JP2000199973A

JP2000199973A - 露光方法および露光装置並びにマスク

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Publication number: JP2000199973A
Application number: JP16026799A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Iguchi; 正浩井口; Katsuya Machino; 勝弥町野; Kazuhiko Hori; 和彦堀; Manabu Toguchi; 学戸口
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-11-04
Filing date: 1999-06-07
Publication date: 2000-07-18
Also published as: TW436887B; US6506544B1

Abstract

(57)【要約】【課題】画面合成を伴う露光処理を行う際にも少ない
枚数で露光する。【解決手段】パターン１ａを有したマスクＡを用いて
基板に第１パターンと第２パターンとをつなぎ合わせ露
光する。マスクＡのパターンは、第１パターンと第２パ
ターンとの共通パターンＫＰと、共通パターンＫＰと連
続して形成され共通パターンＫＰとは異なる非共通パタ
ーンＨＰ１，ＨＰ２とを有する。共通パターンＫＰと、
非共通パターンＨＰ１，ＨＰ２の少なくとも一部とを選
択してつなぎ合わせ露光する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、照明されたパター
ンが転写領域に転写されるマスクおよびこのマスクのパ
ターンを基板上の転写領域に転写する露光方法並びに露
光装置に関し、特に、基板上の転写領域でつなぎ合わせ
露光される際に用いて好適な露光方法および露光装置並
びにマスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示素子等を製造する露光
装置としては、マスク上に形成されたパターンを感光基
板の所定露光領域に露光した後、感光基板を一定距離だ
けステッピングさせて、再びマスクのパターンを露光す
ることを繰り返す、いわゆるステップ・アンド・リピー
ト方式のもの（ステッパー）がある。

【０００３】従来、例えば大面積の液晶表示素子用のＬ
ＣＤパターンをステッパーで形成する際には、通常画面
合成法が用いられている。この画面合成法は、分割され
たＬＣＤパターンのそれぞれに対応する複数のマスクを
用い、一枚のマスクに対応するガラス基板の露光領域に
該マスクのパターンを露光した後に、ガラス基板をステ
ップさせるとともにマスクを別のものに交換し、このマ
スクに対応する露光領域に該マスクのパターンを露光す
ることにより、ガラス基板に複数のパターンが合成され
たＬＣＤパターンを形成するものである。

【０００４】図３８は、１５インチの液晶ディスプレイ
デバイスを製造する際に用いられるガラス基板（基板）
Ｐの回路パターン１が複数（図では六つ）に分割された
パターン図である。

【０００５】この回路パターン１は、略長方形状を有
し、表示部２と周辺部３とから構成されている。表示部
２は、複数の画素（ピクセル）に応じた複数の電極が規
則正しく配列されたパターンで構成されている。周辺部
３は、表示部２を取り囲むように形成され、表示部２の
各電極のパターンとこれら各電極を駆動するドライバ回
路（不図示）とをそれぞれ導通させる導通部を有してい
る。そして、回路パターン１は、これら表示部２および
周辺部３を含む分割パターンＡ〜Ｆにより合成される構
成になっている。

【０００６】一方、図３９は、これら分割パターンＡ〜
Ｆにそれぞれ対応するパターンが形成された、マスクＲ
Ａ〜ＲＦの平面図である。そして、これらマスクＲＡ〜
ＲＦを用いるステッパーでは、例えば、まずマスクＲＡ
を装着し、ガラス基板Ｐを分割パターンＡに対応する所
定位置まで移動させた後に露光して、分割パターンＡを
ガラス基板Ｐに転写する。

【０００７】次に、マスクＲＡをマスクＲＢに交換する
とともに、ガラス基板Ｐを分割パターンＢに対応する所
定位置まで移動させた後に露光して、分割パターンＢを
ガラス基板Ｐに転写する。そして、この動作を順次繰り
返すことにより、分割パターンＡ〜Ｆがガラス基板Ｐに
転写される。

【０００８】また、図４０は、２１インチの液晶ディス
プレイデバイスを製造する際に用いられるガラス基板
（基板）Ｐの回路パターン４が複数（図では１５）に分
割されたパターン図である。そして、上記と同様に回路
パターン４は、表示部２および周辺部３を含む分割パタ
ーンＡ〜Ｆ２により合成される構成になっている。この
例では、表示部２の１部が分割パターンＡ、Ｂ、Ｃの繰
り返しパターンになっているので、同じマスク（例え
ば、Ａパターンを有したマスク）で複数のショットを露
光している。また、図４１に、これらの分割パターンＡ
〜Ｆ２に対応するパターンが形成されたマスクＲＡ〜Ｒ
Ｆを示す。この場合も、上記と同様に、マスクを順次交
換するとともに、ガラス基板Ｐを所定位置に移動させて
露光することにより、回路パターン４が画面合成され
る。

【０００９】ところで、上記画面合成法を行う際には、
マスクのパターン描画誤差や投影光学系のレンズの収
差、ガラス基板をステップ移動させるステージの位置決
め誤差等に起因してパターンの継ぎ目部に段差が発生
し、デバイスの特性が損なわれたり、さらに、画面合成
された分割パターンを多層に重ね合わせた場合、各層の
露光領域の重ね誤差やパターンの線幅差がパターンの継
ぎ目部分で不連続に変化し、デバイスの品質が低下する
ことを回避するために、いわゆる、つなぎ合わせ露光が
行われている。

【００１０】このつなぎ合わせ露光は、隣接する露光領
域でこの継ぎ目部分をつなぎ合わせ露光し、且つ各露光
領域で、例えば、露光時間を変化させることでこの継ぎ
目部分の露光量（露光エネルギ量）を境界へ向けて比例
的に減少させることによって、重ね合わせて露光した際
に、この部分の露光量を他の部分の露光量と略一致させ
るものであり、例えば、特開平６−２４４０７７号公報
や特開平７−２３５４６６号公報に開示されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の露光方法および露光装置並びにマスクに
は、以下のような問題が存在する。各マスクＲＡ〜ＲＦ
に形成されたパターンの内、表示部２のパターンは、画
素に応じた複数の電極が規則正しく配列されたものであ
る。そのため、複数に分割された場合でも、各分割パタ
ーンＡ〜Ｆには、部分的に共通の配列パターンが存在し
ている。

【００１２】ところが、分割パターンＡ〜Ｆは、分割さ
れた表示部２の位置に応じて、周辺部３の有無あるいは
周辺部３が接続する位置が異なっている。そのため、部
分的に共通のパターンを有していても、分割パターンＡ
〜Ｆに対応するマスクＲＡ〜ＲＦを用意しなければなら
ず、コスト面での負荷が多大なものとなっていた。ま
た、マスクの枚数が増大すると、マスク交換に要する時
間も増え、スループットの向上に支障を来すという問題
もあった。

【００１３】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、デバイス製造で画面合成を伴う露光処理を
行う際にも少ない枚数で露光することでコストダウンお
よびスループットの向上を実現できるマスクおよびこの
マスクを用いた露光方法並びに露光装置を提供すること
を目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図３７に対
応付けした以下の構成を採用している。本発明の露光方
法は、パターン（１ａ）を有したマスク（Ｒ、Ａ、Ｂ、
Ｃ）を用いて基板（Ｐ）に第１パターン（Ａ１、Ｃ１）
と第２パターン（Ａ２、Ｃ２）とをつなぎ合わせ露光す
る露光方法において、マスク（Ａ）のパターンは第１パ
ターン（Ａ１）と第２パターン（Ａ２）との共通パター
ン（ＫＰ）と共通パターン（ＫＰ）と連続して形成され
共通パターン（ＫＰ）とは異なる非共通パターン（ＨＰ
１，ＨＰ２）とを有しており、共通パターン（ＫＰ）と
非共通パターン（ＨＰ１，ＨＰ２）の少なくとも一部と
を選択してつなぎ合わせ露光することを特徴とするもの
である。

【００１５】従って、本発明の露光方法では、基板
（Ｐ）に第１パターン（Ａ１）を露光した後に、第２パ
ターン（Ａ２）をつなぎ合わせ露光する際には、第１パ
ターン（Ａ１）と共通の共通パターン（ＫＰ）およびこ
の共通パターン（ＫＰ）とは異なる非共通パターン（Ｈ
Ｐ）の少なくとも一部を選択して用いることができる。
そのため、第２パターン（Ａ２）を露光する際に、第２
パターン（Ａ２）を有するマスク（Ａ）を別途用意する
必要がなくなる。

【００１６】また、照明領域（ＳＡ１、ＳＡ２）に対応
する基板（Ｐ）上の露光領域をそれぞれ二辺が重複する
ように矩形配列した際には、照明領域（ＳＡ１、ＳＡ
２）の一辺に透過率が漸次変化する減光領域を形成し、
各露光領域に対応する照明領域（ＳＡ１、ＳＡ２）を露
光中に前記一辺（Ｘ方向）に沿ってそれぞれ移動させる
ことができる。これにより、減光領域に対応する基板
（Ｐ）上の露光領域は、漸次変化した露光エネルギ量で
露光される。そして、この露光領域と隣接する露光領域
においては、減光領域において重複させることで重複部
の露光エネルギ量を他の部分と同じにすることができ
る。

【００１７】また、上記のように露光領域を矩形配列し
た際には、辺が重複する露光領域同士で対を構成し、各
対において露光領域に対応する照明領域（ＳＡ１、ＳＡ
２）を露光中に同一方向（対角方向）に沿ってそれぞれ
移動させることができる。これにより、矩形配列された
露光領域の交叉部（Ｋ１）においては、他の半分のエネ
ルギ量で露光することができる。そして、残りの対にお
いても照明領域（ＳＢ１、ＳＢ２）を露光中に同一方向
に移動させることで、交叉部（Ｋ１）を他の半分のエネ
ルギ量で露光することができ、これらを合わせた露光量
が他と同じになる。

【００１８】また、本発明のマスクは、パターンを有し
たマスク（Ａ）において、マスク（Ａ）には、複数のパ
ターンに応じて該複数のパターンの共通パターン（Ｋ
Ｐ）と、共通パターン（ＫＰ）とは異なる非共通パター
ン（ＨＰ１，ＨＰ２）とが連続して形成されていること
を特徴とするものである。

【００１９】従って、本発明のマスクでは、共通パター
ン（ＫＰ）と、この共通パターン（ＫＰ）とは異なる非
共通パターン（ＨＰ１，ＨＰ２）とを組み合わせること
により、一枚のマスク（Ａ）で複数のパターンに対応す
ることができる。

【００２０】そして、本発明の露光装置は、パターンを
有したマスク（Ｒ、Ａ）を保持するマスクステージ（１
０）と、マスク（Ｒ、Ａ）を照明する照明光学系（７）
とを備え、マスク（Ｒ、Ａ）のパターンを基板（Ｐ）に
露光する露光装置（５）において、マスクステージ（１
０）には、請求項８または請求項９記載のマスク（Ａ）
が保持されており、マスク（Ａ）の照明領域を少なくと
も第１照明領域（ＳＡ１）と第２照明領域（ＳＡ２）と
に設定する照明領域設定装置（１７）と、第１照明領域
（ＳＡ１）により基板（Ｐ）に露光される第１パターン
（Ａ１）と第２照明領域（ＳＡ２）により基板（Ｐ）に
露光される第２パターン（Ａ２）とをつなぎ合わせる制
御装置（１１）とを備えたことを特徴とするものであ
る。

【００２１】従って、本発明の露光装置では、マスクス
テージ（１０）に保持されたマスク（Ａ）の照明領域
を、照明領域設定装置（１７）を用いて第１照明領域
（ＳＡ１）に設定することで、少なくとも共通パターン
（ＫＰ）を有する第１パターン（Ａ１）を基板（Ｐ）に
露光することができる。次に、マスク（Ａ）の照明領域
を、照明領域設定装置（１７）を用いて第２照明領域
（ＳＡ２）に設定することで、少なくとも共通パターン
（ＫＰ）を有する第２パターン（Ａ２）を基板（Ｐ）に
露光することができる。この際、基板（Ｐ）に露光され
た第１、第２パターン（Ａ１、Ａ２）は、制御装置（１
１）の制御によってつなぎ合わされる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の露光方法および露
光装置並びにマスクの第１の実施の形態を、図１ないし
図２３を参照して説明する。ここでは、上記と同様に１
５インチの液晶ディスプレイデバイスを製造するための
ガラス基板の例を用いて説明する。これらの図におい
て、従来例として示した図３８ないし図４１と同一の構
成要素には同一符号を付し、その説明を簡略化する。

【００２３】図３は、露光装置５の概略構成図である。
露光装置５は、レチクル（マスク）Ｒに形成されたパタ
ーン（例えば、液晶表示素子パターン）を角形のガラス
基板（基板）Ｐ上へ投影転写するものであって、水銀ラ
ンプ６、照明光学系７、投影光学系８、基板ステージ
９、レチクルステージ（マスクステージ）１０、露光デ
ータ設定部２１および駆動制御装置（制御装置）１１か
ら概略構成されている。

【００２４】水銀ランプ６は、照明光としてのビームＢ
を発するものである。この水銀ランプ６には、楕円鏡６
ａが付設されている。楕円鏡６ａは、水銀ランプ６が発
する照明光を集光するものである。

【００２５】照明光学系７は、シャッタ１２と、反射ミ
ラー１３，１４と、波長選択フィルタ１５と、フライア
イインテグレータ１６と、レチクルブラインド（照明領
域設定装置）１７と、コンデンサレンズ１８とから概略
構成されている。シャッタ１２は、ビームＢの光路を所
定時間開閉するものである。反射ミラー１３は、楕円鏡
６ａで集光されシャッタ１２の開動作に応答して入射し
たビームＢを波長選択フィルタ１５へ向けて反射するも
のである。反射ミラー１４は、レチクルブラインド１７
を通過したビームＢをコンデンサレンズ１８へ向けて反
射するものである。

【００２６】波長選択フィルタ１５は、ビームＢのうち
露光に必要な波長（ｇ線やｉ線）のみを通過させるもの
である。フライアイインテグレータ１６は、波長選択フ
ィルタ１５を通過したビームＢの照度分布を均一にする
ものである。コンデンサレンズ１８は、レチクルブライ
ンド１７の開口Ｓで設定された照明領域の像をレチクル
Ｒで結像させるものである。

【００２７】レチクルブラインド１７は、フライアイイ
ンテグレータ１６およびハーフミラー１３を通過したビ
ームＢがレチクルＲを照明する照明領域を設定するもの
であって、図４（ａ）に示すように、ビームＢと直交す
る平面内で互いに直交する方向に移動し、レチクルＲの
共役面を挟んで配置された矩形のガラス材で形成された
ブラインド板１７ａ、１７ｂとから構成されている。各
ブラインド板１７ａ、１７ｂには、クロムが蒸着されて
遮光された遮光部２４と、ビームＢが透過する矩形の透
過部２５とが設けられている。そして、レチクルブライ
ンド１７は、ブラインド板１７ａ、１７ｂが移動して各
透過部２５が組み合わされることで、透過部２５が重な
った範囲により開口Ｓが形成されるとともに、露光毎に
開口Ｓの大きさをそれぞれ切り替え可能、且つ、各方向
の開口幅を一定に維持しながらこの互いに直交する方向
にそれぞれ移動自在になっている。

【００２８】また、レチクルブラインド１７は、露光中
に一定の速度で移動することにより、開口Ｓの位置変化
に伴って露光量を変化させ、開口Ｓの位置変化部分に対
応するガラス基板Ｐ上の露光領域への露光量すなわち露
光エネルギ量を一定の比率で減少させる構成になってい
る。なお、このレチクルブラインド１７には、サーボモ
ータとボールネジとを組み合わせた送り機構（いずれも
不図示）等により、レチクルブラインド１７のブライン
ド板１７ａ、１７ｂをそれぞれ駆動させる駆動機構（移
動装置）２０が付設されている。

【００２９】投影光学系８は、レチクルＲの照明領域に
存在するパターンの像をガラス基板Ｐ上に結像させるも
のである。レチクルステージ１０は、レチクルＲを保持
するものである。そして、レチクルステージ１０には、
レチクルＲを交換するレチクル交換装置（不図示）が付
設されている。

【００３０】基板ステージ９は、ガラス基板Ｐを保持す
るものであって、互いに直交する方向へ移動自在とされ
ている。この基板ステージ９上には、移動鏡９ａが設け
られている。移動鏡９ａには、位置計測装置である不図
示のレーザ干渉計からレーザ光１９が射出され、その反
射光と入射光との干渉に基づいて移動鏡９ａとレーザ干
渉計との間の距離、すなわち基板ステージ９（ひいては
ガラス基板Ｐ）の位置が検出される構成になっている。
また、基板ステージ９には、リニアモータ等、基板ステ
ージ９を駆動させる駆動機構２２が付設されている。

【００３１】露光データ設定部２１は、露光データとし
て、一つの露光領域を分割した分割領域のそれぞれの座
標位置、大きさ等の露光領域に関するデータと、隣接す
る分割領域の一部を重複して露光する、つなぎ合わせ露
光に関するデータを入力するものである。

【００３２】駆動制御装置１１は、露光データ設定部２
１で設定された露光データに基づいて、隣接する分割領
域がつなぎ合わさ露光されるように、駆動機構２０を介
してレチクルブラインド１７を駆動させるとともに、駆
動機構２２を介して基板ステージ９を駆動させる構成に
なっている。

【００３３】一方、図２に示すように、ガラス基板Ｐに
転写される回路パターン１は、表示部２と周辺部３とか
ら構成されている。表示部２は、複数の画素（ピクセ
ル）に応じた複数の電極が規則正しく配列されたパター
ンで構成されている。周辺部３は、表示部２を取り囲む
ように形成され、表示部２の各電極のパターンとこれら
各電極を駆動するドライバ回路とをそれぞれ導通させる
導通部を有している。この導通部は、表示部２のＸ方向
両端にそれぞれ一つずつ配置された台形のタブＸ１、Ｘ
２と、表示部２のＹ方向両端にそれぞれ等間隔で八つず
つ、それぞれ隣接するように配置された台形のタブＹ１
〜Ｙ８、Ｙ９〜Ｙ１６とから構成されている。

【００３４】そして、回路パターン１は、Ｘ方向に所定
間隔をあけてＹ方向に延在する分割ラインＶ１〜Ｖ３お
よびＸ方向に延在する分割ラインＨ１によって分割され
た、表示部２および周辺部３を含む分割パターンＡ１〜
Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４により合成される構成になっている。
ここで、分割ラインＶ１はタブＹ３の中心を通るよう
に、分割ラインＶ３は、タブＹ６の中心を通るようにそ
れぞれ設定されている。また、分割ラインＶ２は、タブ
Ｙ４とタブＹ５との間を通るように設定されている。

【００３５】そして、この回路パターン１を転写するた
めのレチクルＲは、図１（ａ）に示すレチクル（マス
ク）Ａと図１（ｂ）に示すレチクル（マスク）Ｂの二枚
を使用する構成になっている。レチクルＡは、分割パタ
ーンＡ１〜Ａ４を転写する際に用いられるものであっ
て、その表面には、表示部２ａ、周辺部３ａからなる回
路パターン（パターン）１ａとクロムが蒸着された遮光
帯２３とがガラス基板Ｐとの間の所定の投影倍率をもっ
て形成されている。

【００３６】周辺部３ａは、表示部２ａのＸ方向両端に
設けられたタブＸ１１、Ｘ１２と表示部２ａの＋Ｙ方向
端部に設けられた三つのタブＹ２１〜Ｙ２３とから構成
されている。タブＸ１１、Ｘ１２は、ガラス基板Ｐのタ
ブＸ１、Ｘ２が転写されるパターンのうち、分割ライン
Ｈ１よりも−Ｙ方向を若干含む＋Ｙ方向の半分程度を有
している。同様に、タブＹ２１〜Ｙ２３は、ガラス基板
ＰのタブＹ１〜Ｙ８に転写するパターンをそれぞれ有し
ている。

【００３７】表示部２ａは、ガラス基板Ｐに転写される
表示部２のパターンを部分的に有するものである。表示
部２ａの幅は、Ｘ方向がタブＹ２１〜Ｙ２３の三つ分の
長さとされ、Ｙ方向が上記タブＸ１１、Ｘ１２と同様
に、表示部２ａが転写されるパターンのうち、分割ライ
ンＨ１よりも−Ｙ方向を若干含む＋Ｙ方向の半分程度に
相当する長さを有している。

【００３８】遮光帯２３は、つなぎ合わせ露光する際に
ビームＢを遮光するものであって、回路パターン１ａの
−Ｙ方向の辺を除く三方の周辺に形成されている。な
お、本実施の形態のつなぎ合わせ露光としては、隣接し
て露光されるパターン（露光領域）の一部を重複して露
光する方式を用いるものとする。

【００３９】また、レチクルＡにおいては、図１（ａ）
に示すように、左端に位置するタブＹ２１の中心を通る
ように分割ラインＶ１１が、また、右端に位置するタブ
Ｙ２３の中心を通るように分割ラインＶ１４がそれぞれ
Ｙ方向に延在するように仮想設定される。また、左端の
タブＹ２１と中央のタブＹ２２との間を通るように分割
ラインＶ１２が、そして、右端のタブＹ２３と中央のタ
ブＹ２２との間を通るように分割ラインＶ１３がそれぞ
れＹ方向に延在するように仮想設定される。同様に、分
割ラインＨ１に相当する位置に、分割ラインＨ１１がＸ
方向に延在するように仮想設定される。

【００４０】そして、レチクルＡの回路パターン１ａ
は、隣接する２つの分割パターンに露光される際に、共
通パターンＫＰと、該共通パターンＫＰとは異なる非共
通パターンＨＰ１、ＨＰ２とに分けられる。共通パター
ンＫＰは、これら両分割パターンに共通して転写される
ように設定される。非共通パターンＨＰ１、ＨＰ２は、
共通パターンＫＰと連続して、且つ共通パターンＫＰを
挟んで形成されるように設定される。そして、各分割パ
ターンを露光する際には、共通パターンＫＰと、非共通
パターンＨＰ１、ＨＰ２の少なくとも一部とを選択する
ように設定される。

【００４１】レチクルＢは、分割パターンＢ１〜Ｂ４を
転写する際に用いられるものであり、レチクルＡと同様
の構成であるので簡単に説明すると、周辺部３ａには表
示部２ａのＸ方向両端に位置してタブＸ１１、Ｘ１２が
設けられ、表示部２ａの−Ｙ方向端部に位置して三つの
タブＹ２４〜Ｙ２６が設けられている。タブＸ１１、Ｘ
１２は、ガラス基板ＰのタブＸ１、Ｘ２が転写されるパ
ターンのうち、分割ラインＨ１よりも＋Ｙ方向を若干含
む−Ｙ方向の半分程度を有している。同様に、タブＹ２
４〜Ｙ２６は、ガラス基板ＰのタブＹ９〜Ｙ１６に転写
するパターンをそれぞれ有している。

【００４２】表示部２ａの幅は、Ｘ方向がタブＹ２４〜
Ｙ２６の三つ分の長さとされ、Ｙ方向が上記タブＸ１
１、Ｘ１２と同様に、表示部２ａが転写されるパターン
のうち、分割ラインＨ１よりも＋Ｙ方向を若干含む−Ｙ
方向の半分程度に相当する長さを有している。遮光帯２
３は、回路パターン１ａの＋Ｙ方向の辺を除く三方の周
辺に形成されている。

【００４３】また、レチクルＢにおいては、図１（ｂ）
に示すように、左端に位置するタブＹ２４の中心を通る
ように分割ラインＶ１５が、また、右端に位置するタブ
Ｙ２６の中心を通るように分割ラインＶ１８がそれぞれ
Ｙ方向に延在するように仮想設定される。また、左端の
タブＹ２４と中央のタブＹ２５との間を通るように分割
ラインＶ１６が、そして、右端のタブＹ２６と中央のタ
ブＹ２５との間を通るように分割ラインＶ１７がそれぞ
れＹ方向に延在するように仮想設定される。同様に、分
割ラインＨ１に相当する位置に、分割ラインＨ１２がＸ
方向に延在するように仮想設定される。

【００４４】そして、レチクルＢの回路パターン１ａ
は、隣接する２つの分割パターンに露光される際に、共
通パターンＫＰと、該共通パターンＫＰとは異なる非共
通パターンＨＰ１、ＨＰ２とに分けられる。共通パター
ンＫＰは、これら両分割パターンに共通して転写される
ように設定される。非共通パターンＨＰ１、ＨＰ２は、
共通パターンＫＰと連続して、且つ共通パターンＫＰを
挟んで形成されるように設定される。そして、各分割パ
ターンを露光する際には、共通パターンＫＰと、非共通
パターンＨＰ１、ＨＰ２の少なくとも一部とを選択する
ように設定される。

【００４５】上記の構成の露光装置およびマスクを用い
て、ガラス基板Ｐに回路パターン１を転写する手順を以
下に説明する。ここでは、分割パターンＡ１〜Ａ４、Ｂ
１〜Ｂ４を順次転写するものとして説明する。なお、露
光データ設定部２１には、予め分割パターンＡ１〜Ａ
４、Ｂ１〜Ｂ４がそれぞれ分割されて露光される分割領
域の基準座標位置、大きさ等の露光領域データと、各分
割領域において重ね合わせ露光を行う辺が指定されたデ
ータとが入力されている。

【００４６】まず、レチクルＡが、不図示のレチクル交
換装置によってレチクルステージ１０にアライメントさ
れてセットされると、駆動制御装置１１が露光データ設
定部２１のデータを読み込み、駆動機構２０を介してレ
チクルブラインド１７のブラインド板１７ａ、１７ｂを
駆動させる。これにより、レチクルＡには、レチクルブ
ラインド１７の開口Ｓに対応して、図５（ａ）に示すよ
うに、第１パターンとしての分割パターンＡ１に対応す
る矩形状の照明領域（第１照明領域）ＳＡ１が設定され
る。この分割パターンＡ１は、共通パターンＫＰと非共
通パターンＨＰ１と非共通パターンＨＰ２の一部分とか
ら構成される。

【００４７】ここで、レチクルＡの分割ラインＶ１４
は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＶ１に仮想設定さ
れる。同時に分割ラインＨ１１は、ガラス基板Ｐにおけ
る分割ラインＨ１に仮想設定される。

【００４８】このとき、照明領域ＳＡ１の右辺（＋Ｘ側
の辺）は、つなぎ合わせ露光の際の重複させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＶ１４に対して−Ｘ側
にオフセットして設定される。同様に、照明領域ＳＡ１
の下辺（−Ｙ側の辺）は、重複露光させる幅に対応し
て、仮想設定された分割ラインＨ１１に対して＋Ｙ側に
オフセットして設定される。また、照明領域ＳＡ１の左
辺（−Ｘ側の辺）および上辺（＋Ｙ側の辺）は、遮光帯
２３が重複露光させる幅以上の幅をもって露出するよう
に設定される。

【００４９】一方、駆動制御装置１１は、レチクルブラ
インド１７を駆動させると同時に、駆動機構２２を介し
て基板ステージ９を駆動させる。これにより、基板ステ
ージ９は、レチクルブラインド１７で設定された照明領
域ＳＡ１に対応する位置にガラス基板Ｐがセットされる
ように移動する。この基板ステージ９の移動の際には、
不図示のレーザ干渉計が、基板ステージ９上の移動鏡９
ａに向けてレーザ光１９を射出し、その反射光と入射光
との干渉に基づいて距離を測定し、基板ステージ９（す
なわち、ガラス基板Ｐ）の位置を正確に検出する。

【００５０】レチクルブラインド１７および基板ステー
ジ９が所定位置にセットされると、図３に示すように、
露光装置５では、水銀ランプ６からの照明光であるビー
ムＢが楕円鏡６ａで集光され、シャッタ１２の開動作に
応答して反射ミラー１３から波長選択フィルタ１５に入
射する。波長選択フィルタ１５で露光に必要な波長のみ
が通過したビームＢは、フライアイインテグレータ１６
で均一な照度分布に調整された後、レチクルブラインド
１７に到達する。

【００５１】レチクルブラインド１７の開口Ｓを通過し
たビームＢは、反射ミラー１４で反射され、コンデンサ
レンズ１８に入射する。このコンデンサレンズ１８によ
りレチクルブラインド１７の開口Ｓの像がレチクルＡに
結像し、開口Ｓに対応するレチクルＡの照明領域ＳＡ１
が照明される。レチクルＡの照明領域ＳＡ１に存在する
パターンの像は、投影光学系８によりガラス基板Ｐ上の
露光領域に結像する。これにより、照明領域ＳＡ１に対
応するガラス基板Ｐ上の露光領域に分割パターンＡ１が
転写される。

【００５２】この露光中に、駆動制御装置１１の指示に
基づき、レチクルブラインド１７のブラインド板１７
ａ、１７ｂが移動することで、図５（ｂ）に示すよう
に、照明領域ＳＡ１は、右辺が分割ライン１４を越える
ように＋Ｘ方向側へ、且つ下辺が分割ラインＨ１１を越
えるように−Ｙ方向側へ（すなわち、図５中、左上から
右下へ）それぞれ所定の速度で重複露光させる幅分移動
する。この右辺および下辺の移動によって、ガラス基板
Ｐ上の露光領域では、露光される露光エネルギ量が一定
の比率で漸次減少した状態で露光される。

【００５３】続いて、第２パターンとして分割パターン
Ａ２を露光する。分割パターンＡ２は、共通パターンＫ
Ｐと非共通パターンＨＰ１の一部とから構成される。上
記と同様に、駆動制御装置１１の制御により、レチクル
ブラインド１７のブラインド板１７ａ、１７ｂおよび基
板ステージ９が移動する。これにより、レチクルＡに
は、レチクルブラインド１７の開口Ｓに対応して、図６
（ａ）に示すように、第２パターンとしての分割パター
ンＡ２に対応する矩形状の照明領域（第２照明領域）Ｓ
Ａ２が設定される。また、基板ステージ９は、レチクル
ブラインド１７で設定された照明領域ＳＡ２に対応する
位置にガラス基板Ｐがセットされるように移動する。

【００５４】ここで、レチクルＡの分割ラインＶ１３
は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＶ２に仮想設定さ
れる。また、レチクルＡの分割ラインＶ１１は、ガラス
基板Ｐにおける分割ラインＶ１に仮想設定される。同時
に分割ラインＨ１１は、ガラス基板Ｐにおける分割ライ
ンＨ１に仮想設定される。

【００５５】このとき、照明領域ＳＡ２の右辺は、重複
露光させる幅に対応して、仮想設定された分割ラインＶ
１３に対して−Ｘ側にオフセットして設定される。同様
に、照明領域ＳＡ２の下辺は、重複露光させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＨ１１に対して＋Ｙ側
にオフセットして設定される。また、左辺は、図５
（ａ）に示す露光前の照明領域ＳＡ１で設定された右辺
の位置と合致するように、分割ラインＶ１１を越えて設
定される。なお、照明領域ＳＡ２の上辺は、上記と同様
に、遮光帯２３が重複露光させる幅以上の幅をもって露
出するように設定される。

【００５６】この照明領域ＳＡ２の設定により、図１
（ａ）に示すように、レチクルＡの回路パターン１ａの
内、分割ラインＶ１１、Ｖ１３間のパターンが第１、第
２パターンである分割パターンＡ１、Ａ２の共通パター
ンＫＰとして設定される。また、分割ラインＶ１１より
も−Ｘ側のパターンおよび分割ラインＶ１３、Ｖ１４間
のパターンが、共通パターンＫＰを挟むように非共通パ
ターンＨＰ、ＨＰとして選択されることになる。

【００５７】そして、上記と同様に露光処理が行われる
と、レチクルブラインド１７の開口Ｓに対応するレチク
ルＡの照明領域ＳＡ２が照明される。レチクルＡの照明
領域ＳＡ２に存在するパターンの像は、投影光学系８に
よりガラス基板Ｐ上に結像する。これにより、照明領域
ＳＡ２に対応するガラス基板Ｐ上の露光領域に分割パタ
ーンＡ２が転写される。ここでも、露光処理の際、駆動
制御装置１１の指示に基づき、レチクルブラインド１７
のブラインド板１７ａ、１７ｂが移動することで、図６
（ｂ）に示すように、照明領域ＳＡ２は、右辺が＋Ｘ方
向側へ、且つ下辺が−Ｙ方向側へ（すなわち、図６中、
左上から右下へ）それぞれ所定の速度で重複露光させる
幅分移動する。この結果、隣接する分割パターンＡ１、
Ａ２間がつなぎ合わせ露光される。

【００５８】この後、上記と同様の手順により、図７
（ａ）、（ｂ）に示すように設定された分割パターンＡ
３および図８（ａ）、（ｂ）に示すように設定された分
割パターンＡ４を、各分割パターンＡ３、Ａ４に対応す
る照明領域ＳＡ３、ＳＡ４を＋Ｙ、−Ｘ側から−Ｙ、＋
Ｘ側へ（すなわち、図７、図８中、左上から右下へ）移
動させることで、各照明領域ＳＡ３、ＳＡ４に対応する
ガラス基板Ｐ上の露光領域に、隣接する分割パターン間
がつなぎ合わせ露光されるように順次転写する。

【００５９】そして、分割パターンＡ１〜Ａ４までの転
写が完了すると、レチクル交換装置によりレチクルステ
ージ１０上のレチクルＡを、図１（ｂ）に示すレチクル
Ｂと交換する。このレチクルＢは、レチクルＡとＹ方向
に対称に形成されたものである。レチクルＢに対しても
レチクルＡと同様の手順により、分割パターンＢ１〜Ｂ
４をつなぎ合わせ露光しながら順次転写することで、ガ
ラス基板Ｐに回路パターン１が転写される。

【００６０】具体的には、まず、レチクルＢには、レチ
クルブラインド１７のブラインド板１７ａ、１７ｂの開
口Ｓに対応して、図９（ａ）に示すように、分割パター
ンＢ１に対応する矩形状の照明領域ＳＢ１が設定され
る。この分割パターンＢ１は、共通パターンＫＰと非共
通パターンＨＰ１と非共通パターンＨＰ２の一部分とか
ら構成される。ここで、レチクルＢの分割ラインＶ１８
は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＶ１に仮想設定さ
れる。同時に分割ラインＨ１２は、ガラス基板Ｐにおけ
る分割ラインＨ１に仮想設定される。

【００６１】このとき、照明領域ＳＢ１の右辺（＋Ｘ側
の辺）は、つなぎ合わせ露光の際の重複させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＶ１８に対して−Ｘ側
にオフセットして設定される。同様に、照明領域ＳＢ１
の上辺（＋Ｙ側の辺）は、重複露光させる幅に対応し
て、仮想設定された分割ラインＨ１２に対して＋Ｙ側に
オフセットして設定される。また、照明領域ＳＢ１の左
辺（−Ｘ側の辺）および下辺（−Ｙ側の辺）は、遮光帯
２３が重複露光させる幅以上の幅をもって露出するよう
に設定される。

【００６２】そして、ガラス基板Ｐが照明領域ＳＢ１に
対応する位置に基板ステージ９を移動させた後に、上記
と同様に露光処理が行われると照明領域ＳＢ１が照明さ
れる。レチクルＢの照明領域ＳＢ１に存在するパターン
の像は、投影光学系８によりガラス基板Ｐ上に結像す
る。これにより、照明領域ＳＢ１に対応するガラス基板
Ｐ上の露光領域に分割パターンＢ１が転写される。ここ
でも、露光処理の際、駆動制御装置１１の指示に基づ
き、レチクルブラインド１７のブラインド板１７ａ、１
７ｂが移動することで、図９（ｂ）に示すように、照明
領域ＳＢ１は、右辺が＋Ｘ方向側へ、且つ下辺が−Ｙ方
向側へ（すなわち、図９中、左上から右下へ）それぞれ
所定の速度で重複露光させる幅分移動する。この結果、
隣接する分割パターンＡ１、Ｂ１間がつなぎ合わせ露光
される。

【００６３】この後、上記と同様の手順により、図１０
（ａ）、（ｂ）に示すように設定された分割パターンＢ
２、図１１（ａ）、（ｂ）に示すように設定された分割
パターンＢ３、および図１２（ａ）、（ｂ）に示すよう
に設定された分割パターンＢ４を、各分割パターンＢ２
〜Ｂ４に対応する照明領域ＳＢ２〜ＳＢ４を＋Ｙ、−Ｘ
側から−Ｙ、＋Ｘ側へ（すなわち、図１０〜図１２中、
左上から右下へ）移動させることで、各照明領域ＳＢ２
〜ＳＢ４に対応するガラス基板Ｐ上の露光領域に、隣接
する分割パターン間がつなぎ合わせ露光されるように順
次転写する。

【００６４】ここで、露光領域が一辺のみで重複するの
ではなく、例えば、分割パターンＡ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ
２のように、それぞれ二辺以上で重複するように矩形に
配列された場合、図２に示すように、これら四つの露光
領域の交叉部Ｋ１は上記露光方法では照明領域の移動方
向によって三つ以上の露光領域により重複露光される。
上記のように照明領域を＋Ｙ、−Ｘ側から−Ｙ、＋Ｘ側
へ（すなわち、図２中、左上から右下へ）移動させた場
合の交叉部Ｋ１に露光されるエネルギ量について、図１
３から図１８を用いて説明する。

【００６５】図１３に示すように、各照明領域ＳＡ１〜
ＳＡ２、ＳＢ１〜ＳＢ２が直線Ｌ１とＬ２との間、およ
び直線Ｌ３とＬ４との間でそれぞれ移動した場合、交叉
部Ｋ１は直線Ｌ１〜Ｌ４で囲まれた矩形領域になる。ま
た、直線Ｌ１とＬ３との交点をＰ１、直線Ｌ２とＬ４と
の交点をＰ２、直線Ｌ２とＬ３との交点をＰ３、直線Ｌ
１とＬ４との交点をＰ４とすると、分割パターンＡ１を
露光する際に照明領域ＳＡ１の端点は交点Ｐ１から交点
Ｐ２に、矩形配列された露光領域の対角方向へ移動す
る。このとき、一回の露光において重複していない領域
に照射される露光量を１００％とすると、図１４に示す
ように、交叉部Ｋ１は交点Ｐ１が１００％の露光量とな
り、交点Ｐ２〜Ｐ４が０％の露光量となる四角錐状の露
光量分布を示す。

【００６６】また、分割パターンＡ２を露光する際に照
明領域ＳＡ２の端点は、交点Ｐ１から交点Ｐ２に対角方
向へ移動するが、交点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ４で囲まれた三角
形状の領域は露光されない。そのため、交叉部Ｋ１は、
図１５に示すように、交点Ｐ３が１００％の露光量とな
り、交点Ｐ１、Ｐ２が０％の露光量となる三角錐状の露
光量分布を示す。同様に、分割パターンＢ１を露光する
際に照明領域ＳＢ１の端点は交点Ｐ１から交点Ｐ２に対
角方向へ移動するが、交点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３で囲まれた
三角形状の領域は露光されない。そのため、交叉部Ｋ１
は図１６に示すように、交点Ｐ４が１００％の露光量と
なり、交点Ｐ１、Ｐ２が０％の露光量となる三角錐状の
露光量分布を示す。さらに、分割パターンＢ２を露光す
る際にも照明領域ＳＢ２の端点は交点Ｐ１から交点Ｐ２
に対角方向へ移動し、図１７に示すように、交叉部Ｋ１
は交点Ｐ２が１００％の露光量となり、交点Ｐ１、Ｐ
３、Ｐ４が０％の露光量となる四角錐状の露光量分布を
示す。

【００６７】そして、上記四回の露光により、交叉部Ｋ
１に照射される露光量は、図１８に示すように、全領域
が１００％になり、他の露光領域と同一になる。他の交
叉部も交叉部Ｋ１と同様に照明領域を移動させているた
め、各交叉部においても１００％の露光量で露光される
ことになる。

【００６８】なお、交叉部における露光量を１００％に
するためには、照明領域の端点を必ずしも交点Ｐ１から
交点Ｐ２に移動させる必要はなく、交叉部Ｋ１が二つの
四角錐状の露光量分布と二つの三角錐状の露光量分布を
示すように四回露光すればよい。換言すれば、それぞれ
二辺が重複するように矩形配列された四つの露光領域の
うち、一辺が重複する露光領域同士（隣接する露光領域
同士）で対を複数（本形態では二対）構成し、各対にお
いて各露光領域に対応する照明領域をそれぞれ同一方向
に沿って移動させれば、各対において交叉部Ｋ１は四角
錐状と三角錐状の露光量分布で露光されるため、二対合
わせた露光量分布が二つの四角錐状と二つの三角錐状に
なり、１００％の露光量で露光される。

【００６９】そのため、上記対角方向であれば対毎に照
明領域の移動方向が異なっていてもよく、例えば、分割
パターンＡ１、Ａ２に対応する露光領域で対を構成し、
分割パターンＢ１、Ｂ２に対応する露光領域で対を構成
した場合、分割パターンＡ１、Ａ２に対応する照明領域
ＳＡ１、ＳＡ２の端点をそれぞれ交点Ｐ１から交点Ｐ２
に移動させ、分割パターンＢ１、Ｂ２に対応する照明領
域ＳＢ１、ＳＢ２の端点をそれぞれ交点Ｐ３から交点Ｐ
４に向かう対角方向に移動させてもよい。

【００７０】この場合、各対においては、各対角方向に
沿っていれば全く同一方向に移動する必要はなく、例え
ば照明領域ＳＡ１の端点を交点Ｐ１から交点Ｐ２に移動
させ、照明領域ＳＡ２の端点を交点Ｐ２から交点Ｐ１に
移動させてもよい。同様に、照明領域ＳＢ１の端点を交
点Ｐ３から交点Ｐ４に移動させ、照明領域ＳＢ２の端点
を交点Ｐ４から交点Ｐ３に移動させてもよい。また、対
の構成も上記に限られず、一辺が重複する露光領域であ
れば、分割パターンＡ１、Ｂ１に対応する露光領域で対
を構成し、分割パターンＡ２、Ｂ２に対応する露光領域
で対を構成してもよい。

【００７１】上記のつなぎ合わせ露光は、遮光部２４お
よび透過部２５を有するブラインド板１７ａ、１７ｂに
より照明領域を移動させる構成としたが、以下に、図４
（ｂ）に示すレチクルブラインド１７を用いてつなぎ合
わせ露光する方法を説明する。この図に示すように、レ
チクルブラインド１７は、レチクルＲの共役面を挟んで
配置された矩形のガラス材で形成されたブラインド板１
７ｃ、１７ｄとから構成されている。各ブラインド板１
７ｃ、１７ｄには、遮光部２４と透過部２５とこれらの
間に設けられた減光部２６とが設けられている。

【００７２】減光部２６には、クロムが露光装置５の解
像限界以下の大きさのドット状で蒸着されている。そし
て、このドット状のクロム膜の密度は、透過部２５から
遮光部２４へ向かうにしたがって漸次大きくなるように
設定されることにより、ビームＢの透過率が漸次低くな
る（変化する）構成になっている。また、減光部２６の
幅は、Ｙ方向で隣接する露光領域の重複長さ、すなわち
直線Ｌ３とＬ４との間の距離と同一に設定される。この
減光部２６は、ブラインド板１７ｃでは透過部２５の上
辺に設けられ、ブラインド板１７ｄでは透過部２５の下
辺に設けられている。そして、レチクルブラインド１７
は、ブラインド板１７ｃ、１７ｄが移動して各透過部２
５が組み合わされることで透過部２５が重なった範囲に
より開口Ｓが形成されるとともに、開口Ｓで設定される
照明領域のうち、減光部２６に対応する辺に減光領域を
形成するようになっている。

【００７３】このブラインド板１７ｃ、１７ｄを用いて
露光する際には、まず、レチクルＡにおいて、レチクル
ブラインド１７の開口Ｓに対応して、図２０（ａ）に示
すように、分割パターンＡ１に対応する矩形状の照明領
域（第１照明領域）ＳＡ１が設定される。この分割パタ
ーンＡ１は、共通パターンＫＰと非共通パターンＨＰ１
と非共通パターンＨＰ２の一部分とから構成される。こ
こで、レチクルＡの分割ラインＶ１４は、ガラス基板Ｐ
における分割ラインＶ１に仮想設定される。同時に分割
ラインＨ１１は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＨ１
に仮想設定される。

【００７４】このとき、照明領域ＳＡ１の右辺（＋Ｘ側
の辺）は、つなぎ合わせ露光の際の重複させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＶ１４に対して−Ｘ側
にオフセットして、ガラス基板Ｐにおける直線Ｌ１と一
致するように設定される。同様に、照明領域ＳＡ１の下
辺（−Ｙ側の辺）は、重複露光させる幅に対応して、仮
想設定された分割ラインＨ１１に対して−Ｙ側にオフセ
ットして直線Ｌ４に一致するように設定される。このと
き、ブラインド板１７ｄの減光部２６は、照明領域ＳＡ
１の下辺側のうち、ガラス基板Ｐにおいて直線Ｌ３、Ｌ
１、Ｌ４で囲まれた露光領域に対応する照明領域を減光
領域として設定する。また、照明領域ＳＡ１の左辺（−
Ｘ側の辺）は、遮光帯２３が重複露光させる幅以上の幅
をもって露出するように設定される。

【００７５】そして、ガラス基板Ｐが照明領域ＳＡ１に
対応する位置に基板ステージ９を移動させた後に、上記
と同様に露光処理が行われると照明領域ＳＡ１が照明さ
れる。レチクルＡの照明領域ＳＡ１に存在するパターン
の像は、投影光学系８によりガラス基板Ｐ上に結像す
る。これにより、照明領域ＳＡ１に対応するガラス基板
Ｐ上の露光領域に分割パターンＡ１が転写される。この
露光処理の際、駆動制御装置１１の指示に基づき、レチ
クルブラインド１７のブラインド板１７ｃ、１７ｄが移
動することで、図２０（ｂ）に示すように、照明領域Ｓ
Ａ１は、右辺がガラス基板Ｐにおける直線Ｌ２に一致す
るように、減光部２６の長さ方向に沿って＋Ｘ方向側へ
（すなわち、図２０中、左から右へ）所定の速度で移動
する。

【００７６】続いて、第２パターンとして分割パターン
Ａ２を露光する。分割パターンＡ２は、共通パターンＫ
Ｐと非共通パターンＨＰ１の一部とから構成される。上
記と同様に、駆動制御装置１１の制御により、レチクル
ブラインド１７のブラインド板１７ｃ、１７ｄおよび基
板ステージ９が移動する。これにより、レチクルＡに
は、レチクルブラインド１７の開口Ｓに対応して、図２
１（ａ）に示すように、第２パターンとしての分割パタ
ーンＡ２に対応する矩形状の照明領域（第２照明領域）
ＳＡ２が設定される。また、基板ステージ９は、レチク
ルブラインド１７で設定された照明領域ＳＡ２に対応す
る位置にガラス基板Ｐがセットされるように移動する。
ここで、レチクルＡの分割ラインＶ１３は、ガラス基板
Ｐにおける分割ラインＶ２に仮想設定される。また、レ
チクルＡの分割ラインＶ１１は、ガラス基板Ｐにおける
分割ラインＶ１に仮想設定される。同時に分割ラインＨ
１１は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＨ１に仮想設
定される。

【００７７】このとき、照明領域ＳＡ２の右辺は、重複
露光させる幅に対応して、仮想設定された分割ラインＶ
１３に対して−Ｘ側にオフセットして設定される。同様
に、照明領域ＳＡ２の下辺は、重複露光させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＨ１１に対して−Ｙ側
にオフセットして、ガラス基板Ｐにおける直線Ｌ４に一
致するように設定される。また、左辺は、図２０（ａ）
に示す露光前の照明領域ＳＡ１で設定された右辺の位置
（すなわち、ガラス基板Ｐにおける直線Ｌ１）と一致す
るように、分割ラインＶ１１を越えて設定される。この
とき、ブラインド板１７ｄの減光部２６は、照明領域Ｓ
Ａ２下辺側のうち、ガラス基板Ｐにおいて直線Ｌ３、Ｌ
１、Ｌ４で囲まれた露光領域に対応する照明領域を減光
領域として設定する。なお、照明領域ＳＡ２の上辺は、
上記と同様に、遮光帯２３が露出するように設定され
る。

【００７８】そして、上記と同様に露光処理が行われる
と照明領域ＳＡ２が照明され、レチクルＡの照明領域Ｓ
Ａ２に存在するパターンの像は、投影光学系８によりガ
ラス基板Ｐ上に結像する。これにより、照明領域ＳＡ２
に対応するガラス基板Ｐ上の露光領域に分割パターンＡ
２が転写される。この露光処理の際、駆動制御装置１１
の指示に基づき、レチクルブラインド１７のブラインド
板１７ｃ、１７ｄが移動することで、図２１（ｂ）に示
すように、照明領域ＳＡ２は、左辺がガラス基板Ｐにお
ける直線Ｌ２に一致するように、減光部２６の長さ方向
に沿って＋Ｘ方向側へ（すなわち、図２１中、左から右
へ）所定の速度で移動する。この後、分割パターンＡ
１、Ａ２と同様の手順により分割パターンＡ３、Ａ４
を、各照明領域を＋Ｘ方向側へ移動させながら順次ガラ
ス基板Ｐ上に転写する。

【００７９】次に、レチクルＡをレチクルＢに交換し、
レチクルＢにレチクルブラインド１７の開口Ｓに対応し
て、図２２（ａ）に示すように、分割パターンＢ１に対
応する矩形状の照明領域ＳＢ１を設定する。この分割パ
ターンＢ１は、共通パターンＫＰと非共通パターンＨＰ
１と非共通パターンＨＰ２の一部分とから構成される。
ここで、レチクルＢの分割ラインＶ１８は、ガラス基板
Ｐにおける分割ラインＶ１に仮想設定される。同時に分
割ラインＨ１２は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＨ
１に仮想設定される。このとき、照明領域ＳＢ１の右辺
（＋Ｘ側の辺）は、つなぎ合わせ露光の際の重複させる
幅に対応して、仮想設定された分割ラインＶ１８に対し
て−Ｘ側にオフセットして、ガラス基板Ｐにおける直線
Ｌ１と合致するように設定される。同様に、照明領域Ｓ
Ｂ１の上辺（＋Ｙ側の辺）は、重複露光させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＨ１２に対して＋Ｙ側
にオフセットして直線Ｌ３に一致するように設定され
る。このとき、ブラインド板１７ｃの減光部２６は、照
明領域ＳＢ１の上辺側のうち、ガラス基板Ｐにおいて直
線Ｌ３、Ｌ１、Ｌ４で囲まれた露光領域に対応する照明
領域を減光領域として設定する。また、照明領域ＳＢ１
の左辺（−Ｘ側の辺）は、遮光帯２３が重複露光させる
幅以上の幅をもって露出するように設定される。

【００８０】そして、ガラス基板Ｐが照明領域ＳＢ１に
対応する位置に基板ステージ９を移動させた後に、上記
と同様に露光処理が行われると照明領域ＳＢ１が照明さ
れる。レチクルＢの照明領域ＳＢ１に存在するパターン
の像は、投影光学系８によりガラス基板Ｐ上に結像す
る。これにより、照明領域ＳＢ１に対応するガラス基板
Ｐ上の露光領域に分割パターンＢ１が転写される。この
露光処理の際、駆動制御装置１１の指示に基づき、レチ
クルブラインド１７のブラインド板１７ｃ、１７ｄが移
動することで、図２２（ｂ）に示すように、照明領域Ｓ
Ｂ１は、右辺がガラス基板Ｐにおける直線Ｌ２に一致す
るように、減光部２６の長さ方向に沿って＋Ｘ方向側へ
（すなわち、図２２中、左から右へ）所定の速度で移動
する。

【００８１】続いて、上記と同様に、駆動制御装置１１
の制御により、レチクルブラインド１７のブラインド板
１７ｃ、１７ｄおよび基板ステージ９が移動する。これ
により、レチクルＢには、レチクルブラインド１７の開
口Ｓに対応して、図２３（ａ）に示すように、分割パタ
ーンＢ２に対応する矩形状の照明領域ＳＢ２が設定され
る。また、基板ステージ９は、レチクルブラインド１７
で設定された照明領域ＳＢ２に対応する位置にガラス基
板Ｐがセットされるように移動する。ここで、レチクル
Ｂの分割ラインＶ１７は、ガラス基板Ｐにおける分割ラ
インＶ２に仮想設定される。また、レチクルＢの分割ラ
インＶ１５は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＶ１に
仮想設定される。同時に分割ラインＨ１２は、ガラス基
板Ｐにおける分割ラインＨ１に仮想設定される。

【００８２】このとき、照明領域ＳＢ２の右辺は、重複
露光させる幅に対応して、仮想設定された分割ラインＶ
１７に対して−Ｘ側にオフセットして設定される。同様
に、照明領域ＳＢ２の上辺は、重複露光させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＨ１２に対して＋Ｙ側
にオフセットして、ガラス基板Ｐにおける直線Ｌ３に一
致するように設定される。また、左辺は、図２２（ａ）
に示す露光前の照明領域ＳＢ１で設定された右辺の位置
（すなわち、ガラス基板Ｐにおける直線Ｌ１）と一致す
るように、分割ラインＶ１５を越えて設定される。この
とき、ブラインド板１７ｃの減光部２６は、照明領域Ｓ
Ｂ２の上辺側うち、ガラス基板Ｐにおいて直線Ｌ３、Ｌ
１、Ｌ４で囲まれた露光領域に対応する照明領域を減光
領域として設定する。なお、照明領域ＳＢ２の下辺は、
上記と同様に、遮光帯２３が露出するように設定され
る。

【００８３】そして、上記と同様に露光処理が行われる
と照明領域ＳＢ２に対応するガラス基板Ｐ上の露光領域
に分割パターンＢ２が転写される。この露光処理の際、
駆動制御装置１１の指示に基づき、レチクルブラインド
１７のブラインド板１７ｃ、１７ｄが移動することで、
図２３（ｂ）に示すように、照明領域ＳＢ２は、左辺が
ガラス基板Ｐにおける直線Ｌ２に一致するように、減光
部２６の長さ方向に沿って＋Ｘ方向側へ（すなわち、図
２３中、左から右へ）所定の速度で移動する。この後、
分割パターンＢ１、Ｂ２と同様の手順により分割パター
ンＢ３、Ｂ４を、各照明領域を＋Ｘ方向側へ移動させな
がら順次ガラス基板Ｐ上に転写する。

【００８４】ここで、ガラス基板Ｐの露光領域のうち、
分割パターンＡ１〜Ａ２、Ｂ１〜Ｂ２が矩形配列された
露光領域に着目すると、分割パターンＡ１、Ａ２を転写
する際に重複する直線Ｌ３より＋Ｙ側の露光領域では、
分割パターンＡ１を転写する際に直線Ｌ１から直線Ｌ２
へ向かうにしたがって、１００％から０％に漸次減少す
る露光量で露光され、分割パターンＡ２を転写する際に
直線Ｌ１から直線Ｌ２へ向かうにしたがって、０％から
１００％に漸次増加する露光量で露光される。そのた
め、これらが重複する露光領域では重複露光されること
により、重複しない露光領域と同様に１００％の露光量
で露光される。これは、分割パターンＢ１、Ｂ２を転写
する際に重複する直線Ｌ４より−Ｙ側も同様である。

【００８５】また、分割パターンＡ１、Ｂ１を転写する
際に重複する直線Ｌ１より−Ｘ側の露光領域では、分割
パターンＡ１を転写する際に直線Ｌ３から直線Ｌ４へ向
かうにしたがって、１００％から０％に漸次減少する露
光量で露光され、分割パターンＢ１を転写する際に直線
Ｌ３から直線Ｌ４へ向かうにしたがって、０％から１０
０％に漸次増加する露光量で露光される。そのため、こ
れらが重複する露光領域では重複露光されることによ
り、重複しない露光領域と同様に１００％の露光量で露
光される。これは、分割パターンＡ２、Ｂ２を転写する
際に重複する直線Ｌ２より＋Ｘ側も同様である。

【００８６】一方、図１９に示すように、これら分割パ
ターンＡ１〜Ａ２、Ｂ１〜Ｂ２が転写される露光領域の
交叉部Ｋ１、すなわち直線Ｌ１〜Ｌ４で囲まれた矩形領
域では、上記と同様に直線Ｌ１とＬ３との交点をＰ１、
直線Ｌ２とＬ４との交点をＰ２、直線Ｌ２とＬ３との交
点をＰ３、直線Ｌ１とＬ４との交点をＰ４とし、直線Ｌ
１とＬ２との距離をＳ、直線Ｌ３とＬ４との距離をＴと
し、交点Ｐ４を原点とするｘｙ座標系を設定すると、分
割パターンＡ１の転写時の露光量Ｄ１（％）は次式で求
められる。Ｄ１（％）＝（１００×ｙ／Ｔ）×（１−ｘ／Ｓ） ……（１）また、分割パターンＡ２の転写時の露光量Ｄ２（％）は
次式で求められる。Ｄ２（％）＝（１００×ｙ／Ｔ）×（ｘ／Ｓ） ……（２）さらに、分割パターンＢ１の転写時の露光量Ｄ３（％）
は次式で求められる。Ｄ３（％）＝１００×（１−ｙ／Ｔ）×（１−ｘ／Ｓ） ……（３）また、分割パターンＢ２の転写時の露光量Ｄ４（％）は
次式で求められる。Ｄ４（％）＝１００×（１−ｙ／Ｔ）×（ｘ／Ｓ） ……（４）そして、交叉部Ｋ１における露光量Ｄは、上記式（１）
〜（４）で求められる露光量Ｄ１〜Ｄ４の総和になる。Ｄ（％）＝Ｄ１＋Ｄ２＋Ｄ３＋Ｄ４＝１００このように、交叉部Ｋ１においても露光量が１００％に
なり、ガラス基板Ｐを同様の手順で露光することによ
り、ガラス基板Ｐの露光領域全面を一様の露光量に設定
することができる。なお、減光部２６を有するレチクル
ブラインド１７を用いる場合、減光部２６を開口Ｓの上
辺および下辺ではなく、左辺および右辺に設け、図２に
示すガラス基板ＰにおいてＹ方向に延在する重複露光領
域を減光部２６により形成される減光領域で設定し、照
明領域をＹ方向に移動させるようにしてもよい。

【００８７】本実施の形態の露光方法および露光装置並
びにマスクでは、レチクルＡに形成された回路パターン
１ａが、露光時に、複数の分割パターンＡ１、Ａ２で共
通して用いられる共通パターンＫＰと、この共通パター
ンＫＰとは異なる非共通パターンＨＰとに分けられるの
で、露光毎に照明領域を調節することで複数の分割パタ
ーンに応じて、非共通パターンＨＰの選択を異ならせる
ことで第１、第２パターンを種々任意に選択して設定す
ることができ、一枚のレチクルＡで複数の分割領域Ａ１
〜Ａ４に転写することができるようになる。従来、つな
ぎ合わせ露光を行うパターンを一枚のレチクルに入れる
際は、遮光帯（例えば、１．５ｍｍ）を設けて個々のパ
ターンを独立に分離する必要があった。これに対して、
本実施の形態のように、隣接するパターンの一部を重複
して露光する場合は、遮光帯を設けることなく一枚のレ
チクル内のパターンを切り出すことができる。すなわ
ち、一枚のレチクル内の共通部分、非共通部分を目的の
パターンに合わせて繰り返し使用することができる。し
たがって、特に、液晶表示デバイスや半導体メモリのよ
うに同じパターンを繰り返し転写する場合は、この繰り
返しパターンを共通パターンとすることで上記効果が顕
著になる。

【００８８】１５インチの液晶ディスプレイデバイス用
ガラス基板Ｐを得るためには、図３８に示した従来の分
割パターンＡ〜Ｆおよび図３９に示した従来のマスクＲ
Ａ〜ＲＦに比較して、本実施の形態では、分割数が６か
ら８へ増えて露光時間が増加するものの、使用するレチ
クルが６枚から２枚に減少するので、レチクル交換に要
する時間を短縮することができ、結果的に、処理時間を
短縮することができ、スループットを向上させることが
できる。加えて、高価なレチクルの使用枚数を減少させ
ることもできるのでコストダウンも実現する。

【００８９】また、本実施の形態では、非共通パターン
ＨＰが共通パターンＫＰを挟んで形成されているので、
レチクルブラインド１７を移動させて所定の照明領域を
設定する際にも、レチクルブラインド１７を移動させる
距離を短くすることができ、照明領域設定に要する時間
が短くなり、一層のスループット向上を実現することが
できる。

【００９０】さらに、本実施の形態では、上記複数の分
割パターンをガラス基板Ｐに露光する際に、駆動制御装
置１１が隣接する分割パターン間でつなぎ合わせ露光す
るようにレチクルブラインド１７および基板ステージ９
を駆動させるので、回路パターン１が分割された場合で
も、パターンのつなぎ目に段差が発生してデバイスの特
性が損なわれたり、つなぎ目が不連続に変化して、デバ
イスの品質が低下することも防止できる。

【００９１】一方、本実施の形態では、レチクルブライ
ンド１７が遮光部２４、透過部２５を有するブラインド
板１７ａ、１７ｂから構成されるときには、矩形配列さ
れた露光領域を辺が重複する露光領域同士で対を構成
し、各対において露光領域に対応する照明領域を対角方
向の同一方向に沿ってそれぞれ移動させることで露光領
域が交叉する領域においてもオーバー露光されることな
く、他の露光領域と同じ露光量で露光することができ
る。

【００９２】また、レチクルブラインド１７が遮光部２
４、透過部２５および減光部２６を有するブラインド板
１７ｃ、１７ｄから構成されるときには、矩形配列され
た露光領域に対応する照明領域を、減光部２６の長さ方
向に沿ってそれぞれ移動させることで露光領域が交叉す
る領域においてもオーバー露光されることなく、他の露
光領域と同じ露光量で露光することができる。また、こ
の場合、ブラインド板１７ｃ、１７ｄの移動が一方向で
あるので、ブラインド板１７ｃ、１７ｄを駆動させる駆
動機構２０を簡単なものにできる。

【００９３】図２４ないし図３７は、本発明の露光方法
および露光装置並びにマスクの第２の実施の形態を示す
図である。これらの図において、図１ないし図２３に示
す第１の実施の形態の構成要素と同一の要素については
同一符号を付し、その説明を省略する。第２の実施の形
態と上記の第１の実施の形態とが異なる点は、ガラス基
板Ｐに転写される回路パターンである。

【００９４】すなわち、図２４に示すガラス基板Ｐは、
上記２１インチの液晶ディスプレイデバイスを製造する
ためのものである。ガラス基板Ｐに転写される回路パタ
ーン４の内、周辺部３は、表示部２のＸ方向両端に一つ
ずつ配置された台形のタブＸ１、Ｘ２と、表示部２のＹ
方向両端にそれぞれ等間隔で１０ヶ所ずつ配置された台
形のタブＹ１〜Ｙ１０、Ｙ１１〜Ｙ２０とから構成され
ている。

【００９５】そして、回路パターン４は、Ｘ方向に所定
間隔をあけてＹ方向に延在する分割ラインＶ１〜Ｖ３、
およびＹ方向に所定間隔をあけてＸ方向に延在する分割
ラインＨ１、Ｈ２によって分割された、分割パターンＡ
１〜Ａ２、Ｂ１〜Ｂ２およびＣ１〜Ｃ８によって合成さ
れる構成になっている。ここで、分割ラインＶ１はタブ
Ｙ３の右端近傍を通るように、分割ラインＶ３は、タブ
Ｙ８の左端近傍を通るようにそれぞれ設定されている。
また、分割ラインＶ２は、タブＹ５とタブＹ６との間を
通るように設定されている。

【００９６】そして、この回路パターン４を転写するた
めのレチクルＲは、図２５（ａ）〜（ｃ）に示すレチク
ルＡ、Ｂおよびレチクル（マスク）Ｃの三枚を使用する
構成になっている。レチクルＡは、分割パターンＡ１、
Ａ２を転写する際に用いられるものであって、その表面
には、表示部２ａ、周辺部３ａからなる回路パターン
（パターン）４ａと遮光帯２３とがガラス基板Ｐとの間
の所定の投影倍率をもって形成されている。

【００９７】周辺部３ａは、表示部２ａのＸ方向両端に
設けられたタブＸ１１、Ｘ１２と表示部２ａの＋Ｙ方向
端部に設けられた三つのタブＹ２１〜Ｙ２３とから構成
されている。タブＸ１１、Ｘ１２は、ガラス基板Ｐのタ
ブＸ１、Ｘ２が転写されるパターンのうち、分割ライン
Ｈ１よりも−Ｙ方向を若干含む範囲を有している。同様
に、タブＹ２１〜Ｙ２３は、ガラス基板ＰのタブＹ１〜
Ｙ１０に転写するパターンをそれぞれ有している。

【００９８】表示部２ａは、ガラス基板Ｐに転写される
表示部２のパターンを部分的に有するものである。表示
部２ａの幅は、Ｘ方向がタブＹ２１〜Ｙ２３の三つ分の
長さとされ、Ｙ方向が上記タブＸ１１、Ｘ１２と同様
に、表示部２ａが転写されるパターンのうち、分割ライ
ンＨ１よりも−Ｙ方向を若干含む程度に相当する長さを
有している。

【００９９】また、レチクルＡにおいては、図２５
（ａ）に示すように、タブＹ２１の左端近傍を通るよう
に分割ラインＶ１１が、また、タブＹ２３の右端近傍を
通るように分割ラインＶ１２がそれぞれＹ方向に延在す
るように仮想設定される。同様に、分割ラインＨ１に相
当する位置に、分割ラインＨ１１がＸ方向に延在するよ
うに仮想設定される。

【０１００】レチクルＢは、分割パターンＢ１、Ｂ２を
転写する際に用いられるものであり、レチクルＡと同様
の構成であるので簡単に説明すると、その表面には、表
示部２ａ、周辺部３ａからなる回路パターン４ａと遮光
帯２３とがガラス基板Ｐとの間の所定の投影倍率をもっ
て形成されている。

【０１０１】周辺部３ａは、表示部２ａのＸ方向両端に
設けられたタブＸ１１、Ｘ１２と表示部２ａの−Ｙ方向
端部に設けられた三つのタブＹ２４〜Ｙ２６とから構成
されている。タブＸ１１、Ｘ１２は、ガラス基板Ｐのタ
ブＸ１、Ｘ２が転写されるパターンのうち、分割ライン
Ｈ２よりも＋Ｙ方向を若干含む分割ラインＨ２よりも−
Ｙ方向の範囲を有している。同様に、タブＹ２４〜Ｙ２
６は、ガラス基板ＰのタブＹ１１〜Ｙ２０に転写するパ
ターンをそれぞれ有している。

【０１０２】表示部２ａは、ガラス基板Ｐに転写される
表示部２のパターンを部分的に有するものである。表示
部２ａの幅は、Ｘ方向がタブＹ２４〜Ｙ２６の三つ分の
長さとされ、Ｙ方向が上記タブＸ１１、Ｘ１２と同様
に、表示部２ａが転写されるパターンのうち、分割ライ
ンＨ２よりも＋Ｙ方向を若干含む分割ラインＨ２よりも
−Ｙ方向の長さを有している。

【０１０３】また、レチクルＢにおいては、図２５
（ｂ）に示すように、タブＹ２４の左端近傍を通るよう
に分割ラインＶ１３が、また、タブＹ２６の右端近傍を
通るように分割ラインＶ１４がそれぞれＹ方向に延在す
るように仮想設定される。同様に、分割ラインＨ２に相
当する位置に、分割ラインＨ１２がＸ方向に延在するよ
うに仮想設定される。

【０１０４】一方、レチクルＣは、図２５（ｃ）に示す
ように、分割パターンＣ１〜Ｃ８を転写する際に用いら
れるものであって、その表面には、表示部２ａ、周辺部
３ａからなる回路パターン４ａと遮光帯２３とがガラス
基板Ｐとの間の所定の投影倍率をもって形成されてい
る。

【０１０５】レチクルＣの周辺部３ａは、表示部２ａの
Ｘ方向両端に設けられたタブＸ１１、Ｘ１２と表示部２
ａのＹ方向両端に設けられたタブＹ３１〜Ｙ３４、Ｙ３
５〜Ｙ３８とから構成されている。タブＸ１１、Ｘ１２
は、ガラス基板ＰのタブＸ１、Ｘ２が転写されるパター
ンのうち、分割ラインＨ１よりも−Ｙ方向を若干含む範
囲を有している。同様に、タブＹ３１〜Ｙ３８は、ガラ
ス基板ＰのタブＹ１〜Ｙ２０に転写するパターンをそれ
ぞれ有している。

【０１０６】この内、タブＹ３３は、レチクルＡのタブ
Ｙ２３との間で重複露光が可能な長さのみを有してい
る。また、タブＹ３４は、レチクルＡのタブＹ２１との
間でつなぎ合わせ露光が可能な長さのみを有している。
タブＹ３７、Ｙ３８も同様である。表示部２ａの幅は、
Ｘ方向がレチクルＡの表示部２ａと同一に、Ｙ方向が分
割パターンＣ５〜Ｃ８のＹ方向の幅に対して重複露光が
可能な長さを付け足したものになっている。

【０１０７】また、レチクルＣにおいては、レチクルＡ
のタブＹ２３と分割ラインＶ１２との位置関係に合致す
るように、タブＹ３３を通る分割ラインＶ２１がＹ方向
に延在するように仮想設定される。同様に、レチクルＡ
のタブＹ２１と分割ラインＶ１１との位置関係に合致す
るように、タブＹ３４を通る分割ラインＶ２２がＹ方向
に延在するように仮想設定される。また、タブＹ３１、
Ｙ３３間を通る分割ラインＶ２３がＹ方向に延在するよ
うに仮想設定される。そして、タブＹ３２、Ｙ３４間に
は、分割ラインＶ２４がＹ方向に延在するように仮想設
定される。

【０１０８】さらに、レチクルＣでは、表示部２ａの上
辺に対して−Ｙ方向に微小寸法オフセットした位置にＸ
方向に延在する分割ラインＨ２１が仮想設定される。ま
た、表示部２ａの下辺に対して＋Ｙ方向に微小寸法オフ
セットした位置にＸ方向に延在する分割ラインＨ２２が
仮想設定される。他の構成は、上記第１の実施の形態と
同様である。

【０１０９】上記のレチクルＡ、Ｂ、Ｃを用いてガラス
基板Ｐに回路パターン４を転写する手順について説明す
る。ここでは、図４（ａ）に示すブラインド板１７ａ、
１７ｂからなるレチクルブラインド１７により照明領域
を設定するものとする。まず、レチクルＡが、レチクル
ステージ１０にセットされると、駆動制御装置１１が露
光データ設定部２１のデータを読み込み、駆動機構２０
を介してレチクルブラインド１７のブラインド板１７
ａ、１７ｂを駆動させる。これにより、レチクルＡに
は、レチクルブラインド１７の開口Ｓに対応して、図２
６（ａ）に示すように、分割パターンＡ１に対応する矩
形状の照明領域ＳＡ１が設定される。分割パターンＡ１
は、共通パターンＫＰと非共通パターンＨＰ１とから構
成される。

【０１１０】ここで、図２５（ａ）に示すレチクルＡの
分割ラインＶ１２は、図２４に示すガラス基板Ｐにおけ
る分割ラインＶ１に仮想設定される。同時にレチクルＡ
の分割ラインＨ１１は、ガラス基板Ｐにおける分割ライ
ンＨ１に仮想設定される。

【０１１１】このとき、照明領域ＳＡ１の右辺は、重複
露光される幅に対応して、仮想設定された分割ラインＶ
１２に対して−Ｘ側にオフセットして設定される。同様
に、照明領域ＳＡ１の下辺は、仮想設定された分割ライ
ンＨ１１に対して＋Ｙ側にオフセットして設定される。
また、照明領域ＳＡ１の左辺および上辺は、遮光帯２３
が重複露光される幅以上の幅をもって露出するように設
定されている。

【０１１２】照明領域ＳＡ１の設定が完了する一方で、
駆動制御装置１１の制御により基板ステージ９が、設定
された照明領域ＳＡ１に対応する位置に移動する。そし
て、この状態で露光処理が行われると、レチクルＡの照
明領域ＳＡ１に存在するパターン、すなわち分割パター
ンＡ１がガラス基板Ｐ上に転写される。この露光処理の
際にも、レチクルブラインド１７が＋Ｘ方向側および−
Ｙ方向側へ移動することにより、図２６（ｂ）に示すよ
うに、照明領域ＳＡ１が重複露光される幅分移動して、
この部分の露光エネルギ量を一定の比率で漸次減少させ
る。

【０１１３】続いて、上記と同様に、レチクルブライン
ド１７を駆動させて、図２７（ａ）に示すように、分割
パターンＡ２に対応する矩形状の照明領域ＳＡ２を設定
する。分割パターンＡ２は、共通パターンＫＰと非共通
パターンＨＰ２とから構成される。ここでは、レチクル
Ａの分割ラインＶ１１は、ガラス基板Ｐにおける分割ラ
インＶ３に仮想設定される。同時にレチクルＡの分割ラ
インＨ１１は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＨ１に
仮想設定される。そして、基板ステージ９を移動させた
後に、レチクルブラインド１７を移動させながら露光処
理を行うことにより、図２７（ｂ）に示すように、照明
領域ＳＡ２が移動し、重複露光部分を有する分割パター
ンＡ２がガラス基板Ｐ上に転写される。

【０１１４】この後、レチクル交換装置によりレチクル
ＡをレチクルＢと交換し、レチクルＡと同様の手順で、
分割パターンＢ１、Ｂ２を順次ガラス基板Ｐ上に転写す
る。具体的には、まず、レチクルＢに、レチクルブライ
ンド１７のブラインド板１７ａ、１７ｂの開口Ｓに対応
して、図２８（ａ）に示すように、分割パターンＢ１に
対応する矩形状の照明領域ＳＢ１を設定する。この分割
パターンＢ１は、共通パターンＫＰと非共通パターンＨ
Ｐ１とから構成される。ここで、レチクルＢの分割ライ
ンＶ１４は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＶ１に仮
想設定される。同時に分割ラインＨ１２は、ガラス基板
Ｐにおける分割ラインＨ２に仮想設定される。

【０１１５】このとき、照明領域ＳＢ１の右辺（＋Ｘ側
の辺）は、つなぎ合わせ露光の際の重複させる幅に対応
して、仮想設定された分割ラインＶ１４に対して−Ｘ側
にオフセットして設定される。同様に、照明領域ＳＢ１
の上辺（＋Ｙ側の辺）は、重複露光させる幅に対応し
て、仮想設定された分割ラインＨ１２に対して＋Ｙ側に
オフセットして設定される。また、照明領域ＳＢ１の左
辺（−Ｘ側の辺）は、遮光帯２３が重複露光させる幅以
上の幅をもって、下辺（−Ｙ側の辺）は遮光帯２３が露
出するようにそれぞれ設定される。

【０１１６】そして、ガラス基板Ｐが照明領域ＳＢ１に
対応する位置に基板ステージ９を移動させた後に、上記
と同様に露光処理が行われると照明領域ＳＢ１に存在す
るレチクルＢのパターンの像は、照明領域ＳＢ１に対応
するガラス基板Ｐ上の露光領域に転写される。ここで
も、露光処理の際、駆動制御装置１１の指示に基づき、
レチクルブラインド１７のブラインド板１７ａ、１７ｂ
が移動することで、図２８（ｂ）に示すように、照明領
域ＳＢ１は、右辺が＋Ｘ方向側へ、且つ下辺が−Ｙ方向
側へ（すなわち、図２８中、左上から右下へ）それぞれ
所定の速度で重複露光させる幅分移動する。

【０１１７】この後、上記と同様の手順により、図２９
（ａ）、（ｂ）に示すように設定された分割パターンＢ
２を、分割パターンＢ２に対応する照明領域ＳＢ２を＋
Ｙ、−Ｘ側から−Ｙ、＋Ｘ側へ（すなわち、図２９中、
左上から右下へ）移動させることで、照明領域ＳＢ２に
対応するガラス基板Ｐ上の露光領域に、隣接する分割パ
ターン間がつなぎ合わせ露光されるように順次転写す
る。レチクルＢを使用した露光処理が完了すると、レチ
クルＢをレチクルＣに交換する。

【０１１８】レチクルＣがセットされると、レチクルブ
ラインド１７が駆動し、レチクルＣには、レチクルブラ
インド１７のブラインド板１７ａ、１７ｂの開口Ｓに対
応して、図３０（ａ）に示すように、第１パターンであ
る分割パターンＣ１に対応する矩形状の照明領域ＳＣ１
（第１照明領域）が設定される。この分割パターンＣ１
は、共通パターンＫＰと非共通パターンＨＰ１とから構
成される。ここで、レチクルＣの分割ラインＶ２１は、
ガラス基板Ｐにおける分割ラインＶ１に仮想設定され
る。また、レチクルＣの分割ラインＶ２４は、ガラス基
板Ｐにおける分割ラインＶ２に仮想設定される。同時
に、分割ラインＨ２２は、ガラス基板Ｐにおける分割ラ
インＨ１に仮想設定される。

【０１１９】そして、基板ステージ９を移動させた後
に、レチクルブラインド１７を移動させながら露光処理
を行うことにより、図３０（ｂ）に示すように、照明領
域ＳＣ１が移動し、重複露光部分を有する分割パターン
Ｃ１がガラス基板Ｐ上に転写される。これにより、上記
分割パターンＡ１と分割パターンＣ１とは、つなぎ合わ
せ露光される。

【０１２０】続いて、レチクルブラインド１７を駆動さ
せて、図３１（ａ）に示すように、第２パターンである
分割パターンＣ２に対応する矩形状の照明領域（第２照
明領域）ＳＣ２を設定する。この分割パターンＣ２は、
共通パターンＫＰと非共通パターンＨＰ２とから構成さ
れる。ここで、レチクルＣの分割ラインＶ２２は、ガラ
ス基板Ｐにおける分割ラインＶ３に仮想設定される。ま
た、レチクルＣの分割ラインＶ２３は、ガラス基板Ｐに
おける分割ラインＶ２に仮想設定される。同時に、分割
ラインＨ２２は、ガラス基板Ｐにおける分割ラインＨ１
に仮想設定される。

【０１２１】そして、基板ステージ９を移動させた後
に、レチクルブラインド１７を移動させながら露光処理
を行うことにより、図３１（ｂ）に示すように、照明領
域ＳＣ２が移動し、重複露光部分を有する分割パターン
Ｃ２がガラス基板Ｐ上に転写される。これにより、上記
分割パターンＣ１と分割パターンＣ２、および上記分割
パターンＡ２と分割パターンＣ２とは、つなぎ合わせ露
光される。

【０１２２】以後、レチクルブラインド１７を駆動させ
て、図３２（ａ）〜図３７（ａ）に示すように、分割パ
ターンＣ５〜Ｃ８、Ｃ３〜Ｃ４の分割ラインに対して、
該分割ラインよりも＋Ｙ、−Ｘ側（各図中、左上側）に
照明領域ＳＣ５〜ＳＣ８、ＳＣ３〜ＳＣ４を順次設定す
るとともに、基板ステージ９を移動させた後に、レチク
ルブラインド１７を移動させて、図３２（ｂ）〜図３７
（ｂ）に示すように、照明領域ＳＣ５〜ＳＣ８、ＳＣ３
〜ＳＣ４を−Ｙ、＋Ｘ側（各図中、右下側）へ移動させ
ながら順次露光処理を行うことにより、各分割パターン
毎にレチクルＣの共通パターンと非共通パターンとを用
いて、分割パターンＣ５〜Ｃ８、Ｃ３〜Ｃ４を順次ガラ
ス基板Ｐに転写させることができる。これにより、ガラ
ス基板Ｐ上に、つなぎ合わせ露光された回路パターン４
が転写される。

【０１２３】この露光においても、上記第１の実施の形
態と同様に、矩形配置された露光領域に対して、一辺が
重複する露光領域同士（隣接する露光領域同士）で対を
複数構成し、各対において各露光領域に対応する照明領
域をそれぞれ同一方向に沿って移動させれば、各対にお
いて交叉部は四角錐状と三角錐状の露光量分布で露光さ
れるため、二対合わせた露光量分布が二つの四角錐状と
二つの三角錐状になり、１００％の露光量で露光するこ
とができる。

【０１２４】また、レチクルブラインド１７として、図
４（ｂ）に示すブラインド板１７ｃ、１７ｄを用いた場
合は、図２４に示すように、下辺側に重複露光領域が設
定される分割パターンＡ１〜Ａ２、Ｃ１〜Ｃ２をそれぞ
れ転写する際に、開口Ｓの下辺にブラインド板１７ｄの
減光部２６を位置させ、且つ減光部２６により形成され
る減光領域を直線Ｌ１、Ｌ２間の重複露光領域に位置さ
せて各照明領域ＳＡ１〜ＳＡ２、ＳＣ１〜ＳＣ２を設定
し、露光中に各照明領域ＳＡ１〜ＳＡ２、ＳＣ１〜ＳＣ
２を減光部２６の長さ方向（Ｘ方向）に移動させる。ま
た、上辺側に重複露光領域が設定される分割パターンＢ
１〜Ｂ２、Ｃ３〜Ｃ４をそれぞれ転写する際に、開口Ｓ
の上辺にブラインド板１７ｃの減光部２６を位置させ、
且つ減光部２６により形成される減光領域を直線Ｌ３、
Ｌ４間の重複露光領域に位置させて各照明領域ＳＢ１〜
ＳＢ２、ＳＣ３〜ＳＣ４を設定し、露光中に各照明領域
ＳＢ１〜ＳＢ２、ＳＣ３〜ＳＣ４を減光部２６の長さ方
向（Ｘ方向）に移動させる。そして、上辺側、下辺側の
双方に重複露光領域が設定される分割パターンＣ５〜Ｃ
８をそれぞれ転写する際に、開口Ｓの上辺および下辺に
ブラインド板１７ｃ、１７ｄの減光部２６を位置させ、
且つ減光部２６により形成される減光領域を直線Ｌ１、
Ｌ２間および直線Ｌ３、Ｌ４間の双方の重複露光領域に
位置させて各照明領域ＳＣ５〜ＳＣ８を設定し、露光中
に各照明領域ＳＣ５〜ＳＣ８を減光部２６の長さ方向
（Ｘ方向）に移動させる。これにより、辺のみで重複す
る重複露光領域および矩形配列された露光領域が交叉す
る重複露光領域においても上記第１の実施の形態と同様
に、重複しない露光領域と同じ１００％の露光量で露光
することができる。

【０１２５】なお、減光部２６を有するレチクルブライ
ンド１７を用いる場合、減光部２６を開口Ｓの上辺およ
び下辺ではなく、左辺および右辺に設け、図２４に示す
ガラス基板ＰにおいてＹ方向に延在する重複露光領域を
減光部２６により形成される減光領域で設定し、照明領
域をＹ方向に移動させるようにしてもよい。

【０１２６】本実施の形態の露光方法および露光装置並
びにマスクでは、上記第１の実施の形態と同様の効果が
得られることに加えて、回路パターンが大きい程共通パ
ターンも多くなるので、レチクルの使用枚数減少に伴う
効果も大きくなる。すなわち、図４０に示した従来の分
割パターンＡ〜Ｆ２、および図４１に示した従来のマス
クＲＡ〜ＲＦの場合に比較して、本実施の形態では、分
割数が１５から１２へ減少して露光時間を短縮すること
ができる。また、使用するレチクルが６枚から３枚に減
少するので、レチクル交換に要する時間を短縮すること
もでき、大幅に処理時間を短縮することができてスルー
プットが向上する。

【０１２７】なお、上記実施の形態におけるレチクルの
枚数、ガラス基板Ｐの分割パターン数、大きさ等は、一
例を示したもので、これらに限定されるものではなく、
各種の枚数、大きさ等に適用することができる。

【０１２８】また、上記実施の形態において、レチクル
ブラインド１７の構成をブラインド板１７ａ、１７ｂま
たはブラインド板１７ｃ、１７ｄからなる構成とし、一
方のブラインド板の透過部２５の直交する二辺と他方の
ブラインド板の透過部２５の直交する二辺の組み合わせ
で開口Ｓを形成する構成としたが、ブラインド板を用い
ずに透過部２５を構成する複数の辺を、それぞれ独立し
た辺構成体で構成し（矩形の透過部の場合、四つの辺構
成体で構成し）、各辺構成体をそれぞれ独立して移動さ
せる移動装置を設けるような構成であってもよい。

【０１２９】この場合、辺構成体をブラインド板１７
ａ、１７ｂと同様に移動させることで、ブラインド板１
７ａ、１７ｂを用いた場合と同様の作用・効果を得るこ
とができる。また、辺構成体の少なくとも一つに減光部
を形成することにより、ブラインド板１７ｃ、１７ｄを
用いた場合と同様の作用・効果を得ることができる。さ
らに、一つの辺構成体の一部に減光部を形成し、他の辺
構成体の位置に応じてこの減光部が露出、隠蔽されるよ
うにすれば、上記減光部を用いた露光処理、減光部を用
いない露光処理のいずれも適宜選択することができ、汎
用性の大きいつなぎ合わせ露光を実施することができ
る。

【０１３０】なお、基板としては、液晶ディスプレイデ
バイス用のガラス基板Ｐのみならず、半導体デバイス用
の半導体ウエハ、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエ
ハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチク
ルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用され
る。

【０１３１】露光装置５としては、レチクルＲとガラス
基板Ｐとを静止した状態でレチクルＲのパターンを露光
し、ガラス基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・
アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）で
も、レチクルＲと感光基板Ｐとを同期移動してレチクル
Ｒのパターンを露光するステップ・アンド・スキャン方
式の走査型投影露光装置（スキャニング・ステッパー）
にも適用することができる。

【０１３２】露光装置５の種類としては、上記液晶ディ
スプレイデバイス製造用のみならず、半導体製造用の露
光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるい
はレチクルＲなどを製造するための露光装置などにも広
く適用できる。

【０１３３】また、照明光学系７の光源として、水銀ラ
ンプ６から発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線
（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎ
ｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レー
ザ（１５７ｎｍ）、Ｘ線などを用いることができる。ま
た、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用い
てもよい。

【０１３４】投影光学系８の倍率は、縮小系のみならず
等倍および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系
８としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場
合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材
料を用い、Ｆ₂レーザを用いる場合は反射屈折系または
屈折系の光学系にする。

【０１３５】基板ステージ９やレチクルステージ１０に
リニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いた
エア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を
用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ス
テージ９，１０は、ガイドに沿って移動するタイプでも
よく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよ
い。

【０１３６】基板ステージ９の移動により発生する反力
は、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がし
てもよい。レチクルステージ１０の移動により発生する
反力は、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃
がしてもよい。

【０１３７】複数の光学素子から構成される照明光学系
７および投影光学系８をそれぞれ露光装置本体に組み込
んでその光学調整をするとともに、多数の機械部品から
なるレチクルステージ１０や基板ステージ９を露光装置
本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整
（電気調整、動作確認等）をすることにより本実施の形
態の露光装置５を製造することができる。なお、露光装
置５の製造は、温度およびクリーン度等が管理されたク
リーンルームで行うことが望ましい。

【０１３８】液晶表示素子や半導体デバイス等のデバイ
スは、各デバイスの機能・性能設計を行うステップ、こ
の設計ステップに基づいたレチクルＲを製作するステッ
プ、ガラス基板Ｐ、ウエハ等を製作するステップ、前述
した実施の形態の露光装置５によりレチクルＲのパター
ンをガラス基板、ウエハに露光するステップ、各デバイ
スを組み立てるステップ、検査ステップ等を経て製造さ
れる。

【０１３９】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る露
光方法は、マスクが共通パターンと非共通パターンとを
有しており、この連続して形成された共通パターンと非
共通パターンの少なくとも一部とを選択して、基板に第
１パターンと第２パターンとをつなぎ合わせ露光する構
成となっている。これにより、この露光方法では、一枚
のマスクで複数の露光領域にマスクのパターンを、パタ
ーンが異なるように複数転写することができるようにな
るので、マスク交換に要する時間を短縮することができ
スループットを向上させるという効果が得られることに
加えて、高価なマスクの使用枚数を減少させることもで
きるのでコストダウンが実現するという効果も得られ
る。これは、特に、液晶表示デバイスや半導体メモリの
ように同じパターンを繰り返し転写する場合に顕著に現
れる。

【０１４０】請求項２に係る露光方法は、非共通パター
ンが共通パターンを挟んで形成される構成となってい
る。これにより、この露光方法では、第１、第２パター
ンを選択する際にかかる時間を短くすることができるの
で、一層のスループット向上を実現することができると
いう効果が得られる。

【０１４１】請求項３に係る露光方法は、非共通パター
ンの選択が第１パターンを露光するときと、第２パター
ンを露光するときとで異なる構成となっている。これに
より、この露光方法では、パターンが異なる第１、第２
パターンを一枚のマスクで転写することができるので、
マスク交換に要する時間を短縮することができスループ
ットを向上させるという効果が得られることに加えて、
高価なマスクの使用枚数を減少させることもできるので
コストダウンが実現するという効果も得られる。

【０１４２】請求項４に係る露光方法は、パターンの選
択をマスクの照明領域により設定し、この照明領域に対
応する基板上の露光領域を隣接する露光領域と重複させ
る構成となっている。これにより、この露光方法では、
照明領域を設定することにより、一枚マスクで複数の露
光領域に、パターンが異なるように複数転写できるとい
う効果が得られる。

【０１４３】請求項５に係る露光方法は、露光領域をそ
れぞれ二辺が重複するように複数矩形配列した際に、各
露光領域に対応する照明領域を減光領域が形成される一
辺に沿ってそれぞれ移動させる構成となっている。これ
により、この露光方法では、露光領域が交叉する領域に
おいてもオーバー露光されることなく、他の露光領域と
同じ露光量で露光できるという効果が得られる。また、
この場合、照明領域設定装置の移動が一方向であるの
で、照明領域設定装置を駆動させる駆動機構を簡単なも
のにできるという効果も得られる。

【０１４４】請求項６に係る露光方法は、露光領域をそ
れぞれ二辺が重複するように複数矩形配列した際に、辺
が重複する露光領域同士で対を複数構成し、各対におい
て露光領域に対応する照明領域を同一方向に沿ってそれ
ぞれ移動させる構成となっている。これにより、この露
光方法では、露光領域が交叉する領域においてもオーバ
ー露光されることなく、他の露光領域と同じ露光量で露
光できるという効果が得られる。

【０１４５】請求項７に係る露光方法は、照明領域を移
動させる同一方向を矩形配列の対角方向とする構成とな
っている。これにより、この露光方法では、直交する二
辺を隣接する露光領域と一度に重複露光する際にも、露
光領域が交叉する領域においてもオーバー露光されるこ
となく、他の露光領域と同じ露光量で露光できるという
効果が得られる。

【０１４６】請求項８に係るマスクは、複数のパターン
の共通パターンと、この共通パターンとは異なる非共通
パターンとが連続して形成される構成となっている。こ
れにより、このマスクでは、一枚のマスクで複数のパタ
ーンを設定することができるので、使用するマスク枚数
が減少してコストダウンが実現するという効果が得られ
る。

【０１４７】請求項９に係るマスクは、非共通パターン
が共通パターンを挟んで形成される構成となっている。
これにより、このマスクでは、共通パターンを含むパタ
ーンを設定する際にも、設定にかかる時間を短縮するこ
とができるという効果が得られる。

【０１４８】請求項１０に係る露光装置は、マスクステ
ージに請求項８または請求項９記載のマスクが保持さ
れ、照明領域設定装置がマスクの照明領域を第１、第２
照明領域とに設定し、制御装置が第１、第２照明領域の
第１、第２パターンを基板につなぎ合わせる構成となっ
ている。これにより、この露光装置では、照明領域設定
装置により照明領域を設定することで、一枚のマスクで
複数のパターンを設定することができるので、マスク交
換に要する時間を短縮することができスループットを向
上させるという効果が得られることに加えて、高価なマ
スクの使用枚数を減少させることもできるのでコストダ
ウンが実現するという効果も得られる。

【０１４９】請求項１１に係る露光装置は、照明領域設
定装置がマスクの照明領域を、複数の辺で形成される透
過部の位置に応じて第１、第２照明領域とに設定し、制
御装置が第１、第２照明領域の第１、第２パターンを基
板につなぎ合わせるとともに、照明領域設定装置が複数
の辺構成体と、辺構成体をそれぞれ独立して移動させる
移動装置を備える構成となっている。これにより、この
露光装置では、状況に応じて大きさ、位置の異なる照明
領域を種々設定し、また、減光部の露出、隠蔽も容易に
行え、汎用性の大きいつなぎ合わせ露光を実施できると
いう効果が得られる。

【０１５０】請求項１２に係る露光装置は、透過部の少
なくとも一辺に、透過率が漸次減少する減光部が設けら
れる構成となっている。これにより、この露光装置で
は、露光中に照明領域を減光部が設けられる一辺に沿っ
て移動させることで、露光領域が交叉する領域において
もオーバー露光されることなく、他の露光領域と同じ露
光量で露光できるという効果が得られる。また、この場
合、照明領域設定装置の移動が一方向であるので、照明
領域設定装置を駆動させる駆動機構を簡単なものにでき
るという効果も得られる。

【０１５１】請求項１３に係る露光装置は、露光領域を
それぞれ二辺が重複するように複数矩形配列した際に、
辺が重複して対をなす露光領域に対応する照明領域を、
同一方向に沿ってそれぞれ移動させる移動装置が設けら
れる構成となっている。これにより、この露光装置で
は、露光領域が交叉する領域においてもオーバー露光さ
れることなく、他の露光領域と同じ露光量で露光できる
という効果が得られる。

【０１５２】請求項１４に係る露光装置は、照明領域を
移動させる同一方向を矩形配列の対角方向とする構成と
なっている。これにより、この露光装置では、直交する
二辺を隣接する露光領域と一度に重複露光する際にも、
露光領域が交叉する領域においてもオーバー露光される
ことなく、他の露光領域と同じ露光量で露光できるとい
う効果が得られる。

【０１５３】請求項１５に係る露光装置は、制御装置が
照明領域設定装置の設定に応じて基板ステージを駆動さ
せる構成となっている。これにより、この露光装置で
は、基板ステージが照明領域設定装置の設定に応じて駆
動することで、一枚のマスクで複数のパターンを基板に
転写することができ、マスク交換に要する時間を短縮す
ることができスループットを向上させるという効果が得
られることに加えて、高価なマスクの使用枚数を減少さ
せることもできるのでコストダウンが実現するという効
果も得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、共通パターンと非共通パターンとを有するレチクル
の平面図である。

【図２】同レチクルによって転写される回路パターン
が複数に分割されたガラス基板のパターン図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、レチクルブラインド、基板ステージに駆動制御装置
が接続された露光装置の概略構成図である。

【図４】本発明の露光装置を構成するレチクルブライ
ンドの、（ａ）は遮光部、透過部から構成されるブライ
ンド板の平面図、（ｂ）は遮光部、透過部および減光部
から構成されるブラインド板の平面図である。

【図５】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、第１照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面
図である。

【図６】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、第２照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面
図である。

【図７】同他の照明領域にあるレチクルのパターンを
示す平面図である。

【図８】同他の照明領域にあるレチクルのパターンを
示す平面図である。

【図９】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、別のレチクルの照明領域にあるパターンを示す平面
図である。

【図１０】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図１１】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図１２】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図１３】露光領域が交叉する交叉部を説明するため
の図である。

【図１４】同交叉部における露光量の分布を示す露光
量分布図である。

【図１５】同交叉部における露光量の分布を示す露光
量分布図である。

【図１６】同交叉部における露光量の分布を示す露光
量分布図である。

【図１７】同交叉部における露光量の分布を示す露光
量分布図である。

【図１８】同交叉部における露光量の分布を示す露光
量分布図である。

【図１９】露光領域が交叉する交叉部を説明するため
の図である。

【図２０】減光部を有するブラインド板により設定さ
れた照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面図で
ある。

【図２１】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図２２】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図２３】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図２４】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、２１インチの液晶ディスプレイデバイス用ガラス基
板のパターン図である。

【図２５】同ガラス基板を露光する際に用いられる三
枚のレチクルの平面図である。

【図２６】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、第１照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面
図である。

【図２７】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、他の照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面
図である。

【図２８】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、別のレチクルの照明領域にあるパターンを示す平面
図である。

【図２９】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３０】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、第２照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面
図である。

【図３１】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、他の照明領域にあるレチクルのパターンを示す平面
図である。

【図３２】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３３】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３４】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３５】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３６】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３７】同他の照明領域にあるレチクルのパターン
を示す平面図である。

【図３８】分割された回路パターンを有するガラス基
板のパターン図である。

【図３９】従来技術によるマスクの一例を示す平面図
である。

【図４０】分割された回路パターンを有するガラス基
板のパターン図である。

【図４１】従来技術によるマスクの一例を示す平面図
である。

【符号の説明】

ＫＰ共通パターンＫ１交叉部ＨＰ１，ＨＰ２非共通パターンＰガラス基板（基板）Ｒ、Ａ、Ｂ、Ｃレチクル（マスク）Ａ１、Ｃ１第１パターンＡ２、Ｃ２第２パターンＳＡ１、ＳＣ１照明領域（第１照明領域）ＳＡ２、ＳＣ２照明領域（第２照明領域）１ａ、４ａ回路パターン（パターン）５露光装置７照明光学系９基板ステージ１０レチクルステージ（マスクステージ）１１駆動制御装置（制御装置）１７レチクルブラインド（照明領域設定装置）２０駆動機構（移動装置）２５透過部２６減光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者堀和彦東京都千代田区丸の内３丁目２番３号株式会社ニコン内 (72)発明者戸口学東京都千代田区丸の内３丁目２番３号株式会社ニコン内Ｆターム(参考） 2H095 BA01 BB36 2H097 AA05 BB01 BB10 CA12 CA13 GB01 LA12 5F046 BA04 BA05 CA02 CB05 CB08 CB13 CB17 CB23 CC01 CC16 CC17 DA02 DA11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パターンを有したマスクを用いて基板に
第１パターンと第２パターンとをつなぎ合わせ露光する
露光方法において、前記マスクのパターンは、前記第１パターンと第２パタ
ーンとの共通パターンと、該共通パターンと連続して形
成され該共通パターンとは異なる非共通パターンとを有
しており、前記共通パターンと、前記非共通パターンの少なくとも
一部とを選択して前記つなぎ合わせ露光することを特徴
とする露光方法。
【請求項２】請求項１記載の露光方法において、前記非共通パターンは、前記共通パターンを挟んで形成
されていることを特徴とする露光方法。
【請求項３】請求項１または２記載の露光方法におい
て、前記非共通パターンの前記選択は、前記第１パターンを
露光するときと前記第２パターンを露光するときとで異
なっていることを特徴とする露光方法。
【請求項４】請求項１から３のいずれかに記載の露光
方法において、前記パターンの選択を前記マスクの照明領域により設定
し、該照明領域に対応する前記基板上の露光領域を、隣接す
る露光領域と重複させて前記つなぎ合わせを行うことを
特徴とする露光方法。
【請求項５】請求項４記載の露光方法において、前記照明領域の一辺に透過率が漸次変化する減光領域を
形成し、前記露光領域をそれぞれ二辺が重複するように複数矩形
配列した際に、各露光領域に対応する前記照明領域を前
記露光中に前記一辺に沿ってそれぞれ移動させることを
特徴とする露光方法。
【請求項６】請求項４記載の露光方法において、前記露光領域をそれぞれ二辺が重複するように複数矩形
配列した際に、該複数の露光領域のうち、前記辺が重複
する露光領域同士で対を複数構成し、各対において前記露光領域に対応する前記照明領域を前
記露光中に同一方向に沿ってそれぞれ移動させることを
特徴とする露光方法。
【請求項７】請求項６記載の露光方法において、前記同一方向は、前記矩形配列の対角方向であることを
特徴とする露光方法。
【請求項８】パターンを有したマスクにおいて、前記マスクには、複数のパターンに応じて該複数のパタ
ーンの共通パターンと、該共通パターンとは異なる非共通パターンとが連続して
形成されていることを特徴とするマスク。
【請求項９】請求項８記載のマスクにおいて、前記非共通パターンは、前記共通パターンを挟んで形成
されていることを特徴とするマスク。
【請求項１０】パターンを有したマスクを保持するマ
スクステージと、前記マスクを照明する照明光学系とを
備え、前記マスクのパターンを基板に露光する露光装置
において、前記マスクステージには、請求項８または請求項９記載
のマスクが保持されており、前記マスクの照明領域を少なくとも第１照明領域と第２
照明領域とに設定する照明領域設定装置と、前記第１照明領域により前記基板に露光される第１パタ
ーンと、前記第２照明領域により前記基板に露光される
第２パターンとをつなぎ合わせる制御装置とを備えたこ
とを特徴とする露光装置。
【請求項１１】パターンを有したマスクを保持するマ
スクステージと、前記マスクを照明する照明光学系とを
備え、前記マスクのパターンを基板に露光する露光装置
において、複数の辺で形成される透過部の位置に応じて前記マスク
の照明領域を少なくとも第１照明領域と第２照明領域と
に設定する照明領域設定装置と、前記第１照明領域により前記基板に露光される第１パタ
ーンと、前記第２照明領域により前記基板に露光される
第２パターンとをつなぎ合わせる制御装置とを備え、前記照明領域設定装置は、前記複数の辺をそれぞれ構成
する複数の辺構成体と、該辺構成体をそれぞれ独立して
移動させる移動装置とを有することを特徴とする露光装
置。
【請求項１２】請求項１０または１１記載の露光装置
において、前記照明領域設定装置は、前記照明領域を設定する透過
部を有し、該透過部の少なくとも一辺には、透過率が漸
次変化する減光部が設けられていることを特徴とする露
光装置。
【請求項１３】請求項１０から１２のいずれかに記載
の露光装置において、前記照明領域設定装置には、前記照明領域に対応する前
記基板上の露光領域をそれぞれ二辺が重複するように複
数矩形配列した際に、前記辺が重複して対をなす前記露
光領域に対応する前記照明領域を、前記露光中に同一方
向に沿ってそれぞれ移動させる移動装置が設けられてい
ることを特徴とする露光装置。
【請求項１４】請求項１３記載の露光装置において、前記同一方向は、前記矩形配列の対角方向であることを
特徴とする露光装置。
【請求項１５】請求項１０から１４のいずれかに記載
の露光装置において、前記基板を保持して移動する基板ステージを有し、前記制御装置は、前記照明領域設定装置の設定に応じて
前記基板ステージを駆動させることを特徴とする露光装
置。