JP2000218245A - Vapor drying device for glass substrate - Google Patents

Vapor drying device for glass substrate

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JP2000218245A
JP2000218245A JP11021711A JP2171199A JP2000218245A JP 2000218245 A JP2000218245 A JP 2000218245A JP 11021711 A JP11021711 A JP 11021711A JP 2171199 A JP2171199 A JP 2171199A JP 2000218245 A JP2000218245 A JP 2000218245A
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JP
Japan
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drying
glass substrate
steam
vapor
housing
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JP11021711A
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Kokichi Miyamoto
孝吉 宮本
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Hiroshima Opt Corp
Kyocera Display Corp
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Hiroshima Opt Corp
Kyocera Display Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform drying free from the non-uniformity of drying regardless of plate thickness by providing a vapor quantity control means, in the drying of a glass substrate by supplying vapor generated by heating a solvent for cleaning to a drying vessel and controlling its inside to have a prescribed vapor density. SOLUTION: In the drying of the glass substrate used for a liquid crystal display panel or the like, a cassette 2 housing plural pieces of the glass substrate is charged into a housing 11 of a vapor drying device 10 and is supported with a supporting body. The drying of the glass substrate is performed by supplying the vapor into the housing 11 from a vapor generating device for vaporizing the solvent for cleaning such as isopropyl alcohol through a supply pipe line 17 to a duct 16, in which plural vapor supply ports 14, 15 are formed. The optimum drying condition to the thickness (heat capacity) of the glass substrate is established to prevent the non-uniformity of the drying by controlling the vapor quantity with shutters 18 as the vapor quantity controlling means of the glass substrate which are attached to the vapor supply ports 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はガラス基板の蒸気乾
燥装置に関し、さらに詳しく言えば、液晶表示パネルに
用いられるガラス基板の洗浄後における乾燥に好適な蒸
気乾燥装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a steam drying apparatus for a glass substrate, and more particularly to a steam drying apparatus suitable for drying a glass substrate used for a liquid crystal display panel after washing.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルを製造するにあたって、
ガラス基板の洗浄・乾燥は歩留まり向上の観点から重要
な工程の一つとして位置付けられている。すなわち、そ
の良否がその後の処理工程に大きな影響を及ぼすからで
ある。
2. Description of the Related Art In manufacturing a liquid crystal display panel,
Cleaning and drying of the glass substrate is regarded as one of the important processes from the viewpoint of improving the yield. In other words, the quality is greatly affected on the subsequent processing steps.

【0003】通常、透明電極基板用のガラス基板は、純
水による洗浄を複数回(例えば2回)繰り返し行なった
後、IPA(イソプロピルアルコール)液内で洗浄さ
れ、さらにIPA液内に浸漬して水との置換が行なわれ
る。
Usually, a glass substrate for a transparent electrode substrate is repeatedly washed with pure water a plurality of times (for example, twice), then washed in an IPA (isopropyl alcohol) solution, and further immersed in the IPA solution. Replacement with water is performed.

【0004】そして、洗浄の最終段として乾燥工程に回
される。基板乾燥には以前フロンが用いられていたが、
地球環境保護の観点から、例えばアルコール蒸気乾燥が
採用されるようになった。
[0004] Then, it is sent to a drying step as a final stage of washing. CFCs were used for substrate drying before,
From the viewpoint of global environmental protection, for example, alcohol vapor drying has been adopted.

【0005】これについて説明すると、アルコール乾燥
工程では、IPAを加熱して蒸気を生成する蒸気生成装
置と、同蒸気生成装置から蒸気が供給される乾燥槽とが
用意されており、乾燥槽のIPA蒸気雰囲気内にガラス
基板を晒すことにより乾燥が行なわれる。
[0005] To explain this, in the alcohol drying step, a steam generator for heating IPA to generate steam and a drying tank to which steam is supplied from the steam generator are provided. Drying is performed by exposing the glass substrate to a steam atmosphere.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】IPAの沸点温度は7
8〜81℃であるのに対して、洗浄後のガラス基板の温
度は常温もしくはそれよりも低い。したがって、乾燥槽
内にガラス基板を入れると、その表面にIPAが結露す
ることになる。
The boiling point of IPA is 7
The temperature of the glass substrate after washing is 8 to 81 ° C., and the temperature of the glass substrate after washing is room temperature or lower. Therefore, when a glass substrate is placed in a drying tank, IPA is condensed on the surface of the glass substrate.

【0007】この結露がガラス基板面に均一に付着すれ
ば乾燥ムラは生じないが、結露状態はガラス基板の厚さ
(熱容量)に左右される。例えば、ガラス基板の厚さが
0.5〜1.3mm位ある場合には乾燥ムラが生じない
としても、同じIPA蒸気雰囲気内に厚さが0.1〜
0.4mmの薄いガラス基板を晒した場合には、その熱
容量が小さいため乾燥ムラが生ずることが確かめられて
いる。
[0007] If this condensation uniformly adheres to the surface of the glass substrate, drying unevenness does not occur, but the state of condensation depends on the thickness (heat capacity) of the glass substrate. For example, when the thickness of the glass substrate is about 0.5 to 1.3 mm, even if the drying unevenness does not occur, the thickness is 0.1 to 0.1 mm in the same IPA vapor atmosphere.
It has been confirmed that when a thin glass substrate of 0.4 mm is exposed, drying unevenness occurs due to its small heat capacity.

【0008】このような乾燥ムラを防止するには条件を
変えればよい。すなわち、薄いガラス基板の場合には乾
燥槽内の容積を大きくしたり、もしくは蒸気生成装置の
加熱容量をコントロールして蒸気の生成量を少なくすれ
ばよいのであるが、これには次のような課題がある。
To prevent such drying unevenness, the conditions may be changed. That is, in the case of a thin glass substrate, it is only necessary to increase the volume in the drying tank or to control the heating capacity of the steam generator to reduce the amount of steam generated. There are issues.

【0009】すなわち、ガラス基板の厚さに応じて内容
積の異なる乾燥槽を用意するには、大きな設備投資が必
要となり好ましくない。また、蒸気生成装置の加熱容量
をガラス基板の厚さに応じて調節するにしても、その切
り換えに長時間を要し、生産性が悪くなる。
That is, to prepare a drying tank having a different internal volume according to the thickness of the glass substrate, a large capital investment is required, which is not preferable. Further, even if the heating capacity of the steam generator is adjusted according to the thickness of the glass substrate, it takes a long time to switch the heating capacity, and the productivity is deteriorated.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、同一
の乾燥槽内で、しかも蒸気生成装置の加熱容量を調節す
ることなく、板厚の厚いものから薄いものまで乾燥ムラ
を生じさせることなく乾燥させることができるようにし
たガラス基板の蒸気乾燥装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such problems, and has as its object to adjust the heating capacity of a steam generator in the same drying tank. It is another object of the present invention to provide a vapor drying apparatus for a glass substrate which can be dried from a thick plate to a thin plate without causing drying unevenness.

【0011】本発明によれば、この目的は、イソプロピ
ルアルコール(IPA)などの洗浄用溶剤を加熱して蒸
気を生成する蒸気生成手段と、同蒸気生成手段から蒸気
が供給され、内部が所定の蒸気密度とされる乾燥槽とを
有し、同乾燥槽の蒸気雰囲気内にガラス基板を晒して乾
燥させるガラス基板の蒸気乾燥装置において、前記乾燥
槽内に供給される蒸気量を調整する蒸気量調整手段を備
えていることにより達成される。
According to the present invention, it is an object of the present invention to provide a steam generating means for generating a steam by heating a cleaning solvent such as isopropyl alcohol (IPA); A drying tank having a steam density, wherein the glass substrate is dried by exposing the glass substrate to a steam atmosphere of the drying tank to adjust the amount of steam supplied to the drying tank. This is achieved by providing adjusting means.

【0012】この構成によれば、蒸気量調整手段により
乾燥槽内に供給されるIPA蒸気量を調整することによ
り、同じ内容積の乾燥槽内で、しかも蒸気生成装置の加
熱容量を調節することなく、例えば厚さ0.1〜1.3
mmのガラス基板に対応することができる。
According to this structure, the amount of IPA vapor supplied into the drying tank is adjusted by the amount of steam adjusting means, so that the heating capacity of the steam generator can be adjusted in the drying tank having the same internal volume. No, for example, a thickness of 0.1 to 1.3
mm glass substrate.

【0013】本発明において、蒸気量調整手段は蒸気生
成手段から乾燥槽に至る配管に設けられる流量調整弁で
あってもよいが、乾燥槽に設けられている蒸気供給口の
開口面積を可変とするシャッター板であることが好まし
く、これによれば既存の乾燥槽に容易に適用することが
できる。
[0013] In the present invention, the steam amount adjusting means may be a flow rate adjusting valve provided in a pipe from the steam generating means to the drying tank, but the opening area of the steam supply port provided in the drying tank is variable. It is preferable to use a shutter plate which can be easily applied to an existing drying tank.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明を図面に示されてい
る実施例に基づいて具体的に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention;

【0015】図1はこの実施例に係る蒸気乾燥装置10
の正面側断面図で、図2はその右側面側断面図である。
また、図3にはガラス基板1の複数枚を1ロットとして
蒸気乾燥装置10内に収納する際に用いられるカセット
2が示されている。これによると、この蒸気乾燥装置1
0は、まず、上面にカセット2を出し入れするための開
口部111を有する箱形のハウジング11を備えてい
る。
FIG. 1 shows a steam drying apparatus 10 according to this embodiment.
FIG. 2 is a right side sectional view thereof.
FIG. 3 shows a cassette 2 used when a plurality of glass substrates 1 are stored in the steam drying apparatus 10 as one lot. According to this, the steam drying device 1
0 has a box-shaped housing 11 having an opening 111 for taking the cassette 2 in and out of the upper surface.

【0016】図示されていないが、ハウジング11の上
方には、カセット2を開口部111からハウジング11
のほぼ中央の下部位置に配置するための昇降可能なカセ
ット支持体が設けられている。また、ハウジング11内
の上部には、IPA蒸気を凝縮するためのコンデンサパ
イプ13がハウジング内面に沿って配設されている。
Although not shown, above the housing 11, the cassette 2 is inserted through the opening 111 into the housing 11.
And a cassette support that can be raised and lowered to be disposed at a lower position substantially at the center of the cassette support. Further, a condenser pipe 13 for condensing IPA vapor is provided along an inner surface of the housing at an upper portion in the housing 11.

【0017】ハウジング11の側面の下部側には、蒸気
供給口14が形成されている。この実施例によると、蒸
気供給口14は矩形状であり、ハウジング11の各側面
ごとに一つずつ設けられている。
A steam supply port 14 is formed in the lower part of the side surface of the housing 11. According to this embodiment, the steam supply ports 14 are rectangular and are provided one for each side of the housing 11.

【0018】ハウジング11の底面にも、蒸気供給口1
5が設けられている。この実施例において、底面の蒸気
供給口15はハウジング11内に突出する円筒管151
を有し、この円筒管151の上方には傘152が被せら
れている。この実施例では、底面の蒸気供給口15は2
×3の配列で、6個設けられている。
The steam supply port 1 is also provided on the bottom of the housing 11.
5 are provided. In this embodiment, the steam supply port 15 at the bottom is a cylindrical pipe 151 projecting into the housing 11.
An umbrella 152 is placed above the cylindrical tube 151. In this embodiment, the steam supply port 15 on the bottom is 2
Six are provided in an array of × 3.

【0019】ハウジング11の側面から底面にかけて
は、それらの各面にある蒸気供給口14,15を覆うよ
うにダクト16が設けられている。このダクト16の一
端には図示しない蒸気生成装置からの蒸気供給配管17
が接続されている。
A duct 16 is provided from the side surface to the bottom surface of the housing 11 so as to cover the steam supply ports 14 and 15 on the respective surfaces. One end of the duct 16 has a steam supply pipe 17 from a steam generator (not shown).
Is connected.

【0020】この実施例では洗浄用溶剤としてIPA
(イソプロピルアルコール)が用いられており、蒸気生
成装置には、IPAの貯留タンクと、同貯留タンクを加
熱してIPA蒸気を生成する電気ヒータとが設けられて
いる。
In this embodiment, IPA is used as a cleaning solvent.
(Isopropyl alcohol) is used, and the vapor generation device is provided with a storage tank for IPA and an electric heater for heating the storage tank to generate IPA vapor.

【0021】側面の各蒸気供給口14には、その開口面
積を可変とする蒸気量調整手段としてのシャッター18
がそれぞれ設けられている。シャッター18は手動式、
電動式のいずれであってもよい。また、各シャッター1
8はそれぞれ独立に調整可能であってもよいし、リンク
などにより連結され一括して調整できるようにされても
よい。
Each of the steam supply ports 14 on the side face has a shutter 18 as a steam amount adjusting means for making the opening area variable.
Are provided respectively. The shutter 18 is a manual type,
Any type of electric type may be used. In addition, each shutter 1
8 may be independently adjustable, or may be linked by a link or the like so that they can be adjusted collectively.

【0022】シャッター18のスライド方向は任意であ
る。この実施例では上下方向であるが、水平方向として
もよい。場合によっては、スライド式ではなく、ヒンジ
などにより開閉する回転式としてもよい。また、この実
施例とは異なり、底面の蒸気供給口15にもシャッター
18を設けてもよい。
The sliding direction of the shutter 18 is arbitrary. In this embodiment, the vertical direction is used, but the horizontal direction may be used. In some cases, instead of the slide type, a rotary type that opens and closes with a hinge or the like may be used. Further, unlike this embodiment, a shutter 18 may be provided in the steam supply port 15 on the bottom surface.

【0023】カセット2内には、複数枚のガラス基板1
を縦方向に揃えて収納することができる。カセット2の
上面と下面はIPA蒸気が流通し得るように開放されて
おり、対向する側枠21,21には各ガラス基板1を所
定の間隔をもって保持するスペーサ溝211,211が
それぞれ形成されている。なお、図示されていないが、
カセット2の下面側にはガラス基板1の脱落防止用のス
トッパーが設けられている。
In the cassette 2, a plurality of glass substrates 1
Can be accommodated in the vertical direction. The upper and lower surfaces of the cassette 2 are open so that IPA vapor can flow therethrough, and spacer grooves 211 and 211 for holding the glass substrates 1 at predetermined intervals are formed in the opposing side frames 21 and 21 respectively. I have. Although not shown,
A stopper for preventing the glass substrate 1 from dropping is provided on the lower surface side of the cassette 2.

【0024】ここで、厚さが0.1〜0.4mmのガラ
ス基板を薄いガラス基板とし、厚さが0.5〜1.3m
mのガラス基板を厚いガラス基板とした場合、この蒸気
乾燥装置10によれば、その双方を乾燥ムラを生じさせ
ることなく、洗浄・乾燥させることができる。なお、基
板の縦横寸法は両者ともに同寸で、例えば図3において
横幅Wが180mm、縦幅Hが160(〜215)mm
であるとする。
Here, a glass substrate having a thickness of 0.1 to 0.4 mm is used as a thin glass substrate, and a glass substrate having a thickness of 0.5 to 1.3 m is used.
When the glass substrate of m is a thick glass substrate, the steam drying device 10 can clean and dry both of them without causing drying unevenness. The vertical and horizontal dimensions of the substrate are the same in both cases. For example, in FIG. 3, the horizontal width W is 180 mm and the vertical width H is 160 ((215) mm.
And

【0025】いずれの厚さの場合にも、ガラス基板1は
カセット2内に収納された状態で、複数回(例えば2
回)の純水洗浄およびIPA液洗浄、そしてさらにIP
A液内への浸漬による水との置換工程を経た後、図1,
図2のようにハウジング11内に入れられる。
Regardless of the thickness, the glass substrate 1 is stored in the cassette 2 a plurality of times (for example, two times).
Times) pure water washing and IPA solution washing, and further IP
After passing through a replacement step with water by immersion in liquid A, FIG.
It is put in the housing 11 as shown in FIG.

【0026】そして、ハウジング11内において、蒸気
生成装置から供給されるIPA蒸気に晒されて洗浄・乾
燥が行なわれるが、厚いガラス基板の場合には、シャッ
ター18により蒸気供給口14の開口面積が広げられ
る。これにより、より多くのIPA蒸気がハウジング1
1内に供給される。
In the housing 11, the substrate is exposed to IPA vapor supplied from a vapor generator to perform washing and drying. In the case of a thick glass substrate, the opening area of the vapor supply port 14 is reduced by the shutter 18. Can be spread. This allows more IPA vapor to flow into the housing 1
1 is supplied.

【0027】これに対して、薄いガラス基板の場合に
は、シャッター18により蒸気供給口14の開口面積が
狭くされ、ハウジング11内に供給されるIPA蒸気量
が絞られる。
On the other hand, in the case of a thin glass substrate, the opening area of the vapor supply port 14 is reduced by the shutter 18 and the amount of IPA vapor supplied into the housing 11 is reduced.

【0028】ちなみに、この実施例において、ハウジン
グ11の内寸法は、高さ約700mm,横幅約500m
m,奥行き約600mmであり、ハウジング11内に供
給されるIPA蒸気量は、厚いガラス基板の場合、毎分
3〜10リットルの範囲内とされる。
Incidentally, in this embodiment, the inner dimensions of the housing 11 are about 700 mm in height and about 500 m in width.
m, the depth is about 600 mm, and the amount of IPA vapor supplied into the housing 11 is in the range of 3 to 10 liters per minute for a thick glass substrate.

【0029】これに対して、薄いガラス基板の場合に
は、毎分2〜4リットル程度に絞られる。なお、この洗
浄・乾燥に要する時間は、双方ともに2〜4分間程度で
ある。
On the other hand, in the case of a thin glass substrate, the diameter is reduced to about 2 to 4 liters per minute. The time required for the washing and drying is about 2 to 4 minutes in both cases.

【0030】このように本発明によれば、ガラス基板の
厚さ(熱容量)に応じて、IPA蒸気量を調整すること
ができ、最適乾燥条件でガラス基板を乾燥ムラなく、き
れいに乾燥することができる。
As described above, according to the present invention, the amount of IPA vapor can be adjusted according to the thickness (heat capacity) of the glass substrate, and the glass substrate can be dried neatly under optimum drying conditions without drying unevenness. it can.

【0031】なお、上記実施例では、洗浄用溶剤として
IPAを用いているが、本発明はこれに限定されるもの
ではない。また、蒸気量調整手段としてシャッター18
を使用しているが、場合によっては、蒸気生成装置から
の配管17に流量調整弁を設けてもよい。さらに、本発
明は液晶表示パネル用ガラス基板以外のガラス基板の蒸
気乾燥にも適用可能である。
In the above embodiment, IPA is used as a cleaning solvent, but the present invention is not limited to this. Further, a shutter 18 is used as a steam amount adjusting means.
However, in some cases, a flow control valve may be provided in the pipe 17 from the steam generator. Furthermore, the present invention is also applicable to steam drying of glass substrates other than glass substrates for liquid crystal display panels.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
蒸気生成手段から蒸気が供給される乾燥槽内において、
その蒸気雰囲気にガラス基板を晒して乾燥させるにあた
って、乾燥槽内に供給される蒸気量を調整可能としたこ
とにより、同一の乾燥槽内で、しかも蒸気生成装置の加
熱容量を調節することなく、板厚の厚いものから薄いも
のまで乾燥ムラを生じさせることなく乾燥させることが
できる。
As described above, according to the present invention,
In the drying tank to which steam is supplied from the steam generating means,
When exposing the glass substrate to the steam atmosphere and drying it, the amount of steam supplied to the drying tank can be adjusted, so that the heating capacity of the steam generator can be adjusted in the same drying tank, Drying can be performed from a thick plate to a thin plate without causing drying unevenness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるガラス基板の蒸気乾燥装置の一実
施例を示した正面側断面図。
FIG. 1 is a front sectional view showing an embodiment of a glass substrate steam drying apparatus according to the present invention.

【図2】上記実施例の右側面側断面図。FIG. 2 is a right side sectional view of the embodiment.

【図3】上記実施例で使用されるガラス基板のカセット
を示した斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing a glass substrate cassette used in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 カセット 10 蒸気乾燥装置 11 ハウジング 13 コンデンサパイプ 14,15 蒸気供給口 16 ダクト 17 蒸気供給配管 18 シャッター DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Cassette 10 Steam drying apparatus 11 Housing 13 Condenser pipe 14, 15 Steam supply port 16 Duct 17 Steam supply pipe 18 Shutter

フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 HC18 JB02 JC19 3B116 AA02 BB01 CC03 3B201 AA02 BB01 BB93 BB95 CC12 3L113 AA01 AC05 AC08 AC16 AC48 AC50 AC54 AC65 AC67 AC75 AC79 AC90 BA34 CA11 DA01 DA24 Continued on the front page F term (reference) 2H090 HC18 JB02 JC19 3B116 AA02 BB01 CC03 3B201 AA02 BB01 BB93 BB95 CC12 3L113 AA01 AC05 AC08 AC16 AC48 AC50 AC54 AC65 AC67 AC75 AC79 AC90 BA34 CA11 DA01 DA24

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イソプロピルアルコールなどの洗浄用溶
剤を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、同蒸気生
成手段から蒸気が供給され、内部が所定の蒸気密度とさ
れる乾燥槽とを有し、同乾燥槽の蒸気雰囲気内にガラス
基板を晒して乾燥させるガラス基板の蒸気乾燥装置にお
いて、 前記乾燥槽内に供給される蒸気量を調整する蒸気量調整
手段を備えていることを特徴とするガラス基板の蒸気乾
燥装置。
1. A steam generating means for generating steam by heating a cleaning solvent such as isopropyl alcohol, and a drying tank supplied with steam from the steam generating means and having a predetermined steam density inside. A glass substrate steam drying apparatus for drying a glass substrate by exposing the glass substrate in a steam atmosphere of the drying tank, wherein a steam amount adjusting means for adjusting an amount of steam supplied to the drying tank is provided. Steam drying equipment for glass substrates.
【請求項2】 前記乾燥槽は、少なくともその底面もし
くは側面のいずれか一方に前記蒸気生成手段に接続され
る蒸気供給口を備え、前記蒸気量調整手段は、前記蒸気
供給口の開口面積を可変とするシャッター板からなる請
求項1に記載のガラス基板の蒸気乾燥装置。
2. The drying tank has a steam supply port connected to the steam generation means on at least one of a bottom surface and a side face thereof, and the steam amount adjustment means changes an opening area of the steam supply port. The steam drying apparatus for a glass substrate according to claim 1, comprising a shutter plate.
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