JP2000340106A - Manufacture of substrate for plasma display panel and forming die used therefor - Google Patents

Manufacture of substrate for plasma display panel and forming die used therefor

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JP2000340106A
JP2000340106A JP25931899A JP25931899A JP2000340106A JP 2000340106 A JP2000340106 A JP 2000340106A JP 25931899 A JP25931899 A JP 25931899A JP 25931899 A JP25931899 A JP 25931899A JP 2000340106 A JP2000340106 A JP 2000340106A
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JP
Japan
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mold
rib
substrate
wavelength
precursor composition
Prior art date
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Ceased
Application number
JP25931899A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuji Yokoyama
周史 横山
Takanori Sugimoto
崇紀 杉元
Akira Hida
彰 陽田
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3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a substrate for a PDP and a forming die therefor, allowing the forming die to be repeatedly used while preventing a base body and ribs from being damaged, and further to provide a manufacturing method of the substrate for a PDP dispensing with a removal process of a rib molding or precursor in peripheral parts of the base body. SOLUTION: This manufacturing method for a plasma display panel substrate installs ribs on a base body. A rib precursor, including a first photo-curing initiator with a first absorption edge and a first photo-curing constituent, is stuck fast to the base body, and a second photo-curing constituent is photo-cured in the existence of a second photo-curing initiator with a second adsorption edge of a wavelength shorter than the wavelength corresponding to the first absorption edge of the first photo-curing initiator. A forming die so obtained is filled with the rib precursor, the rib precursor is cured by being irradiated with light of a wavelength shorter than the wavelength corresponding to the second absorption edge, and the forming die is removed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(以下、単に「PDP」とも呼ぶ)用基板の
製造方法およびそれに用いる成形型に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a substrate for a plasma display panel (hereinafter, also simply referred to as "PDP") and a mold used therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄型の大画面表示装置としてPDPが期
待されている。一般に、PDPはいわゆるPDP用基板
を備えている。典型的なPDP用基板は、一対のガラス
平板が所定の寸法を備えたリブ(バリアリブ、隔壁又は
障壁ともいう)を介して離隔対向して構成されている。
この場合、そのようなリブは一対のガラス平板の間の空
間を気密に仕切って、ネオン、ヘリウム又はキセノンの
ような放電ガスを収容できるための複数の放電表示セル
を画成している。
2. Description of the Related Art PDPs are expected as thin large-screen display devices. Generally, a PDP includes a so-called PDP substrate. In a typical PDP substrate, a pair of glass flat plates are configured to face each other via a rib having a predetermined dimension (also referred to as a barrier rib, a partition, or a barrier).
In this case, such ribs hermetically partition the space between the pair of glass plates to define a plurality of discharge display cells for accommodating a discharge gas such as neon, helium or xenon.

【0003】リブの作製及び配設は種々提案されている
けれども、例えば成形型を用いる方法が知られている。
一般に、この方法によれば、成形型に充填した液状の成
形物が熱的又は光学的な作用により、平板状の基体に転
写可能なリブの成形体に転換される。また、成形型がリ
ブから取り除かれると同時に、リブの作製及び配設が比
較的高い精度でもってほぼ連続的に行われうる。
Various methods have been proposed for producing and arranging ribs. For example, a method using a molding die is known.
In general, according to this method, a liquid molded product filled in a molding die is converted into a rib molded product that can be transferred to a flat substrate by a thermal or optical action. Also, at the same time that the mold is removed from the ribs, the production and placement of the ribs can be performed substantially continuously with relatively high accuracy.

【0004】一般的なPDP用基板では、ガラス若しく
はセラミックからなる基体及びリブが用いられている。
他方、典型的なPDP用基板のための成形型は、例えば
特開平9−12336号公報に開示されているように金
属又はガラス若しくはセラミックからなっている。した
がって、基体及びリブはかかる成形型と同等若しくはそ
れ以下の硬度を有することとなり、その結果、成形型が
リブから取り除かれるときには、基体又はリブの破損を
引き起こしたり、或いは成形型自身の破損をしたりする
おそれがある。このような破損は、特開平9−2830
17号公報に開示されているようにガラス、セラミック
又は金属製の成形型を用いて押圧してリブを成形すると
きに著しい。成形型は量産のために繰り返して使用され
る。破損したリブを成形型に残存させたままにすること
は好ましくない。リブの作製の毎に成形型の洗浄が必要
とされ、生産性を低下させるからである。
In a general PDP substrate, a base or rib made of glass or ceramic is used.
On the other hand, a typical mold for a PDP substrate is made of metal, glass or ceramic as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-12336, for example. Therefore, the base and the rib have a hardness equal to or less than that of the mold, and as a result, when the mold is removed from the rib, the base or the rib may be damaged, or the mold itself may be damaged. Or Such damage is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-2830.
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 17-174, it is remarkable when a rib is formed by pressing using a mold made of glass, ceramic or metal. The mold is used repeatedly for mass production. It is not preferable to leave broken ribs in the mold. This is because the mold needs to be cleaned every time the ribs are manufactured, which reduces productivity.

【0005】特開平9−134676号公報には、ガラ
ス若しくはセラミックよりも低い硬度をもったシリコー
ン樹脂からなる成形型を使用することも開示されてい
る。しかし、シリコーン樹脂は一般にもろい。したがっ
て、シリコーン樹脂からなる成形型を量産のために繰り
返して使用することは期待できない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-134676 also discloses the use of a mold made of a silicone resin having a lower hardness than glass or ceramic. However, silicone resins are generally brittle. Therefore, it cannot be expected that a mold made of a silicone resin will be repeatedly used for mass production.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、基体又はリブの破損を回避して、成形型を繰り返し
使用することができるPDP用基板の製造方法、及び、
それに用いる成形型を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a PDP substrate in which a mold can be repeatedly used while avoiding breakage of a substrate or a rib, and
An object of the present invention is to provide a molding die for use in the method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明によると、第一の
吸収端をもった第一光硬化開始剤と第一光硬化性成分と
を含むリブ前駆体組成物を基体に密着させる工程、前記
第一光硬化開始剤の前記第一の吸収端に対応する波長よ
りも短い波長の第二の吸収端をもった第二光硬化開始剤
の存在下において第二光硬化性成分を光硬化させること
により得られた成形型に、前記リブ前駆体組成物を充填
する工程、前記リブ前駆体組成物に対して、前記第二の
吸収端に対応する波長より長い波長の光を照射して、前
記リブ前駆体組成物を硬化させ、基体上にリブを形成さ
せる工程、及び、得られるリブを形成した基体リブから
前記成形型を取り除く工程、を含むことを特徴とする、
プラズマディスプレイパネル用基板の製造方法が提供さ
れる。なお、リブ前駆体組成物を基体に密着させる工程
と、リブ前駆体組成物を充填する工程はどちらを先に行
ってもよい。即ち、成形型にリブ前駆体組成物を成形型
に充填し、その後に、それらを基体に密着させてもよ
い。
According to the present invention, a step of adhering a rib precursor composition containing a first photocurable initiator having a first absorption edge and a first photocurable component to a substrate, Photocuring the second photocurable component in the presence of a second photocuring initiator having a second absorption edge with a shorter wavelength than the wavelength corresponding to the first absorption edge of the first photocuring initiator A step of filling the rib precursor composition into the molding die obtained by allowing the rib precursor composition to be irradiated with light having a wavelength longer than the wavelength corresponding to the second absorption edge. Curing the rib precursor composition to form a rib on a substrate, and removing the mold from the resulting rib-formed substrate rib.
A method for manufacturing a substrate for a plasma display panel is provided. Either the step of bringing the rib precursor composition into close contact with the substrate or the step of filling the rib precursor composition may be performed first. That is, the rib precursor composition may be filled in the mold, and thereafter, they may be brought into close contact with the substrate.

【0008】また、本発明によると、基体と、前記基体
上に設けられた第一の吸収端をもった第一光硬化開始剤
と第一光硬化性成分とを含むリブ前駆体組成物から形成
されたリブとを備えるプラズマディスプレイパネル用基
板のための成形型であって、前記成形型が前記第一光硬
化開始剤の前記第一の吸収端に対応する波長よりも短い
波長の第二の吸収端をもった第二光硬化開始剤の存在下
において、第二光硬化性成分を光硬化させることにより
得られたことを特徴とする成形型が提供される。
According to the present invention, there is provided a rib precursor composition comprising a substrate, a first photocuring initiator having a first absorption end provided on the substrate, and a first photocurable component. A mold for a plasma display panel substrate comprising: a formed rib, wherein the mold has a shorter wavelength than a wavelength corresponding to the first absorption edge of the first photocuring initiator. A mold obtained by photo-curing the second photo-curable component in the presence of a second photo-curing initiator having an absorption edge of

【0009】さらに、上記の方法において、第二の吸収
端に対応する波長よりも短い波長の光を、基体の周縁部
において成形型に充填されたリブ前駆体組成物に照射し
て、前記リブ前駆体組成物を硬化させる工程をさらに含
む、製造方法が提供される。このような方法によると、
下記において詳細に説明されるように、成形型中の未反
応の第二硬化性成分とリブ前駆体組成物中の第一硬化性
成分との光硬化反応によってリブ成形体が成形型と固着
し、それにより、成形型を取り除く工程において、基体
の周縁部のリブ成形体が成形型と一体になって除去され
るので、基体の周縁部におけるリブ成形体の除去工程を
必要としない。
Further, in the above method, light having a wavelength shorter than the wavelength corresponding to the second absorption edge is irradiated to the rib precursor composition filled in the mold at the peripheral portion of the base, and the rib precursor is irradiated with the light. A manufacturing method is provided, further comprising a step of curing the precursor composition. According to such a method,
As described in detail below, the rib molded body is fixed to the mold by a light curing reaction between the unreacted second curable component in the mold and the first curable component in the rib precursor composition. Thus, in the step of removing the forming die, the rib forming body at the peripheral edge of the base is removed integrally with the forming die, so that the step of removing the rib forming body at the peripheral part of the base is not required.

【0010】本明細書中において用いる用語「吸収端」
とは、光の連続吸収スペクトルにおいて、波長がこれ以
上長くなると吸収率が急激に減少し、実質的に透明に変
化する波長部分である。
As used herein, the term “absorption edge”
Is a wavelength portion in a continuous absorption spectrum of light, in which the absorptance decreases sharply as the wavelength becomes longer, and changes to substantially transparent.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施形態にしたが
って説明するが、本発明はこれに限定されないことは当
業者ならば容易に想到される。また、図面中、同一又は
相当の部分には同一の符号を付することとする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in accordance with embodiments, but it is easily understood by those skilled in the art that the present invention is not limited thereto. In the drawings, the same or corresponding portions are denoted by the same reference numerals.

【0012】図1の部分分解斜視図には、本発明のPD
P用基板の一実施形態が概略的に示されている。図示の
PDP用基板10はいわゆる交流方式のPDPに用いら
れるが、これに限定されず、直流方式のPDP用基板に
も適用できる。PDP用基板10は好適には入手の容易
なソーダライムガラスからなる離隔対向した透明な平板
すなわち背面板12及び前面板14を備えている。背面
板12と前面板14との間には、所定の寸法を備えたリ
ブ16が複数配設されてそれらの間の空間を仕切り、複
数の放電表示セル18を画成することができるようにな
っている。
FIG. 1 is a partially exploded perspective view showing a PD of the present invention.
One embodiment of a P substrate is schematically illustrated. The illustrated PDP substrate 10 is used for a so-called AC type PDP, but is not limited to this, and can be applied to a DC type PDP substrate. The PDP substrate 10 is provided with transparent and opposed flat plates, preferably made of soda lime glass, which are easily available. A plurality of ribs 16 having a predetermined size are provided between the back plate 12 and the front plate 14 so as to partition a space between them so that a plurality of discharge display cells 18 can be defined. Has become.

【0013】図示のリブ16は、感光性ペースト(リブ
前駆体組成物)32から形成される。望ましい感光性ペ
ーストは、バインダ成分としての第一光硬化性成分、第
一の吸収端をもった光硬化開始剤、セラミック粉体、及
び必要に応じてガラス粉体を含む。セラミック粉体はリ
ブに一定の形状を与えるためのものであって、好適には
高い強度を有するアルミナ、シリカ、チタニア又はウォ
ールナイト(ウォーラストナイト)からなっている。
The illustrated ribs 16 are formed from a photosensitive paste (rib precursor composition) 32. Desirable photosensitive pastes include a first photocurable component as a binder component, a photocurable initiator having a first absorption edge, a ceramic powder, and optionally a glass powder. The ceramic powder is used to give a certain shape to the ribs, and is preferably made of alumina, silica, titania or walnite (wollastonite) having high strength.

【0014】第一光硬化性成分は第一の吸収端をもった
第一光硬化開始剤の存在下において光重合し、リブ16
の形状を維持することができる。第一光硬化性成分は特
に限定されないが、アクリル系樹脂が好ましい。アクリ
ル系の樹脂は例えば、アクリル系のモノマー若しくはオ
リゴマー又はメタクリル基をもったシランカップリング
剤から形成される。特に、アクリル系モノマーもしくは
オリゴマーとしては、HEMA(メタクリル酸ヒドロキ
シエチル)、HEA(アクリル酸ヒドロキシエチル)、
BisGMA(ビスフェノールAジグリシジルエーテル
メタクリル酸化物)、トリエチレングリコールジメタク
リラート等のモノマーもしくはオリゴマーが好適に用い
られる。
The first photocurable component is photopolymerized in the presence of a first photocuring initiator having a first absorption edge, and the ribs 16
Can be maintained. The first photocurable component is not particularly limited, but an acrylic resin is preferred. The acrylic resin is formed from, for example, an acrylic monomer or oligomer or a silane coupling agent having a methacryl group. In particular, as the acrylic monomer or oligomer, HEMA (hydroxyethyl methacrylate), HEA (hydroxyethyl acrylate),
Monomers or oligomers such as BisGMA (bisphenol A diglycidyl ether methacryl oxide) and triethylene glycol dimethacrylate are preferably used.

【0015】特に、第一光硬化性成分がメタクリル基を
もったシランカップリング剤からなるときは、メタクリ
ル基の光重合により網目構造が形成されて、セラミック
粉体の収容及び保持をすることができる。また、シラン
カップリング剤の第一光硬化性成分は焼成によって、高
い融点を有する高分子の二酸化珪素を生成する。シラン
カップリング剤によるこの網目構造は、焼成後にも二酸
化珪素によって比較的高温でも実質的に維持されて、セ
ラミック粉体またはガラス粉体の保持を行なうことがで
きる。かかるシランカップリング剤は入手容易性を考慮
して、232〜290の分子量を有しているγ−メタク
リロキシプロピルメチルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリエトキシシラン又はγ−メタク
リロキシプロピルメチルジエトキシシランであることが
好ましい。
In particular, when the first photocurable component is a silane coupling agent having a methacrylic group, a network structure is formed by photopolymerization of the methacrylic group, so that the ceramic powder can be accommodated and held. it can. In addition, the first photocurable component of the silane coupling agent generates high molecular weight silicon dioxide having a high melting point by firing. This network structure formed by the silane coupling agent is substantially maintained at a relatively high temperature by the silicon dioxide even after the sintering, so that the ceramic powder or the glass powder can be retained. Such a silane coupling agent is preferably γ-methacryloxypropylmethyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane having a molecular weight of 232 to 290 in consideration of availability. It is preferably silane or γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane.

【0016】ガラス粉体は、リブに緻密な構造を付与し
てその強度を高めるために用いられる。基本的に、ガラ
ス粉体は、二酸化珪素からなる網目構造とそれに囲まれ
たセラミックの粉体との間の小さな隙間を埋めるだけで
足りる。網目構造がない場合に、ガラス粉体がセラミッ
ク粉体間の大きな隙間を埋める必要はない。その結果、
ガラスの粉体は比較的少量でもってリブの強度を高める
ことができる。たとえガラスの粉体が高い質量吸収係数
をもった鉛を主に含んでいても、光硬化の速度に影響を
ほとんど与えない。また、高価な低融点ガラスからなる
ガラス粉体の使用も抑制されうる。基本的に、ガラス粉
体はリブ前駆体組成物の体積を基準に10〜70体積%
含まれている。好適にはガラス粉体は20〜50体積%
含まれてリブの強度をさらに高めている。
Glass powder is used to give a rib a dense structure to increase its strength. Basically, the glass powder need only fill the small gaps between the network of silicon dioxide and the ceramic powder surrounded by it. In the absence of a network structure, the glass powder does not need to fill large gaps between the ceramic powders. as a result,
A relatively small amount of glass powder can increase the strength of the rib. Even if the glass powder mainly contains lead having a high mass absorption coefficient, it hardly affects the photocuring speed. Further, the use of glass powder made of expensive low-melting glass can be suppressed. Basically, the glass powder is 10 to 70% by volume based on the volume of the rib precursor composition.
include. Preferably the glass powder is 20-50% by volume
Included to further increase the strength of the ribs.

【0017】さらに、この網目構造がガラス粉体と共に
熱を受けるときは、それを構成する二酸化珪素の融点に
達しない限り維持され、体積の変化を実質的に生じさせ
ない。仮に体積の変化があったとしてもわずかである。
Further, when the network structure receives heat together with the glass powder, the network structure is maintained as long as the melting point of the silicon dioxide constituting the network is not reached, and the volume does not substantially change. Even if there is a change in volume, it is slight.

【0018】前面板14又は背面板12が例えば550
℃の徐冷点をもったガラスからなる場合、ガラスの粉体
はそれよりも低い450〜550℃の軟化点を有してい
ることが望ましい。このような軟化点をもったガラス粉
体は、ガラスの前面板又は背面板と共に加熱されて流動
して隙間に入り込む場合でも、前面板14又は背面板1
2の熱的な変形を防止することができるからである。ガ
ラス粉体は上述の軟化点を有するよう、基本的には、ホ
ウ素、亜鉛、リン酸、鉛、チタン又はそれらの組み合わ
せを所定量含んでいる鉛ガラス、リン酸アルミガラス、
ホウ素チタンガラス、ビスマスガラス又は亜鉛ガラスか
らなっている。高い質量吸収係数を考慮することなくリ
ブ前駆体組成物の光硬化の時間の低減を図るためには、
ホウ素、亜鉛、リン酸又は若しくはチタン又はそれらの
組合せが含まれていることが好ましい。このとき、それ
らの各組成は特に限定されない。しかし、ガラス粉体は
第一硬化性成分の焼成温度よりも高い軟化点を有するこ
とが好ましい。このような軟化点のガラス粉体を用いる
と、焼成による第一硬化性成分の除去の前に、ガラス粉
体が溶解することがなく、従って、ガラス成分が第一硬
化性成分を取り囲むことにより、第一硬化性成分を残存
させるおそれを回避することができる。
The front plate 14 or the rear plate 12 is, for example, 550
When it is made of glass having a slow cooling point of ° C., it is desirable that the glass powder has a lower softening point of 450 to 550 ° C. The glass powder having such a softening point is heated together with the front plate or the back plate of the glass and flows into the gap, so that even if the powder enters the gap,
2 can be prevented from being thermally deformed. As the glass powder has the above softening point, basically, lead glass containing a predetermined amount of boron, zinc, phosphoric acid, lead, titanium or a combination thereof, aluminum phosphate glass,
It is made of boron titanium glass, bismuth glass or zinc glass. In order to reduce the photocuring time of the rib precursor composition without considering a high mass absorption coefficient,
Preferably, it contains boron, zinc, phosphoric acid or or titanium or a combination thereof. At this time, their respective compositions are not particularly limited. However, the glass powder preferably has a softening point higher than the firing temperature of the first curable component. When the glass powder having such a softening point is used, the glass powder does not dissolve before the removal of the first curable component by firing, so that the glass component surrounds the first curable component. Thus, the possibility that the first curable component remains can be avoided.

【0019】感光性ペースト32には、必要に応じて酸
化触媒が含まれてもよい。通常、酸化触媒はクロム(C
r)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(N
i)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)又は錫(Sn)、ル
テニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(A
g)、イリジウム(Ir)、プラチナ(Pt)、金(Au)又はセリウ
ム(Ce)の酸化物、塩又は錯体からなり、第一光硬化性成
分の焼成に必要なエネルギを低減することができる。詳
細に述べると、この焼成温度を約500〜550℃から
50〜90℃だけ減らして、プラズマ放電にとって好ま
しくないガス放出を引き起こす第一光硬化性成分を、比
較的低い温度でもってリブから完全に除去することがで
きる。特に、ガラス粉体が上述のように第一光硬化性成
分の焼成温度よりも高い軟化点を有することが必要とさ
れる場合には、酸化触媒の使用により焼成温度を下げる
ことによって、ガラス粉体に要求される最小軟化点が低
められて、その結果、ガラス成分の選択の幅も広がる。
The photosensitive paste 32 may contain an oxidation catalyst if necessary. Usually, the oxidation catalyst is chromium (C
r), manganese (Mn), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (N
i), copper (Cu), zinc (Zn), indium (In) or tin (Sn), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), palladium (Pd), silver (A
g), an oxide, salt or complex of iridium (Ir), platinum (Pt), gold (Au) or cerium (Ce), which can reduce the energy required for firing the first photocurable component. . Specifically, the firing temperature is reduced from about 500-550 ° C. by 50-90 ° C. so that the first photocurable component causing outgassing undesired for plasma discharge is completely removed from the ribs at relatively low temperatures. Can be removed. In particular, when it is required that the glass powder has a softening point higher than the firing temperature of the first photocurable component as described above, the firing temperature is lowered by using an oxidation catalyst, thereby reducing the glass powder. The required minimum softening point of the body is reduced, and consequently the choice of glass components is increased.

【0020】また、このような焼成温度の低減は、ガラ
ス平板の熱的変形(例えば反り、たわみ又は収縮)を効
果的に抑制することができる。例えば、5mm の幅と2.8m
m の厚さを有するガラス平板が容易に入手可能なソーダ
ライムガラスによって形成されている場合に、137g
の荷重を受けたときには、550℃及び500℃では2
5μm及び5μmだけそれぞれたわむのに対して、46
0℃ではほとんどたわまないことが知られている。ま
た、上記ガラス平板の等方的な熱収縮は、550℃,5
00℃及び460℃において、それぞれ400ppm,
225ppm及び125ppmとなることも知られてい
る。一方、旭硝子(株)からPD200という商品名で
市販されている高歪点ガラスによって上記ガラス平板が
形成された場合は、550℃,500℃及び460℃に
おいて、それぞれ200ppm,75ppm及び30p
pmだけ等方的に熱収縮をすることもよく知られてい
る。酸化触媒がない場合、第一光硬化性成分は少なくと
も約500℃以上の焼成温度で除去されうるけれども、
焼成温度が上述のように酸化触媒により50〜90℃だ
け減少したときには、かかるたわみ及び熱収縮が低減さ
れる。
Further, such a reduction in the firing temperature can effectively suppress the thermal deformation (for example, warping, bending or shrinkage) of the glass plate. For example, 5mm width and 2.8m
137 g when a glass slab having a thickness of m 2 is formed by readily available soda-lime glass.
At 550 ° C. and 500 ° C.
While bending by 5 μm and 5 μm respectively, 46
It is known that it hardly bends at 0 ° C. The isotropic thermal shrinkage of the glass plate is 550 ° C., 5 ° C.
At 00 ° C and 460 ° C, 400 ppm,
It is also known to be 225 ppm and 125 ppm. On the other hand, when the above-mentioned glass plate is formed of high strain point glass commercially available from Asahi Glass Co., Ltd. under the trade name PD200, at 200, 75 and 30 ppm at 550 ° C., 500 ° C. and 460 ° C., respectively.
It is also well known that heat contraction isotropically by pm. In the absence of an oxidation catalyst, the first photocurable component can be removed at a firing temperature of at least about 500 ° C. or higher,
When the calcination temperature is reduced by 50-90 ° C. by the oxidation catalyst as described above, such deflection and thermal shrinkage are reduced.

【0021】各放電表示セル18には、アドレス電極2
0がリブ16に沿って背面板12上に配設されており、
また、前面板上14にはリブ16と垂直に、インジウム
酸化錫(ITO)からなる透明なバス電極22が配設さ
れている。また、アドレス電極20とバス電極22との
間には、ネオン、ヘリウム又はキセノンのような放電ガ
スが収容されうるようになって、放電による発光を可能
にしている。各アドレス電極20上には、蛍光層24が
所定の順序で設けられて、カラー表示を可能にしてもよ
い。また、前面板14及びバス電極22上には、透明な
誘電体層26が備えられてバス電極22を被覆してお
り、バス電極22のスパッタリングの抑制によるPDP
の寿命の延長を図ってもよい。
Each discharge display cell 18 has an address electrode 2
0 is arranged on the back plate 12 along the rib 16,
A transparent bus electrode 22 made of indium tin oxide (ITO) is disposed on the front plate 14 perpendicular to the rib 16. Further, a discharge gas such as neon, helium, or xenon can be accommodated between the address electrode 20 and the bus electrode 22 to enable light emission by discharge. A fluorescent layer 24 may be provided on each address electrode 20 in a predetermined order to enable color display. Further, a transparent dielectric layer 26 is provided on the front plate 14 and the bus electrode 22 to cover the bus electrode 22, and the PDP is formed by suppressing sputtering of the bus electrode 22.
May be extended.

【0022】つぎに、図2に示されるPDP用基板の作
製の工程断面図を参照して、リブの形成及び設置を詳細
に説明する。
Next, the formation and installation of the ribs will be described in detail with reference to the cross-sectional views of the steps of manufacturing the PDP substrate shown in FIG.

【0023】まず、リブの形状に対応した凹部28を有
する成形型30を用意する(図2(A)参照)。図示さ
れないが、凹部28は台形の断面を有していてもよい。
また、図示されないが離型剤を凹部の表面に塗布して成
形型に離型性を付与してもよい。
First, a mold 30 having a concave portion 28 corresponding to the shape of a rib is prepared (see FIG. 2A). Although not shown, the concave portion 28 may have a trapezoidal cross section.
Although not shown, a release agent may be applied to the surface of the concave portion to impart release properties to the mold.

【0024】この成形型30は、第二の吸収端をもった
第二光硬化開始剤の存在下において、第二光硬化性成分
を光硬化させて得ることができる。第二光硬化性成分と
して、アクリル系のモノマー若しくはオリゴマーを用い
ることができる。特に、アクリル系のモノマー若しくは
オリゴマーとしてはヘンケル社から「フォトマー601
0」の商品名で市販されている脂肪族ウレタンアクリレ
ート、例えば新中村化学から市販されている1,6ヘキ
サンジオール・ジアクリレートが好適に用いられる。成
形型は光重合により成形されるので、成形型30の作製
ごとに切削加工を行う必要がない。また、光重合は比較
的迅速に進行するので、成形型30は短時間で容易に得
ることができる。
The molding die 30 can be obtained by photo-curing the second photo-curable component in the presence of a second photo-curing initiator having a second absorption edge. An acrylic monomer or oligomer can be used as the second photocurable component. In particular, as the acrylic monomer or oligomer, Henkel's “Photomer 601”
An aliphatic urethane acrylate commercially available under the trade name of "0", for example, 1,6 hexanediol diacrylate commercially available from Shin-Nakamura Chemical is suitably used. Since the molding die is molded by photopolymerization, it is not necessary to perform a cutting process each time the molding die 30 is manufactured. In addition, since photopolymerization proceeds relatively quickly, the mold 30 can be easily obtained in a short time.

【0025】また、このような成形型30は、一般的な
ガラス若しくはセラミックよりも低い硬度を有してお
り、成形型を基板から取り外す際にリブ及び基体の破損
を回避することができる。その結果、成形型が洗浄され
ることなく繰り返し使用されるようになる。
Further, such a mold 30 has a lower hardness than general glass or ceramics, and can prevent breakage of the ribs and the base when the mold is removed from the substrate. As a result, the mold is repeatedly used without being washed.

【0026】第二光硬化性成分の光重合は、上記の通
り、第一光硬化開始剤の第一の吸収端に対応する波長よ
りも短い波長の第二の吸収端をもった第二光硬化開始剤
の存在下で行う。このような第二光硬化開始剤は、第二
の吸収端に対応する波長よりも長い波長の光を吸収する
ことはできない。それに対して、第一光硬化開始剤はか
かる光を吸収することができる。その結果、第二の吸収
端に対応する波長よりも長い波長の光によりリブ前駆体
組成物を硬化させるときに、たとえ成形型30に未反応
の第二光硬化性成分が残存していたとしても、第一光硬
化性成分のみが光重合して硬化し、第二光硬化性成分が
同時にさらに光重合することを回避できる。好ましい光
硬化開始剤は、アミノケトン(400〜430nm)、ビスアシル
フォスフィンオキサイド(440nm) 、カンファキノン(500
nm) 、メタロセンヒドロキシケトン(500nm) 、ベンジル
ジメチルケタール(380nm) であり、それらはチバガイギ
ー社からイルガキュア2959(370nm) 、イルガキュア
184(380nm) 、ダロキュア1173(380nm) 、イルガ
キュア500(380nm) 、イルガキュア1000(380nm)
、イルガキュア651(390nm) 、イルガキュア907
(400nm) 、イルガキュア149(420nm) 、イルガキュア
1700(440nm) 、イルガキュア1850(440nm) 、イ
ルガキュア819(450nm) 、イルガキュア369(480n
m) 、イルガキュア784(500nm) という商品名で市販
されている。本発明に従えば、第一光硬化開始剤及び第
二光硬化開始剤の決定は、上記で例示した吸収端の異な
る2種の光硬化開始剤を適切に選択してなされる。例え
ば、第一光硬化開始剤及び第二硬化光開始剤の組み合わ
せとしては、380nm の波長に対応する吸収端を有するダ
ロキュア1173及び 440〜450nm の波長に対応する吸
収端を有するイルガキュア819、イルガキュア170
0及びイルガキュア1850等が挙げられる。
As described above, the photopolymerization of the second photocurable component is carried out by the second light having a second absorption edge having a shorter wavelength than the wavelength corresponding to the first absorption edge of the first photocuring initiator. Performed in the presence of a curing initiator. Such a second photocuring initiator cannot absorb light having a wavelength longer than the wavelength corresponding to the second absorption edge. In contrast, the first photo-curing initiator can absorb such light. As a result, when the rib precursor composition is cured with light having a wavelength longer than the wavelength corresponding to the second absorption edge, even if the unreacted second photocurable component remains in the mold 30. Also, it can be avoided that only the first photocurable component is photopolymerized and cured, and the second photocurable component is further photopolymerized at the same time. Preferred photocuring initiators are aminoketone (400 to 430 nm), bisacylphosphine oxide (440 nm), camphorquinone (500
nm), metallocene hydroxyketone (500 nm) and benzyl dimethyl ketal (380 nm), which are available from Ciba-Geigy, Inc. (380nm)
, Irgacure 651 (390 nm), Irgacure 907
(400 nm), Irgacure 149 (420 nm), Irgacure 1700 (440 nm), Irgacure 1850 (440 nm), Irgacure 819 (450 nm), Irgacure 369 (480 n
m) and Irgacure 784 (500 nm). According to the present invention, the determination of the first photo-curing initiator and the second photo-curing initiator is performed by appropriately selecting two types of photo-curing initiators having different absorption edges as exemplified above. For example, the combination of the first photo-curing initiator and the second curing photo-initiator includes Darocure 1173 having an absorption edge corresponding to a wavelength of 380 nm, Irgacure 819 having an absorption edge corresponding to a wavelength of 440 to 450 nm, and Irgacure 170.
0 and Irgacure 1850.

【0027】つぎに、感光性ペースト32を凹部28に
充填しながら、成形型30に塗布する(図2(B)参
照)。感光性ペースト32には1 ×103 〜1 ×105 cps
の粘度が与えられているとよい。かかる粘度を有するこ
とにより、高い精度をもって感光性ペーストの充填を行
なうことができるからである。ペーストの粘度の調整の
ためには界面活性剤を添加してもよい。好ましい界面活
性剤は、ラウリルベタイン、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノラウレート、ポリオキシエチレンオクチルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル、ホスフェートアルキルポリオールであり、それら
はそれぞれ、花王社からアンビトール24B、レオドー
ルTW-L-106、エマルゲン840S、エマルゲン909、
およびイメーション社からPOCAIIという商品名で市販さ
れている。
Next, the photosensitive paste 32 is applied to the mold 30 while filling the recesses 28 (see FIG. 2B). 1 × 10 3 to 1 × 10 5 cps for photosensitive paste 32
It is preferable that the viscosity is given. This is because by having such a viscosity, the photosensitive paste can be filled with high accuracy. For adjusting the viscosity of the paste, a surfactant may be added. Preferred surfactants are lauryl betaine, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, phosphate alkyl polyol, which are respectively Ambitol 24B and Rheodol TW- from Kao Corporation. L-106, Emulgen 840S, Emulgen 909,
And sold by Imation under the trade name POCAII.

【0028】第一光硬化性成分としてシランカップリン
グ剤を含む感光性ペーストには、塩酸や硝酸のような鉱
酸が含まれてシランカップリング剤を加水分解して、ゾ
ルの感光性ペーストを提供してもよい。かかる感光性ペ
ーストは乾燥してもゲル化せずにセラミック粉体及びガ
ラス粉体の分散を可能にする。また、粘度も水の量に依
存しない。
The photosensitive paste containing a silane coupling agent as the first photocurable component contains a mineral acid such as hydrochloric acid or nitric acid and hydrolyzes the silane coupling agent to form a sol photosensitive paste. May be provided. Such a photosensitive paste can disperse ceramic powder and glass powder without gelling even when dried. Also, the viscosity does not depend on the amount of water.

【0029】その後、背面板12を感光性ペースト32
に接触させる(図2(C)参照)。上述した第二光硬化
性成分は、光重合すると成形型30に可とう性を付与す
ることができる。このような場合、成形型30をたわま
せて背面板12の一端部から、感光性ペースト32の接
触を図ることができる。したがって、背面板12と感光
性ペースト32との間の空気が効率よく外部に排除され
て、感光性ペースト32内への空気の浸入も回避され
る。また、初めに感光性ペースト32を背面板12に塗
布した後、成形型30をたわませながら貼り合わせるこ
とで、感光性ペースト32を凹部28と背面板12の間
に充填してもよい。この場合も、空気が効率よく外部に
排除されて、感光性ペースト32内への空気の浸入も回
避される。さらに、気泡によるリブの欠陥を防止するた
めに、消泡剤を添加することもできる。消泡剤として
は、サンノプコ社製のダッポーSNシリーズが挙げられ
る。消泡剤は第一硬化性成分の重量を基準として1〜5
%で使用することができる。
Thereafter, the back plate 12 is coated with the photosensitive paste 32.
(See FIG. 2 (C)). The above-mentioned second photocurable component can impart flexibility to the mold 30 by photopolymerization. In such a case, the photosensitive paste 32 can be contacted from one end of the back plate 12 by bending the mold 30. Therefore, the air between the back plate 12 and the photosensitive paste 32 is efficiently removed to the outside, and the intrusion of air into the photosensitive paste 32 is also avoided. Alternatively, the photosensitive paste 32 may be applied to the back plate 12 first, and then may be bonded while bending the mold 30 so that the photosensitive paste 32 is filled between the concave portion 28 and the back plate 12. Also in this case, the air is efficiently removed to the outside, and the intrusion of the air into the photosensitive paste 32 is also avoided. Further, an antifoaming agent can be added to prevent rib defects due to bubbles. Examples of the antifoaming agent include Dappo SN series manufactured by San Nopco. The defoamer is 1 to 5 based on the weight of the first curable component.
% Can be used.

【0030】つぎに、第二光硬化開始剤の第二の吸収端
よりも長い波長の光線(hν)を、感光性ペースト32
に照射して第一光硬化性成分の重合を行いリブ成形体3
4を得る(図2(C)参照)。この際、重合は基本的に
光だけで行われ、制御の困難な熱管理は原則不要であ
る。また、本実施形態の第二光硬化性成分は、光重合す
ると成形型30に透明さも付与することができる。成形
型30が透明になっている場合、背面板12上での成形
型30のアラインメントが容易である。感光性ペースト
32への光線の照射を、背面板12を介してのみならず
成形型30を介し両面から同時に行うことができる。そ
の結果、光線が凹部28の深部にある第一光硬化開始剤
及び第一光硬化性成分にも十分到達することができ、成
形体34の自由端部に未反応の第一光硬化性成分を残存
させることはない。そして、かかる成形体34には実質
的に均一な機械的な強度が付与される。
Next, a light ray (hν) having a wavelength longer than the second absorption edge of the second photocuring initiator is applied to the photosensitive paste 32.
To polymerize the first photo-curable component to form a rib molding 3
4 (see FIG. 2C). In this case, the polymerization is basically carried out only by light, and heat management which is difficult to control is basically unnecessary. In addition, the second photocurable component of the present embodiment can also impart transparency to the mold 30 when photopolymerized. When the mold 30 is transparent, alignment of the mold 30 on the back plate 12 is easy. Irradiation of the light beam to the photosensitive paste 32 can be performed not only via the back plate 12 but also from both sides simultaneously via the mold 30. As a result, the light beam can sufficiently reach the first photocurable initiator and the first photocurable component located deep in the concave portion 28, and the unreacted first photocurable component can Will not remain. The molded body 34 is given substantially uniform mechanical strength.

【0031】リブを欠陥なく形成するためには十分な光
の強度が必要である。光の強度が弱い場合には、硬化し
た成形体34は、焼成過程において亀裂を生じる。例え
ば、フィリップス社製の40Wの直管蛍光燈を7cm間
隔で平面上に配置した場合、その平面から少なくとも3
0cmより短い距離で背面板12を配置して光を照射す
る必要がある。これより長い距離で光照射を行って成形
したリブ16は焼成後に多くの亀裂の発生が見られる。
In order to form ribs without defects, sufficient light intensity is required. If the light intensity is low, the cured molded body 34 cracks during the firing process. For example, when Philips 40 W straight tube fluorescent lamps are arranged on a plane at an interval of 7 cm, at least 3 mm from the plane.
It is necessary to arrange the back plate 12 at a distance shorter than 0 cm and irradiate light. The ribs 16 formed by irradiating light at a longer distance than this will show many cracks after firing.

【0032】また、第一光硬化開始剤の量も、リブを欠
陥なく形成するために重要な条件となる。第一硬化開始
剤の量が少なすぎると、成形体34は焼成過程において
亀裂を生じる。第一光硬化開始剤の量は第一硬化性成分
の重量に対して0.1%以上であり、好ましくは0.5
%以上である。
The amount of the first photo-curing initiator is also an important condition for forming ribs without defects. If the amount of the first curing initiator is too small, the molded body 34 cracks during the firing process. The amount of the first photocuring initiator is 0.1% or more, preferably 0.5%, based on the weight of the first curable component.
% Or more.

【0033】照射される光線は比較的長い波長を有し
て、第一光硬化開始剤にのみ吸収され、第二光硬化開始
剤によっては実質的に吸収されず、第一光硬化性成分の
重合だけを開始して成形体34を得る。その結果、たと
え成形型30に未反応の第二光硬化性成分が残存して
も、第一光硬化性成分と反応することを抑制することが
できる。すなわち、成形体34は光重合により成形型3
0に固着することを回避することができる。
The irradiated light beam has a relatively long wavelength, is absorbed only by the first photocuring initiator, is not substantially absorbed by the second photocuring initiator, and Only the polymerization is started to obtain a molded body 34. As a result, even if the unreacted second photocurable component remains in the mold 30, it can be suppressed from reacting with the first photocurable component. That is, the molding 34 is formed by photopolymerization.
Sticking to zero can be avoided.

【0034】つぎに、成形型30から成形体34を取り
外して背面板12に成形体34が一体的に転写される
(図2(D)参照)。上述のように、成形型30への成
形体34の固着は回避されている。したがって、背面板
12又は成形体34若しくはその自由端部を破損させて
成形型30に残存したままにすることはなく、かかる取
り外しを容易に行うことができる。その結果、成形型3
0は洗浄されることなく繰り返しの使用が可能となっ
て、PDP用基板の生産性の向上を図ることができる。
Next, the molded body 34 is removed from the molding die 30, and the molded body 34 is integrally transferred to the back plate 12 (see FIG. 2D). As described above, the fixation of the molded body 34 to the molding die 30 is avoided. Therefore, the rear plate 12 or the molded body 34 or the free end thereof is not damaged and remains in the molding die 30, and such removal can be easily performed. As a result, the mold 3
0 can be used repeatedly without being cleaned, and the productivity of the PDP substrate can be improved.

【0035】それから、成形体34を背面板12と共に
焼成炉(図示せず)に入れて、所定温度で焼成を行なっ
てリブ16を得る(図2(E)参照)。この焼成の前後
では、上述した網目構造の維持が実質的になされて、成
形体の収縮を低減する。したがって、凹部の形状にした
がったリブを精度よく作製することができる。
Then, the molded body 34 is placed together with the back plate 12 in a firing furnace (not shown), and fired at a predetermined temperature to obtain the ribs 16 (see FIG. 2E). Before and after the firing, the above-mentioned network structure is substantially maintained, and the shrinkage of the molded body is reduced. Therefore, a rib according to the shape of the concave portion can be accurately manufactured.

【0036】必要に応じて、背面板上のリブ間にアドレ
ス電極を形成して、アドレス電極上に蛍光層を設けても
よい。その後、予めバス電極を形成した透明な前面板
を、背面板と対向するようにリブを介して配置させても
よい。つぎに、前面板及び背面板の周縁部を図示されな
いシール材を用いて気密に封止し、放電表示セルを前面
板と背面板との間に形成してもよい。それから、放電表
示セルを減圧排気した後、放電ガスを放電セルに導入し
てPDP用基板を作製してもよい。
If necessary, an address electrode may be formed between the ribs on the back plate, and a fluorescent layer may be provided on the address electrode. Thereafter, a transparent front plate on which bus electrodes are formed in advance may be arranged via a rib so as to face the rear plate. Next, the peripheral edges of the front plate and the back plate may be hermetically sealed using a sealing material (not shown) to form a discharge display cell between the front plate and the back plate. Then, after the discharge display cell is evacuated to a reduced pressure, a discharge gas may be introduced into the discharge cell to produce a PDP substrate.

【0037】背面板上のリブ間にアドレス電極を形成す
る場合、背面板上のアドレス電極のピッチと成形型のリ
ブ形成用の凹部のピッチは整合している必要がある。本
発明の成形型30の熱膨張係数は、一般に1.5×10
-5〜3.5×10-5/℃であり、一方、背面板の熱膨張
係数は、一般に0.8×10-5〜0.9×10-5/℃で
ある。この為、室温における両者のピッチが異なる場合
には、これらの両者の熱膨張係数の差異を用いて、温度
を制御することにより、両者のピッチを整合させること
ができる。
When the address electrodes are formed between the ribs on the rear plate, the pitch of the address electrodes on the rear plate must match the pitch of the concave portions for forming the ribs of the mold. The coefficient of thermal expansion of the mold 30 of the present invention is generally 1.5 × 10
−5 to 3.5 × 10 −5 / ° C., while the coefficient of thermal expansion of the back plate is generally 0.8 × 10 −5 to 0.9 × 10 −5 / ° C. For this reason, when the two pitches are different at room temperature, the two pitches can be matched by controlling the temperature using the difference in the coefficient of thermal expansion between the two.

【0038】図3は、本発明のPDP用基板の製造方法
の第2実施形態を示す工程断面図である。図中、成形型
30上にあるリブ形成用の凹部の詳細は省略している。
本実施形態に従えば、リブ前駆体組成物32に対し第二
の吸収端に対応する波長より長い波長の光を照射する前
に、図3(C)に矢印で示されるようにリブ16が必要
とされない背面板12の周縁部に充填されたリブ前駆体
組成物32に第二の吸収端に対応する波長より短い波長
の光(hν1 )を照射する。本実施形態によると、成形
型30中の未反応の第二硬化性成分とリブ前駆体組成物
32中の第一硬化性成分との光硬化反応によってリブ成
形体34が成形型30と固着し、それにより、成形型3
0を取り除く工程において、背面板12の周縁部のリブ
成形体34が成形型30と一体になって除去されるの
で、背面板12の周縁部におけるリブ成形体34の除去
工程を必要としない。光の照射は成形型30側から行う
ことが望ましい。背面板12側から行った場合には、リ
ブ成形体34は成形型30だけでなく、背面板12とも
固着するおそれがあるからである。光の照射には、必要
ならば、成形型30の中央部への光の照射を防止するた
め遮光マスク40を使用してもよい。
FIG. 3 is a process sectional view showing a second embodiment of the method for manufacturing a PDP substrate of the present invention. In the figure, the details of the rib forming recesses on the mold 30 are omitted.
According to the present embodiment, before irradiating the rib precursor composition 32 with light having a wavelength longer than the wavelength corresponding to the second absorption edge, the rib 16 is turned on as shown by an arrow in FIG. Light (hν 1 ) having a shorter wavelength than the wavelength corresponding to the second absorption edge is irradiated on the rib precursor composition 32 filled in the peripheral portion of the back plate 12 which is not required. According to the present embodiment, the rib molding 34 adheres to the molding die 30 by the photocuring reaction between the unreacted second curing component in the molding die 30 and the first curing component in the rib precursor composition 32. , Thereby forming the mold 3
In the step of removing 0, the rib molded body 34 at the peripheral edge of the back plate 12 is removed integrally with the molding die 30, so that the step of removing the rib molded body 34 at the peripheral edge of the back plate 12 is not required. The light irradiation is desirably performed from the mold 30 side. This is because, when the process is performed from the back plate 12 side, the rib molded body 34 may adhere not only to the mold 30 but also to the back plate 12. For light irradiation, if necessary, a light-shielding mask 40 may be used to prevent light irradiation on the central portion of the mold 30.

【0039】このように、成形型30の周縁部に未反応
の第二光硬化性成分が残存している場合には、かかる光
(hν1 )の照射により、第二光硬化開始剤がその光を
吸収するため成形型30中の第二硬化性成分とリブ前駆
体組成物32中の第一光硬化性成分との硬化反応を引き
起こす。すなわち、かかる光(hν1 )を照射した背面
板12の周縁部においては、成形体34と成形型30と
は光重合により、周縁部において固着するようになる。
このため、背面板12の周縁部に充填されたリブ成形体
34を成形型30と一体として背面板12から容易に取
り除くことができる。また、成形型30を介して照射し
た光が、背面板12に反射して背面板12側からリブ前
駆体組成物32に照射するのを防止するため、背面板1
2の裏面に、かかる光(hν1 )を吸収する塗料および
フィルムを貼りあわせてもよい。
As described above, when the unreacted second photocurable component remains at the peripheral portion of the mold 30, the irradiation of the light (hν 1 ) causes the second photocuring initiator to react with the second photocurable component. In order to absorb light, a curing reaction between the second curable component in the mold 30 and the first photocurable component in the rib precursor composition 32 is caused. That is, at the peripheral portion of the back plate 12 irradiated with such light (hν 1 ), the molded body 34 and the molding die 30 are fixed at the peripheral portion by photopolymerization.
For this reason, the rib molding 34 filled in the peripheral portion of the back plate 12 can be easily removed from the back plate 12 integrally with the molding die 30. In order to prevent the light irradiated through the mold 30 from being reflected on the back plate 12 and irradiating the rib precursor composition 32 from the back plate 12 side, the back plate 1
A paint and a film that absorb such light (hν 1 ) may be attached to the back surface of 2.

【0040】引き続き、リブ16の必要とされる背面板
12の中央部に充填されたリブ前駆体組成物32に対し
第二の吸収端に対応する波長より長い波長の光(h
ν2 )を図3(D)に示されるように引き続いて照射す
る。この成形型30は光硬化成分の光重合によって透明
さを付与されており、背面板12を介してのみならず成
形型30を介し両面からリブ前駆体組成物32への光線
の照射を可能にする。その結果、光線が凹部28の深部
にある第一硬化性成分および第一光硬化開始剤にも十分
到達することができ、かかる成形体34には実質的に均
一な機械的な強度が付与される。
Subsequently, light (h) having a wavelength longer than the wavelength corresponding to the second absorption edge is applied to the rib precursor composition 32 filled in the center of the back plate 12 where the rib 16 is required.
ν 2 ) is subsequently irradiated as shown in FIG. The mold 30 is provided with transparency by photopolymerization of a photo-curing component, and enables irradiation of light to the rib precursor composition 32 from both sides not only through the back plate 12 but also through the mold 30. I do. As a result, the light beam can sufficiently reach the first curable component and the first photocuring initiator deep in the concave portion 28, and the molded body 34 is provided with substantially uniform mechanical strength. You.

【0041】照射される好ましい光線は比較的長い波長
を有して、リブ前駆体組成物32中の第一光硬化開始剤
にのみ吸収され、且つ、成形型30の第二光硬化開始剤
によっては実質的に吸収されないものがよい。この場
合、たとえ成形型30に未反応の第二硬化性成分が残存
しても、リブ前駆体組成物32中の第一硬化性成分とは
反応しない。したがって、成形体34は光重合により成
形型30に固着することを回避することができる。ま
た、この時、この光(hν2 )は背面板12の周縁部に
充填されたリブ成形体34に照射されてもよい。この部
分は(hν1 )の照射によりすでに硬化しているからで
ある。その後に、成形型30を背面板12から取り外し
た場合、成形体34を取り外すときは、図3(E)に示
されるように、背面板12の周縁部のリブ成形体34は
成形型30と一体として背面板12から取り除かれ、そ
の中央部にのみに背面板12と一体的にリブ16が形成
されるようになる。
The preferred light beam to be irradiated has a relatively long wavelength, is absorbed only by the first photo-curing initiator in the rib precursor composition 32, and is irradiated by the second photo-curing initiator of the mold 30. Is preferably not substantially absorbed. In this case, even if the unreacted second curable component remains in the mold 30, it does not react with the first curable component in the rib precursor composition 32. Therefore, the molded body 34 can be prevented from sticking to the mold 30 by photopolymerization. At this time, the light (hν 2 ) may be applied to the rib molded body 34 filled in the peripheral portion of the back plate 12. This is because this portion has already been cured by the irradiation of (hν 1 ). After that, when the molding die 30 is removed from the back plate 12, when the molded body 34 is removed, as shown in FIG. The ribs 16 are integrally removed from the rear plate 12, and the ribs 16 are formed integrally with the rear plate 12 only at the center thereof.

【0042】背面板12の周縁部には成形体34が固着
されないことが望ましい。背面板12の周縁部には、通
常、シーリング剤が塗布されて前面板14と背面板12
とを貼り合せるからである(図示せず)。あるいは、図
示しないが、背面板12の周縁部には電極端子が外部と
の電気的接続のために設けられることもある。したがっ
て、上記の方法によりリブ前駆体組成物32が背面板1
2の周縁部まではみ出して成形体34を形成した場合
は、そこの成形体34は取り除かれる必要がある。通常
は、スクレーパが用いられて背面板12の周縁部の成形
体34を掻き落としたりする。しかし、この場合はそこ
にある電極端子が傷つけられるおそれがある。また、成
形型30の周縁部に充填されたリブ前駆体組成物32
を、硬化させることなく取り除くこともできる。しか
し、未硬化のリブ前駆体組成物32は成形型30を取り
除く際に流動して成形体34に接触するおそれがある。
It is desirable that the molded body 34 is not fixed to the peripheral portion of the back plate 12. A sealing agent is usually applied to the peripheral portion of the back plate 12 so that the front plate 14 and the back plate 12 are coated.
(Not shown). Alternatively, although not shown, an electrode terminal may be provided on a peripheral portion of the back plate 12 for electrical connection to the outside. Therefore, the rib precursor composition 32 is applied to the back plate 1 by the above method.
In the case where the molded body 34 is formed so as to protrude to the peripheral edge portion 2, the molded body 34 needs to be removed. Usually, a scraper is used to scrape off the molded body 34 at the peripheral edge of the back plate 12. However, in this case, the electrode terminals there may be damaged. Further, the rib precursor composition 32 filled in the peripheral portion of the molding die 30
Can be removed without curing. However, the uncured rib precursor composition 32 may flow when the mold 30 is removed, and may come into contact with the molded body 34.

【0043】しかし、本実施形態では、成形型30の繰
り返し使用はできなくなるが、背面板12の周縁部に形
成された成形体34の除去は、上述のように、電極端子
を傷つけたり又は未硬化のリブ前駆体組成物を成形体3
4に接触させることなく効率的に行うことができる。
However, in this embodiment, the molding die 30 cannot be used repeatedly. However, as described above, the removal of the molding 34 formed on the peripheral edge of the back plate 12 may damage the electrode terminals or cause the electrode terminals to be damaged. The cured rib precursor composition was formed into a molded product 3
4 can be carried out efficiently without contacting them.

【0044】[0044]

【実施例】実施例1 本例では、感光性ペーストは次のように調製した。ま
ず、10g のビスフェノールAジグリシジルエーテルメタ
クリル酸付加物(共栄社化学社製)と10g のトリエチレ
ングリコールジメタクリラート(和光純薬工業社製)と
を混合して第一光硬化性成分を用意した。つぎに、この
第一光硬化性成分を、チバガイギー社からイルガキュア
819という商品名で市販されているビス(2, 4, 6
−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキ
サイドからなる0.2g の第一光硬化開始剤、希釈剤と
して20g の1, 3ブタンジオール、界面活性剤として0.
2gのホスフェートプロポキシルアルキルポリオール(POC
A)、消泡剤として0.1gのダッポーSN357(サン
ノプコ社)を加えた。この溶液に旭硝子から市販されて
いる鉛ガラス(PbO-B2O3-SiO2 )と無機酸化物との混合
粉末(RFW-030) 80g を分散させた。分散後、ペーストを
ガラス容器に入れ、真空ポンプで減圧することにより、
ペースト中の気泡を除去した。この場合、ペーストを6
0℃程度に加熱すると効率よく気泡を除去することがで
きた。つぎに、リブの形状に対応した凹部を有する成形
型を用意した。この成形型は1 重量% の第二光硬化開始
剤の存在下で第二光硬化性成分から形成した。第二光硬
化性成分としては、ヘンケル社からフォトマー6010
という商品名で市販されている脂肪族ウレタンアクリレ
ートオリゴマーを用いた。また、第二光硬化開始剤とし
ては、チバガイギー社からダロキュア1173という商
品名で市販されている2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニル−プロパン−1−オンを使用した。これは38
0nm の波長に対応する吸収端を有する。第二光硬化性成
分の光重合は、三菱電機オスラム社製の蛍光ランプを用
いて、300 〜400nm の波長をもった光の照射により行っ
た。つぎに、この感光性ペーストを、上記の通りに作製
した成形型の凹部と背面板との間に充填した。次いで、
フィリップス社製の蛍光ランプを用いて、400 〜500nm
の波長をもった光を3分間照射して、第一光硬化性成分
の光重合を行った。この光照射は、透明な成形型と透明
な基板(背面板)の両面から同時に行った。その後、背
面板と一体的に成形体を成形型から取り外した。このと
き、成形体の成形型からの取り外しは、成形体又は背面
板を破損することなく、容易に行えた。また、成形型の
損傷又は成形型への成形体の残留は観測されず、この
為、成形型は繰り返し使用することができることが判っ
た。
Example 1 In this example, a photosensitive paste was prepared as follows. First, a first photocurable component was prepared by mixing 10 g of bisphenol A diglycidyl ether methacrylic acid adduct (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 10 g of triethylene glycol dimethacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). . Next, this first photocurable component was used as a bis (2, 4, 6, 6) commercially available from Ciba-Geigy under the trade name Irgacure 819.
-Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 0.2 g of first photocuring initiator, 20 g of 1,3 butanediol as diluent, and 0.1 g of surfactant as surfactant.
2 g of phosphate propoxyl alkyl polyol (POC
A), 0.1 g of Dappo SN357 (San Nopco) was added as an antifoaming agent. The solution of lead glass which is commercially available from Asahi Glass (PbO-B2O3-SiO 2) and a mixed powder (RFW-030) 80g of the inorganic oxide is dispersed. After dispersion, put the paste in a glass container and depressurize with a vacuum pump.
Bubbles in the paste were removed. In this case, paste 6
When heated to about 0 ° C., bubbles could be efficiently removed. Next, a mold having a concave portion corresponding to the shape of the rib was prepared. The mold was formed from the second photocurable component in the presence of 1% by weight of the second photocurable initiator. As the second photocurable component, Photomer 6010 from Henkel
An aliphatic urethane acrylate oligomer which is commercially available under the trade name is used. As the second photo-curing initiator, 2-hydroxy-2-methyl-1 commercially available from Ciba-Geigy under the trade name Darocure 1173
-Phenyl-propan-1-one was used. This is 38
It has an absorption edge corresponding to a wavelength of 0 nm. The photopolymerization of the second photocurable component was carried out by irradiation with light having a wavelength of 300 to 400 nm using a fluorescent lamp manufactured by Mitsubishi Electric OSRAM. Next, this photosensitive paste was filled between the concave portion and the back plate of the mold prepared as described above. Then
400-500 nm using a Philips fluorescent lamp
Of the first photocurable component was irradiated for 3 minutes. This light irradiation was performed simultaneously from both sides of the transparent mold and the transparent substrate (back plate). Thereafter, the molded body was removed from the mold integrally with the back plate. At this time, the molded article was easily removed from the mold without damaging the molded article or the back plate. In addition, no damage to the mold or the residual of the molded body in the mold was observed, and it was found that the mold could be used repeatedly.

【0045】実施例2 本例では、感光性ペーストは次のように調製した。ま
ず、10g のビスフェノールAジグリシジルエーテルメタ
クリル酸付加物(共栄社化学社製)と10g のトリエチレ
ングリコールジメタクリラート(和光純薬工業社製)と
を混合して第一光硬化性成分を用意した。つぎに、この
第一光硬化性成分を、チバガイギー社からイルガキュア
819という商品名で市販されているビス(2, 4, 6
−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキ
サイドからなる0.2g の第一光硬化開始剤、希釈剤と
して20g の1, 3ブタンジオール、界面活性剤として0.
2gのホスフェートプロポキシルアルキルポリオール(POC
A)、消泡剤として0.1gのダッポーSN357(サン
ノプコ社)を加えた。この溶液に旭硝子から市販されて
いる鉛ガラス(PbO-B2O3-SiO2 )と無機酸化物との混合
粉末(RFW-030) を80gの混合粉末(RFW-030) を分散させ
た。分散後、ペーストをガラス容器に入れ、真空ポンプ
で減圧することにより、ペースト中の気泡を除去した。
この場合、ペーストを60℃程度に加熱すると効率よく
気泡を除去することができた。つぎに、この感光性ペー
ストを、実施例1で作製した成形型の凹部と背面板との
間に充填した。次いで、成形型の中央部を遮光マスクで
被覆した後、三菱電機オスラム社製の蛍光ランプを用い
て、300 〜400nm の波長をもった光を、成形型の周縁部
に成形型を介しそこに充填された感光性ペーストに2分
間照射した。つぎに、遮光マスクを取り除き、それか
ら、フィリップス社製の蛍光ランプを用いて、400 〜50
0nm の波長をもった光を1分間照射して、第一光硬化性
成分の光重合を行った。この光照射は、透明な成形型と
透明な基板(背面板)の両面から同時に行った。その
後、背面板と一体的に成形体を成形型から取り外した。
このとき、背面板の中央部には成形体が転写されてい
た。一方、背面板の周縁部には成形体が転写されず、成
形型の周縁部に固着していた。つまり、背面板の周縁部
の成形体は成形型と一体として背面板から取り除くこと
ができた。
Example 2 In this example, a photosensitive paste was prepared as follows. First, a first photocurable component was prepared by mixing 10 g of bisphenol A diglycidyl ether methacrylic acid adduct (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 10 g of triethylene glycol dimethacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). . Next, this first photocurable component was used as a bis (2, 4, 6, 6) commercially available from Ciba-Geigy under the trade name Irgacure 819.
-Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 0.2 g of first photocuring initiator, 20 g of 1,3 butanediol as diluent, and 0.1 g of surfactant as surfactant.
2 g of phosphate propoxyl alkyl polyol (POC
A), 0.1 g of Dappo SN357 (San Nopco) was added as an antifoaming agent. The mixed powder of lead glass which is commercially available in the solution from Asahi Glass (PbO-B2O3-SiO 2) and an inorganic oxide (RFW-030) was dispersed powder mixture of 80g (RFW-030). After the dispersion, the paste was placed in a glass container, and the pressure in the paste was reduced to remove bubbles in the paste.
In this case, when the paste was heated to about 60 ° C., bubbles could be efficiently removed. Next, this photosensitive paste was filled between the concave portion of the mold prepared in Example 1 and the back plate. Next, after covering the central part of the mold with a light-shielding mask, light having a wavelength of 300 to 400 nm is applied to the peripheral part of the mold through a mold using a fluorescent lamp manufactured by Mitsubishi Electric OSRAM. The filled photosensitive paste was irradiated for 2 minutes. Next, the light-shielding mask was removed, and then, using a fluorescent lamp manufactured by Philips, 400 to 50
Light having a wavelength of 0 nm was irradiated for 1 minute to perform photopolymerization of the first photocurable component. This light irradiation was performed simultaneously from both sides of the transparent mold and the transparent substrate (back plate). Thereafter, the molded body was removed from the mold integrally with the back plate.
At this time, the compact was transferred to the center of the back plate. On the other hand, the molded body was not transferred to the peripheral edge of the back plate, and was fixed to the peripheral edge of the molding die. That is, the molded body at the peripheral edge of the back plate could be removed from the back plate integrally with the molding die.

【0046】実施例3 感光性ペーストは次のように調製した。まず、第一光硬
化性成分として24g のγ- メタクリロキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン(日本ユニカー社製)を用意した。
また、モル比が2:1である0. 01Nの硝酸水溶液と
エタノールの混合溶液6gを混合して充分に攪拌した後、
70℃で12時間保持して反応させた。その後、反応生
成物を70℃で乾燥し、水及びアルコールを蒸発により
除去した。つぎに、この液体に、8gのメタクリル酸2
ヒドロキシエチル(和光純薬工業社)を加え第一硬化性
成分を得た。さらに、希釈剤として8gの1, 3- ブタ
ンジオール(和光純薬工業社)、第一光硬化開始剤とし
て0.3gのチバガイギー社製のイルガキュア819
と、界面活性剤として0.2gのPOCA(ホスフェー
トプロポキシルアルキルポリオール)、消泡剤として
0.1gのダッポーSN357(サンノプコ社)を加え
た。さらに、この溶液に平均粒径が2.1μmのα- ア
ルミナ(AL−45−2、昭和電工社製)を70g分散
させ感光性ペーストを得た。更に、実施例1と同様に気
泡の除去を行った。つぎに、この感光性ペーストを、実
施例1で作製した成形型の凹部と背面板との間に充填し
た。次いで、成形型の中央部を遮光マスクで被覆した
後、三菱電機オスラム社製の蛍光ランプを用いて、300
〜400nm の波長をもった光を、成形型の周縁部に成形型
を介しそこに充填された感光性ペーストに2分間照射し
た。つぎに、遮光マスクを取り除き、それから、フィリ
ップス社製の蛍光ランプを用いて、400 〜500nm の波長
をもった光を1分間照射して、第一光硬化性成分の光重
合を行った。この光照射は、透明な成形型と透明な基板
(背面板)の両面から同時に行った。その後、背面板と
一体的に成形体を成形型から取り外した。このとき、背
面板の中央部には成形体が転写されていた。一方、背面
板の周縁部には成形体が転写されず、成形型の周縁部に
固着していた。つまり、背面板の周縁部の成形体は成形
型と一体として背面板から取り除くことができた。
Example 3 A photosensitive paste was prepared as follows. First, 24 g of γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Nippon Unicar) was prepared as a first photocurable component.
Further, after mixing 6 g of a mixed solution of 0.01 N nitric acid aqueous solution and ethanol having a molar ratio of 2: 1 and sufficiently stirring,
The reaction was maintained at 70 ° C. for 12 hours. Thereafter, the reaction product was dried at 70 ° C., and water and alcohol were removed by evaporation. Next, 8 g of methacrylic acid 2 was added to this liquid.
Hydroxyethyl (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to obtain a first curable component. Further, 8 g of 1,3-butanediol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as a diluent, and 0.3 g of Irgacure 819 manufactured by Ciba Geigy was used as a first photocuring initiator.
And 0.2 g of POCA (phosphate propoxyl alkyl polyol) as a surfactant and 0.1 g of Dappo SN357 (San Nopco) as an antifoaming agent. Further, 70 g of α-alumina (AL-45-2, manufactured by Showa Denko KK) having an average particle size of 2.1 μm was dispersed in this solution to obtain a photosensitive paste. Further, bubbles were removed in the same manner as in Example 1. Next, this photosensitive paste was filled between the concave portion of the mold prepared in Example 1 and the back plate. Then, after covering the center of the mold with a light-shielding mask, using a fluorescent lamp manufactured by Mitsubishi Electric OSRAM, 300
Light having a wavelength of .about.400 nm was irradiated to the photosensitive paste filled in the peripheral portion of the mold through the mold for 2 minutes. Next, the light-shielding mask was removed, and then light having a wavelength of 400 to 500 nm was irradiated for 1 minute using a fluorescent lamp manufactured by Philips to photopolymerize the first photocurable component. This light irradiation was performed simultaneously from both sides of the transparent mold and the transparent substrate (back plate). Thereafter, the molded body was removed from the mold integrally with the back plate. At this time, the compact was transferred to the center of the back plate. On the other hand, the molded body was not transferred to the peripheral edge of the back plate, and was fixed to the peripheral edge of the molding die. That is, the molded body at the peripheral edge of the back plate could be removed from the back plate integrally with the molding die.

【0047】比較例1 本例では、上記実施例1と同じ感光性ペースト及び成形
型を使用した。しかし、第一光硬化性成分の光重合は、
フィリップス社製の蛍光ランプの代わりに、上述の三菱
電機オスラム社製の蛍光ランプを用いて300 〜400nm の
波長をもった光を成形型を背面板を介して照射した。そ
の結果、成形型と成形体との接着が強く、背面板と一体
的に成形体を成形型から取り外すことはできなかった。
強制的に成形体を成形型から取り外したら成形体が破損
した。
Comparative Example 1 In this example, the same photosensitive paste and mold as in Example 1 were used. However, the photopolymerization of the first photocurable component is
Instead of the fluorescent lamp manufactured by Philips, the above-described fluorescent lamp manufactured by Mitsubishi Electric OSRAM was used to irradiate the mold with light having a wavelength of 300 to 400 nm through the back plate. As a result, the adhesion between the mold and the molded body was strong, and the molded body could not be removed from the mold integrally with the back plate.
When the molded body was forcibly removed from the mold, the molded body was damaged.

【0048】比較例2 本例では、成形型の周縁部に、三菱電機オスラム社製の
蛍光ランプを用いて、300 〜400nm の波長をもった光を
成形型を介してではなく、背面板のみを介して照射した
以外は、実施例2と同様に成形体を作製した後、成形型
を取り除いた。このとき、背面板の中央部では成形体が
成形型から剥離して基板(背面板)に転写されていた。
他方、背面板の周縁部では、成形体が成形型と基板の両
者と固着しており、うまく剥離しなかったり、また、た
とえ剥離してもその破損を伴っていたりした。つまり、
背面板の周縁部の成形体を、成形型と一体として取り除
くことはできなかった。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 In this example, light having a wavelength of 300 to 400 nm was applied to the periphery of the mold using a fluorescent lamp manufactured by Mitsubishi Electric OSRAM, not through the mold, but only on the back plate. After a molded body was produced in the same manner as in Example 2 except that irradiation was performed through the mold, the molding die was removed. At this time, at the center of the back plate, the molded body was separated from the mold and transferred to the substrate (back plate).
On the other hand, at the peripheral portion of the back plate, the molded body was fixed to both the mold and the substrate, and did not peel off well, or even if it peeled, it was damaged. That is,
It was not possible to remove the molded body at the peripheral edge of the back plate integrally with the molding die.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明のPDP用基板の製造方法によ
り、基体及びリブの破損が回避され、成形型を繰り返し
使用することができる。本発明のPDP用基板の製造法
において、第二の吸収端に対応する波長より短い波長の
光をリブ前駆体組成物に照射することにより、基体の周
縁部におけるリブ成形体もしくはリブ前駆体組成物の除
去工程の必要性をなくすことができる。
According to the method for manufacturing a PDP substrate of the present invention, damage to the base and the ribs can be avoided, and the mold can be used repeatedly. In the method of manufacturing a PDP substrate according to the present invention, the rib precursor composition is irradiated with light having a wavelength shorter than the wavelength corresponding to the second absorption edge to form a rib molded body or a rib precursor composition at the peripheral portion of the base. This eliminates the need for an object removal step.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】PDP用基板の1態様を示す部分分解斜視図で
ある。
FIG. 1 is a partially exploded perspective view showing one embodiment of a PDP substrate.

【図2】本発明のPDP用基板の製造方法の第1実施形
態を示す工程図である。
FIG. 2 is a process chart showing a first embodiment of a method for manufacturing a PDP substrate of the present invention.

【図3】本発明のPDP用基板の製造方法の第2実施形
態を示す工程図である。
FIG. 3 is a process chart showing a second embodiment of the method for manufacturing a PDP substrate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…PDP用基板 12…背面板 14…前面板 16…リブ 18…放電表示セル 20…アドレス電極 22…バス電極 24…蛍光層 26…誘電体層 28…凹部 30…成形型 32…感光性ペースト(リブ前駆体組成物) 34…リブ成形体 36…リブ必要領域 38…リブ不要領域 40…遮光マスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... PDP board 12 ... Back plate 14 ... Front plate 16 ... Rib 18 ... Discharge display cell 20 ... Address electrode 22 ... Bus electrode 24 ... Fluorescent layer 26 ... Dielectric layer 28 ... Concave part 30 ... Forming mold 32 ... Photosensitive paste (Rib precursor composition) 34: Rib molded body 36: Rib required area 38: Rib unnecessary area 40: Light shielding mask

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 陽田 彰 神奈川県相模原市南橋本3−8−8 住友 スリーエム株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF02 GF19 JA19 KA08 KA16 MA23 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Akira Yoda 3-8-8 Minamihashimoto, Sagamihara-shi, Kanagawa F-term in Sumitomo 3M Limited (Reference) 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF02 GF19 JA19 KA08 KA16 MA23

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第一の吸収端をもった第一光硬化開始剤
と第一光硬化性成分とを含むリブ前駆体組成物を基体に
密着させる工程、 前記第一光硬化開始剤の前記第一の吸収端に対応する波
長よりも短い波長の第二の吸収端をもった第二光硬化開
始剤の存在下において第二光硬化性成分を光硬化させる
ことにより得られた成形型に、前記リブ前駆体組成物を
充填する工程、 前記リブ前駆体組成物に対して、前記第二の吸収端に対
応する波長より長い波長の光を照射して、前記リブ前駆
体組成物を硬化させ、基体上にリブを形成させる工程、
及び、 得られるリブを形成した基体から前記成形型を取り除く
工程、を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイ
パネル用基板の製造方法。
A step of bringing a rib precursor composition including a first photocuring initiator having a first absorption edge and a first photocurable component into close contact with a substrate; In a mold obtained by photocuring the second photocurable component in the presence of a second photocuring initiator having a second absorption edge having a shorter wavelength than the wavelength corresponding to the first absorption edge. Filling the rib precursor composition, irradiating the rib precursor composition with light having a wavelength longer than the wavelength corresponding to the second absorption edge, and curing the rib precursor composition To form a rib on the substrate,
And a step of removing the mold from the substrate on which the obtained ribs are formed, a method for manufacturing a substrate for a plasma display panel.
【請求項2】 前記第二の吸収端に対応する波長より短
い波長の光を、基体の周縁部において前記成形型に充填
された前記リブ前駆体組成物に照射して、前記リブ前駆
体組成物を硬化させる工程をさらに含む、ことを特徴と
する請求項1に記載の製造方法。
2. A method of irradiating a light having a wavelength shorter than a wavelength corresponding to the second absorption edge to the rib precursor composition filled in the mold at a peripheral portion of a base, thereby forming the rib precursor composition The method according to claim 1, further comprising a step of curing the object.
【請求項3】 前記基体及び前記成形型を透明とし、 前記リブ前駆体組成物への光の照射を前記基体及び前記
成形型を介して行う、ことを特徴とする請求項1又は2
に記載の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the base and the mold are transparent, and irradiation of the rib precursor composition with light is performed through the base and the mold.
Production method described in 1.
【請求項4】 前記成形型が可とう性を有するものであ
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載
の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the mold has flexibility.
【請求項5】 前記第一光硬化開始剤が400 〜500nm の
波長に対応する前記第一の吸収端を有し、且つ、 前記第二光硬化開始剤が300 〜400nm の波長に対応する
前記第二の吸収端を有することを特徴とする請求項1〜
4のいずれか1項に記載の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the first photocuring initiator has the first absorption edge corresponding to a wavelength of 400 to 500 nm, and the second photocuring initiator corresponds to a wavelength of 300 to 400 nm. Claim 1 characterized by having a second absorption edge.
5. The production method according to any one of 4.
【請求項6】 前記第一光硬化性成分及び前記第二光硬
化性成分が、アクリル系樹脂からなることを特徴とする
請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the first photocurable component and the second photocurable component are made of an acrylic resin.
【請求項7】 前記リブ前駆体組成物がセラミックの粉
体を含み、そして必要に応じてガラスの粉体を含むこと
を特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造
方法。
7. The method according to claim 1, wherein the rib precursor composition contains a ceramic powder, and if necessary, a glass powder. .
【請求項8】 基体と、前記基体上に設けられた第一の
吸収端をもった第一光硬化開始剤と第一光硬化性成分と
を含むリブ前駆体組成物から形成されたリブとを備える
プラズマディスプレイパネル用基板のための成形型であ
って、 前記成形型が前記第一光硬化開始剤の前記第一の吸収端
に対応する波長よりも短い波長の第二の吸収端をもった
第二光硬化開始剤の存在下において、第二光硬化性成分
を光硬化させることにより得られたことを特徴とする成
形型。
8. A substrate formed from a rib precursor composition including a first photocurable initiator having a first absorption end and a first photocurable component, the rib being provided on the substrate. A mold for a plasma display panel substrate, comprising: a mold having a second absorption edge having a shorter wavelength than a wavelength corresponding to the first absorption edge of the first photocuring initiator. A mold obtained by photocuring the second photocurable component in the presence of the second photocuring initiator.
【請求項9】 可とう性を有することを特徴とする請求
項8に記載の成形型。
9. The mold according to claim 8, which has flexibility.
【請求項10】 透明であることを特徴とする請求項8
又は9に記載の成形型。
10. The method according to claim 8, wherein the transparent material is transparent.
Or the mold according to 9.
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