JP2000207709A - Manufacture of thin film magnetic head - Google Patents

Manufacture of thin film magnetic head

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JP2000207709A
JP2000207709A JP11006151A JP615199A JP2000207709A JP 2000207709 A JP2000207709 A JP 2000207709A JP 11006151 A JP11006151 A JP 11006151A JP 615199 A JP615199 A JP 615199A JP 2000207709 A JP2000207709 A JP 2000207709A
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film
magnetic
track width
vertical wall
upper pole
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JP11006151A
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Naoto Matono
直人 的野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form an upper pole at the tip of an upper magnetic film with high dimensional precision corresponding to the fine working of track width, and to realize high recording density by further track narrowing in a method for manufacturing a thin film magnetic head equipped with an inductive head. SOLUTION: Photo-resist is applied to a substrate 1 formed by laminating a lower magnetic film 3, magnetic gap film 7, conductive coil 11, and organic insulating layers 8 and 9, and coating a base film 12 for plating, and patterning is carried out by a conventional photolithography technique so that a resist frame 16 having a vertical wall 15 for defining one end part of the track width direction of an upper pole can be formed. Coating 18 is formed to an almost fixed film thickness on the vertical wall of the resist frame by sputtering a magnetic material. Coatings 17a and 17b on excess plane parts are removed by ion milling, and the coating 18 is adjusted in prescribed track width, and then the yoke part of the upper magnetic film is formed so as to be integrated with an upper pole part 20 on the conductive coil and the insulating films by electric plating.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、書込み・読出し兼
用のインダクティブ(誘導型)ヘッドを備え、又は書込
み用のインダクティブヘッドと読出し用の磁気抵抗(M
R)型ヘッドとを一体的に備え、例えばハードディスク
装置など、コンピュータ、ワードプロセッサ等の様々な
電子機器の記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘッドの
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention provides an inductive (inductive) head for both writing and reading, or an inductive head for writing and a magnetoresistive (M) for reading.
The present invention relates to a method of manufacturing a thin-film magnetic head integrally provided with an R) type head and used for recording and reproducing devices of various electronic devices such as a computer and a word processor such as a hard disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気記録における大容量化・高密
度化を図るために、高飽和磁束密度の磁性材料を用いた
薄膜磁気ヘッドが広く採用されている。特に最近は、従
来から多用されている書込み・読出し兼用のインダクテ
ィブヘッドを書込み専用に採用し、これに、再生感度が
大きくかつ再生出力が記録媒体との相対速度に依存しな
い読出し専用のMRヘッドを一体化したMR/インダク
ティブ複合型ヘッドによって、より一層の高記録密度
化、装置の小型化及び高出力化が図られている。磁気記
録の高密度化を達成するためには、記録素子であるイン
ダクティブヘッドのトラック幅を狭小化する必要があ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, thin film magnetic heads using a magnetic material having a high saturation magnetic flux density have been widely used in order to increase the capacity and density of magnetic recording. In particular, recently, a write / read inductive head, which has been frequently used in the past, is employed exclusively for writing, and a read-only MR head which has a large reproduction sensitivity and whose reproduction output does not depend on a relative speed with respect to a recording medium is used. With the integrated MR / inductive hybrid type head, higher recording density, miniaturization of the apparatus, and higher output have been achieved. In order to achieve high density magnetic recording, it is necessary to reduce the track width of an inductive head as a recording element.

【0003】従来、記録再生兼用のインダクティブヘッ
ドでは、特開平3−147508号や特開平5−334
621号公報等に記載されるように、磁気ギャップ膜を
挟んで対向する上下磁性膜先端のポール幅を一致させる
ことにより狭トラック化を図る方法が提案されている。
他方、MRヘッドの上部シールドがインダクティブヘッ
ドの下部磁性膜を兼用する複合型ヘッドでは、その上に
磁気ギャップ層を挟んで積層される上部磁性膜の先端の
ポール幅によりトラック幅が決定される。
Conventionally, an inductive head for both recording and reproduction has been disclosed in JP-A-3-147508 and JP-A-5-334.
As described in Japanese Patent No. 621 or the like, a method of narrowing the track by making the pole widths of the tips of the upper and lower magnetic films opposed to each other with the magnetic gap film interposed therebetween has been proposed.
On the other hand, in the composite type head in which the upper shield of the MR head also serves as the lower magnetic film of the inductive head, the track width is determined by the pole width at the tip of the upper magnetic film laminated thereon with the magnetic gap layer interposed therebetween.

【0004】いずれの場合にも、インダクティブヘッド
の上部磁性膜は、通常フォトリソグラフィ技術を用いた
フレームめっき法により形成される。即ち、下部磁性膜
の上に磁気ギャップ膜、導体コイル及び有機絶縁層を積
層した後、その上にめっき用金属下地膜を被着し、かつ
フォトレジストを塗布してパターニングし、上部磁性膜
に対応する寸法・形状のレジストフレームを形成する。
これを用いて、電気めっきによりパーマロイ合金などの
磁性材料を成膜し、レジストフレーム及び余分な金属下
地膜を除去することにより、所望の上部磁性膜を形成す
る。
In any case, the upper magnetic film of the inductive head is usually formed by a frame plating method using a photolithography technique. That is, after laminating a magnetic gap film, a conductor coil and an organic insulating layer on the lower magnetic film, a metal underlayer for plating is deposited thereon, and a photoresist is applied and patterned to form an upper magnetic film. A resist frame having a corresponding size and shape is formed.
Using this, a magnetic material such as a permalloy is formed by electroplating, and a desired upper magnetic film is formed by removing the resist frame and an extra metal base film.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフレー
ムめっき法では、上部磁性膜先端の上ポールを画定する
レジストフレームの溝の幅によりトラック幅を決定する
ことになる。ところが、フォトリソグラフィ技術では、
微細なパターニングの精度が不十分で、パターンの微細
化が進むほど、素子高さ方向に溝幅のばらつきが大きく
なり、めっきされる上ポールの膜厚に大きなばらつきが
生じる。特に、溝幅が0.5μm以下の微細なレジスト
フレームの形成は困難で、トラック幅の狭小化に限界が
あり、最近の高記録密度化の要求に十分対応できないと
いう問題があった。
In the conventional frame plating method described above, the track width is determined by the width of the groove of the resist frame that defines the upper pole of the upper magnetic film. However, with photolithography technology,
As the precision of the fine patterning becomes insufficient and the pattern becomes finer, the variation in the groove width in the element height direction increases, and the thickness of the plated upper pole becomes large. In particular, it is difficult to form a fine resist frame having a groove width of 0.5 μm or less, and there is a limit in narrowing the track width, and there has been a problem that recent demands for higher recording density cannot be sufficiently satisfied.

【0006】そこで、本発明は、上述した従来の問題点
に鑑みてなされたものであり、その目的は、インダクテ
ィブヘッドを備える薄膜磁気ヘッドにおいて、その上部
磁性膜先端の上ポールを高精度に形成することができ、
それによりトラック幅の微細化に対応した寸法精度の向
上を図り、高記録密度化の要求に対応したより一層の狭
トラック化を実現し得る薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することにある。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to form an upper pole of an upper magnetic film tip with high precision in a thin-film magnetic head having an inductive head. Can be
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a thin-film magnetic head capable of improving dimensional accuracy corresponding to a finer track width and realizing a further narrower track corresponding to a demand for a higher recording density.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述した目的
を達成するためになされたものであり、基板の上に下部
磁性膜、磁気ギャップ膜、導体コイル及び絶縁層を積層
し、該磁気ギャップ膜の上にフォトレジストを塗布し、
該フォトレジストをパターニングして、上部磁性膜先端
の上ポールのトラック幅方向の一方の端部を画定する垂
直壁を有するレジストフレームを形成し、該レジストフ
レームの垂直壁に磁性材料を成膜して上部磁性膜の上ポ
ール部分を形成し、前記導体コイル及び絶縁層の上に上
部磁性膜のヨーク部分を、上ポール部分と一体に形成す
る過程からなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造
方法が提供される。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above-mentioned object, and has a structure in which a lower magnetic film, a magnetic gap film, a conductor coil and an insulating layer are laminated on a substrate. Apply photoresist on the gap film,
The photoresist is patterned to form a resist frame having a vertical wall defining one end of the top pole of the upper magnetic film in the track width direction, and a magnetic material is formed on the vertical wall of the resist frame. Forming an upper pole portion of the upper magnetic film by means of an upper magnetic film, and forming a yoke portion of the upper magnetic film on the conductor coil and the insulating layer integrally with the upper pole portion. A method is provided.

【0008】本発明によれば、従来のフォトリソグラフ
ィ技術によっても、レジストフレームの垂直壁を比較的
正確に形成できるので、トラック幅方向に上ポールの一
方の端部を高精度に画定することができ、めっき下地膜
を設けて電気めっきするのではなく、磁性材料を垂直壁
に直接成膜することにより、その膜厚を所望の値にかつ
素子高さ方向に一定に制御して、上ポールの幅即ちトラ
ック幅を高精度に画定することができる。
According to the present invention, the vertical wall of the resist frame can be formed relatively accurately by the conventional photolithography technique, so that one end of the upper pole can be precisely defined in the track width direction. It is possible to control the film thickness to a desired value and to keep it constant in the element height direction by depositing a magnetic material directly on the vertical wall instead of providing an undercoat film and performing electroplating. , That is, the track width can be defined with high accuracy.

【0009】レジストフレームの垂直壁に成膜した前記
磁気材料を、その膜厚が所望のトラック幅と一致するよ
うに加工する過程を更に含むと、上ポールの幅より高精
度に画定できるので、好都合である。このような加工
は、例えばイオンミリング、その他のドライエッチング
により行なわれる。
If the magnetic material formed on the vertical wall of the resist frame is further processed so that its film thickness matches a desired track width, the magnetic material can be defined with higher precision than the width of the upper pole. It is convenient. Such processing is performed by, for example, ion milling or other dry etching.

【0010】或る実施例では、前記磁性材料をスパッタ
リングにより成膜することができ、その場合、磁性材料
がレジストフレームの垂直壁に回り込んで、該垂直膜に
薄膜を成長させながら、同時にその膜厚を高精度に制御
できるので、好都合である。
In one embodiment, the magnetic material can be formed by sputtering, in which case the magnetic material wraps around the vertical walls of the resist frame and grows a thin film on the vertical film while simultaneously growing the thin film. This is advantageous because the film thickness can be controlled with high precision.

【0011】また或る実施例では、上ポールに比して高
度な寸法精度を要しない上部磁性膜のヨーク部分を、従
来と同様に電気めっきにより形成することができる。
In one embodiment, the yoke portion of the upper magnetic film, which does not require a higher dimensional accuracy than the upper pole, can be formed by electroplating as in the prior art.

【0012】別の実施例では、基板の上に下シールド
と、磁気抵抗素子と、下部磁性膜を形成する上シールド
とを積層する過程を更に含むことにより、基板上に読出
し用のMRヘッドを形成し、かつその上シールドを下部
磁性膜に兼用する書込み用のインダクティブヘッドを積
層した複合型ヘッドを製造することができる。
In another embodiment, the method further comprises the step of laminating a lower shield, a magnetoresistive element, and an upper shield on which a lower magnetic film is formed on a substrate, thereby forming a read MR head on the substrate. It is possible to manufacture a composite type head in which an inductive head for writing is formed and the upper shield is also used as a lower magnetic film.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しつつ、本
発明による方法を適用して、MR/インダクティブ複合
型薄膜磁気ヘッドを製造する工程について詳細に説明す
る。図1に示すように、Al23−TiC系のセラミッ
ク材料からなる基板1表面には、従来の製造プロセスを
用いて、アルミナ又はSiO2などの絶縁下地膜2を被
着し、その上にパーマロイ系合金、コバルト系合金、鉄
系センダスト合金などの軟磁性材料をめっき又はスパッ
タ蒸着してなる下シールド3及び上シールド4と、それ
らの間に挟まれたMR素子5とを有する読出し用のMR
ヘッド6が形成されている。MR素子5は、アルミナな
ど絶縁膜からなる上下ギャップ層の間に設けられたNi
Feなどからなる磁気抵抗薄膜、再生信号の歪み低減の
ためのバイアス膜、磁区安定膜などで構成される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The steps of manufacturing a combined MR / inductive thin film magnetic head by applying a method according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. As shown in FIG. 1, the substrate 1 surface made of ceramic material Al 2 O 3 -TiC based, using conventional manufacturing processes, deposited an insulating base film 2 such as alumina or SiO 2, on which A lower shield 3 and an upper shield 4 formed by plating or sputter-depositing a soft magnetic material such as a permalloy alloy, a cobalt alloy, or an iron-based sendust alloy, and an MR element 5 interposed therebetween. MR
A head 6 is formed. The MR element 5 is composed of Ni provided between upper and lower gap layers made of an insulating film such as alumina.
It is composed of a magnetoresistive thin film made of Fe or the like, a bias film for reducing distortion of a reproduction signal, a magnetic domain stabilizing film, and the like.

【0014】書込み用のインダクティブヘッドの下部磁
性膜を兼ねる上シールド4上には、磁気変換ギャップを
形成するためのアルミナからなる磁気ギャップ膜7と、
ノボラック系樹脂からなる有機絶縁層8、9と、バック
ギャップ10を中心とした渦巻状のCuからなる書込み
用の導体コイル11とが積層されている。更にその上に
は、後述するインダクティブヘッドの上部磁性膜のヨー
ク部分を電気めっきするためのめっき用下地膜12が、
スパッタリング等により被着されている。
A magnetic gap film 7 made of alumina for forming a magnetic conversion gap is provided on the upper shield 4 also serving as a lower magnetic film of the inductive head for writing.
Organic insulating layers 8 and 9 made of a novolak resin and a conductor coil 11 for writing made of spiral Cu centered on a back gap 10 are laminated. Further thereon, a plating base film 12 for electroplating a yoke portion of an upper magnetic film of the inductive head described later,
It is applied by sputtering or the like.

【0015】本発明によれば、先ず図2A、Bに示すよ
うに、図1の基板上にノボラック系樹脂のフォトレジス
ト13をスピンコートによって塗布する。この上にフォ
トマスク14を置いて露光し、現像しかつ水洗した後、
熱処理することにより、図3Aに示すように、或る高さ
の垂直壁15を有するレジストフレーム16を形成す
る。垂直面15は、形成しようとする前記上部磁性膜の
上ポール部分のトラック幅方向の一方の端部に整合させ
て配置する。
According to the present invention, first, as shown in FIGS. 2A and 2B, a photoresist 13 of a novolak resin is applied on the substrate of FIG. 1 by spin coating. After placing a photomask 14 thereon, exposing, developing and washing with water,
By performing the heat treatment, as shown in FIG. 3A, a resist frame 16 having vertical walls 15 having a certain height is formed. The vertical surface 15 is arranged in alignment with one end in the track width direction of the upper pole portion of the upper magnetic film to be formed.

【0016】次に、前記上部磁性膜を形成するNiFe、
Fe-N、CuZrなどの磁性材料をスパッタリングにより
成膜する。前記磁性材料は、図3Bに示すように、基板
及びレジストフレーム16上面に被膜17a、bを形成
するだけでなく、垂直壁15に回り込んで該壁面に沿っ
て垂直方向の被膜18を形成する。このスパッタリング
は、被膜18の膜厚Tを所望の上ポールのトラック幅以
上に、かつ前記垂直壁に沿って略一定となるように調整
・制御する。通常、垂直方向の被膜18の膜厚は、平面
方向の被膜17a、bの約半分である。
Next, NiFe for forming the upper magnetic film,
A magnetic material such as Fe-N or CuZr is formed by sputtering. As shown in FIG. 3B, the magnetic material not only forms the coatings 17a and b on the substrate and the upper surface of the resist frame 16, but also wraps around the vertical wall 15 and forms the vertical coating 18 along the wall. . In this sputtering, the thickness T of the coating 18 is adjusted and controlled so as to be equal to or larger than the desired upper pole track width and substantially constant along the vertical wall. Normally, the thickness of the coating 18 in the vertical direction is about half that of the coatings 17a, b in the planar direction.

【0017】次に、イオンミリングなどにより、基板及
びレジストフレーム上面の被膜17a、bを完全に除去
すると共に、被膜18を前記垂直壁に略平行にかつ所望
のトラック幅Twに調整する。このとき、被膜17a、
bと被膜18のミリングレートは、イオンを入射する角
度θによって決定され、例えば、最初の入射角θを0〜
30°に設定し、次にこれを45〜75°に変更してミ
リングを行う。これにより、所望のトラック幅を有する
上部磁性膜の上ポール部分19が形成されると共に、従
来の素子高さ方向におけるトラック幅のばらつきが大幅
に改善される。本発明によれば、0.5mm以下の微細な
トラック幅を高精度に形成することができる。
Next, the coatings 17a and 17b on the upper surface of the substrate and the resist frame are completely removed by ion milling or the like, and the coating 18 is adjusted to a desired track width Tw substantially parallel to the vertical wall. At this time, the coating 17a,
b and the milling rate of the coating film 18 are determined by the angle θ at which ions are incident.
Set to 30 °, then change this to 45-75 ° for milling. As a result, the upper pole portion 19 of the upper magnetic film having a desired track width is formed, and the conventional variation in the track width in the element height direction is greatly improved. According to the present invention, a fine track width of 0.5 mm or less can be formed with high precision.

【0018】次に、残存するレジストフレーム16を除
去し、又はこれをそのまま残して新たにフォトレジスト
を塗布し、従来と同様のフォトリソグラフィ技術を用い
て、図4に示すように前記ヨーク部分のためのレジスト
フレーム20を形成する。そして、このレジストフレー
ムを用いて、上ポール部分と同じ磁性材料を電気めっき
することにより、上ポール部分19に連続する前記ヨー
ク部分を形成する。これにより、所望のトラック幅を有
するインダクティブヘッドの上部磁性膜が形成される。
最後に、レジストフレーム20及び余分な下地膜12な
どを除去し、その上から全体をアルミナの保護膜で被覆
すると、MR/インダクティブ複合ヘッドが完成する。
Next, the remaining resist frame 16 is removed, or a new photoresist is applied while leaving the resist frame 16 as it is, and a photolithography technique similar to the conventional one is used to remove the yoke portion as shown in FIG. A resist frame 20 is formed. Then, using the resist frame, the same yoke portion as the upper pole portion 19 is formed by electroplating the same magnetic material as the upper pole portion. As a result, an upper magnetic film of the inductive head having a desired track width is formed.
Finally, the resist frame 20 and the extra underlayer 12 are removed, and the whole is covered with a protective film of alumina from above to complete the MR / inductive composite head.

【0019】以上、本発明の好適な実施例について添付
図面を用いて詳細に説明したが、当業者に明らかなよう
に、本発明は上記実施例に限定されるものでなく、その
技術的範囲内において様々な変形・変更を加えて実施す
ることができる。例えば、レジストフレーム16の垂直
壁15には、スパッタリング以外に蒸着法やイオンプレ
ーティングなどの様々な公知方法を用いることができ
る。また、垂直方向の被膜18は、イオンミリング以外
に、その材料などに対応して公知の適当なドライエッチ
ングにより膜厚を調整することができる。
As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings. However, as will be apparent to those skilled in the art, the present invention is not limited to the above embodiments, and the technical scope thereof Various modifications and changes can be made within the embodiment. For example, various known methods such as an evaporation method and an ion plating method can be used for the vertical wall 15 of the resist frame 16 in addition to the sputtering. The thickness of the coating 18 in the vertical direction can be adjusted by well-known appropriate dry etching in accordance with the material or the like in addition to ion milling.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ので、以下に記載されるような効果を奏する。本発明の
薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、インダクティブヘ
ッドの上部磁性膜の形成において、従来のフォトリソグ
ラフィ技術を用いてレジストフレームの垂直壁を比較的
正確に形成し、上ポールのトラック幅方向の一方の端部
を高精度に画定し、かつ磁性材料を垂直壁に沿って直接
成膜することによって、上ポールの膜厚即ちトラック幅
の寸法精度が向上し、トラック幅の微細化及びそれによ
るより一層高記録密度化を実現することができる。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. According to the method of manufacturing a thin-film magnetic head of the present invention, in forming the upper magnetic film of the inductive head, the vertical wall of the resist frame is formed relatively accurately using the conventional photolithography technique, and the upper pole in the track width direction is formed. By precisely defining one end of the upper pole and forming a magnetic material directly along the vertical wall, the thickness of the upper pole, that is, the dimensional accuracy of the track width is improved, and the track width is reduced and the track width is reduced. Can achieve a higher recording density.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】MRヘッド、インダクティブヘッドの磁気ギャ
ップ膜、導体コイル、有機絶縁層及びめっき用金属下地
膜を積層した基板を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a substrate on which a magnetic gap film of an MR head, an inductive head, a conductor coil, an organic insulating layer, and a metal base film for plating are stacked.

【図2】A図は図1の基板にフォトレジストを塗布して
露光する状態を示す断面図、B図はそのII−II線におけ
る断面図である。
2A is a cross-sectional view showing a state in which a photoresist is applied to the substrate of FIG. 1 and exposure is performed, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line II-II.

【図3】A〜D図は、図2の基板上にインダクティブヘ
ッドの上部磁性膜の上ポール部分を形成する過程を工程
順に示す断面図である。
3A to 3D are cross-sectional views showing a process of forming an upper pole portion of an upper magnetic film of an inductive head on the substrate of FIG. 2 in the order of steps.

【図4】上部磁性膜のヨーク部分を形成するためのレジ
ストフレームを形成した基板の平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a substrate on which a resist frame for forming a yoke portion of an upper magnetic film is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 絶縁下地膜 3 下シールド 4 上シールド 5 MR素子 6 MRヘッド 7 磁気ギャップ膜 8、9 有機絶縁層 10 バックギャップ 11 導体コイル 12 下地膜 13 フォトレジスト 14 フォトマスク 15 垂直壁 16 レジストフレーム 17a、b 被膜 18 被膜 19 上ポール部分 20 レジストフレーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Insulating base film 3 Lower shield 4 Upper shield 5 MR element 6 MR head 7 Magnetic gap film 8, 9 Organic insulating layer 10 Back gap 11 Conductor coil 12 Base film 13 Photoresist 14 Photomask 15 Vertical wall 16 Resist frame 17a , B coating 18 coating 19 upper pole part 20 resist frame

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の上に下部磁性膜、磁気ギャップ
膜、導体コイル及び絶縁層を積層し、前記磁気ギャップ
膜の上にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジスト
をパターニングして、上部磁性膜先端の上ポールのトラ
ック幅方向の一方の端部を画定する垂直壁を有するレジ
ストフレームを形成し、前記レジストフレームの前記垂
直壁に磁性材料を成膜して前記上部磁性膜の上ポール部
分を形成し、前記導体コイル及び絶縁層の上に前記上部
磁性膜のヨーク部分を、前記上ポール部分と一体に形成
する過程からなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
造方法。
An upper magnetic film is formed by laminating a lower magnetic film, a magnetic gap film, a conductor coil and an insulating layer on a substrate, applying a photoresist on the magnetic gap film, and patterning the photoresist. A resist frame having a vertical wall defining one end of the upper pole in the track width direction of the tip is formed, and a magnetic material is formed on the vertical wall of the resist frame to form an upper pole portion of the upper magnetic film. Forming a yoke portion of the upper magnetic film on the conductor coil and the insulating layer integrally with the upper pole portion.
【請求項2】 前記垂直壁に成膜した前記磁気材料の膜
厚を所望のトラック幅に加工する過程を更に有すること
を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
2. The method of manufacturing a thin-film magnetic head according to claim 1, further comprising a step of processing the film thickness of the magnetic material formed on the vertical wall into a desired track width.
【請求項3】 イオンミリングにより前記磁気材料の膜
厚を所望のトラック幅に加工することを特徴とする請求
項2に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the thickness of the magnetic material is processed to a desired track width by ion milling.
【請求項4】 スパッタリングにより前記磁性材料を前
記垂直壁に成膜することを特徴とする請求項1乃至3の
いずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
4. The method for manufacturing a thin-film magnetic head according to claim 1, wherein said magnetic material is deposited on said vertical wall by sputtering.
【請求項5】 前記上部磁性膜のヨーク部分を電気めっ
きにより形成することを特徴とする請求項1乃至4のい
ずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein a yoke portion of the upper magnetic film is formed by electroplating.
【請求項6】 前記基板の上に下シールドと、磁気抵抗
素子と、前記下部磁性膜を形成する上シールドとを積層
する過程を更に含むことを特徴とする請求項1乃至5の
いずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
6. The method according to claim 1, further comprising: laminating a lower shield, a magnetoresistive element, and an upper shield for forming the lower magnetic film on the substrate. The manufacturing method of the thin film magnetic head according to the above.
JP11006151A 1999-01-13 1999-01-13 Manufacture of thin film magnetic head Pending JP2000207709A (en)

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