JP2000194016A - Multidomain liquid crystal display element - Google Patents

Multidomain liquid crystal display element

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multidomain liquid crystal display element of which processes are simplified and multidomain effect is exhibited.
SOLUTION: The multidomain liquid crystal display element is composed of a first substrate and a second substitute facing each other, a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substitute, a plurality of gate wiring 1 and data wiring 3 formed on the first substrate lengthwise and crosswise and defining pixel regions, a pixel electrode 13 integrally formed in the pixel region, a common auxiliary electrode 15 which is formed in the same layer as the gate wirings 1 and is formed so as to surround the pixel electrode 13.
COPYRIGHT: (C)2000,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関するものであって、特に、ゲート配線と同一層で画素領域を囲むように共通補助電極を形成して電界を歪曲させるマルチドメイン液晶表示素子(multi-domain liquid cry The present invention relates is a present invention relates to a liquid crystal display device, in particular, multi-domain liquid crystal display device which distort the electric field to form a common auxiliary electrode so as to surround the pixel region by the gate wiring and the same layer ( multi-domain liquid cry
stal display device)に関する。 stal on the display device).

【0002】 [0002]

【従来の技術】最近、液晶を配向することなく、画素電極と電気的に絶縁されている補助電極により液晶を駆動する液晶表示素子が提案されている。 Recently, without aligning the liquid crystal, the liquid crystal display device for driving the liquid crystal it has been proposed by an auxiliary electrode which is electrically insulated from the pixel electrode. 図1は、従来の液晶表示素子の単位画素の断面図である。 Figure 1 is a cross-sectional view of a unit pixel of a conventional liquid crystal display device.

【0003】従来の液晶表示素子は、第1基板及び第2 [0003] Conventional liquid crystal display device includes a first substrate and a second
基板を具備し、第1基板上には、縦横に形成されて第1 Comprising a substrate, a first substrate, first formed in a matrix 1
基板を複数の画素領域に分ける複数のデータ配線及びゲート配線と、前記画素領域の各々に形成され、ゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体層、オーミッコンタクト層(O A plurality of data lines and gate lines which divide the substrate into a plurality of pixel regions, are formed in each of the pixel region, a gate electrode, a gate insulating film, semiconductor layer, Au Mille contact layer (O
hmic contact layer)及びソース/ドレイン電極などから構成されている薄膜トランジスタ(Thin Film Transi HMIC contact layer) and a thin film transistor and a like source / drain electrode (Thin Film Transi
stor ; TFT)と、前記第1基板全体にわたって形成された保護膜(37)と、この保護膜(37)上からドレイン電極に連結するように形成された画素電極(13)と、前記ゲート絶縁膜上に画素電極(13)の一部と重なるように形成された補助電極(21)とが設けられている。 stor; a TFT), and said first protective film formed over the substrate (37), and the formed pixel electrodes so as to connect the drain electrode over the protective film (37) (13), said gate insulating some of the pixel electrodes (13) on the film overlaps thus formed auxiliary electrode and (21) are provided.

【0004】また、前記第2基板上には、前記ゲート配線、データ配線及び薄膜トランジスタから漏洩する光を遮断する遮光層(25)と、前記遮光層(25)上に形成されているカラーフィルター層(23)と、前記カラーフィルター層(23)上に形成されている共通電極(17)と、 [0004] wherein the second substrate, the gate line, the light shielding layer that blocks light leaking from the data lines and the thin film transistor (25), said light shielding layer (25) a color filter layer formed on and (23), and a common electrode formed on the color filter layer (23) (17),
第1基板と第2基板との間に形成されている液晶層とが設けられている。 And a liquid crystal layer is provided which is formed between the first substrate and the second substrate.

【0005】画素電極(13)の周りに形成されている補助電極(21)と共通電極(17)のオープン領域(27) [0005] The pixel electrode (13) an auxiliary electrode which is formed around the (21) and the open area of ​​the common electrode (17) (27)
は、前記液晶層に印加される電場を歪曲させて単位画素内で液晶分子を多様に駆動する。 It is variously to drive the liquid crystal molecules in to distort the electric field unit pixel applied to the liquid crystal layer. これは、前記液晶表示素子に電圧を印加すると、歪曲した電場による誘電エネルギーによって、液晶の方向子が所望の方向に向けられることを意味している。 This, when a voltage is applied to the liquid crystal display device, by dielectric energy due distorted electric field, the liquid crystal director is meant to be directed in a desired direction.

【0006】しかし、このような従来の液晶表示素子は、マルチドメイン効果を得るために、共通電極(17) However, such a conventional liquid crystal display device, in order to obtain a multi-domain effect, the common electrode (17)
にオープン領域(27)を設ける必要があり、このため、 It is necessary to provide an open area (27), this order,
液晶表示素子の製造工程中に、共通電極(17)をパターニングする工程を追加しなければならない。 During the manufacturing process of the liquid crystal display device, it must be added a step of patterning the common electrode (17). また、前記オープン領域がないものや、その幅が狭いものは、ドメイン分割に必要な電場の歪曲程度が弱いので、液晶の方向子(director)が安定な状態に至る時間が、相対的に長くなるという問題点がある。 Also, the or one without the open area, that its width is narrow, because the weak electric field about the distortion of the required domain division, liquid crystal director (director) is the time to reach a stable state, relatively long there is a problem that becomes.

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであって、ゲート配線と同一層で画素領域を囲むように共通補助電極を形成し、 [SUMMARY OF THE INVENTION The present invention was made in view of the problems of the prior art, to form a common auxiliary electrode so as to surround the pixel region by the gate wiring and the same layer,
工程を単純化してマルチドメイン効果を発揮するマルチドメイン液晶表示素子を提供することを目的とする。 Step simplify and to provide a multi-domain liquid crystal display device which exhibits a multi-domain effect.

【0008】 [0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため、本発明によるマルチドメイン液晶表示素子は、対向する第1基板及び第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形成た液晶層と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定義する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記画素領域内に一体に形成された画素電極と、 To achieve the above object, according to an aspect of a multi-domain liquid crystal display device according to the invention, formed between the first substrate and the second substrate facing a first substrate and a second substrate a liquid crystal layer, a plurality of gate and data lines defining a first formed in a matrix on the substrate a pixel region, a pixel electrode formed integrally with the pixel region,
前記ゲート配線と同一層に形成され、前記画素領域を囲むように形成された共通補助電極と、前記第1基板全体に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に第1 Are formed on the same layer as the gate line, the common auxiliary electrode formed so as to surround the pixel region, a gate insulating film formed on the entire first substrate, a first on the gate insulating film
基板全体に形成された保護膜と、前記第2基板上に形成された遮光層と、該遮光層上に形成されたカラーフィルター層と、該カラーフィルター層上に形成された共通電極と、前記第1基板及び第2基板の少なくとも一方の基板上に形成された配向膜からなる。 A protective film formed on the entire substrate, wherein a second light-shielding layer formed on the substrate, a color filter layer formed on the light shielding layer, a common electrode formed on the color filter layer, wherein consisting of the first and second substrates at least one of the alignment film formed on the substrate.

【0009】前記マルチドメイン液晶表示素子は、前記保護膜の下から前記画素電極に連結され、前記ゲート配線又は共通補助電極とオーバラップするように形成されているストレージ電極とをさらに含んでいてもよい。 [0009] The multi-domain liquid crystal display device, the are from under the protective film is connected to the pixel electrode, also include a the gate line or the common auxiliary electrode and the storage electrode is formed so as to overlap good. 前記液晶は、陽又は陰の誘電率の異方性を有する液晶であり、液晶層はカイラルドパントを含む。 The liquid crystal is a liquid crystal having a dielectric anisotropy of positive or negative, the liquid crystal layer comprises a chiral de punt.

【0010】 [0010]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明によるマルチドメイン液晶表示素子を詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, will be explained a multi-domain liquid crystal display device in detail according to the present invention with reference to the drawings. 図2 Figure 2
及び図3は本発明の第1実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図4は前記図2の線I− And Figure 3 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, the line of FIG. 4 FIG 2 I-
I′による断面図、図5〜図8は前記図2の線II-II′ I 'cross-sectional view taken along the line II-II in FIGS. 5 to 8 is the view 2'
による断面図である。 Is a cross-sectional view taken along.

【0011】図5〜図8に示したように、本発明のマルチドメイン液晶表示素子は、第1基板(31)及び第2基板(33)を具備している。 [0011] As shown in FIGS. 5-8, a multi-domain liquid crystal display device of the present invention is provided with a first substrate (31) and the second substrate (33). 前記第1基板(31)上には、縦横に形成されて該第1基板(31)を複数の画素領域に分ける複数のデータ配線(3)及びゲート配線(1)と、該ゲート配線(1)と同一層に形成されて電界を歪曲させる共通補助電極(15)と、第1基板(31)上の画素領域の各々に形成され、ゲート電極(11)、ゲート絶縁膜(35)、 Wherein the first substrate (31) has a plurality of data lines which are formed vertically and horizontally divides the first substrate (31) into a plurality of pixel regions (3) and the gate wiring (1), the gate lines (1 ) and the common auxiliary electrode (15) which is formed in the same layer to distort the electric field, is formed on each of the first pixel region on the substrate (31), a gate electrode (11), a gate insulating film (35),
半導体層(5)、オーミッコンタクト層及びソース/ドレイン電極(7, 9)などからなる薄膜トランジスタと、 The semiconductor layer (5), a thin film transistor made of Au Mille contact layer and the source / drain electrodes (7, 9),
前記第1基板(31)全体に形成された保護膜(37)と、該保護膜(31)上に配置され前記ドレイン電極(9)に連結された画素電極(13)とが設けられている。 And said first substrate (31) is formed on the entire the protective film (37), connected to a pixel electrode (13) is provided on the drain electrode is disposed on the protective film (31) (9) .

【0012】前記第2基板(33)上には、ゲート配線(1)、データ配線(3)及び薄膜トランジスタから漏洩する光を遮断する遮光層(25)と、該遮光層(25)上に形成されたカラーフィルター層(23)と、該カラーフィルター層上に形成された共通電極(17)と、第1基板(3 [0012] On the second substrate (33), a gate wiring (1), the light blocking layer for blocking light that leaks from the data lines (3) and a thin film transistor (25), formed on the light shielding layer (25) and color filter layer (23), and a common electrode formed on the color filter layer (17), the first substrate (3
1)と第2基板(33)との間に形成された液晶層とが設けられている。 1) and a liquid crystal layer formed between the second substrate (33) is provided.

【0013】このような構造のマルチドメイン液晶表示素子を製造するためには、まず、第1基板(31)の画素領域の各々にゲート電極(11)、ゲート絶縁膜(35)、半導体層(5)、オーム接触層及びソース/ドレイン電極(7,9)からなる薄膜トランジスタを形成する。 [0013] To produce the multi-domain liquid crystal display device having such a structure, first, the gate electrode in each pixel region of the first substrate (31) (11), a gate insulating film (35), the semiconductor layer ( 5), to form a thin film transistor of the ohmic contact layer and the source / drain electrodes (7,9). この際に、第1基板を複数の画素領域に分ける複数のゲート配線(1)及びデータ配線(3)が形成される。 At this time, a plurality of gate lines separating the first substrate into a plurality of pixel regions (1) and the data line (3) is formed.

【0014】前記ゲート電極(11)、ゲート配線(1) [0014] The gate electrode (11), a gate wiring (1)
は、Al, Mo, Cr, Ta又はAl合金などのような金属をスパッタリング方法で積層した後、パターニングして形成し、同時に、共通補助電極(15)を、画素領域を囲むように形成する。 Is, Al, Mo, Cr, after laminating the metal such as Ta or Al alloy by sputtering, formed by patterning the same time, the common auxiliary electrode (15) is formed so as to surround the pixel region. その上にゲート絶縁膜(35)をSiNx又は Moreover the gate insulating film (35) SiNx or
SiOxをプラズマCVD方法(PECVD)で積層した後、パターニングして形成する。 After stacking the SiOx by plasma CVD method (PECVD), it is formed by patterning. 次いで、半導体層(5)及びオーミッコンタクト層は、各々a-Si及びn+a-SiをプラズマCV Then, the semiconductor layer (5) and O-Mille contact layer, each plasma a-Si and n + a-Si CV
D方法で積層した後、パターニングして形成する。 After stacking the D method, and patterning. また、他の方法には、ゲート絶縁膜(35)、a-Si及びn+a- Further, other methods, the gate insulating film (35), a-Si and n + a-
SiをプラズマCVD法によって連続蒸着してパターニングする。 Si and patterned successively deposited by a plasma CVD method. その後、Al, Mo, Cr, Ta又はAl合金などのような金属をスパッタリング方法で積層した後に、データ配線(3)及びソース/ドレイン電極(7,9)をパターニングによって形成する。 Thereafter, Al, Mo, Cr, a metal such as Ta or Al alloy after laminating a sputtering method, the data lines (3) and formed by patterning the source / drain electrodes (7,9).

【0015】この際に、ストレージ電極(43)を、前記ゲート配線(1)及び/又は共通補助電極(15)とオーバラップするように同時に形成する。 [0015] At this time, the storage electrode (43), the gate lines (1) and / or the common auxiliary electrode (15) so as to overlap to form at the same time. このストレージ電極(43)は前記ゲート配線(1)及び/又は共通補助電極(15)とともにストレージコンデンサーの役割を果たす。 The storage electrode (43) serves for the storage capacitor together with the gate lines (1) and / or the common auxiliary electrode (15).

【0016】次いで、第1基板(31)全体にかけてベンゾシクロブテン(BCB:BenzoCycloButene)、アクリル樹脂, ポリイミド化合物、SiNx又はSiOxなどの物質からなる保護膜(37)を形成し、酸化錫インジウム(ITO:ind [0016] Then, the first substrate (31) across subjected benzocyclobutene (BCB: Benzocyclobutene), an acrylic resin, a polyimide compound, to form a protective film made of a material such as SiNx or SiOx (37), indium tin oxide (ITO : ind
ium tin oxide), Al又はCrなどのような金属をスパッタリング方法で積層してからパターニングして画素電極(13)を形成する。 ium tin Oxide), and patterned after laminating a metal such as Al or Cr by a sputtering method to form a pixel electrode (13). 該画素電極(13)はコンタクトホール(39)を通して前記ドレイン電極(9)及びストレージ電極(43)に連結される。 Pixel electrodes (13) is connected to the drain electrode through the contact hole (39) (9) and the storage electrode (43).

【0017】前記共通補助電極(15)は、前記ゲート配線(1)と同一物質を用いて形成する場合には、同一のマスクで前記ゲート配線(1)と同一層に形成して前記共通電極(17)と電気的に連結する。 [0017] The common auxiliary electrode (15), when formed using the same material as the gate wiring (1), said common electrode formed on the same layer as the gate lines with the same mask (1) (17) and electrically connected. これに代えて、追加のマスクを用いて他の金属で構成するか、互いに異なる二重の層に構成することもできる。 Alternatively, or consist of other metals using additional masks may be configured to different double layers.

【0018】第2基板(33)上には遮光層(25)を形成し、R, G, B(Red, Green, Blue)素子が画素ごとに繰り返されるようにカラーフィルター層(23)を形成する。 [0018] formed in the second upper substrate (33) forming a light shielding layer (25), R, G, B and (Red, Green, Blue) color filter layer as the element is repeated for each pixel (23) to.
このカラーフィルター層(23)上に感光性物質を積層した後、フォトリソグラフィでパターニングし、様々の形状に誘電体構造物(53)を形成する。 After the photosensitive material is laminated on the color filter layer (23), and is patterned by photolithography to form a variety of shapes dielectric structure (53). 次いで、共通電極(17)を画素電極(13)と同様にITOなどのような透明電極から形成し、それから前記第1基板(31)と第2基板(33)との間に液晶を注入することによって、マルチドメイン液晶表示素子を完成する。 Then, the common electrode (17) formed of a transparent electrode such as in the same manner as the pixel electrode (13) ITO, then injecting a liquid crystal between the first and the second substrate board (31) (33) it by, to complete the multi-domain liquid crystal display element.

【0019】前記誘電体構造物(53)を構成する物質は、前記液晶層の誘電率と同一か、またはそれよりも小さな誘電率を有しているものがよく、3以下であることが好ましく、その例として、アクリル(photoacrylate) The material constituting the dielectric structure (53) is preferably the dielectric constant and or same liquid crystal layer, or often one having a smaller dielectric constant than, less than or equal to 3 as an example, the acrylic (photoacrylate)
又はBCBのような物質をあげることができる。 Or it is possible to increase the material, such as BCB.

【0020】前記共通補助電極(15)に電圧(Vcom)を印加する方法は、第1基板(31)上で液晶表示素子の駆動領域の各角にAgドッディング(Ag-Dotting)部を形成することによって、第2基板(33)に電界を印加して上下の電位差により液晶を駆動させる。 The method of applying a voltage (Vcom) to the common auxiliary electrode (15) forms a Ag Doddingu (Ag-dotting) unit at each corner of the drive area of ​​the liquid crystal display device in the first substrate (31) it allows to drive the liquid crystal by the vertical potential difference by applying an electric field to the second substrate (33). 前記各角のAgドッティング部と共通補助電極(15)とに連結して電圧(V The voltage coupled to the Ag dotting portion of each corner and the common auxiliary electrode (15) (V
com)を印加し、その工程は前記共通補助電極(15)を形成することと同時に行われる。 com) is applied to, the process is performed simultaneously with forming the common auxiliary electrode (15).

【0021】さらに、前記第1基板(31)又は第2基板(33)の少なくとも一方の基板上に、高分子を延伸して位相差のフィルム(29)を形成する。 Furthermore, in the first substrate (31) or the second substrate (33) of at least one of the substrates to form a film (29) of the phase difference by stretching a polymer.

【0022】前記位相差のフィルム(29)は、光軸が一つの一軸性物質から構成された、陰性の一軸性フィルム The film of the phase difference (29), the optical axis is constituted by one single material, a negative uniaxial film
(negative uniaxial film)であり、基板に垂直な方向と視野角の変化による方向から使用者が感じる位相差を補償する役割を果たす。 A (negative uniaxial film), serves to compensate the phase difference which the user feels the direction of change in the vertical direction and the viewing angle to the substrate. したがって、階調反転(gray inve Thus, grayscale inversion (gray inve
rsion)の無い領域を広め、傾斜方向からコントラスト比 Spread area without rsion), the contrast ratio from the inclined direction
(contrast ratio)を高め、一つの画素をマルチドメインに形成することにより、一層効果的に左右方向の視野角を補償することができる。 (Contrast ratio) enhanced by forming one pixel into multiple domains, can be compensated for more viewing angle effectively lateral direction.

【0023】本発明のマルチドメイン液晶表示素子において、前記陰性の一軸性フィルム以外に、位相差のフィルムとして陰性の二軸性フィルム(negative biaxial fi [0023] In the multi-domain liquid crystal display device of the present invention, in addition to uniaxial films of the negative biaxial film negative as a film of the phase difference (negatives biaxial fi
lm)を形成してもよい。 lm) may be formed. 光軸が二つの二軸性物質から構成される陰性の二軸性フィルムは、前記一軸性フィルムに比べて、広い視野角(viewing angle)特性を得ることができる。 Biaxial film negative configured optical axis of two biaxial material, compared to the uniaxial film, it is possible to obtain a wide viewing angle (viewing angle) properties. また、前記位相差フィルムを付着した後に、 Further, after attaching the retardation film,
両基板に偏光子(polarizer)(図示せず)を付着してもよく、この場合には、前記偏光子は前記位相差フィルムと一体に形成してもよい。 Polarizer on both substrates (Polarizer) may be attached (not shown), in this case, the polarizer may be formed integrally with the phase difference film.

【0024】図2に示したマルチドメイン液晶表示素子は、画素電極(13)を遮光層(25)および共通補助電極(15)とオーバラップするように形成することによって高い開口率を有している。 The multi-domain liquid crystal display device shown in FIG. 2, has a high aperture ratio by forming such shielding layer pixel electrodes (13) (25) and the common auxiliary electrode (15) overlap there. ストレージ電極(43)は、ゲート配線(1)とオーバラップしてストレージコンデンサーを形成している。 Storage electrode (43) forms a storage capacitor overlap with the gate wiring (1). 前記ストレージ電極(43)と前記共通補助電極(15)とをオーバラップするように形成することもできる。 It said storage electrode (43) and the common auxiliary electrode (15) and can also be formed so as to overlap the.

【0025】図5及び図6は、前記共通電極(17)上に誘電体構造物(53)を形成した実施形態であり、図7及び図8は、前記共通電極(17)内に電界誘導窓(51)を形成した実施形態である。 [0025] Figures 5 and 6, the common electrode (17) is an embodiment of forming a dielectric structure (53) on, 7 and 8, the electric field induced in said common electrode (17) in is an embodiment of forming a window (51). また、図5及び図7は、前記保護膜(37)をSiNx又はSiOxのような物質から形成した実施形態であり、図6及び図8は、BCB, アクリル樹脂 Further, FIGS. 5 and 7, the protective film (37) is an embodiment formed of a material such as SiNx or SiOx, 6 and 8, BCB, acrylic resin
(acrylic resin)又はポリイミド化合物から形成して平坦化した実施形態である。 Is an embodiment which is flattened to form a (acrylic Resin) or polyimide compound.

【0026】図9及び図10は、本発明の第2実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図11及び12は、図10の線III-III′による断面図であり、図13〜16は、図9の線IV-IV′による断面図である。 FIG. 9 and FIG. 10 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, FIGS. 11 and 12 are cross-sectional view according to the line III-III 'in FIG. 10, FIG. 13 to 16 is a cross-sectional view according to the line IV-IV 'of FIG.

【0027】図11〜16において、画素電極(13)は共通補助電極(15)とオーバラップしておらず、遮光層(25)は前記画素電極(13)とオーバラップするように形成されている。 [0027] In FIG. 11 to 16, the pixel electrode (13) is not overlapped with the common auxiliary electrode (15), the light-shielding layer (25) is formed so as to overlap with the pixel electrode (13) there. この際、前記共通補助電極(15)上に形成されているゲート絶縁膜(35)と保護膜(37)とを除去して、画素電極(13)に印加される共通補助電極(15)の電界を強くすれば、この共通補助電極(15)と画素電極(13)とが同一の平面にあるものと同様な効果を得ることができる。 At this time, the common auxiliary electrode (15) a gate insulating film formed on the (35) and the protective layer (37) and by removing the common auxiliary electrode applied to the pixel electrode (13) (15) if strong electric field, the common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (13) can be obtained the same effects as those in the same plane. 図11は共通補助電極(15)の一部分が露出するようにゲート絶縁膜(35)と保護膜(3 Figure 11 is a gate insulating film (35) and the protective layer such that a portion is exposed in the common auxiliary electrode (15) (3
7)とを除去した構造であり、図12は共通補助電極(1 7) and a structure obtained by removing a 12 common auxiliary electrode (1
5)が完全に露出するようにした構造である。 5) is a structure to be completely exposed.

【0028】ストレージ電極(43)はゲート配線(1) The storage electrode (43) is a gate wiring (1)
とオーバラップしてストレージコンデンサーを形成している。 To form a storage capacitor overlap with. 前記ストレージ電極(43)を前記共通補助電極(15)とオーバラップするように形成することもできる。 It is also possible to form the storage electrode (43) so as to overlap with the common auxiliary electrode (15).

【0029】図13及び図14は、前記共通電極(17) [0029] FIGS. 13 and 14, the common electrode (17)
上に誘電体構造物(53)を形成した実施形態であり、図15及び図16は、前記共通電極(17)内に電界誘導窓(51)を形成した実施形態である。 A embodiment of forming a dielectric structure (53) above, FIGS. 15 and 16 is an embodiment in which an electric field induced window (51) to said common electrode (17) inside. また、図13及び図15は、前記保護膜(37)をSiNx又はSiOxのような物質から形成した実施形態であり、図14及び図16は、BC Further, FIGS. 13 and 15, the protective film (37) is an embodiment formed of a material such as SiNx or SiOx, 14 and 16, BC
B, アクリル樹脂又はポリイミド化合物から形成して平坦化した実施形態である。 B, and embodiments flattened to form an acrylic resin or a polyimide compound.

【0030】図17は、本発明の第3実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図18は図17の線VV′による断面図であり、図19〜図22 FIG. 17 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, FIG. 18 is a sectional view according to the line VV 'of FIG. 17, FIGS. 19 22
は、図17の線VI-VI′による断面図である。 Is a sectional view according to the line VI-VI 'of FIG 17.

【0031】これらの実施形態の液晶表示素子は、上下一対の画素電極(13)等を、ストレージ電極(43)を共有する共通補助電極(15)上に形成した構造であって、図2〜図8に示した液晶表示素子より開口率を向上させることができる。 The liquid crystal display device of these embodiments, the like pair of upper and lower pixel electrodes (13), a structure formed on a common auxiliary electrode (15) sharing the storage electrode (43), FIG. 2 it is possible to improve the aperture ratio than the liquid crystal display device shown in FIG. また、画素電極(13)を共通補助電極(15)とオーバラップするように形成し、遮光層(25) Further, it formed so as to overlap with the common auxiliary electrode (15) a pixel electrode (13), the light-shielding layer (25)
を前記共通補助電極とオーバラップさせ、ストレージ電極(43)が共通補助電極(15)とストレージコンデンサーを形成している。 The common auxiliary electrode and to overlap the storage electrode (43) forms a storage capacitor common auxiliary electrode (15).

【0032】図19及び図20は、前記共通電極(17) [0032] FIGS. 19 and 20, the common electrode (17)
上に誘電体構造物(53)を形成した実施形態であり、図21及び図22は、前記共通電極(17)内に電界誘導窓(51)を形成した実施形態である。 A embodiment of forming a dielectric structure (53) above, 21 and 22 is an embodiment in which an electric field induced window (51) to said common electrode (17) inside. また、図19及び図21は、前記ゲート/データ配線(1),(3)及び薄膜トランジスタ上に遮光層(25)を形成した実施形態であり、図20及び図22は、薄膜トランジスタ上にのみ遮光層(25)を形成した実施形態である。 Further, FIGS. 19 and 21, the gate / data lines (1) is an embodiment of forming a (3) and the light-shielding layer on the thin film transistor (25), 20 and 22, shielding only on the thin film transistor is an embodiment of forming a layer (25).

【0033】図23及び図24は、本発明の第4実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、 FIG. 23 and FIG. 24 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention,
図25及び図26は、図24の線VII-VII′による断面図である。 25 and FIG. 26 is a sectional view according to the line VII-VII 'of FIG. 24.

【0034】前記液晶表示素子は、次のような部分を除いては、同一に構成されている。 [0034] The liquid crystal display device, except the following parts: are configured the same. 画素電極(13)と共通補助電極(15)とがオーバラップしていない一方、遮光層(25)は前記画素電極(13)とオーバラップするように形成されている。 While the pixel electrode (13) and the common auxiliary electrode (15) does not overlap, the light-shielding layer (25) is formed so as to overlap with the pixel electrode (13). ここで、前記共通補助電極(15)上に形成されているゲート絶縁膜と保護膜とを除去し、画素電極(13)に印加される共通補助電極(15)の電界を強くすることにより、前記共通補助電極(15)と画素電極(13)が同一平面上にあるものと同様な効果を得ることができる。 Here, by the common auxiliary electrode (15) to remove the gate insulating film and the protective film is formed on, to increase the electric field of the common auxiliary electrode (15) applied to the pixel electrode (13), the common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (13) can be obtained the same effects as those on the same plane. 図25は、共通補助電極の一部分が露出するようにゲート絶縁膜(35)と保護膜(37)とを除去した構造であり、図26は、共通補助電極(15)が完全に露出するようにした構造である。 Figure 25 is a structure obtained by removing the gate insulating film (35) and the protective layer (37) such that a portion of the common auxiliary electrode is exposed, Fig. 26, the common auxiliary electrode (15) such that the completely exposed it is a structure in.

【0035】図27は、本発明の第5実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図28は図27の線VIII-VIII′による断面図である。 [0035] Figure 27 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention, FIG 28 is a sectional view according to the line VIII-VIII 'of FIG. 27. この第5実施形態は、高開口率の薄膜トランジスタ構造であって、 The fifth embodiment is a thin film transistor structure of a high aperture ratio,
トランジスタ以外は本発明の第2実施形態と同一であり、共通補助電極(15)上にもストレージ電極(43)を形成し、ストレージコンデンサを拡張させる効果を得ることができる。 Other than the transistor is the same as the second embodiment of the present invention, it is possible to common auxiliary also form a storage electrode (43) on the electrode (15), obtain the effect of extending the storage capacitor. 前記共通補助電極(15)と画素電極(1 The common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (1
3)とをオーバラップさせた構造も可能である。 3) and was allowed to overlap structure is also possible.

【0036】図29は、本発明の第6実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 FIG. 29 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention. この第6実施形態は、高開口率のL字薄膜トランジスタ(L-lined T The sixth embodiment, a high aperture ratio L-TFT (L-lined T
hin Film Transistor)構造であって、トランジスタ以外は本発明の第4実施形態と同一であり、前記共通補助電極(15)と画素電極(13)とをオーバラップさせた構造も可能である。 A hin Film Transistor) structure, other than the transistor is the same as the fourth embodiment of the present invention, it is also the common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode and (13) were overlapped structure.

【0037】前記L字TFTはゲート配線(1)上にL字形状にTFTを形成することによって、前述した他の実施形態等に比べて、開口率を向上する効果があり、ゲート配線(1)とドレイン電極(9)との間で発生する寄生容量を減らすことができる。 [0037] By forming the L-TFT is a TFT L-shape on the gate line (1), as compared to such other embodiments described above, it has the effect of improving the aperture ratio, a gate wiring (1 ) and it is possible to reduce the parasitic capacitance generated between the drain electrode (9).

【0038】図30〜図36は、本発明の一実施形態による様々な電界誘導窓又は誘電体構造物を示す図面である。 [0038] FIGS. 30 to 36 are views showing various field induction window or dielectric structure according to an embodiment of the present invention. 本発明のマルチドメイン液晶表示素子は、前記画素電極及び/又は共通電極上に誘電体構造物(53)を形成するか、前記画素電極、保護膜、ゲート絶縁膜、カラーフィルター層、オーバーコート層及び/又は共通電極をパターニングし、その内部にホール又はスリットのような電界誘導窓(51)を形成することによって電界歪曲という効果及びマルチドメインを発揮する。 Multi-domain liquid crystal display device of the present invention, either to form a dielectric structure (53) to the pixel electrode and / or the common electrode, the pixel electrode, a protective film, a gate insulating film, a color filter layer, an overcoat layer and / or patterning the common electrode, is effective and multi-domain that field distortions by forming an electric field induced window (51), such as a hole or slit therein.

【0039】前記電界誘導窓(51)又は誘電体構造物(53)は、横方向、縦方向又は両対角線方向に細長くパターニングして2ドメインに分割した効果を出すか、× [0039] The field-induced window (51) or a dielectric structure (53), lateral, or longitudinal or elongated patterned to both diagonal out the divided effect 2 domain, ×
形状、+ 形状、菱形状、くし目の形状、ダブルY(図36)の形状及び ×と+形状を同時にパターニングして4ドメイン及びマルチドメインに分割した効果を発揮し、前記第1及び第2基板の内で、少なくとも一方の基板上に形成するか、両基板上に独立的に又は混用して適用することも可能である。 Shape, + shape, rhombic shape of the comb tooth, double Y exhibits shape and × and + shape divided simultaneously patterned to 4 domains and multi-domain effects (Fig. 36), the first and second among the substrate, or formed on at least one of the substrates, it can be applied independently or in mix to on both substrates.

【0040】さらに、本発明のマルチドメイン液晶表示素子では、前記第1基板及び/又は第2基板全体にわたって、配向膜(図示せず)を形成している。 [0040] Further, in the multi-domain liquid crystal display device of the present invention, throughout the first substrate and / or the second substrate to form an alignment layer (not shown). ここで、前記配向膜を構成する配向物質としては、ポリアミド又はポリイミド系化合物、ポリビニルアルコール, ポリアミド酸又はSiO2などの物質を用いている。 Examples of the alignment material constituting the alignment film, is used a polyamide or polyimide-based compound, polyvinyl alcohol, materials such as polyamic acid or SiO2. この配向物質は、ラビング法を用いて配向方向を決定する場合、その他のラビング処理に適宜な物質であるなら、いかなるものであっても適用可能である。 The alignment material, when determining the orientation direction using the rubbing method, if it is other suitable materials rubbing treatment is applicable be any one.

【0041】また、前記配向膜を光反応性のある物質、 Further, the alignment layer of photoreactive material,
即ち、ポリビニルシンナメート(PVCN:polyvinylcinna In other words, polyvinyl cinnamate (PVCN: polyvinylcinna
mate), ポリシロキサンシンナメート(PSCN:polysilox mate), polysiloxane cinnamate (PSCN: polysilox
anecinnamate),又はセルロースシンナメート(CelCN:c anecinnamate), or cellulose cinnamate (CelCN: c
ellulosecinnamate)系化合物などの物質から構成して光配向膜を形成することもでき、その他の光配向処理に適宜な物質であるなら、いかなるものであっても適用可能である。 It can also be comprised of materials such as Ellulosecinnamate) compound to form a photo-alignment film, if an other suitable material to the optical alignment treatment is applicable be any one. 前記光配向膜には、光を少なくとも1回照射し、液晶分子の方向子が成すプリチルト角(pretilt ang Wherein the photo-alignment film, light is irradiated at least once, pretilt angle director of the liquid crystal molecules are formed (pretilt ang
le)及び配向方向(alignment direction)又はプリチルト方向(pretilt direction)を同時に決定し、それによる液晶の配向安定性を確保する。 le) and orientation (alignment direction) or determines pretilt direction (pretilt direction) at the same time, to ensure the liquid crystal alignment stability by it. このような光配向に用いられる光は、紫外線領域の光が適しており、非偏光、線偏光及び部分偏光された光のいずれを用いてもよい。 Light used for such an optical alignment, light in the ultraviolet region and is suitable, non-polarized light, may be any of linear polarized light and partially polarized light.

【0042】前記ラビング法又は光配向法は、第1基板又は第2基板のいずれかの基板のみに適用するか、これらの基板の両方に適用してもよく、両基板に互いに異なる配向処理をするか、配向膜のみを形成し、配向処理をしないことも可能である。 [0042] The rubbing method or photo-alignment method is to apply only one of the substrate of the first substrate or the second substrate may be applied to both of these substrates, a different alignment treatment on both substrates either, oriented film only is formed, it is possible not to an orientation treatment.

【0043】また、前記配向処理をすることによって、 [0043] In addition, by the alignment process,
少なくとも二つの領域に分割されたマルチドメイン液晶表示素子を形成し、液晶層の液晶分子が各領域上で互いに異なる方向に配向することができる。 Forming a multi-domain liquid crystal display device which is divided into at least two regions can be liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are aligned in different directions on each region. 即ち、各画素を +形状又は ×形状のように四つの領域に分割するか、 I.e., it is divided into four areas as each pixel + shape or × shape,
横方向、縦方向又は両対角線方向に分割し、各領域における各基板の配向処理又は配向方向を異なるように形成することによって、マルチドメイン効果が発揮される。 Laterally divided longitudinally or both diagonal directions, by an alignment process or the alignment direction of the substrates to form differently in each region, multi-domain effect is exhibited.
分割された領域の内で、少なくとも一つの領域を非配向の領域にしてもよく、全ての領域を非配向の領域にすることも可能である。 Among the divided regions may be at least one region of the non-oriented region, it is also possible to make all the regions in the non-orientation region.

【0044】 [0044]

【発明の効果】本発明のマルチドメイン液晶表示素子は、ゲート配線と同一層に画素領域を囲むように共通補助電極を形成し、電界歪曲を誘導することによって、工程の単純化するとともに、高開口率を達成し、かつ、マルチドメイン効果を向上する効果がある。 Multi-domain liquid crystal display device of the present invention according to the present invention forms a common auxiliary electrode so as to surround the pixel region to the gate line and the same layer, by inducing electric field distortion, as well as process simplification, high to achieve an aperture ratio, and is effective to improve the multi-domain effect. また、前記共通補助電極がゲート配線と同一層にあるので、画素電極と共通補助電極間の短絡を防止し、歩留りを向上させることができる。 Further, the since the common auxiliary electrode is in the gate wiring and the same layer, preventing a short circuit between the common auxiliary electrode and the pixel electrode, it is possible to improve the yield.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 従来の液晶表示素子の断面図である。 1 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

【図2】 本発明の第1実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 It is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention; FIG.

【図3】 図2の液晶表示素子の平面図である。 3 is a plan view of a liquid crystal display device of FIG.

【図4】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。 4 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図5】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。 5 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図6】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。 6 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図7】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。 7 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図8】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。 8 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図9】 本発明の第2実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 9 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図10】 図9の液晶表示素子の平面図である。 10 is a plan view of a liquid crystal display device of FIG.

【図11】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。 11 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図12】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。 12 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図13】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。 13 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図14】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。 14 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図15】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。 15 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図16】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。 16 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG.

【図17】 本発明の第3実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 17 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図18】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of [18] FIG.

【図19】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of [19] FIG.

【図20】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG 20 FIG 17.

【図21】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of [21] FIG.

【図22】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of [22] FIG.

【図23】 本発明の第4実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 23 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図24】 図23の液晶表示素子の平面図である。 It is a plan view of a liquid crystal display device of FIG 24 FIG 23.

【図25】 図23の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG. 25 FIG. 23.

【図26】 図23の液晶表示素子の縦断面図である。 It is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of FIG. 26 FIG. 23.

【図27】 本発明の第5実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 27 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention.

【図28】 図27の液晶表示素子の縦断面図である。 Figure 28 is a longitudinal sectional view of a liquid crystal display device in FIG 27.

【図29】 本発明の第6実施形態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図である。 It is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a sixth embodiment of FIG. 29 the present invention.

【図30】 本発明の変形例による電界誘導窓又は誘電体構造物を示す図である。 30 is a diagram showing the electric field induced window or dielectric structure according to a modification of the present invention.

【図31】 図30と同様、他の変形例を示す図である。 Similar to FIG. 31 FIG. 30 is a diagram showing another modification.

【図32】 図30と同様、他の変形例を示す図である。 Similar to FIG. 32 FIG. 30 is a diagram showing another modification.

【図33】 図30と同様、他の変形例を示す図である。 Similar to FIG. 33 FIG. 30 is a diagram showing another modification.

【図34】 図30と同様、他の変形例を示す図である。 Similar to FIG. 34 FIG. 30 is a diagram showing another modification.

【図35】 図30と同様、他の変形例を示す図である。 Similar to FIG. 35 FIG. 30 is a diagram showing another modification.

【図36】 図30と同様、他の変形例を示す図である。 Similar to FIG. 36 FIG. 30 is a diagram showing another modification.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 ゲート配線 3 データ配線 5 半導体層 7 ソース電極 9 ドレイン電極 11 ゲート電極 13 画素電極 15 共通補助電極 17 共通電極 21 補助電極 23 カラーフィルター層 25 遮光層 27 オープン領域 29 位相差のフィルム 31 第1基板 33 第2基板 35 ゲート絶縁膜 37 保護膜 39 コンタクトホール 43 ストレージ電極 51 電界誘導窓(ホール又はスリット) 53 誘電体構造物 Film 31 first substrate of first gate line 3 data wire 5 semiconductor layer 7 a source electrode 9 drain electrode 11 gate electrode 13 pixel electrode 15 common auxiliary electrode 17 common electrode 21 auxiliary electrode 23 color filter layer 25 shielding layer 27 open areas 29 phase difference 33 second substrate 35 a gate insulating film 37 protective film 39 contact hole 43 storage electrode 51 field induction windows (holes or slits) 53 dielectric structure

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヒュン ホ シン 大韓民国 キュンキドー クンポ市 クム ジュン洞 876番地 ユルコクアパート 338−1504 (72)発明者 キョン ジン キム 大韓民国 キュンキドー ブチョン市 ソ ーサ區 ソーサボン3洞 (番地なし) ハンシンアパート 108−1210 (72)発明者 ユン ボク リー 大韓民国 キュンキドー アンヤン市 ド ンガン區 ブフン洞 (番地なし) エウ ンハス−チュンクアパート 107−1702 (72)発明者 ジョム ジェ キム 大韓民国 ソウル ドンダエムン區 ダプ シプリ4洞 42番地 ドンダプ−ハンシン アパート 2−913 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Hyun Ho Shin South Korea Kyunkido Kunpo City Kum Jun-dong 876 address Yul Kok apartment 338-1504 (72) inventor Kyung Jin Kim South Korea Kyunkido Buchon City source over support 區 Sosabon 3 dong ( address none) Hanshin apartment 108-1210 (72) inventor Yun Bok Lee South Korea Kyunkido Anyang City de manganese 區 Bufun dong (no address) Eugenio Nhasu - Chun-click apartment 107-1702 (72) inventor Jomu Jeffrey Kim South Korea Seoul Dondaemun 區Dapu Shipuri 4-dong 42 address Dondapu - Hanshin apartment 2-913

Claims (31)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 対向配置された第1基板及び第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定義する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記画素領域内に一体に形成された画素電極と、前記ゲート配線と同一層に形成され、前記画素領域を囲むように形成された共通補助電極と、前記第1基板全体に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に第1基板全体に形成された保護膜と、前記第2基板上に形成された遮光層と、該遮光層上に形成されたカラーフィルター層と、該カラーフィルター層上に形成された共通電極と、前記第1基板及び第2基板の少なくとも一方の基板上に形成された配向膜とからなるマルチドメイン液晶表示素子。 1. A first substrate and a second substrate opposed, first substrate and the liquid crystal layer and said first formed in a matrix on the substrate a pixel region formed between the second substrate a plurality of gate and data lines defining a said pixel pixel formed integrally in the region electrode, are formed on the same layer as the gate line, and the common auxiliary electrode formed so as to surround the pixel region the first substrate gate insulating formed on the entire film, the gate and the protective film formed on the entire surface of the first substrate on the insulating film, and a light shielding layer formed on the second substrate, the light shielding layer a color filter layer formed on a common electrode formed on the color filter layer, multi-domain liquid crystal display device comprising a first substrate and a second substrate of at least one of the alignment film formed on the substrate .
  2. 【請求項2】 前記保護膜の下で前記画素電極に連結され、前記ゲート配線とオーバラップするように形成されたストレージ電極をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 2. A connected to the pixel electrode under the protective layer, multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising the formed storage electrode to the gate line overlaps .
  3. 【請求項3】 前記保護膜の下で前記画素電極に連結され、前記共通補助電極とオーバラップするように形成されたストレージ電極をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 3. A connected to the pixel electrode under the protective film, the common auxiliary electrode and the multi-domain liquid crystal display according to claim 1, further comprising the formed storage electrode so as to overlap element.
  4. 【請求項4】 前記画素電極が、前記共通補助電極とオーバラップするように形成されていることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 Wherein said pixel electrode is the common auxiliary electrode and the multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it is formed so as to overlap.
  5. 【請求項5】 前記遮光層が、前記共通補助電極とオーバラップするように形成されていることを特徴とする請求項4記載のマルチドメイン液晶表示素子。 Wherein said light shielding layer is, the common auxiliary electrode and the multi-domain liquid crystal display device according to claim 4, characterized in that it is formed so as to overlap.
  6. 【請求項6】 前記画素電極が、前記共通補助電極とオーバラップしていないことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 Wherein said pixel electrode is a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the not the common auxiliary electrode overlap.
  7. 【請求項7】 前記遮光層が、前記画素電極とオーバラップしていることを特徴とする請求項6記載のマルチドメイン液晶表示素子。 Wherein said light shielding layer is a multi-domain liquid crystal display device according to claim 6, characterized in that said are pixel electrodes overlap.
  8. 【請求項8】 前記ゲート絶縁膜と保護膜とが、前記共通補助電極以外の領域に形成されていることを特徴とする請求項6記載のマルチドメイン液晶表示素子。 8. and the gate insulating film and the protective film, the multi-domain liquid crystal display device according to claim 6, characterized in that it is formed in a region other than the common auxiliary electrode.
  9. 【請求項9】 前記共通補助電極が、前記共通電極と電気的に連結されていることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 Wherein said common auxiliary electrode, the common electrode and the multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it is electrically connected.
  10. 【請求項10】 前記画素電極上に電界歪曲用の誘電体構造物をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 10. A multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a dielectric structure for electric field distortion on the pixel electrode.
  11. 【請求項11】 前記共通電極上に電界歪曲用の誘電体構造物をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 11. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a dielectric structure for electric field distortion on the common electrode.
  12. 【請求項12】 前記画素電極が、その内部に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 12. The method of claim 11, wherein the pixel electrode is a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it has an electric field-induced window therein.
  13. 【請求項13】 前記保護膜が、その内部に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 Wherein said protective film is a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it has an electric field-induced window therein.
  14. 【請求項14】 前記ゲート絶縁膜が、その内部に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 14. The gate insulating film, a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it has an electric field-induced window therein.
  15. 【請求項15】 前記共通電極が、その内部に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 15. The method of claim 14, wherein the common electrode is a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it has an electric field-induced window therein.
  16. 【請求項16】 前記カラーフィルター層が、その表面に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 16. The color filter layer, multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it has an electric field-induced windows on its surface.
  17. 【請求項17】 前記カラーフィルター層上にオーバーコート層をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 17. multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising an overcoat layer on the color filter layer.
  18. 【請求項18】 前記オーバーコート層が、その内部に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項17記載のマルチドメイン液晶表示素子。 18. The overcoat layer, multi-domain liquid crystal display device according to claim 17, characterized in that it has an electric field-induced window therein.
  19. 【請求項19】 前記保護膜を構成する物質が、ベンゾシクロブテン(BCB:BenzoCycloButene)、アクリル樹脂及びポリイミド化合物からなる一群から選択されることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 19. materials constituting the protective film, benzocyclobutene (BCB: BenzoCycloButene), multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it is selected from the group consisting of acrylic resin and polyimide compound .
  20. 【請求項20】 前記保護膜を構成する物質が、SiNx及びSiOxからなる一群から選択されることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 20. A material constituting the protective film, the multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it is selected from the group consisting of SiNx and SiOx.
  21. 【請求項21】 前記共通補助電極を構成する物質が、 21. material constituting the common auxiliary electrode,
    酸化錫インジウム(ITO:indium tin oxide), Al, Mo, C Indium tin oxide (ITO: indium tin oxide), Al, Mo, C
    r, Ta, Ti及びAl合金からなる一群から選択されることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 r, Ta, multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it is selected from the group consisting of Ti and Al alloy.
  22. 【請求項22】 前記画素領域が、少なくとも二つの領域に分割され、前記液晶層の液晶分子が各領域上で互いに異なる駆動特性を示すことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 22. The pixel region is divided into at least two regions, a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer, characterized in that it presents a different driving characteristics from each other on the regions .
  23. 【請求項23】 前記配向膜が、少なくとも二つの領域に分割され、前記液晶層の液晶分子が各領域上で互いに異なる配向特性を示すことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 23. The alignment film is divided into at least two regions, a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer, characterized in that it presents a different orientation characteristic from each other on the regions .
  24. 【請求項24】 前記配向膜の領域の内で、少なくとも一つの領域が配向処理されていることを特徴とする請求項23記載のマルチドメイン液晶表示素子。 In 24. Among regions of the alignment layer, multi-domain liquid crystal display device according to claim 23, wherein the at least one area is oriented process.
  25. 【請求項25】 前記配向膜のいずれの領域も配向処理されていないことを特徴とする請求項23記載のマルチドメイン液晶表示素子。 25. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 23, wherein the any of the regions of the alignment film not oriented process.
  26. 【請求項26】 前記液晶層を構成する液晶が、陽又は陰の誘電率異方性を有する液晶であることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 26. The liquid crystal constituting the liquid crystal layer, multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, which is a liquid crystal having a dielectric anisotropy of positive or negative.
  27. 【請求項27】 前記第1基板及び第2基板の少なくとも一方の基板上に陰性の一軸性フィルムがさらに形成されていることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 27. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the uniaxial film negative is further formed on the first substrate and the second substrate at least one of the substrates.
  28. 【請求項28】 前記第1基板及び第2基板の少なくとも一方の基板上に陰性の二軸性フィルムがさらに形成されていることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 28. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the biaxial film negative is further formed on the first substrate and the second substrate at least one of the substrates.
  29. 【請求項29】 前記液晶層が、カイラルドパントを含むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。 29. The liquid crystal layer is a multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it comprises a chiral de punt.
  30. 【請求項30】 対向配置された第1基板及び第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形成されている液晶層と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定義する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記画素領域内に一体に形成されている画素電極と、前記ゲート配線と同一層に形成され、前記画素電極を囲むように形成されている共通補助電極とからなるマルチドメイン液晶表示素子。 30. A first substrate and a second substrate opposed, first substrate and a liquid crystal layer formed between the second substrate, are formed in a matrix on the first substrate pixel a plurality of gate and data lines defining a region, a pixel electrode which is formed integrally with the pixel region are formed on the same layer as the gate line, a common which is formed so as to surround the pixel electrode multi-domain liquid crystal display device comprising the auxiliary electrode.
  31. 【請求項31】 対向配置された第1基板及び第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形成されている液晶層と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定義する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート配電とデータ配線との交差点に形成されているL字薄膜トランジスタ(L-lined Thin Film Transistor)と、前記画素領域内に一体に形成されている画素電極と、前記ゲート配線と同一層に形成され、前記画素領域を囲むように形成された共通補助電極と、前記第1基板全体にわたって形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に第1基板全体にわたって形成された保護膜と、前記第2基板上に形成された遮光層と、該遮光層上に形成されたカラーフィルター層と、該カラーフィルター層上に形成された共通電極と、前記第1基板及 A first substrate and a second substrate 31. oppositely disposed, and a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, are formed in a matrix on the first substrate pixel a plurality of gate and data lines defining a region, the L-shaped thin film transistor which is formed at the intersection of the gate power distribution and data lines (L-lined Thin Film Transistor), is formed integrally with the pixel region a pixel electrode are formed on the same layer as the gate line, and the common auxiliary electrode formed so as to surround the pixel region, wherein the first gate insulating film formed over the substrate, on the gate insulating film a protective film formed over the entire surface of the first substrate, a light shielding layer formed on the second substrate, a color filter layer formed on the light shielding layer, a common electrode formed on the color filter layer the first substrate 及 第2基板の少なくとも一方の基板上に形成された配向膜とからなるマルチドメイン液晶表示素子。 Multi-domain liquid crystal display device consisting of an alignment film formed on at least one of the substrates of the second substrate.
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