JP2000267598A - アレイ基板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示不良が生じるのを可及的に抑制すること
を可能にする。 【解決手段】 透明な絶縁性基板３の表示領域５ａにマ
トリクス状に配設された複数の走査線８および複数の信
号線６と、走査線と信号線との交差部に形成され一端が
信号線に接続されて走査線の信号に基づいて開閉動作す
るスイッチング素子７と、前記走査線、信号線及びスイ
ッチング素子を含む基板の表示領域５ａを覆うように形
成された複数色の着色層１５からなるカラーフィルタ部
と、カラーフィルタ部上に設けられ、このカラーフィル
タ部の着色層に設けられたスルーホールを介してスイッ
チ素子の他端に接続された画素電極１７と、表示領域の
カラーフィルタ部および画素電極上に形成された配向膜
１９と、配向膜に覆われていないカラーフィルタ部の少
なくとも一部を覆うように形成された保護膜１７ａと、
基板の非表示領域に形成されて複数の走査線および複数
の信号線を駆動する駆動回路１３と、を備えたことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、駆動回路とカラー
フィルタとが同一基板上に形成されたアレイ基板および
液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、薄型、軽量、低
消費電力の特徴を生かして、パーソナル・コンピュー
タ、ワードプロセッサあるいはＴＶ等の平面表示装置と
して、更に投射型の平面表示装置として各種分野で利用
されている。

【０００３】中でも、各画素電極にスイッチ素子が電気
的に接続されて成るアクティブマトリクス型液晶表示装
置は、隣接画素間でクロストークのない良好な表示画像
を実現できることから、盛んに研究・開発が行われてい
る。

【０００４】従来のアクティブマトリクス型カラー液晶
表示装置で、アレイ基板側にカラーフィルタを配置した
構成を図１０に示す。

【０００５】この液晶表示装置はアレイ基板１と、対向
基板５０とを備えている。アレイ基板１は透明な絶縁性
基板（例えばガラス基板）３の表示領域５ａに、マトリ
クス状に配設された複数の信号線６および複数の走査線
８と、上記信号線６と走査線８との交差部毎に形成され
たＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ）からなるスイッチング素子７と、このスイッチング
素子毎に設けられた画素電極１７と、が形成された構成
となっている。各スイッチング素子７のゲートは対応す
る走査線８に接続され、ソースおよびドレインのうちの
一方が対応する信号線６に接続され、他方が画素電極１
７に接続された構成となっている。

【０００６】またアレイ基板１は、透明な絶縁性基板３
の周辺の非表示領域５ｂに、ＴＦＴを有する駆動回路１
３およびこれらの駆動回路１３に接続されて外部から電
力や信号を供給するための外部端子１２が形成されてい
る。

【０００７】なお、カラーフィルタとなる着色層は一般
に赤色、緑色、青色の３つの着色層（図示せず）を有し
ており、表示領域５ａに上記３つの着色層がストライプ
状となるように配置される。

【０００８】一方、対向基板５０は透明な絶縁性基板５
３の一表面上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）からなる透明導電膜が対向電極５７として形成さ
れた構成となっている。

【０００９】これらの基板１，５０は各々配向膜が形成
され、これらの配向膜が対向して所定の間隙を有するよ
うに対向配置される。そして、アレイ基板１の表示領域
５ａを囲むように非表示領域５ｂ上に塗布したシール材
３００によって貼り合わされる。シール材３００には、
図１０に示すように液晶材料を注入する注入口３０１が
形成されている。そして上記基板１，５０の貼り合せ後
にこの注入口３０１を通して液晶組成物（図示せず）が
間隙内に注入され、封止されることにより液晶表示装置
が完成される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このような駆動回路一
体型のカラー液晶表示装置においては、アレイ基板１の
配向膜のラビング時に、ラビング布についた着色層が、
駆動回路が形成された非表示領域に付着し、この付着し
た着色層がラビング後の洗浄等で再度、表示領域中に付
着して表示不良の原因となる場合があった。

【００１１】また、アレイ基板の配向膜のラビング時に
非表示領域に形成された駆動回路等の導電性膜の表面も
ラビングされる。このため、上記導電性膜に高電圧の静
電気が発生し、駆動回路を構成しているＴＦＴ等が静電
破壊され、表示不良が発生するという問題があった。

【００１２】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、表示不良が生じるのを可及的に抑制すること
のできるアレイ基板および液晶表示装置を提供すること
を目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明によるアレイ基板
は、透明な絶縁性基板の表示領域にマトリクス状に配設
された複数の走査線および複数の信号線と、前記走査線
と前記信号線との交差部に形成され一端が前記信号線に
接続されて前記走査線の信号に基づいて開閉動作するス
イッチング素子と、前記走査線、信号線及びスイッチン
グ素子を含む前記基板の表示領域を覆うように形成され
た複数色の着色層からなるカラーフィルタ部と、前記カ
ラーフィルタ部上に設けられ、このカラーフィルタ部の
着色層に設けられたスルーホールを介して前記スイッチ
素子の他端に接続された画素電極と、前記表示領域のカ
ラーフィルタ部および画素電極上に形成された配向膜
と、前記配向膜に覆われていない前記カラーフィルタ部
の少なくとも一部を覆うように形成された保護膜と、前
記基板の非表示領域に形成されて前記複数の走査線およ
び複数の信号線を駆動する駆動回路と、を備えたことを
特徴とする。

【００１４】このように構成されたアレイ基板において
は、配向膜によって覆われていないカラーフィルタ部の
露出している着色層の少なくとも一部が保護膜で覆われ
るため、ラビング時に着色層からの不純物が駆動回路等
に付着するのを抑制し、更に、この付着した不純物が表
示領域に転写されるのを防止することが可能となる。こ
れにより表示不良が生じるのを可及的に抑制することが
できる。

【００１５】また、駆動回路や試験パターン発生回路上
に絶縁膜を形成することによりラビングによる静電破壊
を防止することが可能となり、表示不良が更に生じるの
を抑制することができる。

【００１６】上記絶縁膜は配向膜と同一の材料とすれば
配向膜と同時に形成することが可能となり、工程数増加
するのを防止できる。

【００１７】また保護膜を導電膜から形成し、この保護
膜をカラーフィルタ部の額縁部上に形成すれば、ラビン
グ時に駆動回路が静電破壊するのを防止することが可能
となり、表示不良が生じるのを可及的に抑制することが
できる。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を説明する前
に本発明に到った経緯について説明する。

【００１９】着色層材料が液晶層や配向膜と直接接する
ことによって生じる表示不良（表示むら等）は、本発明
者の知見によると、着色層の中の有機不純物が液晶層や
配向膜中に溶出し、その結果、配向むらや焼き付き現象
などの表示むらが発生することが分かった。すなわち、
アルキル酸、フェニルカルボン酸、フェニルカルボン酸
誘導体、フェニレンジカルボン酸、フェニレンジカルボ
ン酸誘導体、アルキルアミン、アニリン、アニリン誘導
体、フェニレンジアミン、フェニレンジアミン誘導体、
フェニレンアミンカルボン酸、フェニレンアミンカルボ
ン酸誘導体、アルキルイミドなどの有機不純物が着色層
に含まれており、これが原因であることが分かった。こ
れらの不純物は通常液晶表示装置のカラーフィルタ材料
に用いられる顔料に多く含まれるが、これを着色ペース
トに分散する際の分散剤にも多くの不純物が含まれる。
さらには、上記の顔料や分散剤は、高温時やアルカリへ
の接触、あるいは紫外線への暴露によって分解し、上記
の有機不純物を発生することが分かった。これら不純物
のうち高温時やアルカリへの接触、紫外線への暴露によ
る分解によるものの多くは着色層の表面付近で発生す
る。このため着色層が露出している部分の不純物はラビ
ングによって表示領域の配向膜上に転写され、配向むら
や焼き付き現象などの表示むらを発生させる。

【００２０】そこで本発明者は、露出している着色層に
保護膜を被覆することにより上記問題が解決するのでは
ないかと考えた。これを以下の実施例で説明する。

【００２１】本発明の第１の実施の形態のアレイ基板の
構成を図１および図２に示す。図２にこのアレイ基板１
の平面図を示し、図２に示す切断線Ｘ１−Ｘ１で切断し
た断面図を図１に示す。この第１の実施の形態のアレイ
基板１は、カラーフィルタ１５と駆動回路１３が同一基
板上に形成された構成となっている。

【００２２】アレイ基板１は透明な絶縁基板（例えばガ
ラス基板）３を有し、このガラス基板３の裏面には偏光
板２１が設けられており、表面には表示領域５ａおよび
非表示領域５ｂが設けられている。表示領域５ａには、
表示素子が形成されている。この表示素子は図１０に示
す従来の場合と同様に複数の走査線と、これらの複数の
走査線に交差するように形成された複数の信号線と、こ
れらの走査線と信号線との交差点毎に形成された薄膜ト
ランジスタからなるスイッチング素子７と、各薄膜トラ
ンジスタ７毎に形成されて対応する薄膜トランジスタの
ソースおよびドレインのうちの一方に接続される画素電
極１７と、を備えている。この画素電極１７は例えばＩ
ＴＯから形成される。

【００２３】薄膜トランジスタ７は図１に示すようにチ
ャネル領域、ソース領域、およびドレイン領域となる多
結晶シリコン層７ａと、多結晶シリコン層７ａ上に形成
されたゲート絶縁膜７ｂと、ゲート絶縁膜７ｂ上に形成
されたゲート電極７ｃと、ソース領域およびドレイン領
域に各々接続するように形成されたソース電極およびド
レイン電極７ｄとを備えている。ソース電極およびドレ
イン電極７ｄの一方は画素電極１７に接続され、他方は
信号線（図示せず）に接続される。ソース電極およびド
レイン電極７ｄとゲート電極７ｃは層間絶縁膜４によっ
て電気的に分離されている。

【００２４】これらの薄膜トランジスタ７および後述の
駆動回路１３が形成されたアレイ基板１はＳｉＮからな
る絶縁膜１４が形成される。この絶縁膜１４が形成され
たことにより、上記駆動回路１３に接続される走査線や
信号線は上記絶縁膜１４の下側に位置することになる。

【００２５】また、アレイ基板１の表示領域５ａには、
カラーフィルタとなる有機樹脂、例えばアクリル系樹脂
中に顔料が分散されて成る赤、青、緑それぞれの着色層
１５がストライプ形状となるように形成されている。特
に感光性樹脂を用いることにより別途レジスト塗布等の
工程が不用にできる。なお、緑の着色層の端部は青や赤
の着色層で覆われるように構成することが好ましい。

【００２６】この着色層１５は絶縁膜１４とともにゲー
ト電極７ｃと画素電極１７との層間絶縁膜を兼ね、また
表面平滑化を達成するよう４μｍの膜厚で形成されてい
る。十分な絶縁性、並びに平滑性を達成するためには３
μｍ以上の膜厚が望ましい。またアレイ基板１の表示領
域５ａにおいては画素電極１７および着色層１５上に配
向膜１９が形成されている。なお画素電極１７はカラー
フィルタの着色層に設けられたスルーホールを介してス
イッチング素子７と接続されている。

【００２７】アレイ基板１の非表示領域５ｂには複数個
のＴＦＴ１３ａを有する駆動回路１３が形成されてい
る。この駆動回路１３を構成するＴＦＴ１３ａには引出
し配線１３ｂが設けられ、この引出し配線１３ｂには、
外部から電力や信号を受けるための外部端子１２が接続
されている。なお引出し配線１３ｂおよび外部端子１２
とガラス基板３との間には層間絶縁膜４が形成されてい
る。また、駆動回路１３を構成しているＴＦＴ１３ａお
よび引出し配線１３ｂは絶縁膜１４によって覆われてい
る。

【００２８】本実施の形態のアレイ基板１においては、
着色層１５は図２に示すように表示領域５ａに形成され
ているが、表示領域５ａ内の露出している着色層１５、
すなわち配向膜１９が形成されていない着色層１５上に
は例えばＩＴＯからなる保護膜１７ａが形成されてい
る。この保護膜１７ａはカラーフィルタの額縁部上に配
置されている。これにより、配向膜１９のラビング時に
ラビング布に着色層１５からの不純物が付着することを
可及的に防止することが可能となり、これにより表示不
良が生じるのを抑制することができる。また、保護膜１
７ａがカラーフィルタの額縁部上に配置されていること
によりラビング時にＴＦＴ等が静電破壊するのを防止す
ることができる。なお、この保護膜１７ａは画素電極１
７と同じ材料から形成されているため、画素電極１７の
形成工程で保護膜１７ａを形成することが可能となる。

【００２９】上述の実施の形態のアレイ基板１を図１０
で説明した対向基板５０と所定間隔をもって対向し、こ
れらの基板間に液晶層を挟持することにより液晶表示装
置を得ることができる。

【００３０】また本実施の形態のアレイ基板１において
は、絶縁膜１４が形成されているため、ＩＴＯからなる
保護膜と、駆動回路に接続される信号線や走査線とが電
気的に絶縁された構成となっている。

【００３１】なお、アレイ基板１の外部端子１２を除い
た非表示領域５ｂには、遮光等のために、有色の有機絶
縁材料、例えばカーボンが分散された感光性アクリル樹
脂から形成された絶縁層が形成される場合もある。この
場合は、この絶縁層上にも、上記実施の形態のように例
えばＩＴＯからなる保護膜を形成することが好ましい。
なお、アレイ基板１の非表示領域５ｂにも着色層が形成
されている場合には、図３（ａ）および図３（ｂ）に示
すように、表示領域５ａに隣接する非表示領域内の着色
層を表示領域５ａから所定の幅（１cm以内）だけ削除
し、その後、ラビングローラ８０によってラビングすれ
ば表示不良を可及的に抑制することができる。図３
（ａ）は各々が表示領域５ａを有する２個の表示素子が
形成されたアレイ基板１００を示しており、図３（ｂ）
は各々が表示領域５ａを有する４個の表示素子が形成さ
れたアレイ基板１００を示している。そして図３
（ａ），（ｂ）に示した斜線部３１は着色層が削除され
た領域を示している。

【００３２】また、上記実施の形態においては、保護膜
としてＩＴＯからなる膜を用いたが、例えば配向膜と同
じ材料（ポリイミド）を用いても良い。この場合は、絶
縁膜１４の形成は省略しても良い。

【００３３】次に本発明の第２の実施の形態のアレイ基
板の構成を図４乃至図９を参照して説明する。この第２
の実施の形態のアレイ基板１００の平面図を図４に示
し、この図４に示す切断線Ｘ２−Ｘ２で切断したときの
アレイ基板１００の断面を図５に示す。このアレイ基板
１００は透明な絶縁性基板（例えばガラス基板）１０１
に４個のカラー表示素子が形成された構成となってい
る。各表示素子は表示領域５ａと、非表示領域５ｂを有
しており、表示領域５ａには第１の実施の形態の場合と
同様にスイッチング素子となる薄膜トランジスタ７、カ
ラーフィルタとなる着色層１５、画素電極１７、および
配向膜１９等が形成されている。

【００３４】一方非表示領域５ｂには第１の実施の形態
と同様に駆動回路１３が形成されるとともに、表示素子
の性能をテストするためのテストパターン発生回路（以
下、ＴＥＧともいう）２５が設けられた構成となってい
る。ＴＥＧ２５は複数のＴＦＴ２５ａと、引出し配線２
５ｂとを有している。これらのＴＦＴ２５ａおよび引出
し配線は第１の実施の形態で説明した絶縁膜１４によっ
て覆われている。

【００３５】本実施の形態のアレイ基板１００において
は各表示素子の表示領域５ａばかりでなく、駆動回路１
３およびＴＥＧ２５も配向膜１９で覆われている。な
お、ＴＥＧ２５に外部から信号等を入力するため端子１
０８やアレイ基板１００を製作するために用いられる合
わせマーク１１０は配向膜１９は被覆されない（図４参
照）。したがって従来、露出していた着色層１５は配向
膜１９で覆われる構成となる。このため、着色層１５か
らの不純物がラビング時にラビング布に付着するのを防
止することができ、表示不良を可及的に抑制することが
できる。

【００３６】また、この第２の実施の形態のアレイ基板
１００においては駆動回路１３およびＴＥＧ２５も配向
膜１９で覆われた構成となっているため、ラビング時に
駆動回路１３上の導電性膜（引出し配線２５ａ等）に高
電圧が発生するのを抑制することができる。これは本発
明者が実験を行うことによって得た結果である。この実
験結果を以下に説明する。

【００３７】まず図６に示すように、６個の表示素子が
形成されたアレイ基板５００を６枚用意する。各表示素
子には表示領域５ａと、駆動回路１３と、ＴＥＧ２５と
が形成されている。そして上記６枚のうちの３枚のアレ
イ基板には図６の破線で示す領域に配向膜１９を形成
し、他の３枚には表示領域５ａのみに配向膜を形成する
ようにした。

【００３８】次にこれらの６枚のアレイ基板５００を図
７に示すように各々ステージ５５０上に載置し、ラビン
グローラ８０を用いてラビング処理を行う。このときラ
ビングローラ８０はブラケット６００によって回転可能
なように支持されている。そしてステージ５５０を図７
に示す矢印の方向に移動させることによってアレイ基板
５００はラビング処理される。なおブラケット６００に
は静電気測定プローブ６５０が取付けられている。この
プローブ６５０によってラビング直後のアレイ基板５０
０の表面の帯電量が測定される。

【００３９】上記ラビング処理は図６に示すアレイ基板
５００において矢印５４０の方向に行った。図６の破線
で示す領域に配向膜１９が形成された３枚のアレイ基板
５００のラビング直後の帯電量の測定結果を各々、図８
（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す。また表示領域５ａのみ
に配向膜１９が形成された３枚のアレイ基板５００のラ
ビング直後の帯電量の測定結果を各々図９（ａ），
（ｂ），（ｃ）に示す。なお、図８、図９において、
，，，は図６に示す，，，の位置を表
わしている。図８のグラフにおいてはの位置の帯電
量、図９のグラフにおいては、およびの位置の帯電
量はスケールオーバしてピークが明示されていないが、
いずれもほぼ−２０００Ｖ以下である。

【００４０】図８のグラフから分かるように、の位置
すなわち配向膜１９に覆われていないＴＥＧの帯電量の
平均は−２０００Ｖ以下であり、の位置すなわち配向
膜に覆われた表示領域５ａの帯電量の平均は−３９１Ｖ
であり、の位置すなわち配向膜に覆われたＴＥＧの帯
電量の平均は−６５５Ｖであり、の位置すなわち配向
膜に覆われた表示領域５ａの帯電量の平均は−３４０Ｖ
である。

【００４１】これに対して図９のグラフにおいては、
の位置、すなわち配向膜１９に覆われていないＴＥＧの
帯電流は−２０００Ｖ以下であり、の位置、すなわち
配向膜に覆われた表示領域５ａの帯電流は−３７７Ｖで
あり、の位置すなわち配向膜に覆われていないＴＥＧ
の帯電量の平均は−２０００Ｖ以下であり、の位置す
なわち配向膜に覆われた表示領域５ａの帯電量の平均は
−２４７Ｖであった。

【００４２】以上の実験結果から分かるように非表示領
域の駆動回路やＴＥＧ上に配向膜を形成することにより
ラビング直後の帯電量を、配向膜を形成しない場合に比
べて約１／３（＝−６５５Ｖ／−２０００）とすること
ができる。

【００４３】これにより配向膜を非表示領域の駆動回路
やＴＥＧ上に配向膜を形成することにより、ラビング時
に静電破壊するのを可及的に防止することができ、表示
不良が生じるのを抑制できる。

【００４４】なお、図４に示す第２の実施の形態のアレ
イ基板においてはラビングは図４に示す矢印８５の方向
に行うことが好ましい。すなわち、ラビングの進入方向
に駆動回路を配置するほうが好ましい。これは着色層か
らの不純物がラビング時に表示領域５ａに付着するのを
抑制することができるからである。

【００４５】なお図４に示すアレイ基板１００はテスト
された後、カッティングされ、各々の表示素子に分割さ
れる。そして良品の表示素子は液晶表示装置のアレイ基
板として用いられる。すなわち、対向基板と対向するよ
うに配置されて、液晶層を挟持するように構成すること
により液晶表示装置を得ることができる。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
表示不良を可及的に抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるアレイ基板の第１の実施の形態の
構成を示す断面図。

【図２】第１の実施の形態のアレイ基板の平面図。

【図３】第１の実施の形態の変形例を説明する模式図。

【図４】第２の実施の形態のアレイ基板の平面図。

【図５】第２の実施の形態のアレイ基板の断面図。

【図６】第２の実施の形態の効果を得るための実験に用
いられたアレイ基板の平面図。

【図７】実験装置の概略図。

【図８】実験結果を示すグラフ。

【図９】実験結果を示すグラフ。

【図１０】液晶表示装置の構成を示す模式図。

【符号の説明】

１ アレイ基板 ３，５３ ガラス基板 ４ 層間絶縁膜 ５ａ 表示領域 ５ｂ 非表示領域 ６ 信号線 ７ スイッチング素子（ＴＦＴ） ７ａ 多結晶シリコン層 ７ｂ ゲート絶縁膜 ７ｃ ゲート電極 ７ｄ ソースおよびドレイン電極 ８ 走査線 １２ 外部端子 １３ 駆動回路 １３ａ ＴＦＴ １３ｂ 引出し配線 １４ 絶縁膜 １５ 着色層 １７ 画素電極 １７ａ 保護膜 １９ 配向膜 ５０ 対向基板 ５７ 対向電極 ８０ ラビングローラ

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/136 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/136 ５００ (72)発明者 磨 矢 奈津子 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 (72)発明者 庄 原 潔 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 (72)発明者 羽 藤 仁 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 (72)発明者 宮 崎 大 輔 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 (72)発明者 秋 吉 宗 治 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 (72)発明者 成 岡 覚 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 (72)発明者 永 原 義 幸 埼玉県深谷市幡羅町１−９−２ 株式会社 東芝深谷電子工場内 Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BB02 BB14 BB37 BB44 2H090 HA04 HA05 HA14 HB07X HC20 HD01 HD17 LA04 LA15 MB01 2H092 GA59 JA25 JB01 JB57 JB77 JB79 KB23 KB24 NA14 NA29 PA02 PA08 5C094 AA02 AA42 BA03 BA43 CA19 CA24 DA09 DA15 EA04 ED03 HA08

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明な絶縁性基板の表示領域にマトリクス
   状に配設された複数の走査線および複数の信号線と、 前記走査線と前記信号線との交差部に形成され一端が前
   記信号線に接続されて前記走査線の信号に基づいて開閉
   動作するスイッチング素子と、 前記走査線、信号線及びスイッチング素子を含む前記基
   板の表示領域を覆うように形成された複数色の着色層か
   らなるカラーフィルタ部と、 前記カラーフィルタ部上に設けられ、このカラーフィル
   タ部の着色層に設けられたスルーホールを介して前記ス
   イッチ素子の他端に接続された画素電極と、 前記表示領域のカラーフィルタ部および画素電極上に形
   成された配向膜と、 前記配向膜に覆われていない前記カラーフィルタ部の少
   なくとも一部を覆うように形成された保護膜と、 前記基板の非表示領域に形成されて前記複数の走査線お
   よび複数の信号線を駆動する駆動回路と、 を備えたことを特徴とするアレイ基板。
2. 【請求項２】前記基板の非表示領域には試験パターン発
   生回路が形成され、この試験パターン発生回路および前
   記駆動回路はほぼ絶縁膜によって覆われていることを特
   徴とする請求項１記載のアレイ基板。
3. 【請求項３】前記絶縁膜は前記配向膜と同一の材料から
   なっていることを特徴とする請求項２記載のアレイ基
   板。
4. 【請求項４】前記保護膜は導電性の材料からなってお
   り、前記保護膜はカラーフィルタ部の額縁部上に配置さ
   れていることを特徴とする請求項１記載のアレイ基板。
5. 【請求項５】前記保護膜は前記配向膜と同一の材料から
   なっていることを特徴とする請求項１記載のアレイ基
   板。
6. 【請求項６】前記カラーフィルタ部の各着色層は、アル
   キル酸、フェニルカルボン酸、フェニルカルボン酸誘導
   体、フェニレンジカルボン酸、フェニレンジカルボン酸
   誘導体、アルキルアミン、アニリン、アニリン誘導体、
   フェニレンジアミン、フェニレンジアミン誘導体、フェ
   ニレンアミンカルボン酸、フェニレンアミンカルボン酸
   誘導体、およびアルキルイミドのうちの少なくとも１つ
   を含んでいることを特徴とする請求項１記載のアレイ基
   板。
7. 【請求項７】透明な絶縁性基板の表示領域にマトリクス
   状に配設された複数の走査線および複数の信号線と、 前記走査線と前記信号線との交差部に形成され一端が前
   記信号線に接続されて前記走査線の信号に基づいて開閉
   動作するスイッチング素子と、 前記走査線、信号線及びスイッチング素子を含む前記基
   板の表示領域を覆うように形成された複数色の着色層か
   らなるカラーフィルタ部と、 前記カラーフィルタ部上に設けられ、このカラーフィル
   タ部の着色層に設けられたスルーホールを介して前記ス
   イッチ素子の他端に接続された画素電極と、 前記表示領域のカラーフィルタ部および画素電極上に形
   成された配向膜と、 前記基板の非表示領域に形成されて前記複数の走査線お
   よび複数の信号線を駆動する駆動回路と、 を備え、前記駆動回路はラビング進入方向に配置されて
   いることを特徴とするアレイ基板。
8. 【請求項８】請求項１、４、６、７のいずれかに記載の
   アレイ基板と、 第２の透明な絶縁性基板上に形成された対向電極と、こ
   の対向電極を覆うように形成された配向膜とを有する対
   向基板と、 前記アレイ基板と前記対向基板との間に挟持された液晶
   層と、 を備えていることを特徴とする液晶表示装置。