JP2000281625A - 光学活性な１−アシルオキシ−３−ヒドロキシ化合物の製造方法 - Google Patents
光学活性な１−アシルオキシ−３−ヒドロキシ化合物の製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 メソ−２−シクロアルケン−１，４−ジオー
ルの水酸基を有機合成の手法により選択的に化学修飾・
非対称化して、光学活性な４−アシルオキシ−２−シク
ロアルケン−１−オールに代表される光学活性な２−シ
クロアルケン−１−オール誘導体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 メソ−２−シクロアルケン−１，４−ジ
オールの水酸基を有機合成の手法により選択的に化学修
飾・非対称化して、光学活性な２−シクロアルケン−１
−オール誘導体を製造する方法において、不斉アシル化
の触媒系であるアシル化剤と触媒量のジアミンと第三級
アミンを用いるアシル化方法を適応し、光学活性な４−
アシルオキシ−２−シクロアルケン−１−オールを製造
する。
ルの水酸基を有機合成の手法により選択的に化学修飾・
非対称化して、光学活性な４−アシルオキシ−２−シク
ロアルケン−１−オールに代表される光学活性な２−シ
クロアルケン−１−オール誘導体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 メソ−２−シクロアルケン−１，４−ジ
オールの水酸基を有機合成の手法により選択的に化学修
飾・非対称化して、光学活性な２−シクロアルケン−１
−オール誘導体を製造する方法において、不斉アシル化
の触媒系であるアシル化剤と触媒量のジアミンと第三級
アミンを用いるアシル化方法を適応し、光学活性な４−
アシルオキシ−２−シクロアルケン−１−オールを製造
する。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、有機合成の手法に
よる不斉アシル化反応により、光学活性化合物を製造す
る方法に関するものである。
よる不斉アシル化反応により、光学活性化合物を製造す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】メソ−２−シクロアルケン−１，４−ジ
オールの水酸基を有機合成の手法により選択的に化学修
飾・非対称化して、光学活性な４−アシルオキシ−２−
シクロアルケン−１−オールに代表される光学活性な２
−シクロアルケン−１−オール誘導体の製造方法として
は、Ａ）Kurt Laumen and Manfred Schneider, Tetrahe
dron Lett., 25(51), 5875(1984).； Ｂ）Kurt Laumen
and Manfred Schneider,J. Chem. Soc., Vhem. Commu
n.,1298(1986).； Ｃ）Donald R. Deardorff, A.J. Mat
thews, D. Scott McMeekin, and Chris L. Craney, Tet
rahedron Lett.,27(11), 1255(1986). ；Ｄ）Takashi S
ugai and Kenji Mori, Synthesis, 19(1988).； Ｅ）Fr
itz Theil, Sibylle Ballschuh, Hans Schick, Monika
Haupt, Barbara Hafner, and Sigfrid Schwarz, Synthe
sis, 540(1988).； Ｆ）Chi-HueyWong, S.-T. Chen, Wi
lliam J. Hennen, Jeffrey A. Bibbs, Y.-F. Wang, Jen
nifer L.-C. Liu, Michael W. Pantoliano, Larc Whitl
ow, and Philip N. Bryan,J. Am. Chem. Soc., 112, 74
5(1990). ；Ｇ）Lecette Duhamel and Thierry Herman,
Tetrahedron Lett., 26(26), 3099(1985).が挙げられ
る。
オールの水酸基を有機合成の手法により選択的に化学修
飾・非対称化して、光学活性な４−アシルオキシ−２−
シクロアルケン−１−オールに代表される光学活性な２
−シクロアルケン−１−オール誘導体の製造方法として
は、Ａ）Kurt Laumen and Manfred Schneider, Tetrahe
dron Lett., 25(51), 5875(1984).； Ｂ）Kurt Laumen
and Manfred Schneider,J. Chem. Soc., Vhem. Commu
n.,1298(1986).； Ｃ）Donald R. Deardorff, A.J. Mat
thews, D. Scott McMeekin, and Chris L. Craney, Tet
rahedron Lett.,27(11), 1255(1986). ；Ｄ）Takashi S
ugai and Kenji Mori, Synthesis, 19(1988).； Ｅ）Fr
itz Theil, Sibylle Ballschuh, Hans Schick, Monika
Haupt, Barbara Hafner, and Sigfrid Schwarz, Synthe
sis, 540(1988).； Ｆ）Chi-HueyWong, S.-T. Chen, Wi
lliam J. Hennen, Jeffrey A. Bibbs, Y.-F. Wang, Jen
nifer L.-C. Liu, Michael W. Pantoliano, Larc Whitl
ow, and Philip N. Bryan,J. Am. Chem. Soc., 112, 74
5(1990). ；Ｇ）Lecette Duhamel and Thierry Herman,
Tetrahedron Lett., 26(26), 3099(1985).が挙げられ
る。
【０００３】上述のＡ）からＣ）は、水中で酵素を用い
てジアシル体を加水分解する方法であり、Ｄ）からＦ）
は、有機溶媒中で酵素を用いてジオール体をアシル化す
ることにより、それぞれ光学活性な４−アシルオキシ−
２−シクロアルケン−１−オールを得る方法である。し
かしながら、これら酵素法では、一方の鏡像体しか得ら
れない。そこで、上記酵素方法において、酵素を選択す
ることにより両鏡像体を合成することは可能であるが、
各々の合成法に対し各々の製造プロセスを開発する必要
があり、たとえ製造プロセスが開発されたとしても、汎
用性のない製造プロセスしか得られない。
てジアシル体を加水分解する方法であり、Ｄ）からＦ）
は、有機溶媒中で酵素を用いてジオール体をアシル化す
ることにより、それぞれ光学活性な４−アシルオキシ−
２−シクロアルケン−１−オールを得る方法である。し
かしながら、これら酵素法では、一方の鏡像体しか得ら
れない。そこで、上記酵素方法において、酵素を選択す
ることにより両鏡像体を合成することは可能であるが、
各々の合成法に対し各々の製造プロセスを開発する必要
があり、たとえ製造プロセスが開発されたとしても、汎
用性のない製造プロセスしか得られない。
【０００４】また、上記Ｇ）は、光学活性なアミンを用
いた有機合成の手法によるものである。この方法では、
不斉源である光学活性アミンが基質に対し等モル必要で
あり、かつ得られた４−アシルオキシ−２−シクロアル
ケン−１−オールの光学純度は高くない。
いた有機合成の手法によるものである。この方法では、
不斉源である光学活性アミンが基質に対し等モル必要で
あり、かつ得られた４−アシルオキシ−２−シクロアル
ケン−１−オールの光学純度は高くない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、有機合成的に
デザインされた不斉源を用いた不斉合成反応を開発でき
れば、不斉源の立体化学を代えるだけで同一のプロセス
により、両鏡像体を作り分けることが可能である。ま
た、経済性を考えた場合、不斉源は基質に対し触媒量で
進む反応が好ましい。
デザインされた不斉源を用いた不斉合成反応を開発でき
れば、不斉源の立体化学を代えるだけで同一のプロセス
により、両鏡像体を作り分けることが可能である。ま
た、経済性を考えた場合、不斉源は基質に対し触媒量で
進む反応が好ましい。
【０００６】
【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するために、本発明は、以下のような特徴を有する。
するために、本発明は、以下のような特徴を有する。
【０００７】（Ｉ）触媒量の上記一般式（１）で表わさ
れる光学活性なジアミンおよび第三級アミンおよび上記
一般式（２）で表されるハロゲン化アシルとから成るア
シル化反応の触媒系により、上記一般式（３）で表わさ
れるメソ−１，３−ジオールの水酸基を選択的にアシル
化することを特徴とする上記一般式（４）で表わされる
光学活性なアルコールの製造方法である。
れる光学活性なジアミンおよび第三級アミンおよび上記
一般式（２）で表されるハロゲン化アシルとから成るア
シル化反応の触媒系により、上記一般式（３）で表わさ
れるメソ−１，３−ジオールの水酸基を選択的にアシル
化することを特徴とする上記一般式（４）で表わされる
光学活性なアルコールの製造方法である。
【０００８】上記光学活性なアミンおよび第三級アミン
およびハロゲン化アシルからなるアシル化反応の触媒系
を用いることにより、同一のプロセスでも、両鏡像体を
製造し分けることができる。また、第三級アミンを添加
することにより、高価な不斉源である光学活性なアミン
の使用量を触媒量に低減することができる。
およびハロゲン化アシルからなるアシル化反応の触媒系
を用いることにより、同一のプロセスでも、両鏡像体を
製造し分けることができる。また、第三級アミンを添加
することにより、高価な不斉源である光学活性なアミン
の使用量を触媒量に低減することができる。
【０００９】（II）触媒量の上記一般式（１）で表わさ
れる光学活性なジアミンおよび第三級アミンおよび上記
一般式（２）で表されるハロゲン化アシルから成るアシ
ル化反応の触媒系により、上記一般式（５）で表わされ
るメソ−１，３−ジオールの水酸基を選択的にアシル化
することを特徴とする上記一般式（６）で表わされる光
学活性なアルコールの製造方法。
れる光学活性なジアミンおよび第三級アミンおよび上記
一般式（２）で表されるハロゲン化アシルから成るアシ
ル化反応の触媒系により、上記一般式（５）で表わされ
るメソ−１，３−ジオールの水酸基を選択的にアシル化
することを特徴とする上記一般式（６）で表わされる光
学活性なアルコールの製造方法。
【００１０】上記製造方法により、環状のメソ−１，３
−ジオールの水酸基を選択的にアシル化して、環状の光
学活性なアルコールを製造することができる。
−ジオールの水酸基を選択的にアシル化して、環状の光
学活性なアルコールを製造することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】更に、本発明について詳説する。
【００１２】上述の一般式（１）で表わされるジアミン
化合物においてＲ0およびＲ1はメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブ
チル基、ｓｅｃ−ブチル基、置換基を有してもよい。さ
らに、Ｒ0とＲ1は同一であっても同一でなくてもよい。
Ｒ2はベンジル基であり、ベンゼン環上に置換基を有し
てもよい。さらに、Ｒ1とＲ2は結合し環を形成してもよ
い。代表的には１−メチル−２（（ジヒドロイソインド
ール−２−イル）メチル）ピロリジン、１−エチル−２
（（ジヒドロイソインドール−２−イル）メチル）ピロ
リジン、１−プロピル−２（（ジヒドロイソインドール
−２−イル）メチル）ピロリジン、１−イソプロピル−
２（（ジヒドロイソインドール−２−イル）メチル）ピ
ロリジン、１−メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メ
チル）アミノメチル）ピロリジン、１−メチル−２−
（（Ｎ−（４−メチルベンジル）−Ｎ−メチル）アミノ
メチル）ピロリジン、１−メチル−２−（（Ｎ−（３−
メチルベンジル）−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリ
ジン、１−メチル−２−（（Ｎ−（２−メチルベンジ
ル）−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン、１−エ
チル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメチ
ル）ピロリジン、１−イソプロピル−２−（（Ｎ−ベン
ジル−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン、１−メ
チル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメチ
ル）ピロリジン、１−メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−
Ｎ−プロピル）アミノメチル）ピロリジン、１−メチル
−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソプロピル）アミノメ
チル）ピロリジンなどが挙げられ、これらはいずれも光
学活性体である。また、光学活性点の立体化学は特に規
定するものではなく、目的に応じで両光学異性体を使い
分けて使用することができる。
化合物においてＲ0およびＲ1はメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブ
チル基、ｓｅｃ−ブチル基、置換基を有してもよい。さ
らに、Ｒ0とＲ1は同一であっても同一でなくてもよい。
Ｒ2はベンジル基であり、ベンゼン環上に置換基を有し
てもよい。さらに、Ｒ1とＲ2は結合し環を形成してもよ
い。代表的には１−メチル−２（（ジヒドロイソインド
ール−２−イル）メチル）ピロリジン、１−エチル−２
（（ジヒドロイソインドール−２−イル）メチル）ピロ
リジン、１−プロピル−２（（ジヒドロイソインドール
−２−イル）メチル）ピロリジン、１−イソプロピル−
２（（ジヒドロイソインドール−２−イル）メチル）ピ
ロリジン、１−メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メ
チル）アミノメチル）ピロリジン、１−メチル−２−
（（Ｎ−（４−メチルベンジル）−Ｎ−メチル）アミノ
メチル）ピロリジン、１−メチル−２−（（Ｎ−（３−
メチルベンジル）−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリ
ジン、１−メチル−２−（（Ｎ−（２−メチルベンジ
ル）−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン、１−エ
チル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメチ
ル）ピロリジン、１−イソプロピル−２−（（Ｎ−ベン
ジル−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン、１−メ
チル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメチ
ル）ピロリジン、１−メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−
Ｎ−プロピル）アミノメチル）ピロリジン、１−メチル
−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソプロピル）アミノメ
チル）ピロリジンなどが挙げられ、これらはいずれも光
学活性体である。また、光学活性点の立体化学は特に規
定するものではなく、目的に応じで両光学異性体を使い
分けて使用することができる。
【００１３】反応に用いられる一般式（１）で表わされ
る光学活性なジアミンの量は、原料であるメソ−１，３
−ジオールに対し１当量未満であり、好適には０．１〜
０．００１当量である。触媒量が０．１当量を超える
と、経済的な効果が現れにくいことが多く、また０．０
０１当量未満では、原料や溶媒に含まれる微量成分の影
響を受けるなどの原因で最少必要量を確定することは現
実には困難なことが多い。基質や反応剤の経済性あるい
は生成物の分離方法等を考慮して、適宜その必要量は選
択させるものであり、量は特に規定するものではない。
る光学活性なジアミンの量は、原料であるメソ−１，３
−ジオールに対し１当量未満であり、好適には０．１〜
０．００１当量である。触媒量が０．１当量を超える
と、経済的な効果が現れにくいことが多く、また０．０
０１当量未満では、原料や溶媒に含まれる微量成分の影
響を受けるなどの原因で最少必要量を確定することは現
実には困難なことが多い。基質や反応剤の経済性あるい
は生成物の分離方法等を考慮して、適宜その必要量は選
択させるものであり、量は特に規定するものではない。
【００１４】第三級アミンとしては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリ
ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルメチルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジイ
ソプロピルエチルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシル
メチルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルエチルアミ
ン、 Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルプロピルアミン、１−
メチルピロリジン、１−メチルピペリジン、 １，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１，８−ビス
（ジメチルアミノ）ナフタレン、ピリジン、コリジン、
２，６−ルチジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレン
ジアミンなどが挙げられる。
ン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリ
ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルメチルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジイ
ソプロピルエチルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシル
メチルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルエチルアミ
ン、 Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルプロピルアミン、１−
メチルピロリジン、１−メチルピペリジン、 １，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１，８−ビス
（ジメチルアミノ）ナフタレン、ピリジン、コリジン、
２，６−ルチジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレン
ジアミンなどが挙げられる。
【００１５】一般にアシル化反応では、原料となるアル
コールに対して１．０当量のアミンが用いられる。本反
応においては、第三級アミンと光学活性なジアミンが上
記アミンに相当する。本発明に用いられる第三級アミン
の量は、原料であるメソ−１，３−ジオールに対し０．
７〜３．０当量であり、好適には０．．９〜１．５当量
であるが特に量を規定するものではない。基質や反応剤
の組合せによって適宜選択される。
コールに対して１．０当量のアミンが用いられる。本反
応においては、第三級アミンと光学活性なジアミンが上
記アミンに相当する。本発明に用いられる第三級アミン
の量は、原料であるメソ−１，３−ジオールに対し０．
７〜３．０当量であり、好適には０．．９〜１．５当量
であるが特に量を規定するものではない。基質や反応剤
の組合せによって適宜選択される。
【００１６】上記一般式（２）において、Ｘは臭素原子
あるいは塩素原子であり、好適には塩素原子である。ま
た、Ｒ3はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シク
ロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基などに代表され
る炭素数１〜６の直鎖状あるいは炭素数１〜６分岐状ア
ルキル基あるいはアリール基であり、更にハロゲン原
子、アルコキシ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基
などが置換していてもよい。また、上記ハロゲン化置換
ベンゾイルとしては、例えばハロゲン原子、アルコキシ
基、ニトロ基、アルキル基、アリール基などが置換して
いてもよい塩化ベンゾイルもしくは臭化ベンゾイルであ
る。
あるいは塩素原子であり、好適には塩素原子である。ま
た、Ｒ3はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シク
ロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基などに代表され
る炭素数１〜６の直鎖状あるいは炭素数１〜６分岐状ア
ルキル基あるいはアリール基であり、更にハロゲン原
子、アルコキシ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基
などが置換していてもよい。また、上記ハロゲン化置換
ベンゾイルとしては、例えばハロゲン原子、アルコキシ
基、ニトロ基、アルキル基、アリール基などが置換して
いてもよい塩化ベンゾイルもしくは臭化ベンゾイルであ
る。
【００１７】反応に用いられる一般式（２）で表わされ
るハロゲン化アシルの量は、原料であるメソ−１，３−
ジオールに対し、原理的にはハロゲン化アシルが１当量
必要であるが、ジアシル化物の副生や目的とするアシル
化物の光学純度を考慮して選ばれる。具体的には、ハロ
ゲン化アシルの量は、原料であるメソ−１，３−ジオー
ルに対し０．５〜２．０当量であるが、特に量を規定す
るものではない。基質や反応剤の組合せによって適宜選
択される。
るハロゲン化アシルの量は、原料であるメソ−１，３−
ジオールに対し、原理的にはハロゲン化アシルが１当量
必要であるが、ジアシル化物の副生や目的とするアシル
化物の光学純度を考慮して選ばれる。具体的には、ハロ
ゲン化アシルの量は、原料であるメソ−１，３−ジオー
ルに対し０．５〜２．０当量であるが、特に量を規定す
るものではない。基質や反応剤の組合せによって適宜選
択される。
【００１８】モレキュラーシーブ４Ａは、その添加によ
り反応速度が大きくなり、結果として収率を向上させる
効果があることが分かっている。本発明の実施例でもモ
レキュラーシーブ４Ａを用いてはいるが、モレキュラー
シーブ４Ａに代表される反応促進剤の量あるいはその存
在の有無について特に規定するものではない。
り反応速度が大きくなり、結果として収率を向上させる
効果があることが分かっている。本発明の実施例でもモ
レキュラーシーブ４Ａを用いてはいるが、モレキュラー
シーブ４Ａに代表される反応促進剤の量あるいはその存
在の有無について特に規定するものではない。
【００１９】反応に用いる溶媒としては、塩化メチレ
ン、エチレンジクロリド、クロロホルム、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセトニ
トリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシドなど非プロトン性の有
機溶媒が用いられ、特に溶剤の種類を規定するものでは
ない。
ン、エチレンジクロリド、クロロホルム、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセトニ
トリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシドなど非プロトン性の有
機溶媒が用いられ、特に溶剤の種類を規定するものでは
ない。
【００２０】反応温度としては、−７８℃から４０℃の
範囲で選ばれ、好適には−７８℃から０℃であるが、基
質や反応剤の組合せによって適宜選択されるものであっ
て、特に規定するものではない。
範囲で選ばれ、好適には−７８℃から０℃であるが、基
質や反応剤の組合せによって適宜選択されるものであっ
て、特に規定するものではない。
【００２１】メソ−１，３−ジオールである上記一般式
（３）および（５）の化合物において、アリール基とし
てはフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。また、
スルホニルオキシ基としてはメタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基に代表され
るアルカンスルホニルオキシ基およびベンゼンスルホニ
ルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基に代表される
アリールスルホニルオキシ基が挙げられる。具体的に
は、２−フェニル−１，３−プロパンジオール、２−エ
チル−２−フェニル−１，３−プロパンジオール、２−
ｐ−トルエンスルホニルオキシ−１，３−プロパンジオ
ール、４，４−ビス（ヒドロキシメチル）−１−シクロ
ヘキセン、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２
−オキシラニル−１，３−プロパンジオール、２−メチ
ルオキシ−１，３−プロパンジオール、２−（４−ピリ
ジル）−１，３−プロパンジオール、メソ−３−メチル
ペンタン−２，４−ジオール、メソ−１，３−ジフェニ
ル−２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２
−メチル−２−フェニル−１，３−プロパンジオール、
２，３−ジヒドロ−１，１−ヒドロキシメチル−７−メ
トキシ−１Ｈ−インデン、２−ベンジル−１，３−プロ
パンジオール、２−シクロヘキシル−２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２−（１−プロペン−１−イ
ル）−１，３−プロパンジオール、メソ−４，４−ビス
（１−ヒドロキシエチル）−１−シクロヘキセン、２−
ヘキシル−１，２，３−プロパントリオール、メソ−２
−シクロペンテン−１，４−ジオール、メソ−２，２−
ジメチル−４−シクロペンテン−１，３−ジオール、メ
ソ−シクロペンタン−１，３−ジオール、メソ−１，６
−ジヒドロキシシクロヘプタ−２，４−ジエン、メソ−
２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１，３−ジオー
ル、メソ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］−８−ノ
ネン−３，５−ジオール、メソ−２，２−ジメチル−シ
クロペンタン−１，３−ジオール、メソ−シクロペンタ
ン−１，３−ジオール、メソ−２，３−エポキシシクロ
ペンタン−１，４−ジオール、メソ−シクロヘキサン−
１，３−ジオール、メソ−２−メチル−２−ニトロ−シ
クロヘキサン−１，３−ジオール、メソ−３，５−ジヒ
ドロキシピラン、メソ−２，３−ジエチルシクロペンタ
ン−１，４−ジオール、メソ−５−ベンジルオキシシク
ロヘキサン−１，３−ジオール、メソ−３−メトキシ−
Ｎ−メチル−アザビシク［３．２．１］−６−オクテン
−２，４−ジオール、メソ−１，４，４ａ，５，８，８
ａ−ヘキサヒドロナフタレン−１，８−ジオール、メソ
−シクロオクタン−１，３−ジオール、メソ−２，３−
Ｏ−アセトニド−シクロペンタン−１，２，３，４−テ
トラオール、が挙げられる。また対称な位置に、かつ対
称になる立体化学で置換基を有してもよい。
（３）および（５）の化合物において、アリール基とし
てはフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。また、
スルホニルオキシ基としてはメタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基に代表され
るアルカンスルホニルオキシ基およびベンゼンスルホニ
ルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基に代表される
アリールスルホニルオキシ基が挙げられる。具体的に
は、２−フェニル−１，３−プロパンジオール、２−エ
チル−２−フェニル−１，３−プロパンジオール、２−
ｐ−トルエンスルホニルオキシ−１，３−プロパンジオ
ール、４，４−ビス（ヒドロキシメチル）−１−シクロ
ヘキセン、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２
−オキシラニル−１，３−プロパンジオール、２−メチ
ルオキシ−１，３−プロパンジオール、２−（４−ピリ
ジル）−１，３−プロパンジオール、メソ−３−メチル
ペンタン−２，４−ジオール、メソ−１，３−ジフェニ
ル−２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２
−メチル−２−フェニル−１，３−プロパンジオール、
２，３−ジヒドロ−１，１−ヒドロキシメチル−７−メ
トキシ−１Ｈ−インデン、２−ベンジル−１，３−プロ
パンジオール、２−シクロヘキシル−２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２−（１−プロペン−１−イ
ル）−１，３−プロパンジオール、メソ−４，４−ビス
（１−ヒドロキシエチル）−１−シクロヘキセン、２−
ヘキシル−１，２，３−プロパントリオール、メソ−２
−シクロペンテン−１，４−ジオール、メソ−２，２−
ジメチル−４−シクロペンテン−１，３−ジオール、メ
ソ−シクロペンタン−１，３−ジオール、メソ−１，６
−ジヒドロキシシクロヘプタ−２，４−ジエン、メソ−
２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１，３−ジオー
ル、メソ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］−８−ノ
ネン−３，５−ジオール、メソ−２，２−ジメチル−シ
クロペンタン−１，３−ジオール、メソ−シクロペンタ
ン−１，３−ジオール、メソ−２，３−エポキシシクロ
ペンタン−１，４−ジオール、メソ−シクロヘキサン−
１，３−ジオール、メソ−２−メチル−２−ニトロ−シ
クロヘキサン−１，３−ジオール、メソ−３，５−ジヒ
ドロキシピラン、メソ−２，３−ジエチルシクロペンタ
ン−１，４−ジオール、メソ−５−ベンジルオキシシク
ロヘキサン−１，３−ジオール、メソ−３−メトキシ−
Ｎ−メチル−アザビシク［３．２．１］−６−オクテン
−２，４−ジオール、メソ−１，４，４ａ，５，８，８
ａ−ヘキサヒドロナフタレン−１，８−ジオール、メソ
−シクロオクタン−１，３−ジオール、メソ−２，３−
Ｏ−アセトニド−シクロペンタン−１，２，３，４−テ
トラオール、が挙げられる。また対称な位置に、かつ対
称になる立体化学で置換基を有してもよい。
【００２２】生成物である上記一般式（４）および
（６）で示される化合物は、その光学活性点における立
体化学を規定するものではなく、上記一般式（３）およ
び（５）で示される化合物の二つの水酸基のうち一方の
水酸基が優先的にアシル化されることによって、光学活
性体が得られることを意味する。上記一般式（１）で表
わされるジアミンの立体化学を適宜選択することによ
り、目的の立体化学を持ったアシルオキシ化合物を得る
ことができる。
（６）で示される化合物は、その光学活性点における立
体化学を規定するものではなく、上記一般式（３）およ
び（５）で示される化合物の二つの水酸基のうち一方の
水酸基が優先的にアシル化されることによって、光学活
性体が得られることを意味する。上記一般式（１）で表
わされるジアミンの立体化学を適宜選択することによ
り、目的の立体化学を持ったアシルオキシ化合物を得る
ことができる。
【００２３】
【実施例】次に、実施例および参考例を挙げて、本発明
の具体的な説明をする。なお、各実施例の結果について
は、後述する表１、２等にも示した。また、各実施例の
冒頭のかっこ書きには、その実施例に相当する表番号と
実験番号が記載されている。
の具体的な説明をする。なお、各実施例の結果について
は、後述する表１、２等にも示した。また、各実施例の
冒頭のかっこ書きには、その実施例に相当する表番号と
実験番号が記載されている。
【００２４】実施例１．（表２の実験番号４） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞アルゴン雰囲気下、−７８
℃でモレキュラーシーブ４Ａ（６７０ｍｇ）と（Ｓ）−
１−メチル−２−（（ジヒドロイソインドール−２−イ
ル）メチル）ピロリジン（５．４ｍｇ、０．０２５ｍｍ
ｏｌ、０．００５モル当量）のブチロニトリル（３．０
ｍｌ）溶液の混合物に、トリエチルアミン（８５８ｍ
ｇ、８．４８ｍｍｏｌ、１．７モル当量）のブチロニト
リル（３．０ｍｌ）溶液とメソ−２−シクロペンテン−
１，４−ジオール（５００ｍｇ、４．９９ｍｍｏｌ）の
ブチロニトリル（３０ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩
化ベンゾイル（１２００ｍｇ、８．５４ｍｍｏｌ）のブ
チロニトリル（３．０ｍｌ）溶液を加え、３時間攪拌し
た。リン酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停止し、ジ
エチルエーテルで抽出した。得られた有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン
＝１／１５）で精製することにより、光学活性な４−ベ
ンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール（３
２６ｍｇ、収率３２％）を得た。光学純度はＣＨＩＲＡ
ＬＰＡＫ ＡＤ（溶離液：イソプロパノール／ヘキサン
＝１／２０）による高速液体クロマトグラフィーによ
り、９７％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体が収
率４３％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞アルゴン雰囲気下、−７８
℃でモレキュラーシーブ４Ａ（６７０ｍｇ）と（Ｓ）−
１−メチル−２−（（ジヒドロイソインドール−２−イ
ル）メチル）ピロリジン（５．４ｍｇ、０．０２５ｍｍ
ｏｌ、０．００５モル当量）のブチロニトリル（３．０
ｍｌ）溶液の混合物に、トリエチルアミン（８５８ｍ
ｇ、８．４８ｍｍｏｌ、１．７モル当量）のブチロニト
リル（３．０ｍｌ）溶液とメソ−２−シクロペンテン−
１，４−ジオール（５００ｍｇ、４．９９ｍｍｏｌ）の
ブチロニトリル（３０ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩
化ベンゾイル（１２００ｍｇ、８．５４ｍｍｏｌ）のブ
チロニトリル（３．０ｍｌ）溶液を加え、３時間攪拌し
た。リン酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停止し、ジ
エチルエーテルで抽出した。得られた有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン
＝１／１５）で精製することにより、光学活性な４−ベ
ンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール（３
２６ｍｇ、収率３２％）を得た。光学純度はＣＨＩＲＡ
ＬＰＡＫ ＡＤ（溶離液：イソプロパノール／ヘキサン
＝１／２０）による高速液体クロマトグラフィーによ
り、９７％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体が収
率４３％で副生した。
【００２５】［標題化合物の物性］1 H-NMR(CDCl3, δ) : 8.02-8.05(m, 2H), 7.53-7.58(m,
1H), 7.41-7.45(m, 2H), 6.09-6.18(m, 2H), 5.73-5.7
6(m, 1H), 4.78-4.80(brs, 1H), 2.90-2.97(dt, 1H, J=
14 and 7Hz), 2.0-2.2(br, 1H), 1.79-1.85(dt, 1H, J=
14 and 4Hz)。
1H), 7.41-7.45(m, 2H), 6.09-6.18(m, 2H), 5.73-5.7
6(m, 1H), 4.78-4.80(brs, 1H), 2.90-2.97(dt, 1H, J=
14 and 7Hz), 2.0-2.2(br, 1H), 1.79-1.85(dt, 1H, J=
14 and 4Hz)。
【００２６】13C-NMR(CDCl3, δ) : 166.26, 138.63, 1
33.02, 132.69, 130.13, 129.61, 128.34, 77.63, 74.9
8, 40.68。
33.02, 132.69, 130.13, 129.61, 128.34, 77.63, 74.9
8, 40.68。
【００２７】IR(neat) : 3405, 1716, 1451, 1337, 127
5, 1176, 1112, 1070, 1026, 713 cm-1. [α]D ＋126°(c 1.7, CHCl3)。
5, 1176, 1112, 1070, 1026, 713 cm-1. [α]D ＋126°(c 1.7, CHCl3)。
【００２８】［高速液体クロマトグラフィーによる光学
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、溶離液：イソプロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：１３．２分
（(+)-(1S, 4R)体）、１４．６分（(-)-(1R, 4S)体）。
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、溶離液：イソプロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：１３．２分
（(+)-(1S, 4R)体）、１４．６分（(-)-(1R, 4S)体）。
【００２９】実施例２．（表２の実験番号３） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞アルゴン雰囲気下、−７８
℃でモレキュラーシーブ４Ａ（４１．１ｍｇ）と（Ｓ）
−１−メチル−２−（（ジヒドロイソインドール−２−
イル）メチル）ピロリジン（０．３４ｍｇ、０．００１
５７ｍｍｏｌ、０．００５モル当量）のブチロニトリル
（0．３４ｍｌ）溶液の混合物に、トリエチルアミン
（５５．１ｍｇ、０．５４５ｍｍｏｌ）のブチロニトリ
ル（1．０ｍｌ）溶液とメソ−２−シクロペンテン−
１，４−ジオール（３１．６ｍｇ、0．３１６ｍｍｏ
ｌ）のブチロニトリル（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引
き続き塩化ベンゾイル（７６．７ｍｇ、０．５４６ｍｍ
ｏｌ、１．７モル当量）のブチロニトリル（１．２ｍ
ｌ）溶液を加え、３時間攪拌した。リン酸緩衝液（ｐＨ
７）を加えて反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出し
た。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、
得られた残さをシリカゲル薄層クロマトグラフィ−（溶
離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製すること
により、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロ
ペンテン−１−オール（２４．１ｍｇ、３７％）を得
た。光学純度は９８％ｅｅと決定した。この時ジベンゾ
イル体が収率５５％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞アルゴン雰囲気下、−７８
℃でモレキュラーシーブ４Ａ（４１．１ｍｇ）と（Ｓ）
−１−メチル−２−（（ジヒドロイソインドール−２−
イル）メチル）ピロリジン（０．３４ｍｇ、０．００１
５７ｍｍｏｌ、０．００５モル当量）のブチロニトリル
（0．３４ｍｌ）溶液の混合物に、トリエチルアミン
（５５．１ｍｇ、０．５４５ｍｍｏｌ）のブチロニトリ
ル（1．０ｍｌ）溶液とメソ−２−シクロペンテン−
１，４−ジオール（３１．６ｍｇ、0．３１６ｍｍｏ
ｌ）のブチロニトリル（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引
き続き塩化ベンゾイル（７６．７ｍｇ、０．５４６ｍｍ
ｏｌ、１．７モル当量）のブチロニトリル（１．２ｍ
ｌ）溶液を加え、３時間攪拌した。リン酸緩衝液（ｐＨ
７）を加えて反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出し
た。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、
得られた残さをシリカゲル薄層クロマトグラフィ−（溶
離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製すること
により、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロ
ペンテン−１−オール（２４．１ｍｇ、３７％）を得
た。光学純度は９８％ｅｅと決定した。この時ジベンゾ
イル体が収率５５％で副生した。
【００３０】実施例３．（表２の実験番号２） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．６モル当量である事以外は実施
例２と同様の方法を実施した結果、光学活性な４−ベン
ゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールが収率
４５％、光学純度９７％ｅｅで得られた。この時ジベン
ゾイル体が収率４６％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．６モル当量である事以外は実施
例２と同様の方法を実施した結果、光学活性な４−ベン
ゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールが収率
４５％、光学純度９７％ｅｅで得られた。この時ジベン
ゾイル体が収率４６％で副生した。
【００３１】実施例４．（表２の実験番号１） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれが１．５モル当量である事以外は実
施例２と同様の方法を実施した結果、光学活性な４−ベ
ンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールが収
率３２％、光学純度９６％ｅｅで得られた。この時ジベ
ンゾイル体が収率４８％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれが１．５モル当量である事以外は実
施例２と同様の方法を実施した結果、光学活性な４−ベ
ンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールが収
率３２％、光学純度９６％ｅｅで得られた。この時ジベ
ンゾイル体が収率４８％で副生した。
【００３２】実施例５．（表２の実験番号５） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれが２．０モル当量である事以外は実
施例２と同様の方法を実施した結果、光学活性な４−ベ
ンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールが収
率３２％、光学純度９８％ｅｅで得られた。この時ジベ
ンゾイル体が収率６１％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれが２．０モル当量である事以外は実
施例２と同様の方法を実施した結果、光学活性な４−ベ
ンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールが収
率３２％、光学純度９８％ｅｅで得られた。この時ジベ
ンゾイル体が収率６１％で副生した。
【００３３】実施例６ａ．（表１の実験番号２） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．０モル当量であり、（Ｓ）−１
−メチル−２−（（ジヒドロイソインドール−２−イ
ル）メチル）ピロリジンが０．０５モル当量であり、溶
媒がプロピオニトリルである事以外は実施例２と同様の
方法を実施した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ
−２−シクロペンテン−１−オールが収率３０％、光学
純度９３％ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収
率２５％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．０モル当量であり、（Ｓ）−１
−メチル−２−（（ジヒドロイソインドール−２−イ
ル）メチル）ピロリジンが０．０５モル当量であり、溶
媒がプロピオニトリルである事以外は実施例２と同様の
方法を実施した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ
−２−シクロペンテン−１−オールが収率３０％、光学
純度９３％ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収
率２５％で副生した。
【００３４】実施例６ｂ．（表１の実験番号３） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．０モル当量であり、溶媒がプロ
ピオニトリルある事以外は実施例２と同様の方法を実施
した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シク
ロペンテン−１−オールが収率１７％、光学純度９３％
ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収率２０％で
副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．０モル当量であり、溶媒がプロ
ピオニトリルある事以外は実施例２と同様の方法を実施
した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シク
ロペンテン−１−オールが収率１７％、光学純度９３％
ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収率２０％で
副生した。
【００３５】実施例７ａ．（表１の実験番号４） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．５モル当量であり、溶媒がプロ
ピオニトリルある事以外は実施例２と同様の方法を実施
した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シク
ロペンテン−１−オールが収率４０％、光学純度９４％
ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収率４３％で
副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．５モル当量であり、溶媒がプロ
ピオニトリルある事以外は実施例２と同様の方法を実施
した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シク
ロペンテン−１−オールが収率４０％、光学純度９４％
ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収率４３％で
副生した。
【００３６】実施例７ｂ．（表１の実験番号５） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルの代わりに
臭化ベンゾイルが１．５モル当量であり、トリエチルア
ミンが１．５モル当量であり、溶媒がプロピオニトリル
ある事以外は実施例２と同様の方法を実施した結果、光
学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−
１−オールが収率３６％、光学純度６３％ｅｅで得られ
た。この時ジベンゾイル体が収率１４％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルの代わりに
臭化ベンゾイルが１．５モル当量であり、トリエチルア
ミンが１．５モル当量であり、溶媒がプロピオニトリル
ある事以外は実施例２と同様の方法を実施した結果、光
学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテン−
１−オールが収率３６％、光学純度６３％ｅｅで得られ
た。この時ジベンゾイル体が収率１４％で副生した。
【００３７】実施例７ｃ．（表１の実験番号７） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．５モル当量であり、溶媒がテト
ラヒドロフランある事以外は実施例２と同様の方法を実
施した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シ
クロペンテン−１−オールが収率３％、光学純度６２％
ｅｅで得られた。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．５モル当量であり、溶媒がテト
ラヒドロフランある事以外は実施例２と同様の方法を実
施した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シ
クロペンテン−１−オールが収率３％、光学純度６２％
ｅｅで得られた。
【００３８】実施例８．（表１の実験番号１） ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．０モル当量であり、溶媒がプロ
ピオニトリルあり、光学活性なジアミンが（Ｓ）−１−
メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメ
チル）−ピロリジンある事以外は実施例２と同様の方法
を実施した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２
−シクロペンテン−１−オールが収率３８％、光学純度
７４％ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収率２
０％で副生した。
ン−１−オールの製造方法＞塩化ベンゾイルとトリエチ
ルアミンがそれぞれ１．０モル当量であり、溶媒がプロ
ピオニトリルあり、光学活性なジアミンが（Ｓ）−１−
メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメ
チル）−ピロリジンある事以外は実施例２と同様の方法
を実施した結果、光学活性な４−ベンゾイルオキシ−２
−シクロペンテン−１−オールが収率３８％、光学純度
７４％ｅｅで得られた。この時ジベンゾイル体が収率２
０％で副生した。
【００３９】
【化７】
【表１】 註）上記反応は、他の詳細な条件等を除いて、ジオール
（０．３ｍｍｏｌ）、塩化ベンゾイル（０．４５ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン（０．４５ｍｍｏｌ）を用い
て、行われた。表中、ａ）精製された生成物の単離収率 ｂ）光学活性ＨＰＬＣ分析により測定 ｃ）トリエチルアミン（０．３ｍｍｏｌ）の１モル当量
を用いた ｄ）塩化ベンゾイルの代わりに臭化ベンゾイルを用いた
ｅ）反応にｎ−プロピオニトリルを用いた ｆ）反応にＴＨＦを用いた。
（０．３ｍｍｏｌ）、塩化ベンゾイル（０．４５ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン（０．４５ｍｍｏｌ）を用い
て、行われた。表中、ａ）精製された生成物の単離収率 ｂ）光学活性ＨＰＬＣ分析により測定 ｃ）トリエチルアミン（０．３ｍｍｏｌ）の１モル当量
を用いた ｄ）塩化ベンゾイルの代わりに臭化ベンゾイルを用いた
ｅ）反応にｎ−プロピオニトリルを用いた ｆ）反応にＴＨＦを用いた。
【００４０】
【化８】
【表２】 註）表中、ａ）精製された生成物の単離収率 ｂ）光学活性ＨＰＬＣ分析により測定 ｃ）この反応のみジオールが５ｍｍｏｌ、他はジオール
０．３ｍｍｏｌ。
０．３ｍｍｏｌ。
【００４１】実施例９． ＜光学活性な３−ベンゾイルオキシ−２−フェニルプロ
パン−１−オールの製造方法＞
パン−１−オールの製造方法＞
【化９】 アルゴン雰囲気下、−７８℃でモレキュラーシーブ４Ａ
（４１．９ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３４ｍｇ、０．００１５６ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）の塩化メチレン（０．３４ｍｌ）溶液の混合
物に、ジイソプロピルエチルアミン（６０．５ｍｇ、
０．４６８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶
液と２−フェニル−１，３−プロパンジオール（４７．
５ｍｇ、０．３１２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２．５
ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩化ベンゾイル（６５．
９ｍｇ、０．４６９ｍｍｏｌ、１．５モル当量）の塩化
メチレン（１．２ｍｌ）溶液を加え、３時間攪拌した。
りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停止し、ジエチ
ルエーテルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾
燥、濃縮し、得られた残さをシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で
精製することにより、光学活性な３−ベンゾイルオキシ
−２−フェニルプロパン−１−オール（２２．１ｍｇ、
２８％）を得た。光学純度は７１％ｅｅと決定した。こ
の時ジベンゾイル体が収率５５％で副生した。
（４１．９ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３４ｍｇ、０．００１５６ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）の塩化メチレン（０．３４ｍｌ）溶液の混合
物に、ジイソプロピルエチルアミン（６０．５ｍｇ、
０．４６８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶
液と２−フェニル−１，３−プロパンジオール（４７．
５ｍｇ、０．３１２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２．５
ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩化ベンゾイル（６５．
９ｍｇ、０．４６９ｍｍｏｌ、１．５モル当量）の塩化
メチレン（１．２ｍｌ）溶液を加え、３時間攪拌した。
りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停止し、ジエチ
ルエーテルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾
燥、濃縮し、得られた残さをシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で
精製することにより、光学活性な３−ベンゾイルオキシ
−２−フェニルプロパン−１−オール（２２．１ｍｇ、
２８％）を得た。光学純度は７１％ｅｅと決定した。こ
の時ジベンゾイル体が収率５５％で副生した。
【００４２】［標題化合物の物性］1 H-NMR(CDCl3, δ) : 7.99-8.01(m, 2H), 7.54-7.58(m,
1H), 7.41-7.45(m, 2H), 7.25-7.38(m, 5H), 4.59-4.6
8(m, 2H), 3.94(d, 2H, J=6.2Hz), 3.30(dt, 1H, J=12.
8, 6.2Hz), 2.02(br, 1H)。
1H), 7.41-7.45(m, 2H), 7.25-7.38(m, 5H), 4.59-4.6
8(m, 2H), 3.94(d, 2H, J=6.2Hz), 3.30(dt, 1H, J=12.
8, 6.2Hz), 2.02(br, 1H)。
【００４３】13C-NMR(CDCl3, δ) : 166.76, 138.98, 1
33.10, 129.91, 129.59, 128.78, 128.40, 128.17, 12
7.36, 65.36, 63.73, 47.50。
33.10, 129.91, 129.59, 128.78, 128.40, 128.17, 12
7.36, 65.36, 63.73, 47.50。
【００４４】IR(neat) : 3422, 2952, 1717, 1602, 1
495, 1452, 1176, 1118, 1027, 712cm-1。
495, 1452, 1176, 1118, 1027, 712cm-1。
【００４５】[α]D +6.1°(c 1.0, CHCl3)。
【００４６】［高速液体クロマトグラフィーによる光学
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：２３．８分
（（−）−体）、２５．５分（（＋）−体）。
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：２３．８分
（（−）−体）、２５．５分（（＋）−体）。
【００４７】実施例１０． ＜光学活性な３−（３−クロロベンゾイルオキシ）−２
−エチル−２−フェニルプロパン−１−オールの製造方
法＞
−エチル−２−フェニルプロパン−１−オールの製造方
法＞
【化１０】 アルゴン雰囲気下、−７８℃でモレキュラーシーブ４Ａ
（４１．０ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３６ｍｇ、０．００１５５ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）の塩化メチレン（０．３６ｍｌ）溶液の混合
物に、ジイソプロピルエチルアミン（５２．３ｍｇ、
０．４０４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶
液と２−エチル−２−フェニル−１，３−プロパンジオ
ール（５６．４ｍｇ、０．３１３ｍｍｏｌ）の塩化メチ
レン（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引き続きｍ−クロロ
塩化ベンゾイル（７０．５ｍｇ、０．４０３ｍｍｏｌ、
１．３モル当量）の塩化メチレン（１．２ｍｌ）溶液を
加え、３時間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加え
て反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／
ヘキサン＝１／３）で精製することにより、光学活性な
３−（３−クロロベンゾイルオキシ）−２−エチル−２
−フェニルプロパン−１−オール（２５．１ｍｇ、２５
％）を得た。光学純度は８９％ｅｅと決定した。この時
ジベンゾイル体が収率４８％で副生した。なお、攪拌時
間を１時間にした場合には、光学活性な３−（３−クロ
ロベンゾイルオキシ）−２−エチル−２−フェニルプロ
パン−１−オール（１９．１ｍｇ、１９％）を得た。光
学純度は９０％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体
が収率５０％で副生した。
（４１．０ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３６ｍｇ、０．００１５５ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）の塩化メチレン（０．３６ｍｌ）溶液の混合
物に、ジイソプロピルエチルアミン（５２．３ｍｇ、
０．４０４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶
液と２−エチル−２−フェニル−１，３−プロパンジオ
ール（５６．４ｍｇ、０．３１３ｍｍｏｌ）の塩化メチ
レン（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引き続きｍ−クロロ
塩化ベンゾイル（７０．５ｍｇ、０．４０３ｍｍｏｌ、
１．３モル当量）の塩化メチレン（１．２ｍｌ）溶液を
加え、３時間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加え
て反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／
ヘキサン＝１／３）で精製することにより、光学活性な
３−（３−クロロベンゾイルオキシ）−２−エチル−２
−フェニルプロパン−１−オール（２５．１ｍｇ、２５
％）を得た。光学純度は８９％ｅｅと決定した。この時
ジベンゾイル体が収率４８％で副生した。なお、攪拌時
間を１時間にした場合には、光学活性な３−（３−クロ
ロベンゾイルオキシ）−２−エチル−２−フェニルプロ
パン−１−オール（１９．１ｍｇ、１９％）を得た。光
学純度は９０％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体
が収率５０％で副生した。
【００４８】［標題化合物の物性］1 H-NMR(CDCl3, δ) : 7.93(t, 1H, J=2.0Hz), 7.84-7.8
6(m, 1H), 7.52-7.54(m, 1H), 7.34-7.40(m, 5H), 7.25
-7.29(m, 1H), 4.72(dd, 2H, J=12.8, 11.2Hz), 3.90
(t, 2H, J=11.6Hz), 1.93(br, 1H), 1.85(q, 2H, J=7.2
Hz), 0.75(t, 3H,J=7.2Hz)。
6(m, 1H), 7.52-7.54(m, 1H), 7.34-7.40(m, 5H), 7.25
-7.29(m, 1H), 4.72(dd, 2H, J=12.8, 11.2Hz), 3.90
(t, 2H, J=11.6Hz), 1.93(br, 1H), 1.85(q, 2H, J=7.2
Hz), 0.75(t, 3H,J=7.2Hz)。
【００４９】13C-NMR(CDCl3, δ) : 165.69, 140.82, 1
34.59, 133.16, 131.71, 129.75, 129.65, 128.70, 12
7.72, 126.78, 126.65, 66.50, 65.77, 47.20, 26.36,
7.78。
34.59, 133.16, 131.71, 129.75, 129.65, 128.70, 12
7.72, 126.78, 126.65, 66.50, 65.77, 47.20, 26.36,
7.78。
【００５０】IR(neat) : 3417, 1723, 1576, 1467, 142
7, 1380, 1073, 965, 674, 588cm-1。
7, 1380, 1073, 965, 674, 588cm-1。
【００５１】[α]D -11.6°(c 0.85, CHCl3)。
【００５２】［高速液体クロマトグラフィーによる光学
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：１５．９分
（（−）−体）、２３．０分（（＋）−体）。
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：１５．９分
（（−）−体）、２３．０分（（＋）−体）。
【００５３】実施例１１． ＜光学活性な３−ベンゾイルオキシ−２−ｐ−トルエン
スルホニルオキ−プロパン−１−オールの製造方法＞
スルホニルオキ−プロパン−１−オールの製造方法＞
【化１１】 アルゴン雰囲気下、−７８℃でモレキュラーシーブ４Ａ
（４１．３ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３３ｍｇ、０．００１５１ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）の塩化メチレン（０．３６ｍｌ）溶液の混合
物に、ジイソプロピルエチルアミン（５８．５ｍｇ、
０．４５３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶
液と２−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−１，３−プロ
パンジオール（７４．４ｍｇ、０．３０２ｍｍｏｌ）の
塩化メチレン（２．９ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩
化ベンゾイル（６３．８ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ、
１．５モル当量）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶液を
加え、３時間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加え
て反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリ
カゲル薄層クロマトグラフィーで２回精製することによ
り（一回目の溶離液：塩化メチレン、二回目の溶離液：
酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）、光学活性な３−ベン
ゾイルオキシ−２−ｐ−トルエンスルホニルオキ−プロ
パン−１−オール（２６．５ｍｇ、２５％）を得た。光
学純度は９１％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体
が収率５７％で副生した。
（４１．３ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−メチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３３ｍｇ、０．００１５１ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）の塩化メチレン（０．３６ｍｌ）溶液の混合
物に、ジイソプロピルエチルアミン（５８．５ｍｇ、
０．４５３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶
液と２−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−１，３−プロ
パンジオール（７４．４ｍｇ、０．３０２ｍｍｏｌ）の
塩化メチレン（２．９ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩
化ベンゾイル（６３．８ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ、
１．５モル当量）の塩化メチレン（１．０ｍｌ）溶液を
加え、３時間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加え
て反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリ
カゲル薄層クロマトグラフィーで２回精製することによ
り（一回目の溶離液：塩化メチレン、二回目の溶離液：
酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）、光学活性な３−ベン
ゾイルオキシ−２−ｐ−トルエンスルホニルオキ−プロ
パン−１−オール（２６．５ｍｇ、２５％）を得た。光
学純度は９１％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体
が収率５７％で副生した。
【００５４】［標題化合物の物性］1 H-NMR(CDCl3, δ) : 7.91-7.89(m, 2H), 7.79-7.77(m,
2H), 7.60-7.56(m, 1H), 7.44-7.40(m, 2H), 7.22(d,
2H, J=8Hz), 4.89-4.87(m, 1H), 4.48(d, 2H,J=5.2Hz),
3.91-3.81(m, 2H), 2.34(s, 3H)。
2H), 7.60-7.56(m, 1H), 7.44-7.40(m, 2H), 7.22(d,
2H, J=8Hz), 4.89-4.87(m, 1H), 4.48(d, 2H,J=5.2Hz),
3.91-3.81(m, 2H), 2.34(s, 3H)。
【００５５】13C-NMR(CDCl3, δ) : 166.16, 145.08, 1
33.35, 133.24, 129.89, 129.76, 129.15, 128.34, 12
7.80, 79.99, 62.71, 61.69, 21.56。
33.35, 133.24, 129.89, 129.76, 129.15, 128.34, 12
7.80, 79.99, 62.71, 61.69, 21.56。
【００５６】IR(neat) : 3367, 1726, 1276, 1175, 926
cm-1。
cm-1。
【００５７】[α]D +24.6°(c 0.97, ピリジン)。
【００５８】［高速液体クロマトグラフィーによる光学
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ、溶離液：エタノー
ル／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：２９．６分
（（−）−体）、３１．７分（（＋）−体）。
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ、溶離液：エタノー
ル／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：２９．６分
（（−）−体）、３１．７分（（＋）−体）。
【００５９】実施例１２． ＜光学活性な４−ベンゾイルオキシメチル−４−ヒドロ
キシメチル−１−シクロヘキセンの製造方法＞
キシメチル−１−シクロヘキセンの製造方法＞
【化１２】 アルゴン雰囲気下、−７８℃でモレキュラーシーブ４Ａ
（４２．5ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３6ｍｇ、０．００１５5ｍｍｏｌ、０．００５モ
ル当量）のプロピオニトリル（０．３６ｍｌ）溶液の混
合物に、ジイソプロピルエチルアミン（５２．2ｍｇ、
０．４04ｍｍｏｌ）のプロピオニトリル（１．０ｍｌ）
溶液と４，４−ビス（ヒドロキシメチル）−１−シクロ
ヘキセン（４４．２ｍｇ、０．３１１ｍｍｏｌ）のプロ
ピオニトリル（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩
化ベンゾイル（５６．８ｍｇ、０．４０４ｍｍｏｌ、
１．３モル当量）のプロピオニトリル（１．２ｍｌ）溶
液を加え、２４時間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）
を加えて反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出した。
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残さ
をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（溶離液：酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／３）で精製することにより、光学
活性な４ベンゾイルオキシメチル−４−ヒドロキシメチ
ル−１−シクロヘキセン（９．７ｍｇ、１３％）を得
た。光学純度は１０％ｅｅと決定した。この時ジベンゾ
イル体が収率８％で副生した。
（４２．5ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメチル）ピロリジン
（０．３6ｍｇ、０．００１５5ｍｍｏｌ、０．００５モ
ル当量）のプロピオニトリル（０．３６ｍｌ）溶液の混
合物に、ジイソプロピルエチルアミン（５２．2ｍｇ、
０．４04ｍｍｏｌ）のプロピオニトリル（１．０ｍｌ）
溶液と４，４−ビス（ヒドロキシメチル）−１−シクロ
ヘキセン（４４．２ｍｇ、０．３１１ｍｍｏｌ）のプロ
ピオニトリル（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩
化ベンゾイル（５６．８ｍｇ、０．４０４ｍｍｏｌ、
１．３モル当量）のプロピオニトリル（１．２ｍｌ）溶
液を加え、２４時間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）
を加えて反応を停止し、ジエチルエーテルで抽出した。
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残さ
をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（溶離液：酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／３）で精製することにより、光学
活性な４ベンゾイルオキシメチル−４−ヒドロキシメチ
ル−１−シクロヘキセン（９．７ｍｇ、１３％）を得
た。光学純度は１０％ｅｅと決定した。この時ジベンゾ
イル体が収率８％で副生した。
【００６０】［標題化合物の物性］1 H-NMR(CDCl3, δ) : 8.04-8.06(m,2H), 7.57-7.61(m,
1H), 7.44-7.48(m, 2H), 5.70-5.75(m, 1H), 5.62-5.67
(m, 1H), 4.31(t, 2H, J=11.6Hz), 3.44-3.50(m, 2H),
2.33(br, 1H), 2.07-2.13(m, 2H), 1.94-2.04(m, 2H),
1.64(t, 1H, J=6Hz)。
1H), 7.44-7.48(m, 2H), 5.70-5.75(m, 1H), 5.62-5.67
(m, 1H), 4.31(t, 2H, J=11.6Hz), 3.44-3.50(m, 2H),
2.33(br, 1H), 2.07-2.13(m, 2H), 1.94-2.04(m, 2H),
1.64(t, 1H, J=6Hz)。
【００６１】13C-NMR(CDCl3, δ) : 167.25, 133.18, 1
29.90, 129.62, 128.44, 126.43, 124.29, 67.28, 65.6
5, 37.78, 29.66, 25.62, 21.45。
29.90, 129.62, 128.44, 126.43, 124.29, 67.28, 65.6
5, 37.78, 29.66, 25.62, 21.45。
【００６２】IR(neat) : 3445, 3024, 2921, 1717, 1
603, 1451, 1176, 1114, 1027, 657cm-1。
603, 1451, 1176, 1114, 1027, 657cm-1。
【００６３】[α]D +0.6°(c 0.79, CHCl3)。
【００６４】［高速液体クロマトグラフィーによる光学
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：１３．６分
（（−）−体）、１４．３分（（＋）−体）。
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：１３．６分
（（−）−体）、１４．３分（（＋）−体）。
【００６５】実施例１３． ＜光学活性な３−ベンゾイルオキシ−２，２−ジメチル
−４−シクロペンテン−１−オールの製造方法＞
−４−シクロペンテン−１−オールの製造方法＞
【化１３】 アルゴン雰囲気下、−７８℃でモレキュラーシーブ４Ａ
（４１．２ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（ジヒ
ドロイソインドール−２−イル）メチル）ピロリジン
（０．３４ｍｇ、０．００１５７ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）のブチロニトリル（０．３４ｍｌ）溶液の混
合物に、トリエチルアミン（６４．３ｍｇ、０．６３５
ｍｍｏｌ）のブチロニトリル（１．０ｍｌ）溶液と２，
２−ジメチル−４−シクロペンテン−１，３−ジオール
（４０．３ｍｇ、０．３１４ｍｍｏｌ）のブチロニトリ
ル（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩化ベンゾイ
ル（８９．０ｍｇ、０．６３３ｍｍｏｌ、２．０モル当
量）のブチロニトリル（１．２ｍｌ）溶液を加え、３時
間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停
止し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリカゲル薄層
クロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／３）で精製することにより、光学活性な３−ベンゾ
イルオキシ−２，２−ジメチル−４−シクロペンテン−
１−オール（５０．６ｍｇ、６９％）を得た。光学純度
は９９％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体が収率
２％で副生した。
（４１．２ｍｇ）と（Ｓ）−１−メチル−２−（（ジヒ
ドロイソインドール−２−イル）メチル）ピロリジン
（０．３４ｍｇ、０．００１５７ｍｍｏｌ、０．００５
モル当量）のブチロニトリル（０．３４ｍｌ）溶液の混
合物に、トリエチルアミン（６４．３ｍｇ、０．６３５
ｍｍｏｌ）のブチロニトリル（１．０ｍｌ）溶液と２，
２−ジメチル−４−シクロペンテン−１，３−ジオール
（４０．３ｍｇ、０．３１４ｍｍｏｌ）のブチロニトリ
ル（２．５ｍｌ）溶液を加えた。引き続き塩化ベンゾイ
ル（８９．０ｍｇ、０．６３３ｍｍｏｌ、２．０モル当
量）のブチロニトリル（１．２ｍｌ）溶液を加え、３時
間攪拌した。りん酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停
止し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥、濃縮し、得られた残さをシリカゲル薄層
クロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／ヘキサン＝
１／３）で精製することにより、光学活性な３−ベンゾ
イルオキシ−２，２−ジメチル−４−シクロペンテン−
１−オール（５０．６ｍｇ、６９％）を得た。光学純度
は９９％ｅｅと決定した。この時ジベンゾイル体が収率
２％で副生した。
【００６６】［標題化合物の物性］1 H-NMR(CDCl3, δ) : 8.02-8.05(m, 2H), 7.54-7.59(m,
1H), 7.42-7.47(m, 2H), 6.15-6.18(m, 1H), 6.04-6.0
6(m, 1H), 5.44(dd, 1H, J=1.6, 0.8Hz), 4.195(d, 1H,
J=2Hz), 1.66(br, 1H), 1.19(s, 3H), 1.11(s, 3H)。
1H), 7.42-7.47(m, 2H), 6.15-6.18(m, 1H), 6.04-6.0
6(m, 1H), 5.44(dd, 1H, J=1.6, 0.8Hz), 4.195(d, 1H,
J=2Hz), 1.66(br, 1H), 1.19(s, 3H), 1.11(s, 3H)。
【００６７】13C-NMR(CDCl3, δ) : 166.13, 137.92, 1
33.02, 132.36, 130.17, 129.57, 128.39, 84.42, 82.8
8, 45.93, 26.91, 17.07。
33.02, 132.36, 130.17, 129.57, 128.39, 84.42, 82.8
8, 45.93, 26.91, 17.07。
【００６８】IR(neat) : 3422, 2959, 1715, 1451, 117
7, 1110, 1027, 964, 757, 712cm-1。
7, 1110, 1027, 964, 757, 712cm-1。
【００６９】[α]D +159.7(c 1.0, CHCl3)。
【００７０】［高速液体クロマトグラフィーによる光学
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：９．８分
（（＋）−体）、１０．７分（（−）−体）。
純度分析］ カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、溶離液：２−プロ
パノール／ヘキサン＝１／２０、溶出時間：９．８分
（（＋）−体）、１０．７分（（−）−体）。
【００７１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、触媒量
の有機合成的にデザインされた不斉源の存在下で、例え
ばメソ−２−シクロアルケン−１，４−ジオールの水酸
基を選択的にアシル化することにより、光学活性な４−
アシルオキシ−２−シクロアルケン−１−オールを代表
される光学活性な２−シクロアルケン−１−オール誘導
体を製造することができる。更に、上記不斉源の立体化
学を代えるだけで、同一製造方法により両鏡像体を製造
仕分けることが可能となる。
の有機合成的にデザインされた不斉源の存在下で、例え
ばメソ−２−シクロアルケン−１，４−ジオールの水酸
基を選択的にアシル化することにより、光学活性な４−
アシルオキシ−２−シクロアルケン−１−オールを代表
される光学活性な２−シクロアルケン−１−オール誘導
体を製造することができる。更に、上記不斉源の立体化
学を代えるだけで、同一製造方法により両鏡像体を製造
仕分けることが可能となる。
【００７２】なお、本発明で得られる光学活性な２−シ
クロアルケン−１−オール誘導体は、プロスタグランジ
ン類や他のシクロペンタノイドの天然物質の合成の際
に、極めて有用な光学活性な物質である。
クロアルケン−１−オール誘導体は、プロスタグランジ
ン類や他のシクロペンタノイドの天然物質の合成の際
に、極めて有用な光学活性な物質である。
Claims (6)
- 【請求項１】 触媒量の下記一般式（１）で表わされる
光学活性なジアミンおよび第三級アミンおよび下記一般
式（２）で表されるハロゲン化アシルとから成るアシル
化反応の触媒系により、下記一般式（３）で表わされる
メソ−１，３−ジオールの水酸基を選択的にアシル化す
ることを特徴とする下記一般式（４）で表わされる光学
活性なアルコールの製造方法。 【化１】 （一般式（１）においてＲ0は炭素数１から３の直鎖状
あるいは分岐状アルキル基であり、Ｒ1は炭素数１から
４の直鎖状あるいは分岐状アルキル基であり、Ｒ2はベ
ンジル基である。Ｒ0とＲ1は同一であっても同一でなく
てもよく、Ｒ1とＲ2は結合して環を形成してもよい。） 【化２】Ｒ3ＣＯＸ （２） （一般式（２）において、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ
3は炭素数１から６の直鎖状あるいは分岐状アルキル
基、あるいはアリール基である。） 【化３】 （一般式（３）において、Ｒ4およびＲ5は水素原子、炭
素数１〜６の直鎖状あるいは分岐状アルキル基あるいは
アリール基あるいはスルホニルオキシ基であり、それぞ
れ置換基を有してもよい。Ｒ4とＲ5は同一でも異なって
もよく、互いに結合して環を形成してもよいし、環内に
不飽和結合を有してもよい。Ｒ6は水素原子あるいは炭
素数１〜６の直鎖状あるいは分岐状アルキル基あるいは
アリール基を表す。） 【化４】 （一般式（４）においてＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は先に定義
したとおりである。） - 【請求項２】 触媒量の上記一般式（１）で表わされる
光学活性なジアミンおよび第三級アミンおよび上記一般
式（２）で表されるハロゲン化アシルから成るアシル化
反応の触媒系により、下記一般式（５）で表わされるメ
ソ−１，３−ジオールの水酸基を選択的にアシル化する
ことを特徴とする下記一般式（６）で表わされる光学活
性なアルコールの製造方法。 【化５】 （一般式（５）において、Ｒ4およびＲ5は先に定義した
とおりである。また、環内に置換基および不飽和結合を
有してもよい。） 【化６】 （一般式（６）においてＲ3、Ｒ4、およびＲ5は先に定
義したとおりである。） - 【請求項３】 上記一般式（２）のハロゲン化アシルが
ハロゲン化置換ベンゾイルであり、上記一般式（３）に
おいて、Ｒ4およびＲ5は水素原子、炭素数１〜６の直鎖
状あるいは分岐状アルキル基あるいはアリール基あるい
はアリールスルホニルオキシ基であり、Ｒ6は水素原子
である請求項１の製造方法。 - 【請求項４】 上記一般式（２）のハロゲン化アシルが
ハロゲン化置換ベンゾイルである請求項２の製造方法。 - 【請求項５】 上記一般式（２）のハロゲン化アシルが
ハロゲン化置換ベンゾイルであり、上記一般式（５）で
表わされるメソ−１，３−ジオールがメソ−２−シクロ
ペンテン−１，４−ジオールである請求項２の製造方
法。 - 【請求項６】 上記一般式（２）のハロゲン化アシルが
ハロゲン化置換ベンゾイルであり、上記一般式（５）で
表わされるメソ−１，３−ジオールがメソ−２−シクロ
ペンテン−１，４−ジオールであり、上記一般式（１）
の光学活性化合物が１−メチル−２−（（Ｎ−ベンジル
−Ｎ−メチル）アミノメチル）−ピロリジンまたは１−
メチル−２−（（Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチル）アミノメ
チル）−ピロリジンまたは１−メチル−２（（ジヒドロ
イソインドール−２−イル）メチル）ピロリジンの少な
くとも１種である請求項２の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11083194A JP2000281625A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 光学活性な１−アシルオキシ−３−ヒドロキシ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11083194A JP2000281625A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 光学活性な１−アシルオキシ−３−ヒドロキシ化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000281625A true JP2000281625A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=13795530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11083194A Pending JP2000281625A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 光学活性な１−アシルオキシ−３−ヒドロキシ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000281625A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225386A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-31 | Merck Patent Gmbh | メソゲン化合物、液晶媒体および液晶ディスプレイ |
| JP2008037865A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-02-21 | Nagasaki Univ | 光学活性ビスオキサゾリン−銅錯体を不斉触媒とするｎ−保護アミノアルコール化合物の不斉エステル化反応 |
-
1999
- 1999-03-26 JP JP11083194A patent/JP2000281625A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225386A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-31 | Merck Patent Gmbh | メソゲン化合物、液晶媒体および液晶ディスプレイ |
| JP2008037865A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-02-21 | Nagasaki Univ | 光学活性ビスオキサゾリン−銅錯体を不斉触媒とするｎ−保護アミノアルコール化合物の不斉エステル化反応 |
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