ましい。
When each screen body 11 is formed of a linear body arranged in parallel to each other as shown in FIG. 7, each stage of each screen body 11 is formed of a screen material viewed from the spray nozzle 8 side. As shown in FIG. 9, for example, the arrangement is desirably arranged at such a position that the linear bodies intersect each other at an angle of 60 ° in three stages.

【0070】スクリーン段の間隔:ピッチは、500m
mである。以下、上記スクリーン体11を各々の吸収塔
に適用した場合の例について述べる。
Screen step interval: pitch is 500 m
m. Hereinafter, an example in which the screen body 11 is applied to each absorption tower will be described.

【0071】図1に示す本発明の実施の形態の気液接触
装置ではスクリーン体11が、整流作用を発揮する。排
ガス1が上昇し、スクリーン体11を通過するにつれガ
ス流れが均一化していく。吸収液5(石灰石ー石膏スラ
リ)は循環タンク4から循環ポンプ6を用いてスプレヘ
ッダ7に汲み上げられ、スプレヘッダ7に取り付けられ
た多数のスプレノズル8から排ガス1に向けて噴霧さ
れ、吸収液と上昇する排ガス1が向流接触することによ
り排ガス1中の硫黄酸化物が吸収液に吸収・除去され
る。
In the gas-liquid contact device according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, the screen body 11 exerts a rectifying action. As the exhaust gas 1 rises and passes through the screen body 11, the gas flow becomes uniform. The absorption liquid 5 (limestone-gypsum slurry) is pumped from the circulation tank 4 to the spray header 7 by using the circulation pump 6, is sprayed toward the exhaust gas 1 from a number of spray nozzles 8 attached to the spray header 7, and rises with the absorption liquid. When the exhaust gas 1 comes into countercurrent contact, sulfur oxides in the exhaust gas 1 are absorbed and removed by the absorbing liquid.

【0072】ここで、従来技術では、多孔板15(図1
2)に到達するまで、スプレヘッダ7またはスプレノズ
ル8以外に、衝突により、吸収液滴の更新をするものは
ないが、本発明では各気液接触装置のスプレノズル8か
ら吸収液がスクリーン体11に向けて噴霧されるので吸
収液滴が更新され気液接触効率が高まる。このように、
図1に示す装置では、入口ダクト2から導入された排ガ
ス1の流れを整流させると同時に、吸収液滴をスクリー
ン体11に衝突・更新させ気液接触を行うようにしてい
るのである。
Here, in the prior art, the perforated plate 15 (FIG. 1)
Until the process reaches 2), there is nothing other than the spray header 7 or the spray nozzle 8 to renew the absorbing droplets by collision, but in the present invention, the absorbing liquid is directed to the screen body 11 from the spray nozzle 8 of each gas-liquid contact device. As the liquid is sprayed, the absorbing droplets are renewed, and the gas-liquid contact efficiency is increased. in this way,
In the apparatus shown in FIG. 1, the flow of the exhaust gas 1 introduced from the inlet duct 2 is rectified, and at the same time, the absorbing liquid droplets collide with the screen body 11 and are renewed to perform gas-liquid contact.

【0073】図2に示す実施の形態は、吸収塔内部が仕
切られて、ガス流れが反転する吸収塔へ前記のホールド
アップが発生しない条件を満たすスクリーン体11を挿
入したものである。
In the embodiment shown in FIG. 2, a screen body 11 which satisfies the above-mentioned condition in which the hold-up does not occur is inserted into the absorption tower where the inside of the absorption tower is partitioned and the gas flow is reversed.

【0074】吸収塔内で高速のガス流れを反転させる
と、ガス流れが不均一になり、気液接触が不良と成りや
すいが、本実施の形態のようにスクリーン体11を設置
して、整流することにより、気液接触を良好なものとす
ることができる。
When the high-speed gas flow is reversed in the absorption tower, the gas flow becomes non-uniform and the gas-liquid contact is likely to be poor. By doing so, good gas-liquid contact can be achieved.

【0075】図2に示す例ではスプレノズル8は排ガス
入口側ではスプレノズル8からの噴霧吸収液が排ガスと
並流となるように配置し、また排ガス出口側では噴霧吸
収液が排ガスと並流となるように配置しているが、排ガ
ス流速、スクリーン体11の寸法などにより、排ガス入
口側又は排ガス出口側で、前記向流または並流のいずれ
かの向きにするかを決めれば良い。スプレノズル8の向
きを噴霧吸収液が排ガスと並流となるように配置する
と、向流配置の場合に比較して、ホールドアップは生じ
にくくなるので、その点を考慮して適切な配置様態を決
めることが肝要である。
In the example shown in FIG. 2, the spray nozzle 8 is arranged so that the spray absorbing liquid from the spray nozzle 8 is in parallel with the exhaust gas on the exhaust gas inlet side, and the spray absorbing liquid is in parallel with the exhaust gas on the exhaust gas outlet side. However, depending on the flow rate of the exhaust gas, the size of the screen body 11, and the like, the direction of the countercurrent or the parallel flow may be determined on the exhaust gas inlet side or the exhaust gas outlet side. If the spray nozzle 8 is arranged so that the spray absorption liquid is in parallel with the exhaust gas, hold-up is less likely to occur than in the case of the counter-current arrangement. Therefore, an appropriate arrangement is determined in consideration of this point. It is important.

【0076】なお、高ガス流速化に伴い、吸収塔内容積
が小さくなる一方、吸収液を散布する密度は大きくなる
ので、吸収塔内に設置するスプレヘッダ7やスプレノズ
ル8の通風抵抗も低ガス流速の場合に比べ、相対的に大
きなものとなる。そのため図11に示すようにスプレヘ
ッダ7およびスプレノズル8の一部または全部を吸収塔
外へ配置し、スプレノズル8の噴霧口を吸収塔内に臨ま
せる構成にすると、ガス流速が高速化しても、スプレヘ
ッダ7およびスプレノズル8がガス流れの抵抗体となる
ことを防止することができる。
As the gas flow rate increases, the internal volume of the absorption tower decreases, while the density at which the absorbent is sprayed increases. Therefore, the ventilation resistance of the spray header 7 and the spray nozzle 8 installed in the absorption tower also decreases. Is relatively large compared to the case of Therefore, as shown in FIG. 11, a part or all of the spray header 7 and the spray nozzle 8 are arranged outside the absorption tower, and the spray nozzle of the spray nozzle 8 is made to face the inside of the absorption tower. 7 and the spray nozzle 8 can be prevented from becoming a gas flow resistor.

【0077】[0077]

【発明の効果】本発明は、以上のような構成であること
から、高ガス流速化と通風損失の増大の抑制という課題
を同時に解決し、また、所定の気液接触効率を達成する
よう構成しながら、ホールドアップが生じることのない
気液接触装置を提供することができる。
According to the present invention having the above-described structure, it is possible to simultaneously solve the problems of increasing the gas flow rate and suppressing an increase in ventilation loss, and to achieve a predetermined gas-liquid contact efficiency. Meanwhile, it is possible to provide a gas-liquid contact device that does not cause hold-up.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態の吸収塔の概略を示す。FIG. 1 schematically shows an absorption tower according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態の吸収塔の構成を示す。FIG. 2 shows a configuration of an absorption tower according to an embodiment of the present invention.

【図3】 実験的に求められた吸収塔設置多孔板及びス
クリーンの段数と脱硫率の関係を示す。
FIG. 3 shows the relationship between the number of perforated plates and screens installed in an absorption tower and the desulfurization rate obtained experimentally.

【図4】 ガス流速並びにL/G(液ガス比)と通風損
失の関係を示す。
FIG. 4 shows a relationship between a gas flow velocity, L / G (liquid / gas ratio), and ventilation loss.

【図5】 一定のL/G条件における挿入物の種類と通
風損失との関係を示す。
FIG. 5 shows the relationship between the type of insert and ventilation loss under certain L / G conditions.

【図6】 本発明の構成部品であるスクリーンの材の断
面形状の実施例を示す。
FIG. 6 shows an embodiment of a cross-sectional shape of a screen material which is a component of the present invention.

【図7】 本発明になるスクリーン体(パネル)の構成
を示す。
FIG. 7 shows a configuration of a screen body (panel) according to the present invention.

【図8】 本発明になる気液接触装置の構成を示す。FIG. 8 shows a configuration of a gas-liquid contact device according to the present invention.

【図9】 本発明になる3段の線状体からなるスクリー
ン体を上か見た構成を示す。
FIG. 9 shows a configuration of a screen body made of a three-stage linear body according to the present invention as viewed from above.

【図10】 本発明になる網状体からなるスクリーン体
の構成を示す。
FIG. 10 shows a configuration of a screen body made of a mesh body according to the present invention.

【図11】 本発明の実施の形態の吸収塔の概略を示
す。
FIG. 11 schematically shows an absorption tower according to an embodiment of the present invention.

【図12】 従来技術による吸収塔の構成の一例を示
す。
FIG. 12 shows an example of a configuration of an absorption tower according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 未処理排ガス 2 入口ダクト 3 吸収塔 4 循環タンク 5 吸収液 6 循環ポンプ 7 スプレヘッダ 8 スプレノズル 9 処理排ガス 10 出口ダクト 11 スクリーン体 12 スクリーン材 13 パネル 14 外枠 15 多孔板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Untreated waste gas 2 Inlet duct 3 Absorption tower 4 Circulation tank 5 Absorbing liquid 6 Circulation pump 7 Spray header 8 Spray nozzle 9 Treated exhaust gas 10 Outlet duct 11 Screen body 12 Screen material 13 Panel 14 Outer frame 15 Perforated plate

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年6月23日(1999.6.2
3)
[Submission date] June 23, 1999 (1999.6.2
3)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図1[Correction target item name] Fig. 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図1】 FIG.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図2[Correction target item name] Fig. 2

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図2】 FIG. 2

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図11[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図11】 FIG. 11

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図12[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図12】 FIG.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉川 博文 広島県呉市宝町3番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内 (72)発明者 高本 成仁 広島県呉市宝町3番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内 Fターム(参考) 4D002 AA02 AC01 BA02 CA01 CA20 DA05 DA16 EA03 FA03 GA01 GB01 GB06 GB20 HA03 4D020 AA06 BA02 BA09 BB05 BC06 CB24 CB25 CB27 CC04 CC07 DA03 DB13  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Hirofumi Yoshikawa 3-36 Takara-cho, Kure-shi, Hiroshima Babcock-Hitachi Inside Kure Research Laboratory (72) Inventor Narito Takamoto 3-36 Takara-cho, Kure-shi, Hiroshima Babcock-Hitachi Stock F-term in the Kure Research Laboratories (reference) 4D002 AA02 AC01 BA02 CA01 CA20 DA05 DA16 EA03 FA03 GA01 GB01 GB06 GB20 HA03 4D020 AA06 BA02 BA09 BB05 BC06 CB24 CB25 CB27 CC04 CC07 DA03 DB13

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の成分を含む混合ガスが流れるガス
流路に、少なくとも1段のスプレノズルから混合ガスに
ガス吸収液を噴霧し、前記混合ガス中の特定成分を吸収
液に吸収させる気液接触領域を設け、かつ、最大負荷状
態における前記気液接触領域でのガス流速が5m/s以
上で、液/ガス比(kg/Nm)が10以上である高
ガス流速・高液密度で運転する気液接触装置において、 前記気液接触領域には、スプレノズルからの吸収液噴霧
方向に前記混合ガス流れと対向して配置される複数のス
クリーン体を設け、気液接触領域は、前記複数のスクリ
ーン体のいずれのスクリーン体上にも実質的に吸収液の
ホールドアップを生じない構成としたことを特徴とする
気液接触装置。
A gas-liquid for spraying a gas absorbing liquid onto a mixed gas from at least one stage spray nozzle into a gas flow path through which a mixed gas containing a plurality of components flows, and absorbing a specific component in the mixed gas into the absorbing liquid. A contact area is provided, and a gas flow rate in the gas-liquid contact area in a maximum load state is 5 m / s or more, and a liquid / gas ratio (kg / Nm 3 ) is 10 or more. In the gas-liquid contacting device to be operated, the gas-liquid contact region is provided with a plurality of screens arranged in the spraying direction of the absorbing liquid from the spray nozzle so as to face the mixed gas flow. A gas-liquid contact device, wherein substantially no hold-up of the absorbing liquid occurs on any of the screen members.
【請求項2】 混合ガス流路の途中からガス流れの方向
を排ガス導入側のガス流路でのガス流れ方向とは反転さ
せたガス流路とし、それぞれのガス流路に前記気液接触
領域を設けたことを特徴とする請求項1記載の気液接触
装置。
2. A gas flow path in which the direction of gas flow is reversed from the gas flow direction in the gas flow path on the exhaust gas introduction side from the middle of the mixed gas flow path, and the gas-liquid contact area is provided in each gas flow path. The gas-liquid contact device according to claim 1, further comprising:
【請求項3】 前記気液接触領域に設けた複数のスクリ
ーン体は、一以上のスクリーン体と一つのスプレノズル
との組み合わせからなる一つのユニットを同一の混合ガ
スの流れ方向に対して直列に複数収納した構成からなる
ことを特徴とする請求項1または2記載の気液接触装
置。
3. A plurality of screens provided in the gas-liquid contact region, wherein one unit composed of a combination of at least one screen and one spray nozzle is connected in series in the flow direction of the same mixed gas. The gas-liquid contact device according to claim 1, wherein the gas-liquid contact device is configured to be housed.
【請求項4】 各スクリーン体の開口率が50%以上と
することで、前記いずれのスクリーン体上にも実質的に
吸収液のホールドアップを生じない構成とすることを特
徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の気液接触
装置。
4. A structure wherein substantially no hold-up of the absorbing liquid occurs on any of the screen bodies by setting the aperture ratio of each screen body to 50% or more. 4. The gas-liquid contact device according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 ガス流路を構成する壁面の外側にスプレ
ヘッダ及びスプレノズルの一部または全部を配置し、ガ
ス流路を構成する壁面の内側にスプレノズルの噴霧口を
設けたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに
記載の気液接触装置。
5. A spray nozzle of a spray nozzle, wherein a part or all of a spray header and a spray nozzle are arranged outside a wall constituting a gas flow path, and a spray nozzle of the spray nozzle is provided inside a wall constituting a gas flow path. Item 5. The gas-liquid contact device according to any one of Items 1 to 4.
【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかに記載の気
液接触装置が、石灰石含有スラリからなる吸収液を噴霧
することにより混合ガス中に含まれる硫黄酸化物を吸収
除去する吸収塔であることを特徴とする湿式排煙脱硫装
置。
6. A gas-liquid contact device according to any one of claims 1 to 5, wherein the gas-liquid contact device is an absorption tower that absorbs and removes a sulfur oxide contained in a mixed gas by spraying an absorbent solution comprising a limestone-containing slurry. A wet-type flue gas desulfurization device.
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