JP2000297021A - 歯磨組成物 - Google Patents
歯磨組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 （Ａ）炭酸水素ナトリウムと、（Ｂ）チ
タニウム結合量がＴｉＯ 2としてＳｉＯ2に対し０．５〜
１５重量％であり、遊離のアルカリ金属（Ｍ）をＭ／Ｓ
ｉＯ2として３．０〜１２．０モル／モル％含有した合
成無定型チタニウム結合ケイ酸塩とを併用したことを特
徴とする歯磨組成物。 【効果】 本発明の歯磨組成物によれば、炭酸水素ナト
リウムと上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み
合わせたことにより、高い舌苔除去効果を与えるもので
ある。
タニウム結合量がＴｉＯ 2としてＳｉＯ2に対し０．５〜
１５重量％であり、遊離のアルカリ金属（Ｍ）をＭ／Ｓ
ｉＯ2として３．０〜１２．０モル／モル％含有した合
成無定型チタニウム結合ケイ酸塩とを併用したことを特
徴とする歯磨組成物。 【効果】 本発明の歯磨組成物によれば、炭酸水素ナト
リウムと上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み
合わせたことにより、高い舌苔除去効果を与えるもので
ある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は優れた舌苔除去効果
を有する歯磨組成物に関する。
を有する歯磨組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
歯磨組成物に炭酸水素ナトリウムを研磨剤や他の薬剤と
共に配合する技術は公知である（特開昭５２−５４０３
８号、同５９−１７６２０６号、同６１−２０５２０７
号、同６３−１９７２１２号公報）。また、炭酸水素ナ
トリウムの配合により、歯磨等の口腔用組成物を使用し
た時に特有の使用感、口中のサッパリ感を付与すること
も知られている（特開昭４９−６９８４９号公報）。一
方、歯磨等の口腔用組成物に研磨剤としてジルコニウ
ム、チタニウム及びゲルマニウムから選ばれる金属が結
合した合成無定型ケイ酸塩を配合することにより、高い
汚れ除去効果及びつや出し効果を得る技術も公知である
（特開平５−１４７５０号公報）。
歯磨組成物に炭酸水素ナトリウムを研磨剤や他の薬剤と
共に配合する技術は公知である（特開昭５２−５４０３
８号、同５９−１７６２０６号、同６１−２０５２０７
号、同６３−１９７２１２号公報）。また、炭酸水素ナ
トリウムの配合により、歯磨等の口腔用組成物を使用し
た時に特有の使用感、口中のサッパリ感を付与すること
も知られている（特開昭４９−６９８４９号公報）。一
方、歯磨等の口腔用組成物に研磨剤としてジルコニウ
ム、チタニウム及びゲルマニウムから選ばれる金属が結
合した合成無定型ケイ酸塩を配合することにより、高い
汚れ除去効果及びつや出し効果を得る技術も公知である
（特開平５−１４７５０号公報）。
【０００３】しかしながら、上記成分を用いても、生理
的口臭の主原因である舌苔（口腔衛生学会雑誌４６，４
８２〜４８３（１９９６））を取り除く作用は不十分で
あるため、口臭防止効果の持続性に欠ける。また、舌ブ
ラシ等で物理的に舌苔を除去する場合、舌の表面を傷つ
け、味覚障害などを起こす可能性もある。そこで、化学
的に効率よく舌苔を除去できる歯磨組成物の開発が望ま
れている。
的口臭の主原因である舌苔（口腔衛生学会雑誌４６，４
８２〜４８３（１９９６））を取り除く作用は不十分で
あるため、口臭防止効果の持続性に欠ける。また、舌ブ
ラシ等で物理的に舌苔を除去する場合、舌の表面を傷つ
け、味覚障害などを起こす可能性もある。そこで、化学
的に効率よく舌苔を除去できる歯磨組成物の開発が望ま
れている。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは上記要望に応えるため鋭意検討を重ねた結
果、炭酸水素ナトリウムと、チタニウム結合量がＴｉＯ
2としてＳｉＯ2に対し０．５〜１５重量％（ＴｉＯ2換
算、以下特に表示しない限り同じ）であり、遊離のアル
カリ金属（Ｍ）をＭ／ＳｉＯ2として３．０〜１２．０
モル／モル％含有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸
塩とを併用することにより、これら成分が相乗的に作用
し、舌苔除去効果の高い歯磨組成物が得られることを知
見し、本発明をなすに至ったものである。
発明者らは上記要望に応えるため鋭意検討を重ねた結
果、炭酸水素ナトリウムと、チタニウム結合量がＴｉＯ
2としてＳｉＯ2に対し０．５〜１５重量％（ＴｉＯ2換
算、以下特に表示しない限り同じ）であり、遊離のアル
カリ金属（Ｍ）をＭ／ＳｉＯ2として３．０〜１２．０
モル／モル％含有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸
塩とを併用することにより、これら成分が相乗的に作用
し、舌苔除去効果の高い歯磨組成物が得られることを知
見し、本発明をなすに至ったものである。
【０００５】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の歯磨組成物は、（Ａ）炭酸水素ナトリウムと、
（Ｂ）チタニウム結合量がＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し
０．５〜１５重量％であり、遊離のアルカリ金属（Ｍ）
をＭ／ＳｉＯ2として３．０〜１２．０モル／モル％含
有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩とを併用した
ものである。
明の歯磨組成物は、（Ａ）炭酸水素ナトリウムと、
（Ｂ）チタニウム結合量がＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し
０．５〜１５重量％であり、遊離のアルカリ金属（Ｍ）
をＭ／ＳｉＯ2として３．０〜１２．０モル／モル％含
有した合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩とを併用した
ものである。
【０００６】この場合、（Ａ）成分の炭酸水素ナトリウ
ムの配合量は、組成物全体の２〜４０％（重量％、以下
同じ）、特に２〜２０％の範囲が好ましい。配合量が２
％未満では十分な舌苔除去効果が得られない場合があ
り、４０％を超えると塩味等が発現し、使用感が悪くな
る場合がある。
ムの配合量は、組成物全体の２〜４０％（重量％、以下
同じ）、特に２〜２０％の範囲が好ましい。配合量が２
％未満では十分な舌苔除去効果が得られない場合があ
り、４０％を超えると塩味等が発現し、使用感が悪くな
る場合がある。
【０００７】本発明の歯磨組成物は、（Ｂ）成分として
ＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し０．５〜１５％、好ましく
は１．０〜１０％の範囲の合成無定型チタニウム結合ケ
イ酸塩を使用するものである。
ＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し０．５〜１５％、好ましく
は１．０〜１０％の範囲の合成無定型チタニウム結合ケ
イ酸塩を使用するものである。
【０００８】この場合、合成無定型チタニウム結合ケイ
酸塩は、遊離のアルカリ金属（Ｍ）をＭ／ＳｉＯ2とし
て３．０〜１２．０モル／モル％、好ましくは３．５〜
８．０モル／モル％含有したものが好ましい。なお、ア
ルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム、リチウム
等が挙げられるが、ナトリウムが好ましい。
酸塩は、遊離のアルカリ金属（Ｍ）をＭ／ＳｉＯ2とし
て３．０〜１２．０モル／モル％、好ましくは３．５〜
８．０モル／モル％含有したものが好ましい。なお、ア
ルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム、リチウム
等が挙げられるが、ナトリウムが好ましい。
【０００９】更に、上記合成無定型チタニウム結合ケイ
酸塩は、その一次粒子の平均粒子径が０．０１〜０．５
０μｍであり、かつ凝集体の二次平均粒子径は３〜２５
μｍ、ＢＥＴ法による比表面積は２０〜２００ｍ2／ｇ
であることが好ましい。
酸塩は、その一次粒子の平均粒子径が０．０１〜０．５
０μｍであり、かつ凝集体の二次平均粒子径は３〜２５
μｍ、ＢＥＴ法による比表面積は２０〜２００ｍ2／ｇ
であることが好ましい。
【００１０】上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩
は、例えばＳｉＯ2／Ｘ2Ｏ（Ｘ：アルカリ金属）が２〜
４の範囲の水溶性アルカリ金属ケイ酸塩と塩化チタニウ
ム、オキシ塩化チタニウム、硫酸チタニウム、硝酸チタ
ニウム等の水溶性チタニウム塩と塩酸、硫酸等の鉱酸と
を主原料として反応させることによって得ることができ
る。この場合、水溶性チタニウム塩を鉱酸に添加してチ
タニウム含有鉱酸とし、これを水溶性アルカリ金属ケイ
酸塩溶液と反応させることが、シリカ中に均一にチタニ
ウムを結合することができるので好ましい。また、上記
反応は、アルカリ側から開始し、核生成をアルカリ側で
行い、反応終了ｐＨが６〜９となるように行うことが推
奨される。ここで、上記遊離のアルカリ金属は主に水溶
性アルカリ金属ケイ酸塩に由来するものであるが、Ｓｉ
Ｏ2中の含有量の調整は主に反応終了ｐＨによって調整
される。水溶性アルカリ金属ケイ酸塩に由来するアルカ
リ金属で不足するときは別途水溶性アルカリ金属塩を添
加する。これに使用する水溶性アルカリ金属としてはナ
トリウム、カリウム、リチウムの水酸化物や炭酸塩、重
炭酸塩が好例として挙げられるが、ケイ酸塩中への遊離
のアルカリ金属含量を支配する主要因は上記の如く終了
ｐＨである。なお、反応温度は５０〜１００℃がよい。
は、例えばＳｉＯ2／Ｘ2Ｏ（Ｘ：アルカリ金属）が２〜
４の範囲の水溶性アルカリ金属ケイ酸塩と塩化チタニウ
ム、オキシ塩化チタニウム、硫酸チタニウム、硝酸チタ
ニウム等の水溶性チタニウム塩と塩酸、硫酸等の鉱酸と
を主原料として反応させることによって得ることができ
る。この場合、水溶性チタニウム塩を鉱酸に添加してチ
タニウム含有鉱酸とし、これを水溶性アルカリ金属ケイ
酸塩溶液と反応させることが、シリカ中に均一にチタニ
ウムを結合することができるので好ましい。また、上記
反応は、アルカリ側から開始し、核生成をアルカリ側で
行い、反応終了ｐＨが６〜９となるように行うことが推
奨される。ここで、上記遊離のアルカリ金属は主に水溶
性アルカリ金属ケイ酸塩に由来するものであるが、Ｓｉ
Ｏ2中の含有量の調整は主に反応終了ｐＨによって調整
される。水溶性アルカリ金属ケイ酸塩に由来するアルカ
リ金属で不足するときは別途水溶性アルカリ金属塩を添
加する。これに使用する水溶性アルカリ金属としてはナ
トリウム、カリウム、リチウムの水酸化物や炭酸塩、重
炭酸塩が好例として挙げられるが、ケイ酸塩中への遊離
のアルカリ金属含量を支配する主要因は上記の如く終了
ｐＨである。なお、反応温度は５０〜１００℃がよい。
【００１１】上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩の
歯磨組成物への配合量は必ずしも制限されないが、通常
組成物全体の１〜５０％、特に５〜４０％である。
歯磨組成物への配合量は必ずしも制限されないが、通常
組成物全体の１〜５０％、特に５〜４０％である。
【００１２】本発明の歯磨組成物は、練歯磨、液状歯
磨、液体歯磨、ゲル状歯磨などとして調製できるもの
で、本発明の歯磨組成物には、その剤型に応じ、上記必
須成分に加えて任意成分としてその他の添加剤、例えば
研磨剤、粘稠剤、粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐
剤、有効成分、色素、香料等を配合でき、これら成分と
水とを混合し製造できる。
磨、液体歯磨、ゲル状歯磨などとして調製できるもの
で、本発明の歯磨組成物には、その剤型に応じ、上記必
須成分に加えて任意成分としてその他の添加剤、例えば
研磨剤、粘稠剤、粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐
剤、有効成分、色素、香料等を配合でき、これら成分と
水とを混合し製造できる。
【００１３】研磨剤としては、本発明の基剤に加えて以
下の１種類以上のものと組み合わせて使用することが可
能である。即ち、かかる研磨剤として、非晶質シリカ、
結晶性シリカ、沈降性無定形シリカ、火成性シリカ、ア
ルミノシリケート、ジルコノシリケート等のシリカ系研
磨剤、リン酸水素カルシウム・二水和物及びリン酸水素
カルシウム・無水和物、炭酸カルシウム、水酸化アルミ
ニウム、アルミナ、二酸化チタン、ポリメチルメタアク
リレート、不溶性メタリン酸カルシウム、軽質炭酸カル
シウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、第三
リン酸マグネシウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウ
ム、第三リン酸カルシウム、ハイドロキシアパタイト、
フルオロアパタイト、カルシウム欠損アパタイト、ピロ
リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、微結晶セルロー
ス、レジンなどが挙げられる。
下の１種類以上のものと組み合わせて使用することが可
能である。即ち、かかる研磨剤として、非晶質シリカ、
結晶性シリカ、沈降性無定形シリカ、火成性シリカ、ア
ルミノシリケート、ジルコノシリケート等のシリカ系研
磨剤、リン酸水素カルシウム・二水和物及びリン酸水素
カルシウム・無水和物、炭酸カルシウム、水酸化アルミ
ニウム、アルミナ、二酸化チタン、ポリメチルメタアク
リレート、不溶性メタリン酸カルシウム、軽質炭酸カル
シウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、第三
リン酸マグネシウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウ
ム、第三リン酸カルシウム、ハイドロキシアパタイト、
フルオロアパタイト、カルシウム欠損アパタイト、ピロ
リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、微結晶セルロー
ス、レジンなどが挙げられる。
【００１４】粘稠剤としては、グリセリン、ソルビトー
ル、プロピレングリコール、分子量２００〜６０００の
ポリエチレングリコール、エチレングリコール、還元で
んぷん糖化物等の多価アルコール等の１種又は２種以上
が使用できる。
ル、プロピレングリコール、分子量２００〜６０００の
ポリエチレングリコール、エチレングリコール、還元で
んぷん糖化物等の多価アルコール等の１種又は２種以上
が使用できる。
【００１５】粘結剤としては、キサンタンガム、アルギ
ン酸塩、カルボキシメチルセルロース塩、ポリビニルア
ルコール、ヒドロキシエチルセルロース、カラギーナ
ン、アラビアガム、ゼラチン等が挙げられる。
ン酸塩、カルボキシメチルセルロース塩、ポリビニルア
ルコール、ヒドロキシエチルセルロース、カラギーナ
ン、アラビアガム、ゼラチン等が挙げられる。
【００１６】界面活性剤としては、アニオン活性剤、カ
チオン活性剤、ノニオン活性剤等が挙げられ、具体的に
は、ラウリル硫酸ナトリウム、Ｎ−アシルサルコシネー
ト、α−オレフィンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−アシル
グルタメート、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−
Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−
アシルタウレート、ショ糖脂肪酸エステル、アルキロー
ルアマイド、ポリオキシエチレンソルビタンモノステア
レート、プルロニック、ラウリン酸デカグリセリルなど
が挙げられる。
チオン活性剤、ノニオン活性剤等が挙げられ、具体的に
は、ラウリル硫酸ナトリウム、Ｎ−アシルサルコシネー
ト、α−オレフィンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−アシル
グルタメート、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−
Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−
アシルタウレート、ショ糖脂肪酸エステル、アルキロー
ルアマイド、ポリオキシエチレンソルビタンモノステア
レート、プルロニック、ラウリン酸デカグリセリルなど
が挙げられる。
【００１７】甘味剤としては、サッカリンナトリウム、
アスパルテーム、ステビオサイド、ステビアエキス、ｐ
−メトキシシンナミックアルデヒド、ネオヘスペリジル
ジヒドロカルコン、グリチルリチン、ペリラルチン、ソ
ーマチン等、防腐剤としては、安息香酸ナトリウム、パ
ラベン類等が挙げられる。
アスパルテーム、ステビオサイド、ステビアエキス、ｐ
−メトキシシンナミックアルデヒド、ネオヘスペリジル
ジヒドロカルコン、グリチルリチン、ペリラルチン、ソ
ーマチン等、防腐剤としては、安息香酸ナトリウム、パ
ラベン類等が挙げられる。
【００１８】各種有効成分としては、フッ化ナトリウ
ム、フッ化カリウム、フッ化第一錫、フッ化ストロンチ
ウム、モノフルオロリン酸ナトリウム等のフッ化物、水
溶性第一もしくは第二リン酸塩、ピロリン酸塩、トリポ
リリン酸塩、ヘキサメタリン酸塩、塩化リゾチーム、デ
キストラナーゼ、溶菌酵素、ムタナーゼ、クロロヘキシ
ジン又はその塩、ソルビン酸、アレキシジン、ヒノキチ
オール、塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウ
ム、トリクロサン、アラントイン、ε−アミノカプロン
酸、トラネキサム酸、アズレン、ビタミンＥ、第四アン
モニウム化合物、塩化ナトリウム等が挙げられる。
ム、フッ化カリウム、フッ化第一錫、フッ化ストロンチ
ウム、モノフルオロリン酸ナトリウム等のフッ化物、水
溶性第一もしくは第二リン酸塩、ピロリン酸塩、トリポ
リリン酸塩、ヘキサメタリン酸塩、塩化リゾチーム、デ
キストラナーゼ、溶菌酵素、ムタナーゼ、クロロヘキシ
ジン又はその塩、ソルビン酸、アレキシジン、ヒノキチ
オール、塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウ
ム、トリクロサン、アラントイン、ε−アミノカプロン
酸、トラネキサム酸、アズレン、ビタミンＥ、第四アン
モニウム化合物、塩化ナトリウム等が挙げられる。
【００１９】香料としては、ｐ−メントール、カルボ
ン、アネトール、シネオール、メチルサリシレート、リ
モネン、エチルブチレート、オイゲノール、チモール、
シンナミックアルデヒド等の香料成分又はその誘導体、
ペパーミント、スペアミント等の精油成分が例示され、
着色剤としては青色１号、黄色４号、緑色３号などが例
示される。
ン、アネトール、シネオール、メチルサリシレート、リ
モネン、エチルブチレート、オイゲノール、チモール、
シンナミックアルデヒド等の香料成分又はその誘導体、
ペパーミント、スペアミント等の精油成分が例示され、
着色剤としては青色１号、黄色４号、緑色３号などが例
示される。
【００２０】なお、これらの成分の配合量は、本発明の
効果を妨げない範囲で通常量とすることができる。
効果を妨げない範囲で通常量とすることができる。
【００２１】本発明の歯磨組成物は、炭酸水素ナトリウ
ムと上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合わ
せたことにより、舌苔除去効果の高いものである。
ムと上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合わ
せたことにより、舌苔除去効果の高いものである。
【００２２】
【実施例】次に、実験例及び実施例により本発明の効果
を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限され
るものではない。
を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限され
るものではない。
【００２３】［実験例１］表１に示す種類、濃度のサン
プルを調製し、舌苔除去効果を下記方法で評価した。結
果を表１に併記する。舌苔除去効果評価法 切り取ったハムスターチークポーチ（１ｃｍ角正方形）
に、予め嫌気培養したＦｕｚｏ ｎｕｃｌｅａｔｕｍ菌
を付着させる。次に、付着させた菌（舌苔）を２回水洗
した後、サンプル液３ｍｌを添加し、３７℃で３０分間
振盪しながら作用させる。次いで、サンプル液を捨て、
３回水洗した後、残った菌量を測定する。コントロール
としてサンプルを添加しないものを用いて同様の実験を
行い、その時の付着菌量を（Ｘ0）と、サンプル液を用
いた時の付着菌量（Ｘs）より、舌苔除去率を次式より
求める。 舌苔除去率（％）＝（Ｘ0−Ｘs）／Ｘ0×１００ サンプル液：下記処方の歯磨剤を精製水にて３倍に希
釈、分散させる。歯磨剤処方 炭酸水素ナトリウム 表１に示す量 研磨剤 表１に示す量 アルギン酸ナトリウム １．５％ プロピレングリコール ３ ソルビット ２５ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ 香料 １ 精製水 残 計 １００．０％
プルを調製し、舌苔除去効果を下記方法で評価した。結
果を表１に併記する。舌苔除去効果評価法 切り取ったハムスターチークポーチ（１ｃｍ角正方形）
に、予め嫌気培養したＦｕｚｏ ｎｕｃｌｅａｔｕｍ菌
を付着させる。次に、付着させた菌（舌苔）を２回水洗
した後、サンプル液３ｍｌを添加し、３７℃で３０分間
振盪しながら作用させる。次いで、サンプル液を捨て、
３回水洗した後、残った菌量を測定する。コントロール
としてサンプルを添加しないものを用いて同様の実験を
行い、その時の付着菌量を（Ｘ0）と、サンプル液を用
いた時の付着菌量（Ｘs）より、舌苔除去率を次式より
求める。 舌苔除去率（％）＝（Ｘ0−Ｘs）／Ｘ0×１００ サンプル液：下記処方の歯磨剤を精製水にて３倍に希
釈、分散させる。歯磨剤処方 炭酸水素ナトリウム 表１に示す量 研磨剤 表１に示す量 アルギン酸ナトリウム １．５％ プロピレングリコール ３ ソルビット ２５ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ 香料 １ 精製水 残 計 １００．０％
【００２４】
【表１】 ＊ Ｎａ／ＳｉＯ2＝５．０モル％ ＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し５．０重量％
【００２５】表１に示したように、炭酸水素ナトリウム
と合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合わせた組
成は、炭酸水素ナトリウムと他の研磨剤を組み合わせた
組成に比較して舌苔除去効果が高いことが分かった。
と合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合わせた組
成は、炭酸水素ナトリウムと他の研磨剤を組み合わせた
組成に比較して舌苔除去効果が高いことが分かった。
【００２６】［実験例２］表２に示す成分を含有する下
記の処方の歯磨剤を調製した。これらサンプルの舌苔除
去効果を人を用いた使用試験にて評価した。即ち、口腔
内に疾患のない成人５人を被験者とし、３日間口腔清掃
を中止した後、サンプルで３分間歯磨きを１日３回、３
日間行う。その後、各々の舌苔付着の程度を下記の評価
方法に従い、比較した。結果を表２に示す。 舌苔除去率（％）＝（使用前の舌苔付着面積−使用後の
舌苔付着面積）／使用前の舌苔付着面積×１００歯磨剤処方 炭酸水素ナトリウム 表２に示す量 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩 表２に示す量 アルギン酸ナトリウム １．５％ プロピレングリコール ３ ソルビット ２５ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ 香料 １ 精製水 残 計 １００．０％
記の処方の歯磨剤を調製した。これらサンプルの舌苔除
去効果を人を用いた使用試験にて評価した。即ち、口腔
内に疾患のない成人５人を被験者とし、３日間口腔清掃
を中止した後、サンプルで３分間歯磨きを１日３回、３
日間行う。その後、各々の舌苔付着の程度を下記の評価
方法に従い、比較した。結果を表２に示す。 舌苔除去率（％）＝（使用前の舌苔付着面積−使用後の
舌苔付着面積）／使用前の舌苔付着面積×１００歯磨剤処方 炭酸水素ナトリウム 表２に示す量 合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩 表２に示す量 アルギン酸ナトリウム １．５％ プロピレングリコール ３ ソルビット ２５ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ 香料 １ 精製水 残 計 １００．０％
【００２７】
【表２】 ＊ Ｎａ／ＳｉＯ2＝５．０モル％ ＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し５．０重量％
【００２８】表２に示したように、炭酸水素ナトリウム
と合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合わせた組
成は、コントロール、炭酸ナトリウム単独配合、及び合
成無定型チタニウム結合ケイ酸塩単独配合組成に比較し
て舌苔除去効果が高いことが分かった。
と合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合わせた組
成は、コントロール、炭酸ナトリウム単独配合、及び合
成無定型チタニウム結合ケイ酸塩単独配合組成に比較し
て舌苔除去効果が高いことが分かった。
【００２９】以下に実施例を更に示すが、基剤とは合成
無定型チタニウム結合ケイ酸塩のことであり、括弧内に
記号で示す。ＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対して結合してい
る重量％として、ａ＝ＴｉＯ2１％、ｂ＝ＴｉＯ2５％、
ｃ＝ＴｉＯ2１５％、また、ここで使用した合成無定型
チタニウム結合ケイ酸塩中の遊離のアルカリ金属として
Ｎａ金属をＮａ／ＳｉＯ2でＮａ５．４ｍｏｌ％の基剤
を使用した。配合量は全て重量％である。
無定型チタニウム結合ケイ酸塩のことであり、括弧内に
記号で示す。ＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対して結合してい
る重量％として、ａ＝ＴｉＯ2１％、ｂ＝ＴｉＯ2５％、
ｃ＝ＴｉＯ2１５％、また、ここで使用した合成無定型
チタニウム結合ケイ酸塩中の遊離のアルカリ金属として
Ｎａ金属をＮａ／ＳｉＯ2でＮａ５．４ｍｏｌ％の基剤
を使用した。配合量は全て重量％である。
【００３０】［実施例１］練歯磨 基剤ａ ２５％ カルボキシメチルセルロース ０．８ キサンタンガム ０．５ ソルビット ３０ プロピレングリコール ３ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ 炭酸水素ナトリウム ５ ブチルパラベン ０．１ 香料 １精製水 残 計 １００％
【００３１】［実施例２］練歯磨 基剤ａ １５％ アルギン酸ナトリウム １ ポリアクリル酸 ０．４ グリセリン ３０ プロピレングリコール ３ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ 酢酸トコフェロール ０．１ 炭酸水素ナトリウム １０ エチルパラベン ０．１ 香料 ０．９精製水 残 計 １００％
【００３２】［実施例３］練歯磨 基剤ａ ２６％ アルギン酸ナトリウム １．５ ソルビット ２５ グリセリン １０ ポリエチレングリコール ５ ラウリル硫酸ナトリウム ２ 炭酸水素ナトリウム ８ トラネキサム酸 ０．１ アラントイン ０．１ メチルパラベン ０．１ 香料 ０．８精製水 残 計 １００％
【００３３】［実施例４］練歯磨 基剤ｂ ３０％ ヒドロキシエチルセルロース １ カラギーナン ０．４ ソルビット １５ グリセリン １５ プロピレングリコール ３ 炭酸水素ナトリウム １０ サッカリンナトリウム ０．３ 酢酸トコフェロール ０．１ 安息香酸ナトリウム ０．５ 香料 １．１精製水 残 計 １００％
【００３４】［実施例５］練歯磨 基剤ｂ ２６％ アルギン酸ナトリウム １．０ カルボキシメチルセルロース ０．２ グリセリン ３５ ポリエチレングリコール ５ ラウリル硫酸ナトリウム １．０ 炭酸水素ナトリウム １４ キシリトール ５ 安息香酸ナトリウム ０．５ 香料 １．０精製水 残 計 １００％
【００３５】［実施例６］練歯磨 基剤ｂ ３０％ ヒドロキシエチルセルロース ０．７ カラギーナン ０．６ ソルビット １０ グリセリン ２５ プロピレングリコール ３ 炭酸水素ナトリウム ５ サッカリンナトリウム ０．４ ブチルパラベン ０．１ 香料 １．２精製水 残 計 １００％
【００３６】［実施例７］液状歯磨 基剤ｃ １５％ ポリアクリル酸ナトリウム ０．５ キサンタンガム ０．２ ソルビット ２８ プロピレングリコール ３ ショ糖脂肪酸エステル ２ グリチルリチン酸ジカリウム ０．０５ トリクロサン ０．３ 炭酸水素ナトリウム ７ サッカリンナトリウム ０．１ エチルブチレート ０．１ 香料 １．０精製水 残 計 １００％
【００３７】［実施例８］液状歯磨 基剤ｃ １０％ カルボキシメチルセルロース ０．４ キサンタンガム ０．４ グリセリン ３０ ポリエチレングリコール ３ ラウリル硫酸ナトリウム １．２ オウバクエキス ０．７６ 炭酸水素ナトリウム １２ メチルパラベン ０．１８ サッカリンナトリウム ０．１ 香料 ０．９精製水 残 計 １００％
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年５月１０日（１９９９．５．１
０）
０）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】
【発明の効果】本発明の歯磨組成物は、炭酸水素ナトリ
ウムと上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合
わせたことにより、舌苔除去効果の高いものである。
ウムと上記合成無定型チタニウム結合ケイ酸塩を組み合
わせたことにより、舌苔除去効果の高いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C083 AA112 AB171 AB172 AB222 AB241 AB242 AB311 AB312 AB322 AB371 AB372 AC122 AC132 AC312 AC342 AC442 AC482 AC622 AC792 AC812 AC852 AC862 AD092 AD272 AD302 AD352 AD532 AD662 CC41 DD22 EE34
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ａ）炭酸水素ナトリウムと、（Ｂ）チ
タニウム結合量がＴｉＯ2としてＳｉＯ2に対し０．５〜
１５重量％であり、遊離のアルカリ金属（Ｍ）をＭ／Ｓ
ｉＯ2として３．０〜１２．０モル／モル％含有した合
成無定型チタニウム結合ケイ酸塩とを併用したことを特
徴とする歯磨組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10813299A JP2000297021A (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | 歯磨組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10813299A JP2000297021A (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | 歯磨組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000297021A true JP2000297021A (ja) | 2000-10-24 |
Family
ID=14476754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10813299A Pending JP2000297021A (ja) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | 歯磨組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000297021A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002302428A (ja) * | 2001-04-03 | 2002-10-18 | Nippon Zettoc Co Ltd | 口腔用組成物 |
| JP2010265310A (ja) * | 2003-09-26 | 2010-11-25 | Tahitian Noni Internatl Inc | モリンダ・シトリフォリアベースの口腔ケア組成物および方法 |
| JP2022066391A (ja) * | 2017-10-12 | 2022-04-28 | サンスター株式会社 | シリカ含有口腔用組成物 |
-
1999
- 1999-04-15 JP JP10813299A patent/JP2000297021A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002302428A (ja) * | 2001-04-03 | 2002-10-18 | Nippon Zettoc Co Ltd | 口腔用組成物 |
| JP2010265310A (ja) * | 2003-09-26 | 2010-11-25 | Tahitian Noni Internatl Inc | モリンダ・シトリフォリアベースの口腔ケア組成物および方法 |
| JP2022066391A (ja) * | 2017-10-12 | 2022-04-28 | サンスター株式会社 | シリカ含有口腔用組成物 |
| JP7331182B2 (ja) | 2017-10-12 | 2023-08-22 | サンスター株式会社 | シリカ含有口腔用組成物 |
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