JP2000258747A - 加熱処理装置及びフラットパネルディスプレイの製造装置 - Google Patents

加熱処理装置及びフラットパネルディスプレイの製造装置

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JP2000258747A
JP2000258747A JP11063843A JP6384399A JP2000258747A JP 2000258747 A JP2000258747 A JP 2000258747A JP 11063843 A JP11063843 A JP 11063843A JP 6384399 A JP6384399 A JP 6384399A JP 2000258747 A JP2000258747 A JP 2000258747A
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JP
Japan
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heat
heated
heat treatment
heat pipe
treatment apparatus
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Fumitaka Yoshimura
文孝 吉村
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エネルギー効率を高め、省エネルギーの加熱
処理装置及びフラットパネルディスプレイの製造装置を
提供する。 【解決手段】 フラットパネルディスプレイのガラス基
板を断熱性のプレート上に配置したヒートパイプによっ
て加熱する。ガラス基板はプレートに設けられた複数の
保持ピンによって支持されており、ガラス基板とヒート
パイプとの間には隙間が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱対象物に加
熱処理を行う加熱処理装置、特にフラットパネルディス
プレイ基板の加熱処理装置及びこの加熱処理装置を備え
たフラットパネルディスプレイの製造装置に関し、例え
ば、有機物材料をフラットパネルディスプレイ基板上に
塗布、または印刷した後、乾燥、焼成工程を経て、機能
膜や配線を形成する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイ、PDPなどを構成す
る基板には、多くの有機物材料を塗布したり、印刷した
りした後、乾燥、焼成工程を経て、配線や、機能膜を構
成する工程が多く用いられている。
【0003】たとえば、液晶ディスプレイのカラーフィ
ルター基板の製造プロセスを説明する。
【0004】ブラックマトリックスと言われる、画素の
間を遮光する黒い網目状の配線の施された基板を洗浄
し、次に表面に赤の顔料を含むレジスト剤を塗布する。
約80℃で予備乾燥する。次に、マスクパターンを用
い、露光し約100℃で材料を仮硬化する。その後、現
像して赤色の画素部を形成した後、約200℃で本硬化
する。本硬化は、材料の反応を完全に終了させるために
行うが、この工程で材料中に含まれている溶剤が揮発す
る。その後、緑、青色の顔料を含んだレジスト剤で同じ
工程を繰り返す。
【0005】通常、1色を形成するのに、乾燥工程、露
光後の仮硬化工程、現像後の本硬化工程という3回の熱
工程を必要とし、通常、それぞれ独立した加熱源を有す
る装置で処理を行う。
【0006】PDPは、電極配線の形成に、導電性ペー
ストをスクリーン印刷などの手法で配線し、約100℃
で乾燥し、その後約500℃で焼成して配線を形成する
方法が用いられている。最初に低温で乾燥するのは、高
温で急に加熱すると、材料中に含まれている溶剤類が急
速に揮発し、配線に欠陥を生じるためである。そこで、
約100℃といった比較的低温で、一度乾燥し、その
後、高温で焼成し本硬化させる工程が用いられる。
【0007】この場合は、一般に乾燥工程と硬化工程と
いう2回の熱工程を必要とし、高温で本硬化するとき、
多くの溶剤成分が揮発する。
【0008】このような、低温の処理と、高温の処理
は、通常、それぞれ独立した加熱源を有する装置で、処
理を行う。
【0009】通常熱処理には、ホットプレートやオーブ
ン加熱炉が用いられる。
【0010】温度の均一性、スペース、処理時間等の面
では、ホットプレートが優れるが、高温になるとプレー
トの変形のため均熱性が問題になり、オーブン加熱炉が
用いられている。
【0011】加熱源は電気ヒーターが通常で、ガス燃焼
式も一部で使用されている。温度の制御性、装置の簡略
性からは電気ヒーターが優れているが、高温焼成での熱
の効率ではガス方式が勝る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
オーブン加熱炉では、高温になった排気が外部に放出さ
れるため、加熱エネルギーのロスが大きい。
【0013】近年、地球環境の点で省エネルギーの生産
方式を構築することが要求されているが、省エネルギー
の点でも、不利であるといった問題があった。
【0014】本発明は、かかる従来技術の課題を解決す
るためになされたものであって、その目的とするところ
は、エネルギー効率を高め、省エネルギーの加熱処理装
置及びフラットパネルディスプレイの製造装置を提供す
ることにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第1の発明は、被加熱対象物を加熱する加熱手段を
備え、該被加熱対象物に対して加熱処理を行う加熱処理
装置において、前記加熱手段としてヒートパイプを備え
たことを特徴とする。
【0016】このようにすれば、熱の利用効率が向上す
るので、エネルギー効率を高めることができる。
【0017】第2の発明は、第1の発明において、前記
被加熱対象物と前記ヒートパイプとの間に所定の間隔を
保持するための間隔保持手段を備えたことを特徴とす
る。
【0018】このようにすれば、ヒートパイプの熱が直
接被加熱対象物に伝えられるのではなく、間の空気を介
して加熱されるので、被加熱対象物をより均一に加熱す
ることができる。
【0019】第3の発明は、第1又は第2の発明におい
て、前記ヒートパイプを、前記被加熱対象物を挟んで両
側に設けたことを特徴とする。
【0020】このようにすれば、被加熱対象物により多
くの熱量を供給することができるので、より短時間で加
熱処理を行うことができる。
【0021】第4の発明は、第3の発明において、前記
被加熱対象物は略板形状をなす板状体であり、前記ヒー
トパイプを前記板状体の厚み方向の両側に設けたことを
特徴とする。
【0022】このようにすれば、略板形状をなす被加熱
対象物により多くの熱量を供給することができるので、
より短時間で加熱処理を行うことができる。
【0023】第5の発明は、第4の発明において、前記
被加熱対象物の厚み方向にほぼ直交する方向の延長上に
ヒートパイプを設け、前記ヒートパイプから前記被加熱
対象物の方向に向かって風を送る送風手段を備えたこと
を特徴とする。
【0024】このようにすれば、略板形状をなす被加熱
対象物の厚み方向に直交する方向からの気流の流れを生
じさせ、板状体の面に平行に板状体とヒートパイプとの
隙間に熱風を送ることができるので、熱効率と被加熱対
象物の温度分布の均一性の向上を図ることができる。ま
た、さらに多くの熱量を供給することができるので、一
層短時間で加熱処理を行うことができる。 第1乃至第
5の発明は、いずれも被加熱対象物としてのフラットパ
ネルディスプレイ基板の加熱処理に用いることができ、
これによりエネルギー効率が高く、省エネルギーのフラ
ットパネルディスプレイ基板の加熱処理装置を提供する
ことができる。
【0025】第6の発明は、フラットパネルディスプレ
イ基板を被加熱対象物とする第1乃至第5の発明のいず
れかに係る加熱処理装置を備えたことを特徴とするフラ
ットパネルディスプレイの製造装置である。
【0026】このようにすれば、エネルギー効率が高
く、省エネルギーのフラットパネルディスプレイの製造
装置を提供することができる。
【0027】第7の発明は、フラットパネルディスプレ
イ基板を前記被加熱対象物とし、他の加熱処理装置の排
熱によって前記ヒートパイプを加熱する熱供給手段を備
えた第1乃至第5の発明のいずれかに係る加熱処理装置
と、前記熱供給手段を介して排熱を供給する他の加熱処
理装置とを備えたことを特徴とするフラットパネルディ
スプレイの製造装置である。
【0028】このようにすれば、高温の加熱処理装置の
排熱を低温の加熱処理で有効に利用することにより、さ
らにエネルギー効率を高め、省エネルギーのフラットパ
ネルディスプレイの製造装置を提供することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下実施形態に基づいて本発明を
具体的に説明する。
【0030】(第1の実施形態)本発明の加熱装置は、
以下のような形態で使用される。
【0031】図1は、本発明のヒートパイプを使用した
ヒートパイプ加熱装置の主要部の構成を示す断面図であ
り、図2は同加熱処理装置の主要部の上面図である。ま
た、図3は、本発明の加熱処理装置を用いたフラットパ
ネルディスプレイの製造装置の全体構成を示す図であ
る。
【0032】図3のおいて、11は高温処理に使用され
るオーブン加熱炉で、1は高温に加熱される基板、2は
加熱ヒーター、3は熱風を炉内に循環させるためのファ
ン、4は排気の流れ方向、5は加熱炉の外壁、6は排気
口、7は外部への排気方向、8は排熱回収器、9,1
9,29、39はヒートパイプでパイプの中を作動液が
流れる、10は作動液加熱器、12は低温処理に使用さ
れるヒートパイプ加熱装置で、13は加熱される(フラ
ットパネルディスプレイ)ガラス基板で、14は断熱性
のプレートある。ここで、ヒートパイプ加熱装置12は
加熱処理装置に、基板13は(板状体である)被加熱対
象物に、オーブン加熱炉11は他の加熱処理装置に、排
熱回収器8は熱供給手段にそれぞれ相当する。
【0033】オーブン加熱炉11で加熱された基板から
は揮発成分が出、排気口4,6を通して、7のように外
部へ放出される。排気口の途中に設けられた熱回収器8
によって、排気の熱はヒートパイプ9の中を流れる作動
液で回収される。排気温度は下がり、作動液の温度が上
昇する。
【0034】加熱された作動液21は、一旦作動液加熱
器10で加熱される。作動液21の温度が、第1処理で
必要な温度に十分であれば、再加熱の必要はない。
【0035】再加熱された作動液22は、ヒートパイプ
19を通じて、プレート14上に配置されたヒートパイ
プ29を通り、基板13を加熱する。基板13の加熱に
使用され、ホットプレートから出た作動液23は温度が
下がり、ヒートパイプ39を通じて再びオーブン加熱炉
の排気温度を下げるために使用される。
【0036】図1及び2に基づいて、主要部の構成を説
明する。
【0037】断熱性のプレート14上に、ヒートパイプ
29を配置する。
【0038】プレート14をベースに、保持ピン20を
設け、ガラス基板13を保持する。保持ピン20の高さ
は、ガラス基板13とヒートパイプ29の間に隙間が生
じるようにする。隙間は、狭すぎると均熱性が悪くな
り、広すぎると加熱の効率が悪くなる。ヒートパイプ2
9の本数や配置、加熱能力などから、最適の隙間に設定
する。ここで、保持ピン20は間隔保持手段に相当す
る。
【0039】保持ピン20の本数や配置位置は、ガラス
基板13の自重変形を考慮し決める。特にヒートパイプ
29との隙間が狭くなると、ヒートパイプ29と接触し
てしまうことがあったり、温度分布を生じる原因にもな
る。そこで、ヒートパイプ29の配置と、保持ピン位置
の配置は実験などで十分に検討しておく必要がある。
【0040】基板として厚さ0.7mm、大きさ360
mm×460mmのガラス基板13に、不図示の塗布装
置を用いて、ブラックマトリックス用ブラックレジスト
剤を塗布した。
【0041】ついで、図1に示すようにヒートパイプ加
熱装置12の保持ピン20上にガラス基板13を載置し
た。ヒートパイプ29の中は、加熱された作動液が流れ
ている。また、保持ピン20の長さは、ヒートパイプ2
9とガラス基板13の間の隙間が、4mmになるようあ
らかじめ設定した。
【0042】ガラス基板13の温度は全面にわたって、
80℃〜84℃に加熱され、塗布されたブラックレジス
トが露光に十分な状態に乾燥された。
【0043】本実施形態及び以下の各実施形態における
加熱処理としては、他には、有機物材料をフラットパネ
ルディスプレイ基板上に塗布、または印刷した後、乾
燥、焼成工程を経て、機能膜や配線を形成する処理があ
るが、これに限られるものではない。
【0044】(第2の実施形態)図4は本発明の第2の
実施形態を示す。第1の実施形態とはヒートパイプ加熱
装置の主要部の構成の一部を除いて同様であるので、同
様の符号を用いて説明を省略する。
【0045】第1の実施形態との違いは、基板13上面
にもヒートパイプ49を設けたことである。ヒートパイ
プ49はプレート24に支持されており、この場合も、
ヒートパイプ49とガラス基板13上面とは接触しない
ように保持されている。
【0046】第1の実施形態に比べ、材料の乾燥時間は
短くなった。
【0047】(第3の実施形態)図5は本発明の第3の
実施形態を示す。第2の実施形態とはヒートパイプ加熱
装置の主要部の構成の一部を除いて同様であるので、同
様の符号を用いて説明を省略する。
【0048】第1の実施形態との違いは、基板13の横
にもヒートパイプ59を設け、図示しないファン等の送
風手段により横方向から空気の流れを設けた点である。
【0049】この場合も、ヒートパイプ59とガラス基
板13とは接触しないように保持されている。 第1、
第2の実施形態に比べ、材料の乾燥時間はさらに短くな
った。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
エネルギー効率を高め、省エネルギーの加熱処理装置及
びフラットパネルディスプレイの製造装置を提供するこ
とができる。
【0051】また、ヒートパイプと被加熱対象物との間
隔保持手段を設ければ、被加熱対象物をより均一に加熱
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係るヒートパイプ加
熱装置の主要部の構成を示す断面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係るヒートパイプ加
熱装置の主要部の上面図である。
【図3】本発明の実施形態に共通するフラットパネルデ
ィスプレイの製造装置の全体構成を示す図である。
【図4】本発明の第2の実施形態に係るヒートパイプ加
熱装置の主要部の構成を示す断面図である。
【図5】本発明の第3の実施形態に係るヒートパイプ加
熱装置の主要部の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 基板 8 排熱回収器 9,19,29,39,49,59 ヒートパイプ 11 オーブン加熱炉 12 ヒートパイプ加熱装置 13 ガラス基板 20 保持ピン

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加熱対象物を加熱する加熱手段を備
    え、該被加熱対象物に対して加熱処理を行う加熱処理装
    置において、 前記加熱手段としてヒートパイプを備えたことを特徴と
    する加熱処理装置。
  2. 【請求項2】 前記被加熱対象物と前記ヒートパイプと
    の間に所定の間隔を保持するための間隔保持手段を備え
    たことを特徴とする請求項1記載の加熱処理装置。
  3. 【請求項3】 前記ヒートパイプを、前記被加熱対象物
    を挟んで両側に設けたことを特徴とする請求項1又は2
    記載の加熱処理装置。
  4. 【請求項4】 前記被加熱対象物は略板形状をなす板状
    体であり、 前記ヒートパイプを前記板状体の厚み方向の両側に設け
    たことを特徴とする請求項3記載の加熱処理装置。
  5. 【請求項5】 前記被加熱対象物の厚み方向にほぼ直交
    する方向の延長上にヒートパイプを設け、 前記ヒートパイプから前記被加熱対象物の方向に向かっ
    て風を送る送風手段を備えたことを特徴とする請求項4
    記載の加熱処理装置。
  6. 【請求項6】 フラットパネルディスプレイ基板を被加
    熱対象物とする請求項1乃至5のいずれかに記載の加熱
    処理装置を備えたことを特徴とするフラットパネルディ
    スプレイの製造装置。
  7. 【請求項7】 フラットパネルディスプレイ基板を前記
    被加熱対象物とし、他の加熱処理装置の排熱によって前
    記ヒートパイプを加熱する熱供給手段を備えた請求項1
    乃至5のいずれかに記載の加熱処理装置と、 前記熱供給手段を介して排熱を供給する他の加熱処理装
    置とを備えたことを特徴とするフラットパネルディスプ
    レイの製造装置。
JP11063843A 1999-03-10 1999-03-10 加熱処理装置及びフラットパネルディスプレイの製造装置 Withdrawn JP2000258747A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005119307A (ja) * 2003-10-18 2005-05-12 Schott Ag 基板用の加工接合体
JP2009179861A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Koyo Thermo System Kk 熱処理システム
KR101085673B1 (ko) 2008-08-05 2011-11-22 가부시키가이샤 코와 가열 기능을 구비한 컨베이어

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Effective date: 20060606