JP2000241370A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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- JP2000241370A JP2000241370A JP11045807A JP4580799A JP2000241370A JP 2000241370 A JP2000241370 A JP 2000241370A JP 11045807 A JP11045807 A JP 11045807A JP 4580799 A JP4580799 A JP 4580799A JP 2000241370 A JP2000241370 A JP 2000241370A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 検出Ｘ線強度を従来と同等に保ち、且つ従来
より多くの直進集光式Ｘ線分光器を配置することができ
るＸ線分析装置を提供すること。 【解決手段】 図５は、電子線の試料への照射方向にそ
ってＸ線発生点Ｓを見下ろした時の分光結晶Ｊの配置を
示した図である。この図５は、分光範囲を従来と同等に
保ったときの前記最低角位置に分光結晶がある時の図で
ある。また、図５では、本発明の分光結晶を実線で示
し、従来の分光結晶を破線で示してある。この図５から
明らかなように、図５のＸ線分析装置は従来よりも多く
の分光器を装着しており、また、図５のＸ線分析装置に
おいては、分光結晶の表面の面積が従来と同等に保たれ
ているので検出Ｘ線強度は従来と同等に保たれる。
より多くの直進集光式Ｘ線分光器を配置することができ
るＸ線分析装置を提供すること。 【解決手段】 図５は、電子線の試料への照射方向にそ
ってＸ線発生点Ｓを見下ろした時の分光結晶Ｊの配置を
示した図である。この図５は、分光範囲を従来と同等に
保ったときの前記最低角位置に分光結晶がある時の図で
ある。また、図５では、本発明の分光結晶を実線で示
し、従来の分光結晶を破線で示してある。この図５から
明らかなように、図５のＸ線分析装置は従来よりも多く
の分光器を装着しており、また、図５のＸ線分析装置に
おいては、分光結晶の表面の面積が従来と同等に保たれ
ているので検出Ｘ線強度は従来と同等に保たれる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、電子プローブマ
イクロアナライザ（ＥＰＭＡ）等のＸ線分析装置に関す
る。
イクロアナライザ（ＥＰＭＡ）等のＸ線分析装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】 ＥＰＭＡは、試料に１次線である電子
線を照射し、その電子線照射により試料から発生した特
性Ｘ線を検出して、試料の定性および定量分析を行う装
置である。
線を照射し、その電子線照射により試料から発生した特
性Ｘ線を検出して、試料の定性および定量分析を行う装
置である。
【０００３】図１は、直進集光式Ｘ線分光器を備えたＥ
ＰＭＡを示した図であり、図中、１は電子線、２は対物
レンズ、３は試料、４は湾曲型Ｘ線分光結晶、５は検出
器、６はローランド円、７は分光結晶４の結晶格子面、
Ｒはローランド円６の半径、Ｓは試料３のＸ線発生点、
Ｆは検出器５における回折Ｘ線の集光位置、Ｑはローラ
ンド円６の中心を示す。
ＰＭＡを示した図であり、図中、１は電子線、２は対物
レンズ、３は試料、４は湾曲型Ｘ線分光結晶、５は検出
器、６はローランド円、７は分光結晶４の結晶格子面、
Ｒはローランド円６の半径、Ｓは試料３のＸ線発生点、
Ｆは検出器５における回折Ｘ線の集光位置、Ｑはローラ
ンド円６の中心を示す。
【０００４】このような構成において、試料３に電子線
１が照射されると、試料３から特性Ｘ線が発生する。こ
の発生位置がＸ線発生点Ｓである。
１が照射されると、試料３から特性Ｘ線が発生する。こ
の発生位置がＸ線発生点Ｓである。
【０００５】そして、Ｘ線発生点Ｓから発生したＸ線は
分光結晶４の結晶表面で回折される。ここで、分光結晶
４は、その結晶格子面７は湾曲しており、結晶格子面７
の法線がローランド円６の中心Ｑを通る分光結晶４の結
晶表面上の位置を分光中心としてＯと表すものとする
と、その湾曲半径は２Ｒで、分光中心Ｏとローランド円
６の中心Ｑとを結んだ線ＯＱの延長線とローランド円６
との交点Ａ（図２参照）を通る軸を中心とする円筒凹面
状になっており、また、分光結晶４の結晶表面はローラ
ンド円６に沿う半径Ｒの円筒凹面状に形成されている。
分光結晶４の結晶表面で回折される。ここで、分光結晶
４は、その結晶格子面７は湾曲しており、結晶格子面７
の法線がローランド円６の中心Ｑを通る分光結晶４の結
晶表面上の位置を分光中心としてＯと表すものとする
と、その湾曲半径は２Ｒで、分光中心Ｏとローランド円
６の中心Ｑとを結んだ線ＯＱの延長線とローランド円６
との交点Ａ（図２参照）を通る軸を中心とする円筒凹面
状になっており、また、分光結晶４の結晶表面はローラ
ンド円６に沿う半径Ｒの円筒凹面状に形成されている。
【０００６】分光結晶４の結晶表面で回折されたＸ線は
検出器５の集光位置Ｆに集光されるが、分光結晶４は図
２に示すようにローランド円６と直交する方向（以下、
この方向を結晶幅方向と記す）にａの幅を有しており、
ローランド円に乗っている結晶表面上の円弧である中央
円弧Ｐから結晶幅方向にずれた位置でもＸ線は回折され
るので、図２に示すように、結晶幅ａの２倍の長さ２ａ
をもって集光位置Ｆに集光される。
検出器５の集光位置Ｆに集光されるが、分光結晶４は図
２に示すようにローランド円６と直交する方向（以下、
この方向を結晶幅方向と記す）にａの幅を有しており、
ローランド円に乗っている結晶表面上の円弧である中央
円弧Ｐから結晶幅方向にずれた位置でもＸ線は回折され
るので、図２に示すように、結晶幅ａの２倍の長さ２ａ
をもって集光位置Ｆに集光される。
【０００７】さて、図１には１つの直進集光式Ｘ線分光
器しか示されていないが、実際には、多元素同時分析に
より分析時間を短縮するために、Ｘ線発生点Ｓのまわり
に多数の直進集光式Ｘ線分光器が配置されている。この
配置できる分光器の数は、分光器の移動範囲のうちの最
低角位置、すなわち直進集光式Ｘ線分光器においては、
分光結晶がＸ線発生点Ｓに最も近付いた位置にある時の
隣どおしの分光結晶のぶつかりがないことによって制約
されている。
器しか示されていないが、実際には、多元素同時分析に
より分析時間を短縮するために、Ｘ線発生点Ｓのまわり
に多数の直進集光式Ｘ線分光器が配置されている。この
配置できる分光器の数は、分光器の移動範囲のうちの最
低角位置、すなわち直進集光式Ｘ線分光器においては、
分光結晶がＸ線発生点Ｓに最も近付いた位置にある時の
隣どおしの分光結晶のぶつかりがないことによって制約
されている。
【０００８】図２に示したように、従来の分光結晶の結
晶表面の形は長方形であるため、Ｘ線発生点のまわりに
多数の直進集光式Ｘ線分光器を配置しようとすれば、分
光結晶の結晶幅を狭くする必要がある。
晶表面の形は長方形であるため、Ｘ線発生点のまわりに
多数の直進集光式Ｘ線分光器を配置しようとすれば、分
光結晶の結晶幅を狭くする必要がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、分光
結晶の結晶幅を狭くすると検出Ｘ線強度が低下するとい
う問題が発生する。これは、検出Ｘ線強度はＸ線発生点
から分光結晶表面を見込んだ立体角に依存し、立体角が
小さいほど、すなわち、分光結晶の表面の面積が小さい
ほど検出Ｘ線強度は低くなって望ましくないためであ
る。
結晶の結晶幅を狭くすると検出Ｘ線強度が低下するとい
う問題が発生する。これは、検出Ｘ線強度はＸ線発生点
から分光結晶表面を見込んだ立体角に依存し、立体角が
小さいほど、すなわち、分光結晶の表面の面積が小さい
ほど検出Ｘ線強度は低くなって望ましくないためであ
る。
【００１０】本発明は、このような点に鑑みて成された
もので、その目的は、検出Ｘ線強度を従来と同等に保
ち、且つ従来より多くの直進集光式Ｘ線分光器を配置す
ることができるＸ線分析装置を提供することにある。
もので、その目的は、検出Ｘ線強度を従来と同等に保
ち、且つ従来より多くの直進集光式Ｘ線分光器を配置す
ることができるＸ線分析装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】 この目的を達成する本
発明のＸ線分析装置は、試料に１次線を照射し、その１
次線照射により試料から発生したＸ線を分光結晶で回折
させ、特定の波長を有するＸ線をＸ線検出器で検出する
ようにしたＸ線分析装置において、前記分光結晶の結晶
長手方向の試料側の結晶幅を、結晶長手方向の検出器側
の結晶幅より狭くしたことを特徴とする。
発明のＸ線分析装置は、試料に１次線を照射し、その１
次線照射により試料から発生したＸ線を分光結晶で回折
させ、特定の波長を有するＸ線をＸ線検出器で検出する
ようにしたＸ線分析装置において、前記分光結晶の結晶
長手方向の試料側の結晶幅を、結晶長手方向の検出器側
の結晶幅より狭くしたことを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】 以下、図面を用いて本発明の実
施の形態について説明する。
施の形態について説明する。
【００１３】図３は、本発明の要部である分光結晶の一
例を示した図であり、分光結晶がＥＰＭＡに装着されて
いる状態を示した図である。また、図４は、図３の分光
結晶を、ローランド円の中心Ｑから結晶中心Ｏ方向に向
かって見た結晶の外形形状を示した図である。
例を示した図であり、分光結晶がＥＰＭＡに装着されて
いる状態を示した図である。また、図４は、図３の分光
結晶を、ローランド円の中心Ｑから結晶中心Ｏ方向に向
かって見た結晶の外形形状を示した図である。
【００１４】図３において、Ｊは湾曲型Ｘ線分光結晶で
あり、分光結晶Ｊの結晶長手方向の長さは、前記図２に
示した分光結晶４の結晶長手方向の長さと同じである。
あり、分光結晶Ｊの結晶長手方向の長さは、前記図２に
示した分光結晶４の結晶長手方向の長さと同じである。
【００１５】しかし、図３に示すように、分光結晶Ｊの
試料側の部分は斜めにカットされており、分光結晶Ｊの
結晶長手方向の試料側端部の結晶幅ｂは、図２に示した
分光結晶４の結晶幅ａより狭い。一方、分光結晶Ｊの結
晶長手方向の検出器側端部の結晶幅ｃは、図２に示した
分光結晶４の結晶幅ａより広い。また、分光結晶Ｊの表
面の面積は、図２に示した分光結晶４の表面の面積とほ
ぼ同じである。
試料側の部分は斜めにカットされており、分光結晶Ｊの
結晶長手方向の試料側端部の結晶幅ｂは、図２に示した
分光結晶４の結晶幅ａより狭い。一方、分光結晶Ｊの結
晶長手方向の検出器側端部の結晶幅ｃは、図２に示した
分光結晶４の結晶幅ａより広い。また、分光結晶Ｊの表
面の面積は、図２に示した分光結晶４の表面の面積とほ
ぼ同じである。
【００１６】このように、図３の分光結晶においては、
分光結晶の結晶長手方向の試料側の結晶幅が、結晶長手
方向の検出器側の結晶幅より狭くされている。
分光結晶の結晶長手方向の試料側の結晶幅が、結晶長手
方向の検出器側の結晶幅より狭くされている。
【００１７】図５は、電子線の試料への照射方向にそっ
てＸ線発生点Ｓを見下ろした時の前記分光結晶Ｊの配置
を示した図である。この図５は、分光範囲を従来と同等
に保ったときの前記最低角位置に分光結晶がある時の図
である。また、図５では、本発明の分光結晶を実線で示
し、従来の分光結晶を破線で示してある。
てＸ線発生点Ｓを見下ろした時の前記分光結晶Ｊの配置
を示した図である。この図５は、分光範囲を従来と同等
に保ったときの前記最低角位置に分光結晶がある時の図
である。また、図５では、本発明の分光結晶を実線で示
し、従来の分光結晶を破線で示してある。
【００１８】この図５から明らかなように、図５のＸ線
分析装置は従来よりも多くの分光器を装着しており、ま
た、図５のＸ線分析装置においては、分光結晶の表面の
面積が従来と同等に保たれているので検出Ｘ線強度は従
来と同等に保たれる。
分析装置は従来よりも多くの分光器を装着しており、ま
た、図５のＸ線分析装置においては、分光結晶の表面の
面積が従来と同等に保たれているので検出Ｘ線強度は従
来と同等に保たれる。
【００１９】以上、本発明の一例を説明したが、次に本
発明の他の例を説明する。
発明の他の例を説明する。
【００２０】図６は、電子線の試料への照射方向にそっ
てＸ線発生点Ｓを見下ろした時の、本発明の他の例の湾
曲型Ｘ線分光結晶Ｊ’の配置を示した図である。この図
６は、分光範囲を従来と同等に保ったときの前記最低角
位置に分光結晶Ｊ’がある時の図である。また、図６で
は、本発明の分光結晶Ｊ’を実線で示し、従来の分光結
晶を破線で示してある。
てＸ線発生点Ｓを見下ろした時の、本発明の他の例の湾
曲型Ｘ線分光結晶Ｊ’の配置を示した図である。この図
６は、分光範囲を従来と同等に保ったときの前記最低角
位置に分光結晶Ｊ’がある時の図である。また、図６で
は、本発明の分光結晶Ｊ’を実線で示し、従来の分光結
晶を破線で示してある。
【００２１】図６に示すように、分光結晶Ｊ’の結晶長
手方向の長さは従来の分光結晶の結晶長手方向の長さと
同じである。
手方向の長さは従来の分光結晶の結晶長手方向の長さと
同じである。
【００２２】また、分光結晶Ｊ’の試料側の部分は前記
分光結晶Ｊと同様に斜めにカットされており、分光結晶
Ｊ’の結晶長手方向の試料側端部の結晶幅は、従来の分
光結晶の結晶幅と同じである。一方、分光結晶Ｊ’の結
晶長手方向の検出器側端部の結晶幅は、従来の分光結晶
の幅より広く、分光結晶Ｊ’の表面の面積は、従来の分
光結晶の表面の面積より広い。
分光結晶Ｊと同様に斜めにカットされており、分光結晶
Ｊ’の結晶長手方向の試料側端部の結晶幅は、従来の分
光結晶の結晶幅と同じである。一方、分光結晶Ｊ’の結
晶長手方向の検出器側端部の結晶幅は、従来の分光結晶
の幅より広く、分光結晶Ｊ’の表面の面積は、従来の分
光結晶の表面の面積より広い。
【００２３】この図６から明らかなように、図６のＸ線
分析装置の分光器の装着数は従来と同じであるが、図６
のＸ線分析装置においては、分光結晶の表面の面積が従
来より広くなっているので検出Ｘ線強度は従来より高く
なる。
分析装置の分光器の装着数は従来と同じであるが、図６
のＸ線分析装置においては、分光結晶の表面の面積が従
来より広くなっているので検出Ｘ線強度は従来より高く
なる。
【００２４】なお、図５と図６に示したＥＰＭＡにおい
ては、Ｘ線発生点Ｓのまわりに対称に分光器が配置され
ているが、分光器の配置が対称でなくても良い。
ては、Ｘ線発生点Ｓのまわりに対称に分光器が配置され
ているが、分光器の配置が対称でなくても良い。
【図１】 直進集光式Ｘ線分光器を備えたＥＰＭＡを説
明するために示した図である。
明するために示した図である。
【図２】 従来の分光結晶を示した図である。
【図３】 本発明の分光結晶の一例を示した図である。
【図４】 ローランド円の中心Ｑから結晶中心Ｏ方向に
向かって見た時の分光結晶Ｊの外形形状を示した図であ
る。
向かって見た時の分光結晶Ｊの外形形状を示した図であ
る。
【図５】 電子線の試料への照射方向にそってＸ線発生
点Ｓを見下ろした時の、図３に示した分光結晶Ｊの配置
を示した図である。
点Ｓを見下ろした時の、図３に示した分光結晶Ｊの配置
を示した図である。
【図６】 電子線の試料への照射方向にそってＸ線発生
点Ｓを見下ろした時の、本発明の他の例の分光結晶Ｊ’
の配置を示した図である。
点Ｓを見下ろした時の、本発明の他の例の分光結晶Ｊ’
の配置を示した図である。
１…電子線、２…対物レンズ、３…試料、４…分光結
晶、５…検出器、６…ローランド円、７…分光結晶４の
結晶格子面、Ｊ、Ｊ’…分光結晶
晶、５…検出器、６…ローランド円、７…分光結晶４の
結晶格子面、Ｊ、Ｊ’…分光結晶
Claims (1)
- 【請求項１】 試料に１次線を照射し、その１次線照射
により試料から発生したＸ線を分光結晶で回折させ、特
定の波長を有するＸ線をＸ線検出器で検出するようにし
たＸ線分析装置において、前記分光結晶の結晶長手方向
の試料側の結晶幅を、結晶長手方向の検出器側の結晶幅
より狭くしたことを特徴とするＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11045807A JP2000241370A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11045807A JP2000241370A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | Ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000241370A true JP2000241370A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12729543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11045807A Withdrawn JP2000241370A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241370A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007309649A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
-
1999
- 1999-02-24 JP JP11045807A patent/JP2000241370A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007309649A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光装置 |
| JP4706554B2 (ja) * | 2006-05-16 | 2011-06-22 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060509 |