JP2000215672A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2000215672A
JP2000215672A JP11010714A JP1071499A JP2000215672A JP 2000215672 A JP2000215672 A JP 2000215672A JP 11010714 A JP11010714 A JP 11010714A JP 1071499 A JP1071499 A JP 1071499A JP 2000215672 A JP2000215672 A JP 2000215672A
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JP
Japan
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precharge
bit line
semiconductor memory
memory device
output
Prior art date
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JP11010714A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Tomohiro
靖彦 友廣
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To operate bit line select means sequentially in units of the number of I/O configurations by connecting the output of the bit line select means with the input of a plurality bit line select means through a precharge control means and inputting a control signal also to other precharge control means through a timing control means. SOLUTION: A precharge signal is transmitted to a signal line PC2b with a time lag set by a timing control circuit 161 after an operation of a precharge control circuit 140 is started. All column gates connected with the output of a precharge control circuit 141 are selected and turned on to start precharge. Subsequently, a precharge control signal connected with a signal line. PC3b is operated with a time difference in addition to a timing control circuit 162 and the output signal line PC3b thereof. Since a time difference can be set equal to the time required for starting precharge after each precharge control circuit is turned on, the peak of the bit line current can be shifted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
するもので、特にビット線プリチャージに関わるもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a bit line precharge.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置では、メモリセルに接続
されデータ入出力を行う前、又は後にビット線を所定の
電圧しておくプリチャージと呼ばれる動作を行うことに
よりビット線のデータをリセットして次の読み出し書込
み動作に備える。このプリチャージ動作を行うことによ
りメモリセルへのデータ入出力、データ保持を安定して
行うことができると共にメモリセルへのデータ入出力速
度を向上させることもできる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory device, before or after data input / output is performed by being connected to a memory cell or after performing an operation called precharge for keeping a bit line at a predetermined voltage, data on the bit line is reset. Prepare for the next read / write operation. By performing this precharge operation, data input / output to / from the memory cell and data retention can be performed stably, and the speed of data input / output to / from the memory cell can be improved.

【0003】プリチャージは一般的にビット線にプリチ
ャージ回路を付加し、読み出し書込み動作を行わない機
関にビット線を所定の電位にすることで行われている。
又、ビット線にプリチャージ回路を付加することをや
め、データ書込回路を用いてビット線をプリチャージし
ようをする技術が例えば特開平06195977に開示
されている。
[0003] The precharge is generally performed by adding a precharge circuit to the bit line and setting the bit line to a predetermined potential in an organization that does not perform a read / write operation.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 06195977 discloses a technique in which the addition of a precharge circuit to a bit line is stopped and the bit line is precharged using a data writing circuit.

【0004】図4は従来のデータ書込回路を用いてプリ
チャージを行う方式の半導体記憶装置の一部を示す回路
図である。図4中の400はメモリセルを表しており、
メモリセル400はワード線とビット線BL,BLbに
接続されている。行デコーダ420はアドレス信号X−
Addr.に対応するワード線を選択し、選択されたワ
ード線をワードドライバ430が駆動する。ビット線対
BL1,BL1bはカラムゲート回路440を介してデ
ータバス対DB,DBbに接続される。カラムゲート回
路のNchトランジスタゲート電極にはデコード値選択
回路450の出力が接続される。デコード値選択回路4
50はORゲートで構成されており、ORゲート451
の入力の一方はカラムデコーダ470の出力が接続さ
れ、他方には信号selが入力される。カラムデコーダ
回路470はアドレス信号Y−Addr.に対応するカ
ラムゲート回路を選択する。データバスDB,DBbに
はセンスアンプ480とI/O回路490が接続され、
I/O回路490は信号Wr.En、信号Pr.En、
信号Doutが入力、信号Dinが出力をなる。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a part of a conventional semiconductor memory device of a precharge method using a data writing circuit. 400 in FIG. 4 represents a memory cell,
The memory cell 400 is connected to a word line and bit lines BL and BLb. Row decoder 420 receives address signal X-
Addr. And the word driver 430 drives the selected word line. Bit line pair BL1, BL1b is connected to data bus pair DB, DBb via column gate circuit 440. The output of the decode value selection circuit 450 is connected to the Nch transistor gate electrode of the column gate circuit. Decode value selection circuit 4
Reference numeral 50 denotes an OR gate, and an OR gate 451
Is connected to the output of the column decoder 470, and the other input is a signal sel. The column decoder circuit 470 receives the address signal Y-Addr. Select the column gate circuit corresponding to. A sense amplifier 480 and an I / O circuit 490 are connected to the data buses DB and DBb.
I / O circuit 490 provides signal Wr. En, the signal Pr. En,
The signal Dout is input and the signal Din is output.

【0005】図4の動作を説明する。The operation of FIG. 4 will be described.

【0006】今、X−Addr.及びY−Addr.に
よってBL1,BL1bに接続されたメモリセル400
が選択されてデータ読み出し動作が行われたとする。選
択されたメモリセルが保持するデータはビット線対から
カラムゲートを介してデータバスDB,DBbに伝達さ
れセンスアンプ480で増幅された後I/O回路490
から出力される。このとき選択されたワード線につなが
る全てのメモリセルがアクティブ状態をなり各々が接続
されているビット線対にでーたを出力している。
Now, X-Addr. And Y-Addr. Memory cell 400 connected to BL1 and BL1b
Is selected and a data read operation is performed. The data held by the selected memory cell is transmitted from the bit line pair to the data buses DB and DBb via the column gates, amplified by the sense amplifier 480, and then I / O circuit 490
Output from At this time, all the memory cells connected to the selected word line are in the active state, and the data is output to the bit line pair to which each is connected.

【0007】図4の場合ではビット線対がHighレベ
ル,Lowレベル又はその逆の電位状態となっている。
ただしカラムゲートがOFFになっているためデータバ
スには接続されておらず誤動作とはならない。このよう
にデータ出力状態にあってデータバスに接続さてていな
い状態を以降擬似リード状態と称する。読み出し動作
後、選択されていたワード線が非選択状態、BL1,B
L1bに接続されたカラムゲートもOFF状態となって
BL1,BL1bも非選択状態となる。この時点でアク
ティブになっていた全てのメモリセルが接続されている
ビット線対がメモリセルがひじしているデータに従った
電位状態となっている。全てのワード線,カラムゲート
が非選択状態になった後にプリチャージ信号Pr.En
が非活性状態から活性状態へと移行し、データ書き込み
回路のデータバスに接続される2本の出力はどちらもプ
リチャージレベルに電位を変化させると共に信号sel
が非活性状態から活性状態へと移行することでデコード
値選択回路450の出力はカラムデコーダ出力に如何に
関わらず全てのカラムゲートをON状態にする。これに
よりデータバスを介して全てのビット線がデータ書き込
み回路出力と接続されることとなり、データ書き込み回
路のプリチャージレベルに全ビット線がプリチャージさ
れる。プリチャージ終了後は信号selが非選択状態へ
移行してデコード値選択回路出力はカラムデコーダ回路
出力によって変化するようになるのと共にプリチャージ
信号Pr.Enが非選択状態へと移行しデータ書き込み
回路がプリチャージレベルを出力するのを停止する。プ
リチャージか終了した時点でX−Addr.とY−Ad
dr.で指定されるメモリセルへの読み出し動作が行わ
れる。この動作サイクルを繰り返すことで読み出し動作
を行う。
In the case of FIG. 4, the bit line pair is at a High level, a Low level, or a potential state opposite thereto.
However, since the column gate is OFF, it is not connected to the data bus and does not malfunction. Such a state in which data is output and not connected to the data bus is hereinafter referred to as a pseudo read state. After the read operation, the selected word line is in a non-selected state, BL1, B
The column gate connected to L1b is also turned off, and BL1 and BL1b are also turned off. At this point, the bit line pair to which all the memory cells that were active at the time are connected is in a potential state according to the data that the memory cell has. After all the word lines and column gates are in the non-selected state, the precharge signal Pr. En
Shifts from the inactive state to the active state, and both of the two outputs connected to the data bus of the data write circuit change the potential to the precharge level and the signal sel.
Changes from the inactive state to the active state, the output of the decode value selection circuit 450 turns on all the column gates regardless of the output of the column decoder. As a result, all the bit lines are connected to the output of the data write circuit via the data bus, and all the bit lines are precharged to the precharge level of the data write circuit. After completion of the precharge, the signal sel shifts to the non-selection state, the output of the decode value selection circuit changes according to the output of the column decoder circuit, and the precharge signal Pr. En shifts to the non-selected state, and the data writing circuit stops outputting the precharge level. When the precharge is completed, X-Addr. And Y-Ad
dr. The read operation to the memory cell designated by is performed. The read operation is performed by repeating this operation cycle.

【0008】データ書き込み動作についても同様で、選
択されたビット線がカラムゲート回路を介してデータバ
スに接続されることでデータの書き込みが行われ、その
他のビット線は擬似リード状態にある。データ書き込み
終了後はプリチャージ動作が行われる。
The same applies to a data write operation. Data is written by connecting a selected bit line to a data bus via a column gate circuit, and the other bit lines are in a pseudo read state. After the data writing is completed, a precharge operation is performed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プリチャージ方式では、プリチャージを行う時に一度に
多数のビット線に電流が流れるため、そのピーク電流が
非常に大きくなるという欠点がある。
However, the conventional precharge method has a disadvantage that the current flows through a large number of bit lines at a time when precharge is performed, so that the peak current becomes extremely large.

【0010】このピーク電流がメモリセルアレイ部の電
源配線材料のエレクトロマイグレーション耐量を超えて
しまうと、配線を破壊してしまう。エレクトロマイグレ
イション耐量は単位面積当たりに流すことの出来る電流
量のを示すもので、これを超えないようにするには配線
を幅広くするか配線層を厚くする(断面積を大きくす
る)、又はワード線に接続されるメモリセル数を減らし
て同時にプリチャージされるビット線本数を減らす等々
が考えられる。しかし配線層を厚くする方法は特に製品
特性に影響が大きく、配線幅を広くする方法はチップサ
イズを大きくするという欠点がある。ワード線に接続さ
れるメモリセル数を減らす方法もワード線デコーダ数が
増えてチップサイズが大きくなる。
If the peak current exceeds the electromigration resistance of the power supply wiring material in the memory cell array, the wiring is broken. The electromigration tolerance indicates the amount of current that can flow per unit area. To avoid exceeding this, widen the wiring, increase the thickness of the wiring layer (increase the cross-sectional area), or use a word. It is conceivable to reduce the number of memory cells connected to a line to reduce the number of bit lines precharged at the same time. However, the method of increasing the thickness of the wiring layer has a significant effect on the product characteristics, and the method of increasing the wiring width has a disadvantage of increasing the chip size. The method of reducing the number of memory cells connected to a word line also increases the number of word line decoders and increases the chip size.

【0011】又、ビット線プリチャージをデータ書き込
み回路を用いて行う技術では、ビット線プリチャージの
ピーク電流の問題に加えて、データ書き込み回路のデー
タバスを駆動するトランジスタのサイズを大きくするか
別回路を設けなければならないなどの欠点がある。これ
はビット線にプリチャージ回路を付加した半導体記憶装
置ではデータ書き込み動作が一本のビット線に対して行
われるので、ビット線1本をデータバスとの容量を駆動
できるサイズで設計されるのに対して、データ書き込み
回路を用いたプリチャージを行う方式の半導体記憶装置
ではプリチャージ時に複数本のビット線を駆動する必要
があり、前者に対してより大きなサイズのトランジスタ
を用いなければならないからである。
In the technique of performing bit line precharge using a data write circuit, in addition to the problem of the peak current of the bit line precharge, the size of a transistor for driving the data bus of the data write circuit is increased or reduced. There are drawbacks such as the need to provide a circuit. This is because, in a semiconductor memory device in which a precharge circuit is added to a bit line, a data write operation is performed on one bit line, so that one bit line is designed with a size capable of driving the capacity of the data bus. On the other hand, in a semiconductor memory device that performs precharge using a data write circuit, it is necessary to drive a plurality of bit lines at the time of precharge, and a transistor having a larger size than the former must be used. It is.

【0012】そこで本発明ではプリチャージ時のピーク
電流を押さえてエレクトロマイグレーション耐量に対し
てマージンが有る、つまり配線を微細化又はワード線に
接続されるメモリセル数を減らすことがない為高集積化
可能で、ノイズに対してマージンを持った高安定化可能
な半導体記憶装置、データ書き込み回路を用いてプリチ
ャージを行う場合にはデータ書き込み回路のデータバス
を駆動するトランジスタサイズを大きくする必要がない
為に高集積化可能な半導体記憶装置を提供する。
Therefore, in the present invention, there is a margin for the electromigration resistance by suppressing the peak current at the time of precharging. That is, since the wiring is not miniaturized or the number of memory cells connected to the word line is not reduced, high integration is achieved. Possible, high-stability semiconductor memory device with a margin for noise, and when precharging is performed using a data writing circuit, there is no need to increase the size of the transistor driving the data bus of the data writing circuit. Therefore, a semiconductor memory device which can be highly integrated is provided.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
はマトリックス状に配置された複数のメモリセルが各々
ワード線とビット線に接続され、該複数のメモリセル内
の入出力データ構成にあわせた少なくとも一つ以上のメ
モリセルを選択する為のワード線選択手段とビット線選
択手段を持ち、該ビット線はビット線接続手段を介して
データ入出力手段に接続され、該ビット線はプリチャー
ジ動作によりデータ読み出し書き込み動作の前又は後に
所定の電圧なり、該プリチャージ動作はデータ書込回路
の出力をプリチャージレベルにすることと該ビット線接
続手段を制御することによって行う半導体記憶装置に於
いて、該ビット線選択手段の出力と該複数のビット線接
続手段の入力とをプリチャージ制御手段を介して接続
し、該プリチャージ制御手段に入力される制御信号はタ
イミング制御手段を介して他の該プリチャージ制御手段
にも入力する事で、該プリチャージ動作時に該ビット線
接続手段を入出力構成数単位で順次動作させることを特
徴をする。
According to the semiconductor memory device of the present invention, a plurality of memory cells arranged in a matrix are connected to a word line and a bit line, respectively, according to the input / output data configuration in the plurality of memory cells. And word line selecting means for selecting at least one or more memory cells, and the bit line is connected to data input / output means via bit line connecting means, and the bit line is precharged. A predetermined voltage is obtained before or after the data read / write operation by the operation. The precharge operation is performed in a semiconductor memory device performed by setting the output of the data write circuit to a precharge level and controlling the bit line connection means. Connecting the output of the bit line selection means and the inputs of the plurality of bit line connection means via precharge control means, The control signal input to the control means is also input to the other precharge control means via the timing control means, so that the bit line connection means is sequentially operated in units of input / output configuration during the precharge operation. Features.

【0014】本発明の別の半導体記憶装置はマトリック
ス状に配置された複数のメモリセルが各々ビット線に接
続され、該ビット線に対して読み出し書き込み動作前又
は後に所定の電圧にするプリチャージ動作を行い、該プ
リチャージ動作はビット線に接続されたプリチャージ手
段に入力される制御信号によって行う半導体記憶装置に
於いて、該プリチャージを行う該ビット線数を入出力構
成数単位毎に分割し、該制御信号をタイミング制御手段
を介して順次各該プリチャージ手段へ伝達することを特
徴とする。
According to another semiconductor memory device of the present invention, a plurality of memory cells arranged in a matrix are connected to a bit line, and a precharge operation for setting a predetermined voltage to the bit line before or after a read / write operation is performed. In the semiconductor memory device in which the precharge operation is performed by a control signal input to the precharge means connected to the bit line, the number of the bit lines for performing the precharge is divided for each input / output configuration number unit. The control signal is sequentially transmitted to each of the precharge units via the timing control unit.

【0015】本発明の別の半導体記憶装置はビット線に
プリチャージ手段を付加してプリチャージを行うのと同
時にデータ書込回路を用いても該プリチャージを行う半
導体記憶装置に於いて、前述の2つの半導体記憶装置を
組み合わせた構成にすると共にプリチャージ手段とプリ
チャージ制御手段とに入力される制御信号を共通化して
該プリチャージ手段と該プリチャージ制御手段が同じ該
ビット線を同時に該プリチャージすることを特徴とす
る。
Another semiconductor memory device of the present invention performs precharge by adding precharge means to a bit line, and at the same time, performs precharge by using a data write circuit. And a common control signal input to the precharge means and the precharge control means, so that the precharge means and the precharge control means simultaneously use the same bit line. It is characterized by being precharged.

【0016】本発明の別の半導体記憶装置は前述の発明
のデータ書き込み回路を用いたプリチャージを行う半導
体記憶装置に於いて、プリチャージされているビット線
群の該プリチャージが終了して、選択中の列接続手段が
非選択になってから次のビット線群の該プリチャージを
開始する事を特徴とする。
Another semiconductor memory device according to the present invention is a semiconductor memory device which performs precharge using the data write circuit according to the above-mentioned invention, wherein the precharge of the precharged bit line group is completed. The precharge of the next bit line group is started after the selected column connection unit is deselected.

【0017】本発明の別の半導体記憶装置は前述の発明
のデータ書き込み回路とビット線に付加したプリチャー
ジ回路を併用してプリチャージを行う半導体記憶装置に
於いて、プリチャージされているビット線群のプリチャ
ージが終了、又は所定の電位にプリチャージされて、接
続手段が非選択になってから次のビット線群のプリチャ
ージを開始する事を特徴とする。
Another semiconductor memory device of the present invention is a semiconductor memory device which performs precharge by using both the data write circuit of the above invention and a precharge circuit added to a bit line. The precharge of the next bit line group is started after the precharge of the group is completed or precharged to a predetermined potential and the connection means is deselected.

【0018】[0018]

【作用】データ書き込み回路を用いてプリチャージを行
う場合には、カラムデコーダ出力とカラムゲート入力と
のプリチャージ制御回路を介して接続するようにし、プ
リチャージ制御回路に入力されるプリチャージ信号を時
差を持って順次伝達するようにすることで、ビット線群
毎にプリチャージ開始時間をずらす。
When precharging is performed using a data write circuit, a column decoder output and a column gate input are connected via a precharge control circuit, and a precharge signal input to the precharge control circuit is output. By transmitting the signals sequentially with a time difference, the precharge start time is shifted for each bit line group.

【0019】又、ビット線にプリチャージ回路を付加し
てプリチャージを行う場合には、入出力構成数毎にプリ
チャージ回路を分割して、各プリチャージ回路群に入力
されるプリチャージ信号を時差を持って順次伝達する。
When precharging is performed by adding a precharge circuit to a bit line, the precharge circuit is divided for each input / output configuration and the precharge signal input to each precharge circuit group is divided. It is transmitted sequentially with a time difference.

【0020】更にデータ書き込み回路を用いてプリチャ
ージを行う時に一つのデータバスに接続されるビット線
が一本となるように、カラムゲートをコントロールす
る。
Further, when precharging is performed using the data write circuit, the column gate is controlled so that one bit line is connected to one data bus.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】図1は本発明の半導体記憶装置の
1実施例を示す回路図である。図1中の100はデータ
書込回路、100,111,112,113はPchト
ランジスタで構成されたビット線クランプ回路で、ソー
ス電極が電源電位、ドレイン電極がビット線、ゲート電
極はドレイン電極が接続されるビット線の対をなる方の
ビット線に接続される。120,121はメモリセルで
ビット線対と行選択手段の出力となるワード線SWLに
接続される。130,131,133,134はトラン
スファゲート、132,135はインバータで130,
131,132又は133,134,135で列選択手
段となるカラムゲート一つを構成する。カラムゲートの
一方はビット線に接続され、他方はデータバスDB1,
DB1b〜DBn,DBnbに接続される。nは入出力
構成を同じ数で今は任意の数である。140,141は
プリチャージ制御回路でその出力はカラムゲートに接続
され、入力の一方はカラムデコーダの出力、他方の入力
はプリチャージ信号PC1b、PC2bに接続される。
150,151はカラムデコーダ回路でアドレス信号C
olumnAddressと冗長信号を入力とし、出力
はプリチャージ制御回路へ接続される。160,16
1,162はタイミング制御回路で図1中ではインバー
タ2段で構成される。タイミング制御回路160は信号
線PCbを入力としPC1bを出力とする。同様にタイ
ミング制御回路161は信号線PC1bを入力としPC
2bを出力となりタイミング制御回路162は信号線P
C2bを入力,PC3bを出力をする。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 100 denotes a data write circuit, and reference numerals 100, 111, 112, and 113 denote bit line clamp circuits composed of Pch transistors. A source electrode is a power supply potential, a drain electrode is a bit line, and a gate electrode is a drain electrode. Bit line pair is connected to the other bit line. Reference numerals 120 and 121 denote memory cells which are connected to a bit line pair and a word line SWL which is an output of a row selecting means. 130, 131, 133, and 134 are transfer gates, and 132 and 135 are inverters.
One of the column gates 131, 132 or 133, 134, 135 constitutes a column selecting means. One of the column gates is connected to a bit line, and the other is a data bus DB1,
Connected to DB1b to DBn, DBnb. n is the same number of input / output configurations and is an arbitrary number now. 140 and 141 are precharge control circuits whose outputs are connected to column gates, one of the inputs is connected to the output of the column decoder, and the other input is connected to precharge signals PC1b and PC2b.
150 and 151 are column decoder circuits for address signals C
The output is connected to the precharge control circuit with the input of the address and the redundant signal. 160, 16
Reference numeral 1 162 denotes a timing control circuit which comprises two stages of inverters in FIG. The timing control circuit 160 receives the signal line PCb as input and outputs PC1b as output. Similarly, the timing control circuit 161 receives the signal line PC1b as an input and
2b is output and the timing control circuit 162 outputs the signal line P
C2b is input and PC3b is output.

【0022】図1でデータの読み出し,書き込み動作は
従来の半導体記憶装置と同じである。データの読み書き
が終わってプリチャージ期間になると、SWLが非選択
になると共にカラムゲートが一度全て閉じる。全てのカ
ラムゲートがOFF状態となったところでプリチャージ
信号が信号線PCb入力されデータ書き込み回路100
の出力が全てプリチャージレベルとなる。データ書き込
み回路100の出力がデータバスをプリチャージレベル
するのと同じタイミングで、タイミング制御回路160
により千号線PCbに入力されたプリチャージ信号が信
号線PC1bに出力される。よって最初のプリチャージ
制御回路140の出力につながる全てのカラムゲートが
ON状態となってプリチャージが開始される。プリチャ
ージ制御回路140が動作を始めた後にタイミング制御
回路161で設定された時間分遅れて信号線PC2bに
プリチャージ信号が伝達され、プリチャージ制御回路1
41の出力に接続される全てのカラムゲートが選択され
てON状態となりプリチャージが始まる。以降、タイミ
ング制御回路163とその出力である信号線PC3b、
図示されていないが信号線PC3bに接続されるプリチ
ャージ制御信号も時差を持って動作する。以上のように
各プリチャージ制御回路がON状態となってプリチャー
ジが開始される時間に設定可能な時差をもたせることが
出来、プリチャージによるビット線電流のピークをずら
すことが可能となる。よって全体としてのビット線プリ
チャージ時ピーク電流が低減できる。
In FIG. 1, data read and write operations are the same as those of the conventional semiconductor memory device. When reading and writing of data are completed and a precharge period is reached, SWL is deselected and the column gates are all closed once. When all the column gates are turned off, the precharge signal is input to the signal line PCb and the data write circuit 100
Are all at the precharge level. At the same timing as the output of the data write circuit 100 precharges the data bus, the timing control circuit 160
As a result, the precharge signal input to the 1000th line PCb is output to the signal line PC1b. Therefore, all the column gates connected to the output of the first precharge control circuit 140 are turned on, and the precharge is started. After the precharge control circuit 140 starts operating, a precharge signal is transmitted to the signal line PC2b with a delay of the time set by the timing control circuit 161.
All the column gates connected to the output of 41 are selected and turned on to start precharge. Thereafter, the timing control circuit 163 and its output signal line PC3b,
Although not shown, the precharge control signal connected to the signal line PC3b also operates with a time difference. As described above, the time when each precharge control circuit is turned on and the precharge is started can have a settable time difference, and the peak of the bit line current due to the precharge can be shifted. Therefore, the overall peak current at the time of bit line precharge can be reduced.

【0023】前述の図1のタイミング制御回路160は
回路構成によってはなくても良く、例えばデータバスの
プリチャージを別回路で行う構成でビット線プリチャー
ジを行う前にデータバスのプリチャージを行う場合等
は、データ書き込み回路でのプリチャージ開始とプリチ
ャージ制御回路140の動作タイミングは同じでも良
い。又、タイミング制御回路は図1の様な構成でなくて
も同様の効果を得られれば良く、例えば信号線PC1b
と信号線PC2bとをトランスファゲート等のスイッチ
手段で接続し、このスイッチ手段を時差をもって順次導
通させる等の方法を用いても良い。
The above-described timing control circuit 160 in FIG. 1 does not need to depend on the circuit configuration. For example, the data bus is precharged by a separate circuit, and the data bus is precharged before the bit line precharge is performed. In such cases, the start of precharge in the data write circuit and the operation timing of the precharge control circuit 140 may be the same. Also, the timing control circuit need not have the configuration as shown in FIG. 1 as long as the same effect can be obtained. For example, the signal line PC1b
And the signal line PC2b may be connected by a switch such as a transfer gate, and the switch may be sequentially turned on with a time difference.

【0024】図2に示す回路はデータ書き込み回路の一
実施例を示す回路図である。図1におけるデータ書き込
み回路100に相当する部分を示すもので、回路210
はデータバスDB1,DB1b用の書き込み回路、回路
220はDB2,DB2b用、回路230はn番目のデ
ータバス対用のデータ書き込み回路である。Data1
は入出力回路から来るデータを伝達する信号線でインバ
ータ200とトランスミッションゲート201が接続さ
れる。インバータ200の出力にはトランスミッション
ゲート202が接続される。トランスミッションゲート
201と202のゲート電極入力は共通となっており、
Nch側ゲートにはプリチャージ信号PCbが入力さ
れ、Pch側ゲート電極にはプリチャージ信号PCbの
反転信号を出力するインバータ240の出力が接続され
ている。トランスミッションゲート201の他方にはデ
ータバスDB1駆動用のインバータ205の入力が接続
され、トランスミッションゲート202の他方にはデー
タバスDB1b駆動用のインバータ206の入力が接続
される。トランスミッションゲート201とインバータ
205入力との接続線はNchトランジスタ203のド
レイン電極が接続され、Nchトランジスタ203のソ
ース電極は接地電位に接続される。トランスミッション
ゲート202とインバータ206入力との接続線にもN
chトランジスタ204のドレイン電極が接続され、N
chトランジスタ204のソース電極は接地電位に接続
される。Nchトランジスタ203,204のゲート電
極は共通でインバータ240出力に接続されてプリチャ
ージ信号PCbの反転信号が入力される。
The circuit shown in FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of the data write circuit. 2 shows a portion corresponding to the data write circuit 100 in FIG.
Is a write circuit for data buses DB1 and DB1b, circuit 220 is a data write circuit for DB2 and DB2b, and circuit 230 is a data write circuit for the nth data bus pair. Data1
Is a signal line for transmitting data coming from the input / output circuit, to which the inverter 200 and the transmission gate 201 are connected. Transmission gate 202 is connected to the output of inverter 200. The gate electrode inputs of the transmission gates 201 and 202 are common,
The precharge signal PCb is input to the Nch side gate, and the output of the inverter 240 that outputs an inverted signal of the precharge signal PCb is connected to the Pch side gate electrode. The input of the inverter 205 for driving the data bus DB1 is connected to the other end of the transmission gate 201, and the input of the inverter 206 for driving the data bus DB1b is connected to the other end of the transmission gate 202. The connection line between the transmission gate 201 and the input of the inverter 205 is connected to the drain electrode of the Nch transistor 203, and the source electrode of the Nch transistor 203 is connected to the ground potential. The connection line between the transmission gate 202 and the input of the inverter 206 is also N
The drain electrode of the channel transistor 204 is connected, and N
The source electrode of the channel transistor 204 is connected to the ground potential. The gate electrodes of the Nch transistors 203 and 204 are commonly connected to the output of the inverter 240 to receive an inverted signal of the precharge signal PCb.

【0025】図2の動作は次のようになる。データ書き
込み動作時、プリチャージ信号PCbは非選択状態のh
ighレベルになっている。この状態ではトランスミッ
ションゲート201,202は導通状態、Nchトラン
ジスタ203,204は非導通状態であり、信号Dat
a1はDB1,DB1bに相補で出力される。データ書
き込み期間が終了した後にプリチャージ期間となってプ
リチャージ信号PCbが選択状態のLowレベルになる
と、トランスミッションゲート201,202が非導通
状態になると共にNchトランジスタ203,204が
導通状態となってインバータ205,206の入力をL
owレベルにする。これによりインバータ205,20
6の出力がHighレベルになりデータバスDB1,D
B1bは共にプリチャージレベルである電源電位とな
る。この後、図1で説明したようにカラムゲート回路が
導通状態となってビット線とデータバスとが接続状態と
なるとビット線はプリチャージされる。
The operation of FIG. 2 is as follows. At the time of data write operation, the precharge signal PCb is set to the non-selected state h.
It is at the high level. In this state, transmission gates 201 and 202 are on, Nch transistors 203 and 204 are off, and signal Dat
a1 is output complementarily to DB1 and DB1b. When the precharge signal PCb becomes the selected low level after the end of the data write period and the precharge signal PCb becomes the selected low level, the transmission gates 201 and 202 are turned off and the Nch transistors 203 and 204 are turned on and the inverter is turned on. L of 205 and 206 inputs
ow level. As a result, the inverters 205, 20
6 goes high and the data buses DB1, D
B1b is the power supply potential which is the precharge level. Thereafter, as described with reference to FIG. 1, when the column gate circuit is turned on and the bit line is connected to the data bus, the bit line is precharged.

【0026】図2ではプリチャージレベルをHighレ
ベルとしたが、Nchトランジスタ204,204をP
chトランジスタにすると共にソース電極を電源電位
に、ゲート電極をプリチャージ信号線PCbに接続すれ
ば接地電位にプリチャージすることが出来る。プリチャ
ージレベルを電源電位あるいは接地電位以外にする場合
にはトランジスタのVthを利用する等により可能であ
る。
In FIG. 2, the precharge level is set to the high level.
When the channel transistor is used, the source electrode is connected to the power supply potential, and the gate electrode is connected to the precharge signal line PCb. When the precharge level is set to a value other than the power supply potential or the ground potential, it is possible to utilize the Vth of the transistor.

【0027】図3は本発明の別の半導体記憶装置の一実
施例を示す回路図である。図3はプリチャージ手段であ
るビット線プリチャージ回路とビット線電位クランプ回
路及びビット線イコライズ回路を示しており、図3中の
Pchトランジスタ301及び304はビット線電位ク
ランプ回路でソース電極が電源電位に接続され、ドレイ
ン電極がビット線に接続され、ゲート電極は接地電位に
接続される。Pchトランジスタ302,303はビッ
ト線プリチャージ回路でソース電極は電源電位に接続さ
れドレイン電極はビット線に接続される。ゲート電極は
プリチャージ信号線Pc1bに接続され制御信号によっ
てその導通を制御される。Pchトランジスタ305は
イコライズ回路でビット線対をショートできるよう接続
される。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of another semiconductor memory device of the present invention. FIG. 3 shows a bit line precharge circuit, a bit line potential clamp circuit and a bit line equalize circuit, which are precharge means. Pch transistors 301 and 304 in FIG. , The drain electrode is connected to the bit line, and the gate electrode is connected to the ground potential. The Pch transistors 302 and 303 are bit line precharge circuits in which the source electrode is connected to the power supply potential and the drain electrode is connected to the bit line. The gate electrode is connected to the precharge signal line Pc1b, and its conduction is controlled by a control signal. The Pch transistor 305 is connected so that the bit line pair can be short-circuited by an equalizing circuit.

【0028】そのゲート電極はプリチャージ信号線PC
1bに接続され、その導通が制御される。306はメモ
リセルでメモリセルに接続されているSWLはワード線
である。図3は4bit入出力構成の半導体記憶装置を
仮定して、プリチャージ信号線PC1bに接続されるプ
リチャージ・イコライズ回路をBL1,BL1b〜BL
4,BL4bのビット線対4本分に限定してあるが、入
出力構成が8bitならば8本、16bitなら16本
分を接続することになる。回路310はタイミング制御
手段であるタイミング制御回路で、プリチャージ信号線
PC1bを入力とし、その出力であるプリチャージ信号
線PC2bにはプリチャージ信号線PC1bに対して同
相でかつ遅延された制御信号が伝達されて次のビット線
4本分のプリチャージ・イコライズ回路群へ入力され
る。
The gate electrode is connected to a precharge signal line PC
1b, and its conduction is controlled. 306 is a memory cell and SWL connected to the memory cell is a word line. FIG. 3 shows a precharge / equalize circuit connected to a precharge signal line PC1b assuming a 4-bit input / output semiconductor memory device.
Although the number of bit line pairs is limited to four for BL4 and BL4b, eight are connected when the input / output configuration is 8 bits, and 16 for 16 bits. The circuit 310 is a timing control circuit which is a timing control means. The precharge signal line PC1b is input to the circuit 310, and a control signal in-phase and delayed with respect to the precharge signal line PC1b is output to the precharge signal line PC2b. The signal is transmitted to the precharge / equalize circuit group for the next four bit lines.

【0029】図3の動作を説明する。The operation of FIG. 3 will be described.

【0030】図3の回路においてビット線BL1,BL
1b〜BL4,BL4bのデータ読み出し動作が行われ
ると仮定する。この時選択されたビット線は図示されて
いないデータバスに図示されていない選択されたカラム
ゲートを介して接続される。又ワード線に接続される図
示されていない複数のメモリセルをアクティブになって
いるが、それぞれのメモリセルが接続されるビット線は
データバスに接続されない擬似リード状態になってい
る。次にデータ読み出し期間が終了してワード線及び選
択されていた図示されていないカラムゲートが非選択状
態に移行する。このときデータ読み出しを行ったビット
線及び擬似リード状態だったビット線にはメモリセルの
保持データに対応した電位状態となっている。この状態
でプリチャージ信号がプリチャージ信号線PC1bに与
えられると、最初にプリチャージ信号線PC1bに接続
されるプリチャージ回路302,303がビット線を電
源電位を接続することでプリチャージが開始される。同
時にイコライズ回路305が導通し、ビット線対をショ
ートすることでビット線対の同電位化が行われプリチャ
ージ速度を速める。プリチャージ信号がPC1bからタ
イミング制御回路310で遅延されてプリチャージ信号
線PC2bに伝わると、図示されていないPC2bに接
続されているプリチャージ回路・イコライズ回路群がビ
ット線をプリチャージ・イコライズし始める。PC2b
が選択状態になるのはタイミング制御回路310で設定
された遅延時間後であるため、PC1bとPC2bのプ
リチャージ時ビット線電流のピークは重ならないことと
なる。
In the circuit of FIG. 3, bit lines BL1, BL
It is assumed that data read operations of 1b to BL4 and BL4b are performed. At this time, the selected bit line is connected to a data bus (not shown) via a selected column gate (not shown). Although a plurality of memory cells (not shown) connected to the word lines are activated, the bit lines connected to the respective memory cells are in a pseudo read state not connected to the data bus. Next, after the data reading period ends, the word line and the selected column gate (not shown) shift to the non-selected state. At this time, the bit line from which data was read and the bit line which was in the pseudo read state are in a potential state corresponding to the data held in the memory cell. In this state, when a precharge signal is applied to the precharge signal line PC1b, precharge circuits 302 and 303 connected to the precharge signal line PC1b first connect the bit lines to the power supply potential to start precharge. You. At the same time, the equalizing circuit 305 conducts, and the bit line pair is short-circuited to make the bit line pair the same potential, thereby increasing the precharge speed. When the precharge signal is delayed from PC1b by the timing control circuit 310 and transmitted to the precharge signal line PC2b, a precharge circuit / equalize circuit group connected to the PC2b (not shown) starts precharging / equalizing the bit line. . PC2b
Is in the selected state after the delay time set by the timing control circuit 310, so that the peaks of the bit line currents at the time of precharging of PC1b and PC2b do not overlap.

【0031】以上から全体としてみた場合のビット線プ
リチャージ時のピーク電流は従来の半導体記憶装置に比
べて低くすることが出来るので、エレクトロマイグレー
ション耐量に対してマージンを確保することが可能とな
る。
From the above, the peak current at the time of precharging the bit lines as a whole can be made lower than that of the conventional semiconductor memory device, so that a margin can be secured for the electromigration resistance.

【0032】図5に示すグラフは従来の半導体記憶装置
を本発明の半導体記憶装置のビット線電流を示したグラ
フである。図5中の分図(5−A−1)〜(5−A−
3)までが従来の半導体記憶装置の波形、(5−B−
1)〜(5−B−3)までが本発明の半導体記憶装置の
波形である。
FIG. 5 is a graph showing the bit line current of the conventional semiconductor memory device and the semiconductor memory device of the present invention. The distribution diagrams (5-A-1) to (5-A-
Until 3), the waveform of the conventional semiconductor memory device, (5-B-
1) to (5-B-3) are waveforms of the semiconductor memory device of the present invention.

【0033】本発明の半導体記憶装置と従来の半導体記
憶装置で(5−A−1)と(5−B−1)に示すワード
線SWL1及びSWL2とカラムゲート選択信号Col
umn−Gate1及びColumn−Gate2は同
一の波形である。まず最初にワード線SWL1が選択状
態がらひ選択状態になる。ワード線SWL2は非選択状
態のまま変化しない。ワード線SWL1が非選択になっ
た後カラムゲート選択信号Column−Gate1が
選択状態から非選択状態になる。Column−Gat
e2は非選択状態のままである。ワード線とカラムゲー
トが非選択になった後にプリチャージ信号PCbが非選
択状態から選択状態になる。従来の半導体記憶装置では
PCbが選択状態になったところでカラムゲート選択信
号Column−Gate1,Column−Gate
2が共にONとなりプリチャージが始まる。しかし本発
明の半導体記憶装置では(5−B−1)に示すようにプ
リチャージ信号PCbは実質複数回に分かれて選択状態
になるイメージである。従来の半導体記憶装置のビット
線一本分の電流波形を示す(5−A−2)と本発明の半
導体記憶装置のビット線一本分の電流波形は(5−B−
2)の一つだけに注目してみれば同じである。しかし、
プリチャージされるビット線全てになった場合には(5
−A−2)が単純にビット線本数分大きくなるのに対し
て、(5−B−2)では電流ピークが低く幅がある波形
となる。
In the semiconductor memory device of the present invention and the conventional semiconductor memory device, the word lines SWL1 and SWL2 shown in (5-A-1) and (5-B-1) and the column gate selection signal Col
Umn-Gate1 and Column-Gate2 have the same waveform. First, the word line SWL <b> 1 is in the selected state. Word line SWL2 remains unchanged in the non-selected state. After the word line SWL1 is deselected, the column gate selection signal Column-Gate1 changes from the selected state to the non-selected state. Column-Gat
e2 remains unselected. After the word line and the column gate are deselected, the precharge signal PCb changes from the non-selected state to the selected state. In the conventional semiconductor memory device, when the PCb is in the selected state, the column gate selection signals Column-Gate1 and Column-Gate1 are set.
2 turns ON, and precharge starts. However, in the semiconductor memory device of the present invention, as shown in (5-B-1), the precharge signal PCb is substantially divided into a plurality of times and becomes the selected state. The current waveform of one bit line of the conventional semiconductor memory device is shown in (5-A-2), and the current waveform of one bit line of the semiconductor memory device of the present invention is (5-B-
It is the same if one focuses on 2). But,
If all the precharged bit lines have been reached (5
While (A-2) simply increases by the number of bit lines, (5-B-2) has a waveform with a low current peak and a width.

【0034】図5の(5−A−3)は従来の半導体記憶
装置のプリチャージ時ビット線電流の総和を示す波形、
(5−B−3)は本発明の半導体記憶装置のプリチャー
ジ時ビット線電流の総和を示す波形である。どちらも電
源電圧3.6V、データ読み出し時にビット線Lowレ
ベル側電位が接地電位になる回路方式、ワード線に64
メモリセルが接続される場合の結果例であり、(5−A
−3)が点線で示す100mAを大きく超えるピーク電
流を持つのに比べて(5−B−3)では100mA以下
のピーク電流となっている。このピーク電流の大きさは
タイミング制御回路の設定によって変更可能であり、
(5−B−3)より小さくすることも大きくすることも
できる。
FIG. 5 (5-A-3) is a waveform showing the total sum of bit line currents at the time of precharge of the conventional semiconductor memory device.
(5-B-3) is a waveform showing the sum of bit line currents at the time of precharge of the semiconductor memory device of the present invention. In both cases, the power supply voltage is 3.6 V, and the bit line Low level side potential becomes the ground potential when data is read.
It is an example of a result when a memory cell is connected, and (5-A
-3) has a peak current that greatly exceeds 100 mA indicated by the dotted line, whereas (5-B-3) has a peak current of 100 mA or less. The magnitude of this peak current can be changed by setting the timing control circuit,
It can be smaller or larger than (5-B-3).

【0035】図6は本発明の半導体記憶装置の別の実施
例を示すタイミング図である。図6のSWL1,SWL
2はワード線の状態を示している。PCPb、PCP1
b〜PCP3bで示した波形は図5の(5−B−1)の
PCb波形に相当するプリチャージ信号を示しており、
例えば図1の回路図の信号線PCbへ入力されたプリチ
ャージ信号波形、PCP1bはPC1bに伝達された信
号波形に相当する。CG1とCG2で示した波形は図5
のColumn−Gate1,Column−Gate
2が示す波形に相当し、図1のプリチャージ制御回路1
40,141の出力波形を示すものである。
FIG. 6 is a timing chart showing another embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. SWL1 and SWL in FIG.
2 indicates the state of the word line. PCPb, PCP1
Waveforms indicated by b to PCP3b indicate precharge signals corresponding to the PCb waveform of (5-B-1) in FIG.
For example, the precharge signal waveform input to the signal line PCb in the circuit diagram of FIG. 1 and PCP1b correspond to the signal waveform transmitted to PC1b. The waveforms indicated by CG1 and CG2 are shown in FIG.
Column-Gate1, Column-Gate
2 corresponds to the waveform shown in FIG.
3 shows the output waveforms of the reference numerals 40 and 141.

【0036】図6のPCPbの波形は図5の(5−B−
1)のPCb波形より短くなっている点とPCPbが非
選択状態になってからPCP1bが選択状態になるよう
タイミングが設定されている点が異なっている。
The waveform of PCPb in FIG. 6 is represented by (5-B-
The difference is that the waveform is shorter than the PCb waveform of 1) and that the timing is set so that the PCP1b is in the selected state after the PCPb is in the non-selected state.

【0037】図6のタイミングで図1がどのように動作
するかを説明する。SWL1が選択状態から非選択状態
(SWL2は非選択状態のまま)になった後、プリチャ
ージ信号PCPbが選択状態になってデータバスプリチ
ャージを行う。前述のようにデータバスプリチャージを
別回路で行う場合はPCPbは必要ない。PCPbが完
全に終了した時点でPCP1bが非選択状態から選択状
態になり、PCP1bを入力とするプリチャージ制御回
路が動作してその出力に接続される全てのカラムゲート
を導通状態にする。PCP1bとCG1とのタイミング
関係を図6では矢印で示している。よって導通状態とな
ったカラムゲートに接続されるビット線がプリチャージ
される。この時各々のデータバスには一本(1対)のビ
ット線だけが接続されている。次にPCP1bが非選択
となると、それまでプリチャージされていたビット線は
全てデータバスから切断される。その後PCP2bが非
選択状態から選択状態となって、PCP2bを入力とす
るプリチャージ制御回路が動作し、その出力に接続され
る全てのカラムゲートが導通状態となって各データバス
に対応するビット線を接続する。前述と同様にPCP2
bとCG2の関係を図6では矢印で示している。よって
接続されたビット線はプリチャージされる。この時も各
々のデータバスには一本(一対)のビット線だけが接続
されている。以下、図1に示すPCP3bについても同
様である。
How the FIG. 1 operates at the timing of FIG. 6 will be described. After SWL1 changes from the selected state to the non-selected state (SWL2 remains in the non-selected state), the precharge signal PCPb changes to the selected state to perform data bus precharge. When the data bus precharge is performed by another circuit as described above, PCPb is not required. When PCPb is completely terminated, PCP1b changes from the non-selected state to the selected state, and the precharge control circuit having PCP1b as input operates to make all the column gates connected to its output conductive. The timing relationship between PCP1b and CG1 is indicated by an arrow in FIG. Therefore, the bit line connected to the column gate that has become conductive is precharged. At this time, only one (one pair) bit line is connected to each data bus. Next, when PCP1b is deselected, all bit lines that have been precharged until then are disconnected from the data bus. Thereafter, PCP2b changes from a non-selected state to a selected state, a precharge control circuit using PCP2b as an input operates, and all the column gates connected to the output thereof become conductive, and a bit line corresponding to each data bus is connected. Connect. PCP2 as above
The relationship between b and CG2 is indicated by an arrow in FIG. Therefore, the connected bit line is precharged. At this time, only one (one pair) bit line is connected to each data bus. Hereinafter, the same applies to the PCP 3b shown in FIG.

【0038】図5の(5−b−1)で示したColum
n−Gate1,2の波形と図6のCG1,2の波形の
違いの意味は、各々のデータバスに接続されてプリチャ
ージされるビット線の本数が一本か一本以上かの違いで
ある。図5の波形ではプリチャージ開始されるビット線
は分割された単位毎に順次接続され、最終的には全ての
ビット線がデータバスに接続される。図6では各々のデ
ータバスには常に一本のビット線だけが接続される。
The column shown by (5-b-1) in FIG.
The difference between the waveforms of the n-Gates 1 and 2 and the waveforms of the CGs 1 and 2 in FIG. 6 means that the number of bit lines connected to each data bus and precharged is one or more. . In the waveform of FIG. 5, the bit lines for which precharging is started are sequentially connected for each divided unit, and finally all the bit lines are connected to the data bus. In FIG. 6, only one bit line is always connected to each data bus.

【0039】以上の波形の違いで、次のような効果を得
ることが出来る。
The following effects can be obtained by the above difference in waveform.

【0040】データ書き込み動作を行うときには、各々
のデータバスに一本のビット線だけが接続される。この
為、データ書き込み回路のデータバス駆動用トランジス
タはデータバスとビット線一本分の容量を駆動できる最
小のサイズに設定すればよい。しかし、プリチャージ時
にデータバスに一本以上のビット線が接続される場合
は、データバスの容量をビット線複数本分の容量を駆動
出来るサイズに設定しなければならないので、データ書
き込み動作時に必要なデータバス駆動用トランジスタサ
イズに比べて大きなサイズに設定しなければならない。
When performing a data write operation, only one bit line is connected to each data bus. For this reason, the data bus driving transistor of the data writing circuit may be set to a minimum size that can drive the data bus and the capacity of one bit line. However, if one or more bit lines are connected to the data bus at the time of precharge, the data bus capacity must be set to a size that can drive the capacity of multiple bit lines. The size must be set larger than the size of the data bus driving transistor.

【0041】しかし、図6のタイミングを用いること
で、データ駆動用トランジスタのサイズはデータ書き込
み時に必要な最小のサイズでよく、それより大きくした
り、別のトランジスタをプリチャージ時だけ接続するよ
うな構成にする必要がない。なぜなら前述のようにプリ
チャージ動作時の各々のデータバスに接続されるビット
線は一本だけだからである。よって、データ書き込み回
路を用いたプリチャージを行う半導体記憶装置でもデー
タ書き込み回路を大きくしなくても良く、高集積化出来
る。
However, by using the timing shown in FIG. 6, the size of the data driving transistor may be the minimum size required at the time of data writing, and may be made larger than that, or another transistor may be connected only at the time of precharging. No need to configure. This is because, as described above, only one bit line is connected to each data bus during the precharge operation. Therefore, even in a semiconductor memory device that performs precharge using a data writing circuit, the data writing circuit does not need to be large and high integration can be achieved.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明を半導体記憶装置を用いること
で、ビット線プリチャージ回路を無くする事が可能とな
り高集積化出来ると共にビット線プリチャージ時のピー
ク電流を低く押さえることが出来るので、エレクトロマ
イグレーション耐量に対してマージンができ、配線の微
細化(高集積化)が可能となる。又、ノイズに対しても
マージンが出来るので高安定化可能な半導体記憶装置を
製造可能である。更にデータ書込回路のデータバス駆動
用トランジスタサイズを大きくする必要がないことから
も高集積化可能である。
By using the semiconductor memory device according to the present invention, the bit line precharge circuit can be eliminated, high integration can be achieved, and the peak current at the time of bit line precharge can be suppressed low. A margin is provided for the migration resistance, and finer wiring (higher integration) can be achieved. In addition, since a margin can be provided for noise, a semiconductor memory device that can be highly stabilized can be manufactured. Furthermore, high integration is possible because there is no need to increase the size of the data bus driving transistor of the data writing circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の半導体記憶装置の実施例を示す回路
図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device of the present invention.

【図2】 本発明の半導体記憶装置のデータ書込回路例
を示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a data write circuit of the semiconductor memory device of the present invention.

【図3】 本発明の別の半導体記憶装置の実施例を示す
回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing another embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.

【図4】 従来の半導体記憶装置の実施例を示す回路
図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an embodiment of a conventional semiconductor memory device.

【図5】 従来の半導体記憶装置と本発明の半導体記憶
装置のビット線電流を示す波形図。
FIG. 5 is a waveform chart showing bit line currents of the conventional semiconductor memory device and the semiconductor memory device of the present invention.

【図6】 本発明の半導体記憶装置の別の実施例を示す
タイミング図。
FIG. 6 is a timing chart showing another embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 ・・・ データ書き込み回路 110〜113 ・・・ ビット線電位クランプ回路 120,121 ・・・ メモリセル 130,131,133,134 ・・・ トランスファ
ゲート 132,135 ・・・ インバータ 140,141 ・・・ プリチャージ制御回路 150,151 ・・・ カラムデコーダ 160〜162 ・・・ タイミング制御回路 200,205,206 ・・・ インバータ 201,202 ・・・ トランスファゲート 203,204 ・・・ Nchトランジスタ 210〜230 ・・・ データ書き込み回路 301,304 ・・・ ビット線電位クランプ回路 302,303 ・・・ ビット線プリチャージ回路 305 ・・・ ビット線イコライズ回路 310 ・・・ タイミング制御回路 450 ・・・ デコード値選択回路 BL1,BL1b〜BLn,BLnb ・・・ ビット線
対 DB,DBb,DB1,DB1b〜DBn,DBnb
・・・ データバス対 PCb,PC1b〜PC3b ・・・ プリチャージ信号
線 Data1〜Datan ・・・ 書き込みデータ信号線 SWL ・・・ ワード線
100 Data write circuit 110-113 Bit line potential clamp circuit 120, 121 Memory cell 130, 131, 133, 134 Transfer gate 132, 135 Inverter 140, 141 · Precharge control circuits 150, 151 ··· Column decoders 160 to 162 ··· Timing control circuits 200, 205 and 206 ··· Inverters 201 and 202 ··· Transfer gates 203 and 204 ··· Nch transistors 210 to 230 ··· Data write circuits 301 and 304 ··· Bit line potential clamp circuits 302 and 303 ··· Bit line precharge circuit 305 ··· Bit line equalize circuit 310 ··· Timing control circuit 450 ··· Decode value selection Times BL1, BL1b~BLn, BLnb ··· bit line pair DB, DBb, DB1, DB1b~DBn, DBnb
... Data bus pair PCb, PC1b to PC3b ... Precharge signal lines Data1 to Dataan ... Write data signal line SWL ... Word line

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マトリックス状に配置された複数のメモリ
セルが各々ワード線とビット線に接続され、該複数のメ
モリセル内の入出力データ構成にあわせた少なくとも一
つ以上のメモリセルを選択する為のワード線選択手段と
ビット線選択手段を持ち、該ビット線はビット線接続手
段を介してデータ入出力手段に接続され、該ビット線は
プリチャージ動作によりデータ読み出し書き込み動作の
前又は後に所定の電圧なり、該プリチャージ動作はデー
タ書込回路の出力をプリチャージレベルにすることと該
ビット線接続手段を制御することによって行う半導体記
憶装置に於いて、該ビット線選択手段の出力と該複数の
ビット線接続手段の入力とをプリチャージ制御手段を介
して接続し、該プリチャージ制御手段に入力される制御
信号はタイミング制御手段をかいして他の該プリチャー
ジ制御手段にも入力する事で、該プリチャージ動作時に
該ビット線接続手段を入出力構成数単位で順次動作させ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of memory cells arranged in a matrix are connected to a word line and a bit line, respectively, and at least one or more memory cells according to an input / output data configuration in the plurality of memory cells are selected. The bit line is connected to the data input / output means via the bit line connection means, and the bit line is set to a predetermined value before or after the data read / write operation by the precharge operation. In a semiconductor memory device in which the precharge operation is performed by setting the output of the data writing circuit to a precharge level and controlling the bit line connection means, the output of the bit line selection means and the output of the The input of the plurality of bit line connection means is connected via the precharge control means, and the control signal inputted to the precharge control means is controlled by the timing. Via the control means By inputting to other said precharge control means, a semiconductor memory device, characterized in that for successively operating the bit line connection means during said precharge operation input and output configuration unit number.
【請求項2】マトリックス状に配置された複数のメモリ
セルが各々ビット線に接続され、該ビット線に対して読
み出し書き込み動作前又は後に所定の電圧にするプリチ
ャージ動作を行い、該プリチャージ動作はビット線に接
続されたプリチャージ手段に入力される制御信号によっ
て行う半導体記憶装置に於いて、該プリチャージを行う
該ビット線数を入出力構成数単位に分割し、該制御信号
をタイミング制御手段を介して順次各該プリチャージ手
段へ伝達することを特徴をする半導体記憶装置。
2. A plurality of memory cells arranged in a matrix are each connected to a bit line, and a precharge operation is performed on the bit line to a predetermined voltage before or after a read / write operation. In a semiconductor memory device which performs the control by a control signal input to a precharge means connected to a bit line, the number of the bit lines to be precharged is divided into input / output configuration units, and the control signal is subjected to timing control. A semiconductor memory device characterized in that the data is sequentially transmitted to each of the precharge means via the means.
【請求項3】ビット線にプリチャージ手段を付加してプ
リチャージを行うのと同時にデータ書込回路を用いても
該プリチャージを行う半導体記憶装置に於いて、請求項
1に記載の半導体記憶装置と請求項2に記載の範装置記
憶装置を組み合わせた構成にすると共にプリチャージ手
段とプリチャージ制御手段とに入力される制御信号を共
通化して該プリチャージ手段と該プリチャージ制御手段
が同じ該ビット線を同時に該プリチャージすることを特
徴をする半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device according to claim 1, wherein the precharge is performed by adding a precharge means to the bit line and the precharge is performed by using a data write circuit at the same time. And a control signal input to the precharge means and the precharge control means are shared to make the precharge means and the precharge control means the same. A semiconductor memory device characterized in that said bit lines are precharged simultaneously.
【請求項4】請求項1記載の半導体記憶装置に於いて、
プリチャージされているビット線群の該プリチャージが
終了して、選択中の列接続手段が非選択になってから次
のビット線群のプリチャージを開始する事を特徴をする
半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1,
A semiconductor memory device characterized in that after the precharge of a precharged bit line group is completed and the selected column connection means is deselected, the precharge of the next bit line group is started.
【請求項5】請求項3記載の半導体記憶装置に於いて、
プリチャージされているビット線群のプリチャージが終
了、又は所定の電位にプリチャージされて、列接続手段
が非選択になってから次のビット線群のプリチャージを
開始する事を特徴をする半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein
It is characterized in that precharging of the precharged bit line group is completed or precharged to a predetermined potential, and after the column connection means is deselected, precharging of the next bit line group is started. Semiconductor storage device.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006012403A (en) * 2004-06-25 2006-01-12 Samsung Electronics Co Ltd Cascade wake-up circuit preventing power noise in memory device
JP2006301265A (en) * 2005-04-20 2006-11-02 Hitachi Displays Ltd Display apparatus
JP2010113777A (en) * 2008-11-07 2010-05-20 Nec Electronics Corp Semiconductor memory device and its read access method

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JP2006012403A (en) * 2004-06-25 2006-01-12 Samsung Electronics Co Ltd Cascade wake-up circuit preventing power noise in memory device
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