JP2000164813A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2000164813A
JP2000164813A JP10338291A JP33829198A JP2000164813A JP 2000164813 A JP2000164813 A JP 2000164813A JP 10338291 A JP10338291 A JP 10338291A JP 33829198 A JP33829198 A JP 33829198A JP 2000164813 A JP2000164813 A JP 2000164813A
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JP
Japan
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power supply
dram
circuit
semiconductor integrated
module
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JP10338291A
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Japanese (ja)
Inventor
Emi Hayashi
恵美 林
Kazuhiko Shimakawa
一彦 島川
Nobuyuki Nakai
信行 中井
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit, in which the degree of freedom of the interface of a DRAM(dynamic random access memory) is improved, by optimizing the area and the consumption power of the DRAM to a necessary minimum limit, according to the power source specification of the integrated circuit. SOLUTION: This semiconductor integrated circuit device is provided with individual modules which include a DRAM 100 provided with a memory cell 101, a word driver 102, a row decoder 103, a sense amplifier 104, a column decoder 105, an address buffer 107, an I/O buffer 110, a control circuit 106, and a power source pin 109 for VDD2 to a memory cell 101, a voltage step-up module 120 wherein one side of a layout pattern on a wafer and the terminal position on the side are made identical with the length of the one side and to the terminal position of the DRAM module 100, and a level shifter circuit module 140, wherein one side of the layout pattern on the wafer and the terminal position on the side are made identical with the length of the one side and to the terminal position of the DRAM module 100.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイナミックラン
ダムアクセスメモリ(以下、DRAMと略称する。)を
有する半導体集積回路に関し、特に、CPU( Centra
l Processing Unit)や変換回路などのロジック回路
とDRAMとを混載した半導体集積回路に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a dynamic random access memory (hereinafter abbreviated as DRAM), and more particularly to a CPU (Centra).
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which a logic circuit such as an l processing unit or a conversion circuit and a DRAM are mixed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体集積回路には、例えば、情
報を記憶するメモリ集積回路としてのDRAMを構成し
たものがある。
2. Description of the Related Art As a conventional semiconductor integrated circuit, for example, there is a semiconductor integrated circuit in which a DRAM is configured as a memory integrated circuit for storing information.

【0003】通常、このDRAMには、基準の電源電圧
と、この基準の電源電圧より高い電圧の2種類を使用し
ている。この2種類の電圧のうちの基準の電源電圧より
高い電源電圧は、DRAM内のメモリセルへの書き込み
のために用いられ、基準の電源電圧はその他の回路など
のために用いられている。
Usually, two types of DRAMs are used: a reference power supply voltage and a voltage higher than the reference power supply voltage. A power supply voltage higher than the reference power supply voltage of the two types of voltages is used for writing to a memory cell in the DRAM, and the reference power supply voltage is used for other circuits and the like.

【0004】従来、DRAMとロジック回路とを混載し
た半導体集積回路では、基準の電源電圧のみをDRAM
へ供給し、DRAMの内部に設けられている昇圧回路で
この基準の電源電圧より高い電源電圧を発生させてDR
AM内のメモリセルへの書き込みのために使用してい
る。また、DRAMからの出力は、供給された基準の電
源電圧に従ったものである。
Conventionally, in a semiconductor integrated circuit in which a DRAM and a logic circuit are mixed, only a reference power supply voltage is applied to the DRAM.
And a booster circuit provided inside the DRAM generates a power supply voltage higher than this reference power supply voltage to generate a DR.
It is used for writing to a memory cell in the AM. The output from the DRAM is in accordance with the supplied reference power supply voltage.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のD
RAMを有する半導体集積回路には、メモリセルへの書
き込み用の電圧と同じ電圧が外部から供給されているも
のがあるが、この場合でもDRAMマクロ内の昇圧回路
で基準の電源電圧からメモリセルへの書き込み用の電圧
に昇圧させており、すべてのDRAMマクロ内に昇圧回
路を設置することはDRAMの面積の増大にもつなが
り、また消費電力を増大させる一因にもなるという問題
がある。
However, the conventional D
In some semiconductor integrated circuits having a RAM, the same voltage as the voltage for writing to a memory cell is supplied from the outside. Even in this case, a booster circuit in a DRAM macro transfers a reference voltage from a reference power supply voltage to the memory cell. The voltage is increased to the voltage for writing. Therefore, installing a booster circuit in all the DRAM macros leads to an increase in the area of the DRAM and a problem of an increase in power consumption.

【0006】また、DRAMとロジック回路とが混載さ
れた半導体集積回路において、DRAMとのインターフ
ェースが必要であるロジック回路が基準の電源電圧より
低い電源電圧を使用する場合は、設計時にレベルシフタ
回路を前記半導体集積回路に設ける必要があり、設計の
負担が大きくなるという問題がある。
Further, in a semiconductor integrated circuit in which a DRAM and a logic circuit are mixedly mounted, when a logic circuit which requires an interface with the DRAM uses a power supply voltage lower than a reference power supply voltage, the level shifter circuit is required at design time. It is necessary to provide the circuit in a semiconductor integrated circuit, and there is a problem that the design burden increases.

【0007】本発明は、DRAMの面積と消費電力とを
本半導体集積回路の電源仕様に応じて必要最小限に最適
化しDRAMのインターフェースの自由度を増大させ設
計の負荷を軽減した半導体集積回路を提供することを目
的とする。
The present invention provides a semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of a DRAM are optimized to the minimum necessary according to the power supply specification of the present semiconductor integrated circuit to increase the degree of freedom of the interface of the DRAM and reduce the design load. The purpose is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、メモリセルとワードドライバとロウデコーダとセン
スアンプとコラムデコーダとアドレスバッファと入出力
バッファと制御回路と前記メモリセルへの書き込み電源
用入力端子とを設けたダイナミックランダムアクセスメ
モリと、ウエハ上のレイアウトパターンの1辺およびそ
の辺上の端子位置を前記ダイナミックランダムアクセス
メモリのその1辺と同じ長さで同じ端子位置とした昇圧
回路部と、ウエハ上のレイアウトパターンの1辺および
その辺上の端子位置を前記ダイナミックランダムアクセ
スメモリのその1辺と同じ長さかつ同じ端子位置とした
レベルシフタ回路部とを個別のモジュールとして備えた
ものである。
A semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises a memory cell, a word driver, a row decoder, a sense amplifier, a column decoder, an address buffer, an input / output buffer, a control circuit, and a power supply for writing to the memory cell. A dynamic random access memory provided with an input terminal, and a booster circuit section having one side of a layout pattern on a wafer and a terminal position on the side having the same length and the same terminal position as the one side of the dynamic random access memory And a level shifter circuit portion having one side of the layout pattern on the wafer and terminal positions on the side having the same length and the same terminal positions as the one side of the dynamic random access memory as individual modules. is there.

【0009】本発明よると、DRAMの面積と消費電力
とを本半導体集積回路の電源仕様に応じて必要最小限に
最適化しDRAMのインターフェースの自由度を増大さ
せ設計の負荷を軽減した半導体集積回路を提供すること
ができる。
According to the present invention, a semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of a DRAM are optimized to a necessary minimum according to the power supply specification of the present semiconductor integrated circuit, the degree of freedom of the interface of the DRAM is increased, and the design load is reduced. Can be provided.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、メモリセルとワードドライバとロウデコーダとセン
スアンプとコラムデコーダとアドレスバッファと入出力
バッファと制御回路と前記メモリセルへの書き込み電源
用入力端子とを設けたダイナミックランダムアクセスメ
モリと、ウエハ上のレイアウトパターンの1辺およびそ
の辺上の端子位置を前記ダイナミックランダムアクセス
メモリのその1辺と同じ長さで同じ端子位置とした昇圧
回路部と、ウエハ上のレイアウトパターンの1辺および
その辺上の端子位置を前記ダイナミックランダムアクセ
スメモリのその1辺と同じ長さかつ同じ端子位置とした
レベルシフタ回路部とを個別のモジュールとして備えた
半導体集積回路としたものであり、本半導体集積回路の
電源仕様に応じてDRAMの面積と消費電力とを必要最
小限に最適化しDRAMのインターフェースの自由度を
増大させ設計の負荷を軽減した半導体集積回路を提供す
ることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 of the present invention is directed to a memory cell, a word driver, a row decoder, a sense amplifier, a column decoder, an address buffer, an input / output buffer, a control circuit, and writing to the memory cell. A dynamic random access memory provided with an input terminal for a power supply, and a booster in which one side of a layout pattern on a wafer and a terminal position on the side have the same length and the same terminal position as that side of the dynamic random access memory. A circuit portion and a level shifter circuit portion having one side of the layout pattern on the wafer and terminal positions on the side having the same length and the same terminal position as the one side of the dynamic random access memory as individual modules. It is a semiconductor integrated circuit. According to the power supply specification of the semiconductor integrated circuit, D It is possible to provide a semiconductor integrated circuit with reduced load on the design and AM area of power consumption and increase the optimized degree of freedom interfaces DRAM required minimum.

【0011】本発明の請求項2に記載の発明は、請求項
1記載のダイナミックランダムアクセスメモリを駆動さ
せるための基準電圧の電源パッドとこの基準電圧より高
い電圧の電源パッドとを備え、前記ダイナミックランダ
ムアクセスメモリとこれ以外のロジック回路とを混載し
た半導体集積回路としたものであり、昇圧機能とレベル
シフタ機能とが不要である半導体集積回路の場合では、
DRAMと昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを個別に
モジュール化しているので、昇圧回路部とレベルシフタ
回路部とを削除したDRAMを容易に構成することがで
き、DRAMの面積と消費電力とを必要最小限に削減し
た半導体集積回路を得ることができ、設計の負荷を軽減
することができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a power supply pad of a reference voltage for driving the dynamic random access memory of the first aspect, and a power supply pad of a voltage higher than the reference voltage. In the case of a semiconductor integrated circuit in which a random access memory and a logic circuit other than the random access memory are mounted, and a boosting function and a level shifter function are not required,
Since the DRAM, the booster circuit section, and the level shifter circuit section are individually modularized, a DRAM in which the booster circuit section and the level shifter circuit section are eliminated can be easily configured, and the area and power consumption of the DRAM can be minimized. Thus, a semiconductor integrated circuit with a reduced size can be obtained, and the design load can be reduced.

【0012】本発明の請求項3に記載の発明は、請求項
1記載のダイナミックランダムアクセスメモリを駆動さ
せるための基準電圧より高い電圧の電源パッドと、電源
電圧変換するレギュレータ回路とを設け、前記ダイナミ
ックランダムアクセスメモリとこれ以外のロジック回路
とを混載した半導体集積回路としたものであり、電源電
圧変換するレギュレータ回路を設けていて昇圧機能とレ
ベルシフタ機能が不要である半導体集積回路の場合に
は、DRAMと昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを個
別にモジュール化しているので、昇圧回路部とレベルシ
フタ回路部とを削除したDRAMを容易に構成すること
ができ、DRAMの面積と消費電力とを必要最小限に削
減した半導体集積回路を得ることができ、設計の負荷を
軽減することができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a power supply pad having a voltage higher than a reference voltage for driving the dynamic random access memory according to the first aspect, and a regulator circuit for converting a power supply voltage. In the case of a semiconductor integrated circuit in which a dynamic random access memory and other logic circuits are mixed and a regulator circuit for converting a power supply voltage is provided and a boosting function and a level shifter function are not required, Since the DRAM, the booster circuit section, and the level shifter circuit section are individually modularized, a DRAM in which the booster circuit section and the level shifter circuit section are eliminated can be easily configured, and the area and power consumption of the DRAM can be minimized. The semiconductor integrated circuit with the minimum reduction can be obtained, and the design load can be reduced. .

【0013】本発明の請求項4に記載の発明は、請求項
1記載のダイナミックランダムアクセスメモリを駆動さ
せるための基準電圧の電源パッドを備え、請求項1記載
の昇圧回路部を接続したダイナミックランダムアクセス
メモリとこれ以外のロジック回路とを混載した半導体集
積回路としたものであり、昇圧機能のみが必要である半
導体集積回路の場合には、DRAMと昇圧回路部とをモ
ジュール化しているので昇圧回路部を容易にDRAMに
追加することができ、DRAMの面積と消費電力とを必
要最小限に削減した半導体集積回路を得ることができ、
設計の負荷を軽減することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a dynamic random access memory having a power supply pad of a reference voltage for driving the dynamic random access memory according to the first aspect and connected to the booster circuit section according to the first aspect. In the case of a semiconductor integrated circuit in which an access memory and other logic circuits are mixed, and only the boosting function is required, the DRAM and the boosting circuit are modularized so that the boosting circuit is used. Parts can be easily added to the DRAM, and a semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of the DRAM are reduced to a necessary minimum can be obtained.
The design load can be reduced.

【0014】本発明の請求項5に記載の発明は、通常の
基準電圧の電源パッドとこの基準電圧より低い電圧の電
源パッドとを備え、請求項1または請求項2に記載の昇
圧回路部とレベルシフタ回路部とを接続したダイナミッ
クランダムアクセスメモリと、これら以外のロジック回
路とを混載した半導体集積回路としたものであり、昇圧
機能とレベルシフタ機能が必要である半導体集積回路の
場合には、DRAMと昇圧回路部とレベルシフタ回路部
とを個別にモジュール化しているので、昇圧回路部とレ
ベルシフタ回路部とをDRAMに容易に追加することが
でき、DRAMの面積と消費電力とを必要最小限に削減
した半導体集積回路を得ることができ、設計の負荷を軽
減することができる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a power supply pad having a normal reference voltage and a power supply pad having a voltage lower than the reference voltage. It is a semiconductor integrated circuit in which a dynamic random access memory connected to a level shifter circuit section and a logic circuit other than these are mounted. In the case of a semiconductor integrated circuit that needs a boosting function and a level shifter function, a DRAM and Since the booster circuit section and the level shifter circuit section are separately modularized, the booster circuit section and the level shifter circuit section can be easily added to the DRAM, and the area and power consumption of the DRAM have been reduced to the necessary minimum. A semiconductor integrated circuit can be obtained, and the design load can be reduced.

【0015】以下、本発明の半導体集積回路を具体的な
実施の形態に基づいて説明する。 (実施の形態1)本発明の実施の形態1の半導体集積回
路は、図1に示すように、メモリセル101とワードド
ライバ102とロウデコーダ103とセンスアンプ10
4とコラムデコーダ105とアドレスバッファ107と
入出力バッファ110と制御回路106とメモリセル1
01への書き込み電源用入力端子としてのVDD2用の
電源ピン109とを設けたダイナミックランダムアクセ
スメモリ(DRAM)としてのDRAMモジュール10
0と、ウエハ上のレイアウトパターンの1辺およびその
辺上の端子位置をDRAMモジュール100のその1辺
と同じ長さで同じ端子位置とした昇圧回路部としての昇
圧回路モジュール120と、ウエハ上のレイアウトパタ
ーンの1辺およびその辺上の端子位置をDRAMモジュ
ール100のその1辺と同じ長さかつ同じ端子位置とし
たレベルシフタ回路部としてのレベルシフタ回路モジュ
ール140とを個別のモジュールとして備えたものであ
る。
Hereinafter, a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described based on specific embodiments. (Embodiment 1) A semiconductor integrated circuit according to Embodiment 1 of the present invention comprises a memory cell 101, a word driver 102, a row decoder 103, and a sense amplifier 10 as shown in FIG.
4, a column decoder 105, an address buffer 107, an input / output buffer 110, a control circuit 106, and a memory cell 1.
DRAM module 10 as a dynamic random access memory (DRAM) provided with a power supply pin 109 for VDD2 as an input terminal for a power supply for writing data to 01
0, a booster circuit module 120 as a booster circuit section having one side of the layout pattern on the wafer and terminal positions on the side having the same length and the same terminal position as the one side of the DRAM module 100; A level shifter circuit module 140 as a level shifter circuit section having one side of the layout pattern and terminal positions on the side having the same length and the same terminal position as the one side of the DRAM module 100 is provided as an individual module. .

【0016】このDRAMモジュール100は、メモリ
セル101とワードドライバ102とロウデコーダ10
3とセンスアンプ104とコラムデコーダ105と制御
回路106とアドレスバッファ107と入出力バッファ
110とVDD1用の電源ピン108とVDD2用の電
源ピン109とデータ入出力ピン111〜113と制御
信号出力ピン114と入出力ピン115〜117とで構
成されている。
The DRAM module 100 includes a memory cell 101, a word driver 102, and a row decoder 10.
3, a sense amplifier 104, a column decoder 105, a control circuit 106, an address buffer 107, an input / output buffer 110, a power supply pin 108 for VDD1, a power supply pin 109 for VDD2, data input / output pins 111 to 113, and a control signal output pin 114. And input / output pins 115-117.

【0017】昇圧回路モジュール120は、VDD1用
の電源ピン121とVDD2用の電源出力ピン122と
制御信号入力ピン123と入出力ピン124〜129と
昇圧回路130とで構成されている。レベルシフタ回路
モジュール140は、VDD1用の電源ピン141とV
DD3用の電源ピン142とデータ入出力ピン143〜
148とレベルシフタ回路149〜151とで構成され
ている。
The booster circuit module 120 includes a power supply pin 121 for VDD1, a power supply output pin 122 for VDD2, a control signal input pin 123, input / output pins 124 to 129, and a booster circuit 130. The level shifter circuit module 140 includes a power supply pin 141 for VDD1 and
DD3 power supply pin 142 and data input / output pin 143-
148 and level shifter circuits 149 to 151.

【0018】なおここでは、VDD1は基準の電源電圧
(例えば、1.8ボルト)とし、VDD2は基準の電源
電圧より高い電源電圧(例えば、3.3ボルト)とし、
VDD3は基準の電源電圧より低い電圧(例えば、1.
5ボルト)とする。
Here, VDD1 is a reference power supply voltage (for example, 1.8 volts), VDD2 is a power supply voltage higher than the reference power supply voltage (for example, 3.3 volts),
VDD3 is a voltage lower than the reference power supply voltage (for example, 1.
5 volts).

【0019】このDRAMモジュール100では、VD
D2用の電源ピン109からワードドライバ102へV
DD2が供給されており、制御回路106からの制御信
号が制御信号出力ピン114へ出力される。データ入出
力ピン111〜113は入出力信号を双方向に出力可能
なように入出力バッファ110に接続されている。
In this DRAM module 100, VD
V2 from the power supply pin 109 for D2 to the word driver 102
DD2 is supplied, and a control signal from the control circuit 106 is output to the control signal output pin 114. The data input / output pins 111 to 113 are connected to the input / output buffer 110 so that input / output signals can be output in both directions.

【0020】昇圧回路モジュール120では、制御信号
入力ピン123から入力される外部からの制御信号と、
VDD1用の電源ピン121から供給されるVDD1と
が昇圧回路130へ入力され、この昇圧回路130でこ
のVDD1をVDD2に昇圧してVDD2用の電源出力
ピン122へ出力する。なお、入出力ピン124〜12
6と入出力ピン127〜129とは内部回路を介さずに
接続している。
In the booster circuit module 120, an external control signal input from the control signal input pin 123,
VDD1 supplied from the power supply pin 121 for VDD1 is input to the booster circuit 130. The booster circuit 130 boosts this VDD1 to VDD2 and outputs it to the power supply output pin 122 for VDD2. The input / output pins 124 to 12
6 and the input / output pins 127 to 129 are connected without passing through an internal circuit.

【0021】レベルシフタ回路モジュール140のレベ
ルシフタ回路149〜151では、データ入出力ピン1
46〜148からの入力信号をVDD3からVDD1に
レベル変換してデータ入出力ピン143〜145に出力
し、データ入出力ピン143〜145からの信号をVD
D1からVDD3にレベル変換してデータ入出力ピン1
46〜148に出力する。
In the level shifter circuits 149 to 151 of the level shifter circuit module 140, the data input / output pin 1
46 to 148 are level-converted from VDD3 to VDD1, output to the data input / output pins 143 to 145, and the signals from the data input / output pins 143 to 145 are converted to VDD.
Data input / output pin 1 is converted from D1 to VDD3.
46 to 148.

【0022】このように、DRAMモジュール100と
昇圧回路モジュール120とレベルシフタ回路モジュー
ル140はそれぞれ個別のモジュールとして構成されて
おり、DRAMモジュール100の内部には昇圧回路を
持っていない。DRAMモジュール100と昇圧回路モ
ジュール120はウエハ上のレイアウトパターンの1辺
の長さが互いに等しく、その等しい長さの辺上の端子位
置は一致している。また、DRAMモジュール100と
レベルシフタ回路モジュール140もウエハ上のレイア
ウトパターンの1辺の長さが互いに等しく、その等しい
長さの辺上の端子位置も一致している。
As described above, the DRAM module 100, the booster circuit module 120, and the level shifter circuit module 140 are each configured as a separate module, and the DRAM module 100 does not have a booster circuit. The DRAM module 100 and the booster circuit module 120 have the same length of one side of the layout pattern on the wafer, and the terminal positions on the sides of the same length match. Also, the DRAM module 100 and the level shifter circuit module 140 have the same length of one side of the layout pattern on the wafer, and the terminal positions on the sides of the same length also match.

【0023】ここで、図2に示すように、DRAMモジ
ュール100に対して、例えば昇圧回路モジュール12
0とレベルシフタ回路モジュール140とを、それぞれ
長さの等しい辺を当接して配置をしたDRAMマクロ9
00について説明する。
Here, as shown in FIG. 2, the booster circuit module 12
0 and the level shifter circuit module 140 are arranged in such a manner that the sides thereof having the same length are in contact with each other.
00 will be described.

【0024】図2に示す配置によると、端子同士が当接
しているためモジュール間の配線は電源以外は不要であ
る。また、DRAMマクロ900の端子配置は、DRA
Mモジュール100の端子配置と、電源ピンを除いてほ
ぼ同じ並びになる。
According to the arrangement shown in FIG. 2, since the terminals are in contact with each other, wiring between modules is unnecessary except for the power supply. The terminal arrangement of the DRAM macro 900 is DRA
The arrangement is almost the same as the terminal arrangement of the M module 100 except for the power supply pins.

【0025】従って、DRAMに昇圧機能が必要な場合
はDRAMモジュール100と昇圧回路モジュール12
0を接続して昇圧回路つきDRAMマクロを構成し、D
RAMにレベルシフタ機能が必要な場合はDRAMモジ
ュール100とレベルシフタ回路モジュール140を接
続してレベルシフタ回路つきDRAMマクロを構成し、
昇圧機能とレベルシフタ機能とが必要な場合はDRAM
モジュール100に対して昇圧回路モジュール120と
レベルシフタ回路モジュール140とを接続して、昇圧
機能およびレベルシフタ機能つきDRAMマクロを構成
し、昇圧機能もレベルシフタ機能も不要な場合はDRA
Mモジュール100のみのDRAMマクロを構成するこ
とが可能である。
Therefore, when the DRAM needs a boosting function, the DRAM module 100 and the boosting circuit module 12
0 to form a DRAM macro with a booster circuit.
If the RAM requires a level shifter function, the DRAM module 100 and the level shifter circuit module 140 are connected to form a DRAM macro with a level shifter circuit.
DRAM if boost function and level shifter function are required
The booster circuit module 120 and the level shifter circuit module 140 are connected to the module 100 to form a DRAM macro with a booster function and a level shifter function.
It is possible to configure a DRAM macro of only the M module 100.

【0026】図1に示すロウデコーダ103からワード
ドライバ102の部分回路は、図3に示すように、 V
DD2用の電源201と、入力ノード202,215,
216と、出力ノード217と、PMOSトランジスタ
203,204,207,208と、NMOSトランジ
スタ205,206,209,210,211と、NA
ND素子212と、バッファ素子213,214とで回
路構成されている。NAND素子212とバッファ素子
213,214との論理素子のうちでバッファ素子21
4のみにVDD2が供給されており、NAND素子21
2とバッファ素子213にはVDD1が供給されてい
る。入力ノード202,215,216にワードライン
選択用の信号を入力すると、選択時にはVDD2が出力
ノード217から出力される。
The partial circuits from the row decoder 103 to the word driver 102 shown in FIG.
A power supply 201 for DD2 and input nodes 202, 215,
216, output node 217, PMOS transistors 203, 204, 207, 208, NMOS transistors 205, 206, 209, 210, 211, and NA
The circuit is configured by the ND element 212 and the buffer elements 213 and 214. Among the logical elements of the NAND element 212 and the buffer elements 213 and 214, the buffer element 21
4 is supplied with VDD2 and the NAND element 21
2 and the buffer element 213 are supplied with VDD1. When a word line selection signal is input to the input nodes 202, 215, and 216, VDD2 is output from the output node 217 at the time of selection.

【0027】図1に示すメモリセル101の1ビット構
成としてのメモリセル310は、図4に示すように、ビ
ットライン301とワードライン302とNMOSトラ
ンジスタ303とコンデンサ304とを有し、NMOS
トランジスタ303とコンデンサ304とで構成されて
いる。ビットライン301にVDD1が供給され、ワー
ドライン302にVDD2の電圧が供給されるとメモリ
セル310が選択される。
As shown in FIG. 4, a memory cell 310 as a one-bit configuration of the memory cell 101 shown in FIG. 1 has a bit line 301, a word line 302, an NMOS transistor 303, and a capacitor 304.
It is composed of a transistor 303 and a capacitor 304. When VDD1 is supplied to the bit line 301 and VDD2 is supplied to the word line 302, the memory cell 310 is selected.

【0028】図1に示すレベルシフタ回路149〜15
1は、図5に示すように、VDD1用の電源401と入
力ノード402と出力ノード403とPMOSトランジ
スタ404,405とNMOSトランジスタ406,4
07とINV素子408とで構成されている。このIN
V素子408の電源電圧はVDD1より低い電源電圧V
DD3としている。VDD3に対応した振幅の信号を入
力ノード402に入力すると、出力ノード403からV
DD1に対応した振幅の信号が出力される。なお、本例
ではDRAMへの入力用回路を説明したが、入出力回路
をモジュールとして構成しても良い。
The level shifter circuits 149 to 15 shown in FIG.
1 is a power supply 401 for VDD1, an input node 402, an output node 403, PMOS transistors 404 and 405, and NMOS transistors 406 and 4 as shown in FIG.
07 and an INV element 408. This IN
The power supply voltage of V element 408 is lower than power supply voltage V DD1.
DD3. When a signal having an amplitude corresponding to VDD3 is input to the input node 402, V
A signal having an amplitude corresponding to DD1 is output. Although the input circuit to the DRAM has been described in this example, the input / output circuit may be configured as a module.

【0029】このように、DRAMモジュール100に
対して容易に追加可能なように昇圧回路モジュール12
0やレベルシフタ回路モジュール140の端子位置をこ
のDRAMモジュール100の端子位置と同じにして個
別にモジュール化しており、DRAMとロジックを搭載
する半導体集積回路の電源仕様に応じて、昇圧回路モジ
ュール120やレベルシフタ回路モジュール140を追
加する組合せを替えてDRAMマクロを構成することが
できるので、DRAMの面積と消費電力とを必要最小限
に最適化するとともに、DRAMのインターフェースの
自由度を増大させた半導体集積回路を得ることができ、
設計の負荷を軽減することができる。
As described above, the booster circuit module 12 is easily added to the DRAM module 100.
0 and the terminal positions of the level shifter circuit module 140 are the same as the terminal positions of the DRAM module 100 and are individually modularized, and the booster circuit module 120 and the level shifter Since the DRAM macro can be configured by changing the combination in which the circuit module 140 is added, the semiconductor integrated circuit optimizes the area and power consumption of the DRAM to the minimum necessary and increases the degree of freedom of the interface of the DRAM. You can get
The design load can be reduced.

【0030】具体的には、DRAMモジュール100と
昇圧回路モジュール120とはウエハ上のレイアウトパ
ターンの1辺の長さが互いに等しくその等しい長さの辺
上の端子位置を一致させて形成し、DRAMモジュール
100とレベルシフタ回路モジュール140もウエハ上
のレイアウトパターンの1辺の長さが互いに等しくその
等しい長さの辺上の端子位置も一致させて形成している
ので、DRAMモジュール100に対して昇圧回路モジ
ュール120とレベルシフタ回路モジュール140とを
容易に付加することができる。
More specifically, the DRAM module 100 and the booster circuit module 120 are formed so that the lengths of the sides of the layout pattern on the wafer are equal to each other and the terminal positions on the sides of the equal length are matched. Since the module 100 and the level shifter circuit module 140 are also formed such that the lengths of the sides of the layout pattern on the wafer are equal to each other and the terminal positions on the sides of the same length are also matched, the booster circuit The module 120 and the level shifter circuit module 140 can be easily added.

【0031】(実施の形態2)本発明の実施の形態2の
半導体集積回路は、図6に示すように、前述の実施の形
態1のDRAMモジュール100を駆動させるための基
準電圧(VDD1)の電源パッドとしてのVDD1用の
電源パッド503と、このVDD1より高い電圧(VD
D2)の電源パッドとしてのVDD2用の電源パッド5
04とを備え、このDRAMモジュール100のみで構
成されたDRAMマクロ501と、このDRAMマクロ
501以外のCPUや変換回路などのロジック回路とし
てのロジック502とを混載したものである。
(Embodiment 2) As shown in FIG. 6, a semiconductor integrated circuit according to Embodiment 2 of the present invention has a reference voltage (VDD1) for driving the DRAM module 100 of Embodiment 1 described above. A power supply pad 503 for VDD1 as a power supply pad, and a voltage higher than VDD1 (VDD
Power supply pad 5 for VDD2 as power supply pad of D2)
In this embodiment, a DRAM macro 501 including only the DRAM module 100 and a logic 502 as a logic circuit such as a CPU and a conversion circuit other than the DRAM macro 501 are mounted.

【0032】この混載型の半導体集積回路500は、図
6に示すように、DRAMモジュール100のみで構成
されたDRAMマクロ501とロジック502とVDD
1用の電源パッド503とVDD2用の電源パッド50
4とで構成されている。このVDD1用の電源パッド5
03には基準の電源電圧VDD1が供給され、VDD2
用の電源パッド504には基準の電源電圧VDD1より
高い電源電圧VDD2が供給されている。このVDD1
用の電源パッド503からのVDD1は、DRAMモジ
ュール100のVDD1用の電源ピン108に供給さ
れ、VDD2用の電源パッド504からのVDD2はD
RAMモジュール100に設けられたVDD2用の電源
ピン109に供給されている。
As shown in FIG. 6, this hybrid semiconductor integrated circuit 500 has a DRAM macro 501, a logic 502, and a VDD which are constituted only by a DRAM module 100.
Power supply pad 503 for power supply 1 and power supply pad 50 for VDD2
4. This power supply pad 5 for VDD1
03 is supplied with a reference power supply voltage VDD1 and VDD2.
The power supply pad 504 is supplied with a power supply voltage VDD2 higher than the reference power supply voltage VDD1. This VDD1
VDD1 from the power supply pad 503 for power supply is supplied to the power supply pin 108 for VDD1 of the DRAM module 100, and VDD2 from the power supply pad 504 for VDD2 is
The power is supplied to a power supply pin 109 for VDD2 provided in the RAM module 100.

【0033】このように、VDD2用の電源パッド50
4にはVDD2が入力され、DRAMマクロ501に昇
圧機能とレベルシフタ機能とが不要である半導体集積回
路500の場合では、モジュール化したDRAMモジュ
ール100のみでDRAMマクロ501を構成し、この
DRAMモジュール100にはVDD2用の電源パッド
504からのVDD2を受け取るVDD2用の電源ピン
109を設けているため、DRAMマクロ501の面積
と消費電力とを必要最小限に削減した半導体集積回路を
得ることができ、設計の負荷を軽減することができる。
As described above, the power supply pad 50 for VDD2
In the case of the semiconductor integrated circuit 500 to which VDD2 is inputted to the DRAM macro 501 and the boost function and the level shifter function are unnecessary in the DRAM macro 501, the DRAM macro 501 is constituted only by the modularized DRAM module 100. Is provided with a power supply pin 109 for VDD2 that receives VDD2 from a power supply pad 504 for VDD2, so that it is possible to obtain a semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of the DRAM macro 501 are reduced to the necessary minimum. Load can be reduced.

【0034】(実施の形態3)本発明の実施の形態3の
半導体集積回路600は、図7に示すように、前述の実
施の形態1のDRAMモジュール100を駆動させるた
めの基準電圧(VDD1)の電源パッドとしてのVDD
1用の電源パッド603とこのVDD1より低い電圧
(VDD3)の電源パッドとしてのVDD3用の電源パ
ッド604とを備え、前述の実施の形態1の昇圧回路モ
ジュール120とレベルシフタ回路モジュール140と
を接続したDRAMモジュール100とで構成されるD
RAMマクロ601と、このDRAMマクロ601以外
のCPUや変換回路などのロジック回路としてのロジッ
ク602とを混載したものである。
(Third Embodiment) As shown in FIG. 7, a semiconductor integrated circuit 600 according to a third embodiment of the present invention has a reference voltage (VDD1) for driving the DRAM module 100 according to the first embodiment. VDD as power supply pad
1 and a power supply pad 604 for VDD3 as a power supply pad of a voltage (VDD3) lower than VDD1. The booster circuit module 120 and the level shifter circuit module 140 of the first embodiment are connected to each other. D configured with the DRAM module 100
A RAM macro 601 and a logic 602 as a logic circuit such as a CPU and a conversion circuit other than the DRAM macro 601 are mounted together.

【0035】この混載型の半導体集積回路600は、図
7に示すように、DRAMモジュール100に対して昇
圧回路モジュール120とレベルシフタ回路モジュール
140とを当接して接続したDRAMマクロ601と、
ロジック602と、VDD1用の電源パッド603と、
VDD3用の電源パッド604とで構成されている。こ
のVDD1用の電源パッド603には基準の電源電圧V
DD1が供給され、VDD3用の電源パッド604には
VDD1より低い電源電圧VDD3が供給されている。
As shown in FIG. 7, the hybrid semiconductor integrated circuit 600 includes a DRAM macro 601 in which the booster circuit module 120 and the level shifter circuit module 140 are connected to the DRAM module 100 in contact with each other.
Logic 602, power supply pad 603 for VDD1,
And a power supply pad 604 for VDD3. The power supply pad 603 for VDD1 has a reference power supply voltage V
DD1 is supplied, and the power supply pad 604 for VDD3 is supplied with a power supply voltage VDD3 lower than VDD1.

【0036】このVDD1用の電源パッド603からの
VDD1は、DRAMモジュール100のVDD1用の
電源ピン108と、昇圧回路モジュール120のVDD
1用の電源ピン121と、レベルシフタ回路モジュール
140のVDD1用の電源ピン141とに供給されてい
る。また、VDD3用の電源パッド604からのVDD
3は、ロジック602と、レベルシフタ回路モジュール
140のVDD3用の電源ピン142とに供給されてい
る。
The VDD1 from the VDD1 power supply pad 603 is connected to the VDD1 power supply pin 108 of the DRAM module 100 and the VDD1 of the booster circuit module 120.
1 and a power supply pin 141 for VDD1 of the level shifter circuit module 140. VDD from the power supply pad 604 for VDD3
3 is supplied to the logic 602 and the power supply pin 142 for VDD3 of the level shifter circuit module 140.

【0037】昇圧回路モジュール120は、DRAMモ
ジュール100からの信号を受けとり、VDD1より高
い電圧VDD2を発生してVDD2用の電源出力ピン1
22からDRAMモジュール100のVDD2用の電源
ピン109に供給している。レベルシフタ回路モジュー
ル140は、ロジック602からの信号を受けとり、信
号の振幅をVDD3対応からVDD1対応へ変換してD
RAMモジュール100へ引き渡している。
The booster circuit module 120 receives a signal from the DRAM module 100, generates a voltage VDD2 higher than VDD1, and generates a power supply output pin 1 for VDD2.
22 to a power supply pin 109 for VDD2 of the DRAM module 100. The level shifter circuit module 140 receives the signal from the logic 602, converts the amplitude of the signal from VDD3 to VDD1, and
It has been delivered to the RAM module 100.

【0038】このように、VDD1用の電源パッド60
3にはVDD1が入力され、VDD3用の電源パッド6
04にはVDD3が入力され、DRAMマクロ601に
昇圧機能とレベルシフタ機能が必要である半導体集積回
路600の場合には、モジュール化したDRAMモジュ
ール100と昇圧回路モジュール120とレベルシフタ
回路モジュール140とでDRAMマクロ601を構成
し、昇圧回路モジュール120でVDD1を昇圧したV
DD2と、レベルシフタ回路モジュール140でロジッ
ク602からのデータをレベル変換した信号とを受け取
るこのDRAMモジュール100を有する半導体集積回
路を得ることができ、設計の負荷を軽減することができ
る。
As described above, the power supply pad 60 for VDD1
3 is supplied with VDD1 and a power supply pad 6 for VDD3.
In the case of the semiconductor integrated circuit 600 to which VDD3 is inputted to the DRAM macro 601 and the DRAM macro 601 needs a boosting function and a level shifter function, the DRAM macro 100 including the modularized DRAM module 100, the boosting circuit module 120 and the level shifter circuit module 140 601, and V 1 boosted from VDD 1 by the booster circuit module 120.
A semiconductor integrated circuit having the DRAM module 100 that receives the DD2 and a signal obtained by level-converting data from the logic 602 by the level shifter circuit module 140 can be obtained, and the design load can be reduced.

【0039】(実施の形態4)本発明の実施の形態4の
半導体集積回路700は、図8に示すように、前述の実
施の形態1のDRAMモジュール100を駆動させるた
めの基準電圧(VDD1)より高い電圧(VDD2)の
電源パッドとしてのVDD2用の電源パッド704と、
このVDD2をVDD1に電源電圧変換するレギュレー
タ回路としてのレギュレータ703とを設け、このDR
AMモジュール100のみで構成されるDRAMマクロ
701と、これら以外のCPUや変換回路などのロジッ
ク回路としてのロジック702とを混載したものであ
る。
Fourth Embodiment As shown in FIG. 8, a semiconductor integrated circuit 700 according to a fourth embodiment of the present invention has a reference voltage (VDD1) for driving the DRAM module 100 according to the first embodiment. A power supply pad 704 for VDD2 as a power supply pad for a higher voltage (VDD2);
A regulator 703 is provided as a regulator circuit for converting the power supply voltage from VDD2 to VDD1.
A DRAM macro 701 composed of only the AM module 100 and a logic 702 as a logic circuit such as a CPU and a conversion circuit other than the above are mixedly mounted.

【0040】VDD2用の電源パッド704には、基準
の電源電圧VDD1より高い電源電圧VDD2が供給さ
れている。このVDD2用の電源パッド704からのV
DD2は、DRAMモジュール100のVDD2用の電
源ピン109とレギュレータ703とに供給されてい
る。レギュレータ703では、VDD2をVDD1に電
源電圧変換してDRAMモジュール100のVDD1用
の電源ピン108とロジック702とに出力している。
The power supply pad 704 for VDD2 is supplied with a power supply voltage VDD2 higher than the reference power supply voltage VDD1. V from the power supply pad 704 for VDD2
DD2 is supplied to the power supply pin 109 for VDD2 and the regulator 703 of the DRAM module 100. The regulator 703 converts the power supply voltage from VDD2 to VDD1 and outputs the power supply voltage to the power supply pin 108 for VDD1 of the DRAM module 100 and the logic 702.

【0041】このように、VDD2用の電源パッド70
4にはVDD2が入力され、このVDD2をVDD1に
電圧変換するレギュレータ703を設け、DRAMマク
ロ701に昇圧機能とレベルシフタ機能が不要である半
導体集積回路700の場合には、DRAMマクロ701
をDRAMモジュール100のみで構成し、このDRA
Mモジュール100には、VDD2用の電源パッド70
4からのVDD2を受け取るVDD2用の電源ピン10
9と、レギュレータ703からVDD1を受け取るVD
D1用の電源ピン108とを設けているため、DRAM
マクロ701の面積と消費電力とを必要最小限に削減し
た半導体集積回路を得ることができ、設計の負荷を軽減
することができる。
As described above, the power supply pad 70 for VDD2
4, a regulator 703 for converting the voltage of VDD2 to VDD1 is provided. In the case of the semiconductor integrated circuit 700 which does not require the boosting function and the level shifter function in the DRAM macro 701, the DRAM macro 701
Is composed of only the DRAM module 100 and this DRA
The M module 100 has a power supply pad 70 for VDD2.
Power supply pin 10 for receiving VDD2 from VDD4
9 and VDD which receives VDD1 from the regulator 703
Since the power supply pin 108 for D1 is provided, the DRAM
A semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of the macro 701 are reduced to the necessary minimum can be obtained, and the design load can be reduced.

【0042】(実施の形態5)本発明の実施の形態5の
半導体集積回路800は、図9に示すように、前述の実
施の形態1のDRAMモジュール100を駆動させるた
めの基準電圧(VDD1)の電源パッドとしてのVDD
1用の電源パッド803を備え、前述の実施の形態1の
昇圧回路部としての昇圧回路モジュール120を接続し
たDRAMモジュール100で構成されるDRAMマク
ロ801と、このDRAMマクロ801以外のCPUや
変換回路などのロジック回路としてのロジック802と
を混載したものである。
(Fifth Embodiment) As shown in FIG. 9, a semiconductor integrated circuit 800 according to a fifth embodiment of the present invention has a reference voltage (VDD1) for driving the DRAM module 100 according to the first embodiment. VDD as power supply pad
A DRAM macro 801 including a power supply pad 803 for one, and a DRAM module 100 connected to the booster circuit module 120 as the booster circuit unit of the first embodiment, and a CPU and a conversion circuit other than the DRAM macro 801 And a logic 802 as a logic circuit.

【0043】VDD1用の電源パッド803には、基準
の電源電圧VDD1が供給されている。このVDD1用
の電源パッド803からのVDD1は、DRAMモジュ
ール100のVDD1用の電源ピン108と、昇圧回路
モジュール120のVDD1用の電源ピン121と、ロ
ジック802とに供給されている。この昇圧回路モジュ
ール120では、VDD1をVDD2に昇圧してVDD
2用の電源出力ピン122からDRAMモジュール10
0のVDD2用の電源ピン109に出力している。
The reference power supply voltage VDD1 is supplied to the power supply pad 803 for VDD1. The VDD1 from the VDD1 power supply pad 803 is supplied to the VDD1 power supply pin 108 of the DRAM module 100, the VDD1 power supply pin 121 of the booster circuit module 120, and the logic 802. In the booster circuit module 120, VDD1 is boosted to VDD2 and VDD is increased.
2 from the power output pin 122 for the DRAM module 10
0 is supplied to the power supply pin 109 for VDD2.

【0044】このように、VDD1用の電源パッド80
3にVDD1が入力され、DRAMマクロ801に昇圧
機能のみが必要である半導体集積回路800の場合に
は、モジュール化したDRAMモジュール100と昇圧
回路モジュール120とでDRAMマクロ801を構成
し、昇圧回路モジュール120からVDD1を昇圧した
VDD2を受け取るDRAMモジュール100を有する
半導体集積回路を得ることができ、設計の負荷を軽減す
ることができる。
As described above, the power supply pad 80 for VDD1 is used.
In the case of the semiconductor integrated circuit 800 in which VDD1 is input to the DRAM 3 and the DRAM macro 801 only needs the boosting function, the DRAM macro 801 is composed of the modularized DRAM module 100 and the boosting circuit module 120, and the boosting circuit module It is possible to obtain a semiconductor integrated circuit having the DRAM module 100 that receives VDD2 which is VDD1 boosted from 120, and the design load can be reduced.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上のように本発明の請求項1に記載の
半導体集積回路によれば、メモリセルとワードドライバ
とロウデコーダとセンスアンプとコラムデコーダとアド
レスバッファと入出力バッファと制御回路と前記メモリ
セルへの書き込み電源用入力端子とを設けたダイナミッ
クランダムアクセスメモリ(DRAM)と、ウエハ上の
レイアウトパターンの1辺およびその辺上の端子位置を
前記DRAMのその1辺と同じ長さで同じ端子位置とし
た昇圧回路部と、ウエハ上のレイアウトパターンの1辺
およびその辺上の端子位置を前記DRAMのその1辺と
同じ長さかつ同じ端子位置としたレベルシフタ回路部と
を個別のモジュールとして備えたことにより、DRAM
とロジックを搭載する半導体集積回路の電源仕様に応じ
て、昇圧回路部やレベルシフタ回路部を追加する組合せ
を替えて最適なDRAMマクロを構成することができる
ので、DRAMの面積と消費電力とを必要最小限に最適
化するとともに、DRAMのインターフェースの自由度
を増大させた半導体集積回路を得ることができ、設計の
負荷を軽減することができる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit of the first aspect of the present invention, a memory cell, a word driver, a row decoder, a sense amplifier, a column decoder, an address buffer, an input / output buffer, a control circuit, A dynamic random access memory (DRAM) provided with an input terminal for a write power supply to the memory cell, and one side of a layout pattern on a wafer and terminal positions on the side having the same length as the one side of the DRAM A booster circuit section having the same terminal position and a level shifter circuit section having one side of the layout pattern on the wafer and the terminal position on the side having the same length and the same terminal position as the one side of the DRAM are separate modules. DRAM
The optimal DRAM macro can be configured by changing the combination of adding a booster circuit section and a level shifter circuit section according to the power supply specification of the semiconductor integrated circuit on which the logic and the logic are mounted. It is possible to obtain a semiconductor integrated circuit that has been optimized to a minimum and has increased flexibility in the interface of the DRAM, thereby reducing the design load.

【0046】また、本発明の請求項2に記載の半導体集
積回路によれば、請求項1記載のダイナミックランダム
アクセスメモリを駆動させるための基準電圧の電源パッ
ドとこの基準電圧より高い電圧の電源パッドとを備え、
前記ダイナミックランダムアクセスメモリとこれ以外の
ロジック回路とを混載したことにより、DRAMと昇圧
回路部とレベルシフタ回路部とを個別にモジュール化し
ており、昇圧機能とレベルシフタ機能とが不要であるの
で、昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを削除したDR
AMを容易に構成することができ、DRAMの面積と消
費電力とを必要最小限に削減した半導体集積回路を得る
ことができ、設計の負荷を軽減することができる。
According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, a power supply pad of a reference voltage for driving the dynamic random access memory and a power supply pad of a voltage higher than the reference voltage are provided. With
Since the dynamic random access memory and other logic circuits are mixedly mounted, the DRAM, the booster circuit section and the level shifter circuit section are individually modularized, and the booster circuit and the level shifter function are not required. DR in which the section and the level shifter circuit section are deleted
The AM can be easily configured, a semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of the DRAM are reduced to the necessary minimum can be obtained, and the design load can be reduced.

【0047】また、本発明の請求項3に記載の半導体集
積回路によれば、請求項1記載のダイナミックランダム
アクセスメモリを駆動させるための基準電圧より高い電
圧の電源パッドと、電源電圧変換するレギュレータ回路
とを設け、前記ダイナミックランダムアクセスメモリと
これ以外のロジック回路とを混載したことにより、DR
AMと昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを個別にモジ
ュール化しており昇圧機能とレベルシフタ機能が不要で
あるので、昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを削除し
たDRAMを容易に構成することができ、DRAMの面
積と消費電力とを必要最小限に削減した半導体集積回路
を得ることができ、設計の負荷を軽減することができ
る。
According to a third aspect of the present invention, a power supply pad having a voltage higher than a reference voltage for driving the dynamic random access memory according to the first aspect, and a regulator for converting a power supply voltage are provided. Circuit, and the dynamic random access memory and other logic circuits are mixedly mounted.
Since the AM, the booster circuit section, and the level shifter circuit section are individually modularized, and the booster function and the level shifter function are unnecessary, the DRAM in which the booster circuit section and the level shifter circuit section are eliminated can be easily configured, and the DRAM can be easily constructed. The semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption are reduced to the necessary minimum can be obtained, and the design load can be reduced.

【0048】また、本発明の請求項4に記載の半導体集
積回路によれば、請求項1記載のダイナミックランダム
アクセスメモリを駆動させるための基準電圧の電源パッ
ドを備え、請求項1記載の昇圧回路部を接続したダイナ
ミックランダムアクセスメモリとこれ以外のロジック回
路とを混載したことにより、DRAMと昇圧回路部とを
モジュール化しているので昇圧回路部を容易にDRAM
に追加することができ、DRAMの面積と消費電力とを
必要最小限に削減した半導体集積回路を得ることがで
き、設計の負荷を軽減することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a booster circuit having a reference voltage power supply pad for driving the dynamic random access memory according to the first aspect. Since the DRAM and the booster circuit are modularized by incorporating the dynamic random access memory connected to the memory and the other logic circuits, the booster circuit can be easily integrated into the DRAM.
And a semiconductor integrated circuit in which the area and power consumption of the DRAM are reduced to the necessary minimum can be obtained, and the design load can be reduced.

【0049】また、本発明の請求項5に記載の半導体集
積回路によれば、請求項1記載のダイナミックランダム
アクセスメモリを駆動させるための基準電圧の電源パッ
ドとこの基準電圧より低い電圧の電源パッドとを備え、
請求項1記載の昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを接
続したダイナミックランダムアクセスメモリと、これら
以外のロジック回路とを混載したことにより、DRAM
と昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを個別にモジュー
ル化しているので、昇圧回路部とレベルシフタ回路部と
をDRAMに容易に追加することができ、DRAMの面
積と消費電力とを必要最小限に削減した半導体集積回路
を得ることができ、設計の負荷を軽減することができ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a power supply pad of a reference voltage for driving the dynamic random access memory of the first aspect and a power supply pad of a voltage lower than the reference voltage. With
A dynamic random access memory in which the booster circuit section and the level shifter circuit section according to claim 1 are connected to each other and a logic circuit other than the dynamic random access memory section are mounted on the DRAM.
And the booster circuit section and the level shifter circuit section are separately modularized, so that the booster circuit section and the level shifter circuit section can be easily added to the DRAM, and the area and power consumption of the DRAM can be reduced to a minimum. A semiconductor integrated circuit can be obtained, and the design load can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1の半導体集積回路のDR
AMマクロを示すブロック図
FIG. 1 shows a DR of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
Block diagram showing AM macro

【図2】同実施の形態1の各モジュールの配置を示すブ
ロック図
FIG. 2 is a block diagram showing an arrangement of each module according to the first embodiment;

【図3】同実施の形態1のDRAMモジュールの一部を
示す回路図
FIG. 3 is a circuit diagram showing a part of the DRAM module according to the first embodiment;

【図4】同実施の形態1のメモリセルの1ビットの構成
を示す回路図
FIG. 4 is a circuit diagram showing a 1-bit configuration of a memory cell according to the first embodiment;

【図5】同実施の形態1のレベルシフタ回路を示す回路
FIG. 5 is a circuit diagram showing a level shifter circuit according to the first embodiment;

【図6】本発明の実施の形態2の半導体集積回路を示す
ブロック図
FIG. 6 is a block diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention;

【図7】本発明の実施の形態3の半導体集積回路を示す
ブロック図
FIG. 7 is a block diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention;

【図8】本発明の実施の形態4の半導体集積回路を示す
ブロック図
FIG. 8 is a block diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態5の半導体集積回路を示す
ブロック図
FIG. 9 is a block diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 DRAMモジュール 101 メモリセル 102 ワードドライバ 108 VDD1用の電源ピン 109 VDD2用の電源ピン 114 制御信号出力ピン 120 昇圧回路モジュール 121、141 VDD1用の電源ピン 122 VDD2用の電源出力ピン 123 制御信号入力ピン 130 昇圧回路 140 レベルシフタ回路モジュール 142 VDD3用の電源ピン 149〜151 レベルシフタ回路 201 VDD2用の電源 301 ビットライン 302 ワードライン 303 NMOSトランジスタ 304 コンデンサ 310 メモリセル 401 VDD1用の電源 402 入力ノード 403 出力ノード 500、600 半導体集積回路 501、601 DRAMマクロ 502、602 ロジック 503、603 VDD1用の電源パッド 504、704 VDD2用の電源パッド 604 VDD3用の電源パッド 700、800 半導体集積回路 701、801 DRAMマクロ 702、802 ロジック 703 レギュレータ 803 VDD1用の電源パッド 900 DRAMマクロ REFERENCE SIGNS LIST 100 DRAM module 101 memory cell 102 word driver 108 power supply pin for VDD1 109 power supply pin for VDD2 114 control signal output pin 120 booster circuit module 121, 141 power supply pin for VDD1 122 power supply output pin for VDD2 123 control signal input pin 130 booster circuit 140 level shifter circuit module 142 power supply pin for VDD3 149 to 151 level shifter circuit 201 power supply for VDD2 301 bit line 302 word line 303 NMOS transistor 304 capacitor 310 memory cell 401 power supply for VDD1 402 input node 403 output node 500 600 power supply pad for semiconductor integrated circuit 501, 601 DRAM macro 502, 602 logic 503, 603 VDD1 04,704 power pads 700, 800 semiconductor integrated circuit for the power supply pads 604 VDD3 for VDD2 701 and 801 DRAM macro 702 and 802 supply pads 900 DRAM macro logic 703 Regulator 803 VDD 1

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11C 11/401 G11C 11/34 371K (72)発明者 中井 信行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5B015 JJ03 KB63 KB91 KB93 PP02 PP07 5B024 AA01 BA27 BA29 CA21 5F038 BE07 BE09 BG03 BG06 BG10 DF08 DF11 EZ07 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) G11C 11/401 G11C 11/34 371K (72) Inventor Nobuyuki Nakai 1006 Odakadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial F term in reference (reference) 5B015 JJ03 KB63 KB91 KB93 PP02 PP07 5B024 AA01 BA27 BA29 CA21 5F038 BE07 BE09 BG03 BG06 BG10 DF08 DF11 EZ07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】メモリセルとワードドライバとロウデコー
ダとセンスアンプとコラムデコーダとアドレスバッファ
と入出力バッファと制御回路と前記メモリセルへの書き
込み電源用入力端子とを設けたダイナミックランダムア
クセスメモリと、 ウエハ上のレイアウトパターンの1辺およびその辺上の
端子位置を前記ダイナミックランダムアクセスメモリの
その1辺と同じ長さで同じ端子位置とした昇圧回路部
と、 ウエハ上のレイアウトパターンの1辺およびその辺上の
端子位置を前記ダイナミックランダムアクセスメモリの
その1辺と同じ長さかつ同じ端子位置としたレベルシフ
タ回路部とを個別のモジュールとして備えた半導体集積
回路。
A dynamic random access memory provided with a memory cell, a word driver, a row decoder, a sense amplifier, a column decoder, an address buffer, an input / output buffer, a control circuit, and an input terminal for writing power to the memory cell; A booster circuit section having one side of the layout pattern on the wafer and a terminal position on the side having the same length and the same terminal position as the one side of the dynamic random access memory; and one side of the layout pattern on the wafer and the same. A semiconductor integrated circuit comprising, as individual modules, a level shifter circuit section in which terminal positions on a side have the same length and the same terminal position as one side of the dynamic random access memory.
【請求項2】請求項1記載のダイナミックランダムアク
セスメモリを駆動させるための基準電圧の電源パッドと
この基準電圧より高い電圧の電源パッドとを備え、前記
ダイナミックランダムアクセスメモリとこれ以外のロジ
ック回路とを混載した半導体集積回路。
2. The dynamic random access memory according to claim 1, further comprising: a power supply pad for driving the dynamic random access memory according to claim 1; and a power supply pad having a voltage higher than the reference voltage. Semiconductor integrated circuit.
【請求項3】請求項1記載のダイナミックランダムアク
セスメモリを駆動させるための基準電圧より高い電圧の
電源パッドと、電源電圧変換するレギュレータ回路とを
設け、前記ダイナミックランダムアクセスメモリとこれ
以外のロジック回路とを混載した半導体集積回路。
3. The dynamic random access memory according to claim 1, further comprising: a power supply pad having a voltage higher than a reference voltage for driving the dynamic random access memory; and a regulator circuit for converting a power supply voltage. And a semiconductor integrated circuit.
【請求項4】請求項1記載のダイナミックランダムアク
セスメモリを駆動させるための基準電圧の電源パッドを
備え、請求項1記載の昇圧回路部を接続したダイナミッ
クランダムアクセスメモリとこれ以外のロジック回路と
を混載した半導体集積回路。
4. A dynamic random access memory comprising a reference voltage power supply pad for driving the dynamic random access memory according to claim 1 and connected to the booster circuit unit according to claim 1, and another logic circuit. Mixed semiconductor integrated circuit.
【請求項5】請求項1記載のダイナミックランダムアク
セスメモリを駆動させるための基準電圧の電源パッドと
この基準電圧より低い電圧の電源パッドとを備え、請求
項1記載の昇圧回路部とレベルシフタ回路部とを接続し
たダイナミックランダムアクセスメモリと、これら以外
のロジック回路とを混載した半導体集積回路。
5. A booster circuit section and a level shifter circuit section according to claim 1, further comprising a reference voltage power supply pad for driving the dynamic random access memory according to claim 1, and a power supply pad having a voltage lower than the reference voltage. A semiconductor integrated circuit in which a dynamic random access memory connected to the above and a logic circuit other than these are mounted.
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