JP2000137232A - Liquid crystal display element and production therefor - Google Patents

Liquid crystal display element and production therefor

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JP2000137232A JP31122098A JP31122098A JP2000137232A JP 2000137232 A JP2000137232 A JP 2000137232A JP 31122098 A JP31122098 A JP 31122098A JP 31122098 A JP31122098 A JP 31122098A JP 2000137232 A JP2000137232 A JP 2000137232A
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Mitsuhiro Shigeta
Kazuhiko Tamai
Hideki Uchida
秀樹 内田
和彦 玉井
光浩 繁田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To secure uniform cell thicknesses and sufficient impact resistance and to realize satisfactory diplay quality in which unevenness is not present in a liquid crystal display element. SOLUTION: Stripe shaped electrodes 12 on an electrode substrate 10 and stripe shaped electrodes 22 on an electrode substrate 20 are formed so as to intersect each other and both substrates 10, 20 are stuck with spacers 15 and a liquid crystal layer 31 is formed by filling liquid crystal in between them. Before they are stuck, the spacers 15 are formed on the substrate 10 so that adhesion of top parts of the spacers 15 are performed at areas among adjacent electrodes 22 on the substrate 20. Thus, the spacers 15 are closely formed on an oriented layer 14 at the side of the electrode substrate 10 and, moreover, the top parts of the spacers 15 are closely adhered to an orientation control layer 24 at flat areas among the adjacent electrodes 22 also at the side of the electrode substrate 20.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐衝撃性に優れ、 The present invention relates is excellent in impact resistance,
かつ良好な表示品位を実現する液晶表示素子およびその製造方法に関するものである。 And the present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof to achieve a good display quality.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、一対の基板を電極が形成された面が内側になるように互いに貼りあわせ、その間隙に液晶を封入してなる液晶表示素子が知られている。 Conventionally, surface formed a pair of substrate electrodes is the bonding together such that the inner, liquid crystal display device formed by sealing a liquid crystal is known in the gap. このような液晶表示素子は、外圧による基板の変形などの結果、 The liquid crystal display device as a result of deformation of the substrate due to external pressure,
対向する基板間の距離(セル厚)が変化すると、しきい値電圧の変化、対向する基板間での電極ショート、液晶分子の配向の乱れ等により、良好に表示することができなくなる。 When the distance between the opposing substrates (cell thickness) is changed, the change in threshold voltage, electrode short circuit between the opposing substrates, a disturbance in the orientation of the liquid crystal molecules, can not be satisfactorily displayed. このため、一対の基板間の距離を一定に保つためのスペーサを基板間に配置する方法が知られており、従来、(1)球状の粒子を散布する方法、(2)有機系または無機系の柱を形成する方法のいずれかが一般に用いられている。 Therefore, a spacer for keeping the distance between the pair of substrates constant is known how to place between the substrates, conventionally, (1) a method of spraying a spherical particle, (2) an organic or inorganic any method of forming a pillar is generally used. (1)の方法として具体的には、例えばジビニルベンゼン系重合体等の有機系樹脂からなる真球微粒子を窒素雰囲気中に分散させて基板上に散布する乾式法や、上記の真球微粒子をアルコール溶液などに混合して基板上に霧状に散布する方法が知られている。 Specifically as a method (1), for example, a true spherical fine particles composed of an organic resin such as divinylbenzene polymer or a dry method of spraying on the substrate are dispersed in a nitrogen atmosphere, the true spherical fine particles by mixing such an alcoholic solution method of spraying a mist it is known on the substrate.

【0003】しかし、(1)の方法は、以下のような問題点を有している。 However, the method (1) has the following problems. まず第一の問題点は、微粒子は互いに凝集する性質を持つため、基板上に均等に散布することが困難であり、均一なセル厚を実現し難いことである。 First problem is that since fine particles having a property to aggregate with each other, it is difficult to uniformly spread over the substrate, is that it is difficult to achieve uniform cell thickness. また、第二の問題点としては、微粒子の配置を制御することが困難であることから、画素部分にも散布された微粒子が配向欠陥を招来し、表示品位を低下させる可能性があることが挙げられる。 As the second problem, since it is difficult to control the placement of the fine particles, that particles that are sprayed to a pixel portion is lead to alignment defects, it is possible to lower the display quality and the like. さらに、第三の問題点は、基板がスペーサとしての真球微粒子との点接点で支持されているために、外圧に対して十分な強度を得ることが難しいということである。 Further, the third problem, since the substrate is supported by the contact points of the true spherical fine particles as a spacer, is that it is difficult to obtain a sufficient strength against external pressure.

【0004】一方、(2)の方法は、より具体的には、 On the other hand, the method (2) is, more specifically,
有機系または無機系膜を所定の膜厚に形成し、さらにその上にレジスト膜を形成した後にマスク露光することにより、スペーサとしての柱を形成する方法である。 The organic or inorganic film is formed to a predetermined thickness by further mask exposure after over to form a resist film thereon, a method of forming a pillar as a spacer. また、上記レジスト膜の代わりに、感光性ポリイミドや感光性アクリル樹脂のような感光性有機樹脂を用いることもできる。 Further, instead of the resist film, it is also possible to use a photosensitive organic resin such as photosensitive polyimide or a photosensitive acrylic resin. このように、(2)の方法は、柱を画素外部に選択的に形成できる。 Thus, the method of (2) can be selectively formed pillar pixel outside. また、基板と柱の接触面を任意のパターンに形成できるという長所を備えており、 Also comprises the advantage that the contact surface of the substrate and the bar can be formed in any pattern,
(1)の方法に比較して、セル厚の均一性、外圧に対する強度、および表示品位の点において優れている。 Compared to the method of (1), the uniformity of the cell thickness, is excellent in terms of strength, and the display quality for external pressure.

【0005】近年、液晶材料として強誘電性液晶が注目されているが、強誘電性液晶は自発分極を有することにより高速応答が可能であるなどの優れた性質を持つ反面、分子の配向の規則性がより結晶に近い構造を持つため、外圧により分子配向の規則性が乱されると元の状態に戻りにくい、つまり、衝撃に対して弱い、という問題点を有している。 [0005] In recent years, ferroelectric liquid crystal as the liquid crystal material has attracted attention, ferroelectric liquid crystal although having excellent properties such as which enables high-speed response by having a spontaneous polarization, the orientation of the molecules rules because sex with more structure close to the crystal, the regularity of molecular orientation is disturbed by external pressure hardly returns to its original state, that is, susceptible to impact, has the problem that. このため、強誘電性液晶が有する上記の問題点を克服するためには、耐衝撃性に優れた基板構造を持つことが必要である。 Therefore, in order to overcome the above problems of the ferroelectric liquid crystal, it is necessary to have excellent substrate structure in impact resistance. このような液晶表示素子を作製する方法として、(1)の方法に比較して、(2) As a method of producing such a liquid crystal display device, compared with the method (1), (2)
の方法がより有利であると考えられている。 Methods have been considered to be more advantageous.

【0006】従来の液晶表示素子は、例えば図6(a) Conventional liquid crystal display devices, for example, FIGS. 6 (a)
に示すような構造が挙げられる。 Include the structures shown in. この構造では、少なくとも一方が透光性を有する一対の基板101・102上に、それぞれストライプ状の電極103・104、絶縁層105・106、配向制御層107・108が形成され、配向制御層107上に均一な高さを有する壁状のスペーサ109が、電極103の長手方向に対して平行方向に形成され、スペーサ109と配向制御層108とが接着されることにより、前記一対の基板101・102 In this structure, on the pair of substrates 101 and 102 having at least one of the light-transmitting stripe-shaped electrodes 103, 104, respectively, the insulating layer 105, 106, the orientation control layer 107, 108 is formed, the orientation control layer 107 wall-shaped spacer 109 having a uniform height above is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode 103, by the spacer 109 and the alignment control layer 108 is adhered, the pair of substrates 101, 102
とが貼り合わされ、その間隙に液晶が封入されて液晶層110が形成される。 Doo is bonded, is a liquid crystal is sealed in the gap with the liquid crystal layer 110 is formed.

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の構造は以下のような問題点を有している。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, the conventional structure has the following problems.

【0008】図6(b)は、図6(a)におけるY− [0008] FIG. 6 (b), in FIG. 6 (a) Y-
Y'線矢視断面図である。 Y 'is a cross-sectional view taken along line. スペーサ109は、上記のように、基板101上に電極103の長手方向に対して平行方向に形成されている。 The spacer 109, as described above, are formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode 103 on the substrate 101. このため、スペーサ109を形成するための領域は、電極103の膜厚に起因する段差の影響がなく、また、スペーサ109の頂部は平坦である。 Therefore, a region for forming the spacer 109 has no influence of a step caused by the thickness of the electrode 103, also, the top of the spacer 109 is flat. しかし、基板101を対向する基板102と貼り合わせる際、スペーサ109の頂部に対して電極104 However, when bonding the substrate 102 facing the substrate 101, the electrode 104 relative to the top of the spacer 109
が交差することになる。 There will intersect. 従って、電極104の膜厚に因って形成される凹部111が、スペーサ109の頂部に対向する位置に存在することになり、スペーサ109の頂部全体が隙間なく基板102と貼り合わされない。 Thus, the recess 111 formed by the thickness of the electrode 104, will be present at a position facing the top of the spacer 109, the entire top of the spacer 109 is not bonded to the gap without the substrate 102.

【0009】液晶表示素子の耐衝撃性の向上は、一般には、一対の基板を均一な高さの壁状のスペーサで保持し、セル厚の変化を生じにくくすることで実現できる。 [0009] improvement of the impact resistance of the liquid crystal display device is generally holds the pair of substrates in the wall-like spacer of uniform height, it can be realized by hard to cause a change in cell thickness.
しかしながら、更に耐衝撃性を向上させるには、壁状のスペーサで液晶を区切り、液晶が流動しないようにする必要がある。 However, in order to further improve impact resistance, separate crystal at the wall-like spacer, the liquid crystal is required to avoid flow. 液晶を区切ることで、たとえ加圧によりセル厚が変化し、液晶の配向が乱れても、その範囲はスペーサで区切られた範囲内で収まり、隣のスペーサで区切られた領域には配向乱れが広がらない。 By separating the liquid crystal, if the cell thickness is varied by pressure, even if the orientation of the liquid crystal is disturbed, the range is settled within a range delimited by the spacer, the alignment disorder in the area bounded by the neighboring spacer not spread.

【0010】しかし、上記従来の構造では、凹部111 [0010] However, in the conventional structure, the recess 111
が形成されることによって、スペーサ109の頂部が凹部111で配向制御層108と接着せず、また、凹部1 By but formed, the top of the spacer 109 does not adhere to the orientation control layer 108 in the recess 111, The recess 1
11を介してスペーサ109の長手方向に対して垂直方向かつ基板面方向に液晶が動いてしまう。 Thereby moving the liquid crystal in the vertical direction and the substrate surface direction with respect to the longitudinal direction of the spacer 109 via a 11. 従って、加圧によって生じた配向乱れは、凹部111を介して伝わることによって、スペーサ109で区切られた隣接の領域に次々と広がっていくという問題がある。 Thus, alignment disorder caused by pressure, by traveling through the recess 111, there is a problem that spreads one after another in the region of adjacent, separated by a spacer 109. また、液晶を注入する際に、凹部111に液晶が入り込みにくく、注入不良が生じる問題もある。 Further, in the time of injecting the liquid crystal, the recess 111 hardly liquid enters, also implanted defect problems caused.

【0011】凹部111のような段差を生じる部分をなくし、基板102上のスペーサ109の頂部と接する領域を平坦にする方法としては、例えば、図7に示すように埋設体112を電極104間に形成する方法、または図8に示すように電極104を覆う平坦化膜113を形成する方法が挙げられる。 [0011] eliminate the portion producing step, such as a recess 111, a region in contact with the top of the spacer 109 on the substrate 102 as a method of flattening, for example, the embedded member 112 as shown in FIG. 7 between the electrodes 104 to a method of forming, or a method of forming a planarization layer 113 covering the electrode 104 and the like as shown in FIG. しかしながら、これらの方法は、プロセスの複雑化やコストアップを招来するという問題がある。 However, these methods, there is a problem that lead to complexity and cost of the process.

【0012】本発明は、このような従来技術の問題を解決すべくなされたものであり、均一なセル厚を有するとともに、充分な耐衝撃性を備え、さらにはむらのない良好な表示品位を実現できる液晶表示素子と併せてその製造方法を提供することを目的としている。 [0012] The present invention has such were conventionally made to solve the technical problems, which has a uniform cell thickness, with sufficient impact resistance, a good display quality further without unevenness and its object is to provide a manufacturing method thereof in conjunction with the liquid crystal display device can be realized.

【0013】 [0013]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の液晶素子は、上記の課題を解決するために、少なくとも一方が光透過性を有する一対の基板であって、それぞれの間で互いに交差する方向に延びる複数の電極が設けられる一対の基板と、該電極を有する面で対向する該一対の基板間に挟持される液晶層と、少なくとも一方の基板上に設けられるとともに他方の基板に直接あるいは他の膜を介して接着される均一な高さを有する壁状のスペーサとを備えた液晶表示素子において、以下の手段を講じていることを特徴としているすなわち、上記スペーサは、接着される基板上の上記電極あるいは上記電極に並設される金属配線の長手方向に対して平行方向に形成されている。 The liquid crystal device according to the first aspect of the present invention, in order to solve the problems] To solve the above problems, a pair of substrates having at least one of optical transparency, each other between the respective a pair of substrates having a plurality of electrodes are provided extending in a direction crossing, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates facing each other with the surface having the electrode, the other substrate together is provided on at least one of the substrates that is, in the liquid crystal display device comprising a wall-shaped spacer having a direct or uniform height which is bonded via the other film is characterized in that taken the following means, said spacer is bonded that it is formed in a direction parallel to the electrode or the longitudinal direction of the metal wires arranged in parallel to the electrode on the substrate.

【0014】上記の構成によれば、一対の基板が均一な高さを有する壁状のスペーサによって均一な間隔を保って、互いに貼り合わされる。 According to the above arrangement, while maintaining a uniform gap by the wall-like spacer having a uniform height pair of substrates are bonded to each other. さらに、スペーサが電極を有する基板上に前記電極の長手方向に対して垂直方向に、かつ、対向する基板上の電極の長手方向に対して平行方向に形成される。 Further, spacers in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the electrode over a substrate having an electrode, and is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the opposing electrode on the substrate. すなわち、スペーサを形成する基板上においては、スペーサが電極あるいは金属配線の長手方向に対して垂直方向かつ基板面方向に形成される。 That is, in the substrate for forming the spacers, spacers are formed in the vertical direction and the substrate surface direction with respect to the longitudinal direction of the electrode or a metal wiring.

【0015】これにより、スペーサが電極あるいは金属配線の厚さに起因する凹凸上を横切る構造(図2参照) [0015] Thus, across the irregularities on the spacer due to the thickness of the electrode or a metal wiring structure (see FIG. 2)
が得られるので、スペーサに及ぶ凹凸による段差の影響を軽減することができる。 Since is obtained, it is possible to reduce the influence of the step caused by irregularities ranging spacer. この結果、スペーサ頂部がほぼ平坦になる。 As a result, the spacer top is substantially planar. また、スペーサにより前記段差が完全に解消されなくても、凹部に生じる隙間が大幅に小さくなるので、スペーサと基板との接着面積が増して液晶表示素子の耐衝撃性が向上する。 Moreover, even if it is not the step is completely eliminated by the spacer, the gap formed recesses is greatly reduced, the adhesion area between the spacer and the substrate is increased to improve the impact resistance of the liquid crystal display device.

【0016】一般に、電極の厚さは通常0.02〜0. [0016] Generally, the thickness of the electrode is usually 0.02 to 0.
5μmであり、スペーサの高さはセル厚と等しく1〜8 A 5 [mu] m, the height of the spacer is equal to the cell thickness 1-8
μmであり、絶縁膜と配向膜の厚さはともに0.02〜 Is a μm, are both 0.02 to the thickness of the insulating film and an alignment film
0.4μmである。 It is 0.4μm. 絶縁膜および配向膜の厚さはスペーサの厚さに比べて小さいため、スペーサの方が電極に因る段差の影響を軽減し、平坦になりやすい。 Since the thickness of the insulating film and an alignment film is smaller than the thickness of the spacer, to reduce the effect of a step towards the spacer due to the electrode, it tends to be flat. 一方、平坦化のために絶縁膜または配向膜の厚みを大きくすると、 On the other hand, increasing the thickness of the insulating film or an alignment film for planarization,
配向性、液晶に印加される電圧の低下などの問題が生じる。 Orientation, problems such as reduction of the voltage applied to the liquid crystal occurs.

【0017】一方、対向基板におけるスペーサの頂部と接する領域は、スペーサが対向基板上の電極あるいは金属配線の長手方向に対して平行方向に形成されているため、対向基板上の電極間あるいは金属配線の段差部分ではなく平坦である。 Meanwhile, the region in contact with the top of the spacer in the counter substrate, since the spacer is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode or a metal wiring on the counter substrate, electrode or between the metal wiring on the counter substrate it is flat rather than the step portion. そのため、平坦なスペーサの頂部が平坦な対向基板に隙間なく貼り合わされる。 Therefore, the top of the flat spacers are bonded without a gap on a flat counter substrate. 従って、前述の従来技術で用いていた隙間を埋めるための埋設体や平坦化膜が不要になり、簡単なプロセスでコストアップを招くことなく、前記課題を解決することが可能である。 Therefore, it is possible to burying body and the planarizing film to fill the gap that has been used in the prior art described above is not required, without increasing the cost by a simple process, to solve the above problems.

【0018】請求項1の液晶表示素子は、請求項2に記載のように、上記スペーサが、接着される基板上で隣接する上記電極の間で該基板に直接あるいは他の膜を介して接着されていることが好ましい。 The liquid crystal display device according to claim 1, as claimed in claim 2, said spacer, directly or via another layer to the substrate between the adjacent electrodes on the substrate to be bonded bonded it is preferable to have been. これにより、スペーサが画素領域外に形成されるので、画素内にスペーサを形成する場合に起こる開口率や表示品位の低下を回避することができる。 Accordingly, since the spacer is formed outside the pixel region, it is possible to avoid a decrease in aperture ratio or display quality that occurs when forming the spacer in the pixel.

【0019】請求項1の液晶表示素子は、請求項3に記載のように、上記スペーサが、接着される基板上で上記金属配線の形成位置で該基板に接着されていることが好ましい。 The liquid crystal display device according to claim 1, as claimed in claim 3, said spacer, it is preferably bonded to the substrate at a forming position of the metal wiring on the substrate to be bonded. これにより、スペーサが、直接あるいは他の膜を介して対向基板上の金属配線に位置することになる。 Thus, spacers will be positioned on the metal wiring on the counter substrate directly or via another film.
金属配線は電極の低抵抗化に効果があるが、金属は遮光性であるため開口率の低下を招く。 The metal wire is effective in reducing the resistance of the electrode, the metal leads to a decrease in aperture ratio for a light-shielding. 一方、スペーサも、 On the other hand, is also a spacer,
光学的な等方性を有しておれば、クロスニコル下で光を通さないので、開口率を低下させる。 If I have optical isotropy, since impervious to light under crossed Nicols, decreasing the aperture ratio. そこで、スペーサと金属配線をセル厚方向に対して同じ位置に形成することで、高開口率化が実現できる。 Therefore, by forming the spacers and the metal wires in the same position with respect to the cell thickness direction, a high aperture ratio can be realized. また、金属配線の長手方向に対して平行な方向にスペーサを形成するため、平坦なスペーサ頂部が平坦な金属配線に直接あるいは他の膜を介して接することになり、金属配線の厚さに起因する段差の影響を受けず、スペーサの頂部に液晶が移動し得る隙間が存在しない。 Further, in order to form the spacer in a direction parallel to the longitudinal direction of the metal wires, will be flattened spacer tops are in contact directly or via another layer on a flat metal wire, due to the thickness of the metal wire without being affected by the step of, no gap crystal can move to the top of the spacer.

【0020】請求項1ないし3のいずれかの液晶表示素子は、請求項4に記載のように、上記液晶層を形成する液晶が強誘電性液晶であることが好ましい。 [0020] Any of the liquid crystal display device of claims 1 to 3, as described in claim 4, it is preferred the liquid crystal forming the liquid crystal layer is a ferroelectric liquid crystal. 強誘電性液晶は自発分極を有し、メモリ性を有すること等によって高速応答が可能となるため、例えば大容量かつ高精細な画像の表示が可能な液晶表示素子を提供することができる。 Ferroelectric liquid crystal has a spontaneous polarization, it becomes possible to high-speed response, such as by having a memory property, it is possible to provide a liquid crystal display device capable of displaying, for example, large-capacity and high-definition images. また、強誘電性液晶は、例えば、ネマティック液晶と比較すると分子配列が結晶に近いので、外圧により分子配向の規則性が一旦乱されると元の状態に戻りにくい、つまり衝撃に弱いという欠点を有しているが、上記のスペーサ構造を採用すれば、充分な基板強度が実現されているために上記の欠点が解消される。 Further, ferroelectric liquid crystal, for example, because the molecular arrangement when compared with the nematic liquid crystal is close to the crystal, the regularity of molecular orientation is once disturbed by external pressure hardly returns to its original state, the disadvantage of weak That impact has but by adopting the spacer structure, the above disadvantages are eliminated to a sufficient substrate strength is realized.

【0021】請求項1ないし3のいずれかの液晶表示素子は、請求項5に記載のように、上記液晶層を形成する液晶がスメクティック相を示し、上記スペーサが該液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成されていることが好ましい。 The liquid crystal display device of any of claims 1 to 3, as described in claim 5, the liquid crystal forming the liquid crystal layer is a smectic phase, layer normal of the smectic layers of the spacer is the liquid crystal it is preferably formed in a direction parallel to the line. 強誘電性液晶を挟持した液晶表示素子を加圧した場合、加圧によって生じる配向乱れは、スメクティック層の層方向に広がるが層法線方向には広がらない。 If the liquid crystal display device which sandwiches a ferroelectric liquid crystal pressurized, alignment disturbance caused by pressurization is spread in a layer direction of the smectic layer does not extend to the layer normal direction. すなわち、耐衝撃性を向上させるには、 That is, in order to improve the impact resistance,
スメクティック層の層方向に平行な方向の液晶の移動を防止することが必要である。 It is necessary to prevent movement in a direction parallel the liquid crystal in the layer direction of the smectic layer. 従って、上記のように、スメクティック層の層法線に対して平行方向にスペーサを形成すれば、スメクティック層の層方向に平行な方向に対する液晶の移動はスペーサによって防止されるため、 Therefore, as described above, since by forming the spacer in the direction parallel to the layer normal of the smectic layers, the movement of the liquid crystal with respect to the direction parallel to the layer direction of the smectic layer which is prevented by the spacer,
より耐衝撃性に優れた強誘電性液晶表示素子を提供することができる。 It is possible to provide a ferroelectric liquid crystal display device having more excellent impact resistance.

【0022】本発明の請求項6記載の液晶素子の製造方法は、上記の課題を解決するために、少なくとも一方が光透過性を有する一対の基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法において、上記一対の基板上に電極を形成する第1工程と、一方の基板上に、均一な高さを有する壁状のスペーサを、他方の基板上の上記電極あるいは上記電極に並設される金属配線の長手方向に対して平行方向に位置するように形成する第2工程と、上記スペーサを他方の基板に直接あるいは他の膜を介して接着させて一対の基板を貼り合わせる第3工程とを含んでいることを特徴としている。 The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 6 of the present invention, in order to solve the above problems, the liquid crystal display device, at least one of formed by sealing a liquid crystal between a pair of substrates having optical transparency juxtaposed in the manufacturing method, a first step of forming an electrode on the pair of substrates, on one of the substrates, the wall-shaped spacers having a uniform height, in the electrode or the electrode on the other substrate the second step and the third which is adhered bonding the pair of substrates directly or via another layer to the spacer on the other substrate to be formed to be located parallel to the longitudinal direction of the metal wires being It is characterized in that it contains a step.

【0023】上記の製造方法によれば、まず第1工程において、基板上に電極が形成される。 According to the manufacturing method described above, in the first of step, electrodes are formed on a substrate. なお、第1工程の前あるいは後に、必要に応じて、各基板上にカラーフィルタ、遮光層、金属配線等を形成することができる。 Incidentally, it is possible to before or after the first step, if necessary, a color filter on each substrate, the light-shielding layer, to form the metal wiring and the like. その後、第2工程において、スペーサが電極の長手方向に対して垂直方向に、かつ、対向する基板上の電極の長手方向に対して平行方向に形成される。 Then, in a second step, the spacer is perpendicular to the longitudinal direction of the electrode, and is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the opposing electrode on the substrate. すなわち、スペーサを形成する基板上では、スペーサが電極あるいは金属配線に因る段差部分を横切るように形成されるために段差の影響が軽減され、スペーサ頂部はほぼ平坦になる。 That is, on the substrate to form the spacers, the spacers influence of the step is reduced in order to be formed so as to cross the step portion due to the electrode or a metal wiring, the spacer top is substantially planar.
また、対向基板上のスペーサ頂部と接する領域は、スペーサが対向基板上の電極あるいは金属配線の長手方向に対して平行方向に形成されているので、対向基板上の電極に因る段差の影響を受けず、平坦である。 Further, a region in contact with the spacer top of the counter substrate, since the spacer is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode or a metal wiring on the counter substrate, the influence of the level difference due to the electrode on the counter substrate received not, it is flat. そのため、 for that reason,
平坦なスペーサ頂部が平坦な対向基板に貼り合わされ、 Flat spacer top is bonded to a flat counter substrate,
スペーサ頂部と対向基板との間に隙間は生じない。 Gap between the spacer top and the counter substrate does not occur.

【0024】なお、スペーサを、絶縁膜あるいは配向膜の形成前あるいは後に形成してもよいし、スペーサ頂部を、直接あるいは他の膜を介して対向基板に貼り合せてもよい。 [0024] Incidentally, the spacers may be formed before or after formation of the insulating film or the alignment layer, the spacer top, it may be bonded to the counter substrate directly or via another film.

【0025】請求項6の製造方法は、請求項7に記載のように、上記第2工程において、上記スペーサを上記第3工程で接着される基板上の隣接する上記電極の間に位置するように形成することが好ましい。 The method according to claim 6, as claimed in claim 7, in the second step, so as to be positioned between the spacer adjacent the electrode on the substrate to be bonded in the third step it is preferable to form. これにより、スペーサは画素領域外に形成されるので、画素内にスペーサを形成する場合に起こる開口率や表示品位の低下を回避することができる。 Thus, the spacer because they are formed outside the pixel region, it is possible to avoid a decrease in aperture ratio or display quality that occurs when forming the spacer in the pixel.

【0026】請求項6または7の製造方法は、請求項8 The method according to claim 6 or 7, claim 8
に記載のように、上記第2工程において、上記第3工程で接着される基板上の上記金属配線の形成位置に形成することが好ましい。 As described, in the second step, it is preferable to form the forming position of the metal wiring on the substrate to be bonded in the third step. これにより、スペーサと金属配線とがセル厚方向に対して同じ位置に形成される。 Thus, the spacer and the metal wiring is formed in the same position with respect to the cell thickness direction. このため、スペーサおよび金属配線による開口率の低下を回避することができる。 Therefore, it is possible to avoid a decrease in aperture ratio by the spacer and the metal wiring.

【0027】請求項6ないし8のいずれかの製造方法は、請求項9に記載のように、上記第2工程において、 The method of making any of claims 6 to 8, as described in claim 9, in the second step,
上記スペーサをスメクティック相を示す上記液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成することが好ましい。 It is preferably formed in the direction parallel to the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal exhibiting a smectic phase the spacer. これにより、スメクティック層の層方向に対する液晶の動きがスペーサによって防止されるので、 Thus, the liquid crystal movement relative to the layer direction of the smectic layer is prevented by the spacer,
ある領域で発生した加圧による配向乱れがスペーサで区切られた隣接の領域に広がらず、より耐衝撃性が向上した液晶表示素子を提供することが可能となる。 Orientation disturbance due generated pressure in a region is not spread in the region of adjacent, separated by a spacer, it is possible to provide a liquid crystal display device and more impact resistance is improved.

【0028】 [0028]

【発明の実施の形態】〔実施の形態1〕本発明の実施の一形態について、図1ないし図3に基づいて説明すれば以下の通りである。 For PREFERRED EMBODIMENTS [Embodiment 1] an embodiment of the present invention will be hereinafter described with reference to FIGS.

【0029】図1(a)は、本発明の実施の一形態に係る液晶表示素子の概略構成を示しており、図1(b)は図1(a)におけるX−X'線矢視断面図である。 [0029] FIG. 1 (a) shows a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) X-X 'in cross section taken along the line shown in FIG. 1 (a) it is a diagram. さらに、図2および図3はスペーサの形状を示している。 Furthermore, Figures 2 and 3 show the shape of the spacer.

【0030】本液晶表示素子は、一対の電極基板10・ The present liquid crystal display device includes a substrate a pair of electrodes 10,
20を対向させて貼り合わせ、その間に液晶が封入されて液晶層31が形成される構造を有する。 20 are opposed to bonded, it has a structure that is the liquid crystal is sealed in between the liquid crystal layer 31 is formed. 電極基板10 Electrode substrate 10
は、絶縁性基板11と、互いに平行に配され、かつストライプ状に形成された複数の電極12と、絶縁性基板1 It includes an insulating substrate 11, a plurality of electrodes 12 formed are disposed in parallel to each other, and a stripe-shaped insulating substrate 1
1および電極12を覆うように形成された絶縁膜13 1 and is formed to cover the electrode 12 insulating film 13
と、この絶縁膜13を覆うように形成された配向制御層14と、この配向制御層14上に形成されたスペーサ1 When the spacer 1 this an orientation control layer 14 formed to cover the insulating film 13 was formed on the orientation control layer 14
5とによって構成されている。 5 is constituted by the.

【0031】また、電極基板20は、絶縁性基板21 [0031] The electrode substrate 20 includes an insulating substrate 21
と、互いに平行に配され、かつストライプ状に形成された複数の電極22と、絶縁性基板21および電極22を覆うように形成された絶縁膜23と、この絶縁膜23を覆うように形成された配向制御層24とによって構成されている。 If, disposed in parallel to each other, and a plurality of electrodes 22 formed in stripes, the insulating substrate 21 and the electrode 22 insulating film 23 formed so as to cover the formed so as to cover the insulating film 23 It is constituted by an orientation control layer 24.

【0032】スペーサ15は、電極22の長手方向に対して平行方向に、かつ液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成されている。 The spacer 15 is formed in a direction parallel to a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode 22, and with respect to the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal. また、上記電極基板10・20は、絶縁性基板11上に形成されたスペーサ15の頂部と絶縁性基板11上に形成された配向制御層14との接着により貼り合わされている。 Further, the electrode substrates 10 and 20 are bonded by adhesion between the alignment control layer 14 with the top formed on the insulative substrate 11 of the spacer 15 formed on the insulating substrate 11.

【0033】上記の電極基板10・20は、少なくとも一方がガラス、プラスティックなどの透明材料からなる。 [0033] The electrode substrates 10 and 20, at least one of glass, made of a transparent material such as plastic. また、電極12・22としては、一般にITO(Ind Further, as the electrode 12 and 22, generally ITO (Ind
ium Tin Oxide)からなる透明電極を用いるが、その他の金属からなる電極を用いてもよい。 A transparent electrode made of ium Tin Oxide), or it may be used an electrode made of other metals.

【0034】本実施の形態で用いる液晶として、強誘電性液晶組成物が用いられている。 [0034] As liquid crystal used in this embodiment, the ferroelectric liquid crystal composition is used. 強誘電性液晶は、高速応答が可能でメモリ性を有するといった優れた特性を持つことから、大容量かつ高精細な画像を表示することを可能にする。 Ferroelectric liquid crystal, because of its excellent properties such as having a memory property capable of high-speed response, making it possible to display the high-capacity and high-definition images. また、液晶としては、強誘電性液晶に限らず、スメクティック相を示す液晶であれば反強誘電性液晶等の液晶を用いてもよい。 Further, as the liquid crystal is not limited to the ferroelectric liquid crystal may be a liquid crystal antiferroelectric liquid crystal or the like in a liquid crystal showing a smectic phase.

【0035】上記の構成を備える本液晶表示素子は、以下の工程により作製される。 The present liquid crystal display device having the above structure is manufactured by the following steps.

【0036】まず、絶縁性基板11の表面に、スパッタ法により厚さ200nm程度のITOを成膜し、これをフォトリソグラフィーによってパターニングすることにより電極12をストライプ状に形成する。 Firstly, on the surface of an insulating substrate 11, forming a thickness of 200nm approximately ITO by sputtering, the electrode 12 is formed in a stripe shape by patterning by photolithography so. さらに、この上にSiO 2をスピンコート法により塗布し、均一な表面を有する絶縁膜13を形成する。 Further, the SiO 2 by spin coating thereon, an insulating film 13 having a uniform surface. なお、この絶縁膜1 Note that the insulating film 1
3は、場合によっては省略することができる。 3 may be omitted in some cases.

【0037】次いで、チッソ社製の配向膜PSI−A− [0037] Then, the orientation film of Chisso Corporation PSI-A-
2101を膜厚50mになるようにスピンコート法により塗布し、約200℃で1時間焼成を行い、配向制御層14を形成する。 2101 was applied by spin coating to a thickness of 50m, baked for one hour at about 200 ° C., to form an alignment control layer 14. その後、上記の配向制御層14上に、 Then, on the orientation control layer 14 described above,
例えば新日鉄化学社製のネガ型感光性アクリル樹脂V− For example Nippon Steel Chemical Co., Ltd. of negative photosensitive acrylic resin V-
259を、焼成後の膜厚が1.5μmになるようにスピンコート法により塗布する。 259, a film thickness after baking is applied by spin coating so that the 1.5 [mu] m.

【0038】さらに、電極12の長手方向に対して垂直方向かつ基板面方向に、すなわち電極22の長手方向に対して平行方向に、電極22同士の間に相当する位置で、スペーサ15を形成すべき場所にフォトマスクを施して紫外線照射し、非露光部を除去した後、約180℃ [0038] Further, in the vertical direction and the substrate surface direction with respect to the longitudinal direction of the electrode 12, i.e. in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode 22, at a position corresponding to between the adjacent electrodes 22, to form a spacer 15 to place ultraviolet irradiation by applying a photomask, after removing the non-exposed portion, about 180 ° C.
で1時間の焼成を行うことにより、図2に示すようにスペーサ15を形成する。 In baking was carried out at 1 hour, to form spacers 15 as shown in FIG.

【0039】以上の工程のよって電極基板10を形成することができる。 [0039] can be formed thus electrode substrate 10 of the above steps. また、電極基板20については、絶縁性基板21上に上記と同様の工程によって、電極22、 As for the electrode substrate 20, by the same process steps as just on the insulating substrate 21, electrode 22,
絶縁膜23および、配向制御層24を順次形成することにより作製される。 Insulating film 23 and is manufactured by sequentially forming an orientation control layer 24.

【0040】次に、配向制御層14・24上をスペーサ15の長手方向に沿ってラビングし、これらの電極基板10・20を、配向制御層14・24のラビング方向が同一になるように対向させて、約180℃で1時間、 Next, an orientation control layer 14, 24 above and rubbed along the longitudinal direction of the spacer 15, facing these electrode substrates 10 and 20, as the rubbing direction of the orientation control layer 14, 24 are the same by 1 hour at about 180 ° C.,
0.9kg/cm 2の圧力を加えることによりスペーサ15と配向制御層24を接着させる。 Bonding the spacer 15 and the orientation control layer 24 by applying a pressure of 0.9 kg / cm 2. さらに、電極基板10および20の間隙に液晶を封入することにより、液晶表示素子が完成する。 Further, by filling a liquid crystal into a gap of the electrode substrate 10 and 20, the liquid crystal display element is completed.

【0041】以上のような工程により作製された液晶表示素子は、20kg/cm 2で加圧しても配向乱れが生じず、 The above liquid crystal display element manufactured by a process as is also pressurized with 20 kg / cm 2 does not occur alignment disturbance,
優れた耐衝撃性を備えていることが確認された。 It was confirmed that have excellent impact resistance. また、 Also,
±0.03μm以内の平坦性を有する均一なセル厚を確保することができ、注入不良領域のない液晶表示素子が得られた。 ± uniform cell thickness with flat within 0.03μm can be secured, the liquid crystal display device having no implanted defect region is obtained.

【0042】スペーサ15の材料としては、上記のネガ型感光性有機樹脂の他に、非感光性のポリイミドやアクリル樹脂などの有機樹脂や、Cr、Mo、Al等の金属を用いてもよい。 [0042] As the material of the spacer 15, in addition to the above negative photosensitive organic resin, or an organic resin such as a non-photosensitive polyimide or acrylic resin, Cr, Mo, or a metal such as Al. しかし、感光性有機樹脂を用いる場合は、フォトレジストが不要であるため、より簡単かつ低コストでスペーサ15を形成できるという利点がある。 However, when using a photosensitive organic resin, since the photoresist is not required, there is an advantage that can form a spacer 15 in a more simple and lower cost.
また、スペーサ15を形成する位置は、基板上のどの領域でも可能であるが、表示品位を低下させないためには、画素表示領域外に形成することが望ましい。 The position for forming the spacers 15 is also possible in any region on the substrate, in order not to lower the display quality, it is desirable to form the outside of the pixel display area.

【0043】なお、上記構成の液晶表示素子は、配向制御層14上にスペーサ15を形成する手順で作製されるが、スペーサ15を絶縁膜13の形成前あるいは後に形成し、配向膜14・24同士を接着することにより電極基板10および20を貼り合わせることも可能である。 [0043] The liquid crystal display device having the above structure is fabricated in the procedure of forming the spacers 15 on the orientation control layer 14, to form a spacer 15 before or after the formation of the insulating film 13, the alignment films 14, 24 it is also possible to bond the electrode substrate 10 and 20 by bonding with each other.
この場合、スペーサ15は、絶縁膜13および配向膜1 In this case, the spacers 15, insulating film 13 and an alignment film 1
4を介して間接的に基板20に接着されることになる。 4 will be bonded indirectly to the substrate 20 through the.

【0044】また、絶縁膜13・23は必須ではなく、 [0044] In addition, the insulating film 13 and 23 is not essential,
電極基板10および20の間でリーク電流が発生しなければ省略することも可能である。 It is also possible between the electrode substrates 10 and 20 is omitted if leakage current occurs.

【0045】以上のように、上記した実施の形態1に係る液晶表示素子は、一対の電極基板10および20を備え、一方の電極基板10は、電極基板11の上層に電極12を形成した後、さらに前記電極12の上層にスペーサ15が他方の電極基板20上の電極22の長手方向に対して平行方向にされた構成である。 [0045] As described above, the liquid crystal display device according to the first embodiment described above, a pair of electrode substrates 10 and 20, one of the electrode substrate 10 is formed by forming an electrode 12 on the upper layer of the electrode substrate 11 a configuration that further spacer 15 in the upper layer of the electrode 12 is in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode 22 on the other electrode substrate 20.

【0046】従って、スペーサ15は電極12の長手方向に対して垂直方向、すなわち、電極12の段差を横切るように形成される。 [0046] Accordingly, the spacer 15 is perpendicular to the longitudinal direction of the electrode 12, i.e., it is formed so as to cross the step of the electrode 12. そのため、電極12の段差による影響が緩和され、図2に示すように、スペーサ15の頂部が平坦になる。 Therefore, influence of the step of the electrode 12 is reduced, as shown in FIG. 2, the top of the spacer 15 becomes flat.

【0047】図3および表1に、厚さD 3の電極12上に形成された厚さD 1のスペーサ15の頂部に生じる段差D 2を示す。 [0047] Figure 3 and Table 1 show a step D 2 occurring at the top of the thickness D 3 of the electrode 12 a spacer 15 of thickness D 1 that is formed on. 表1には、電極厚さD 3が0.20μ Table 1, the electrode thickness D 3 is 0.20μ
m、0.30μmおよび0.50μmである場合について、1.00μm、1.25μm、1.50μmおよび1.75μmの厚さD 1に対する段差D 2を示している。 m, the case is 0.30μm and 0.50μm, 1.00μm, 1.25μm, shows a step D 2 to the thickness D 1 of the 1.50μm and 1.75 [mu] m. なお、段差D 2は概ね0.3μm以下であれば実用上問題ない。 Incidentally, the step D 2 is no practical problem as long as approximately 0.3μm or less.

【0048】 [0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】なお、図2および図3においては、簡略化のために、絶縁膜13および配向制御層14を図示していない。 [0049] Incidentally, in FIG. 2 and FIG. 3, for simplicity, it is not shown the insulating film 13 and the orientation control layer 14.

【0050】従来技術では、電極間の段差がほとんどそのまま残るのに対し(図6(b)参照)、本液晶表示素子では、スペーサ15を電極基板20上の電極22の長手方向に対して平行方向に形成することにより、電極間の段差による影響を軽減することができる。 [0050] In the prior art, (see FIG. 6 (b)) step while the most left as is between the electrodes, in the liquid crystal display element, parallel to the spacer 15 to the longitudinal direction of the electrode 22 on the electrode substrate 20 by forming direction, it is possible to reduce the effect of level difference between the electrodes. さらに、スペーサ材料をより平坦化しやすい(段差D 2を吸収しやすい)材料に変えたりすることで、スペーサ15の頂部をほぼ完全に平坦化することが可能である。 Further, by changing the spacer material more flattened easily (the step D 2 that easily absorbs) the material, it is possible to almost completely planarize the top of the spacer 15.

【0051】また、電極基板10上におけるスペーサ1 [0051] The spacer in the electrode substrate 10 on 1
5の頂部が電極基板20と接する位置は、隣接する電極22間であり、ここには段差がなく平坦である。 Position in which the top portion is in contact with the electrode substrate 20 of 5 are between adjacent electrodes 22, here is flat without a step. このように、スペーサ15の平坦な頂部が、電極基板20上の平坦な領域に接しているため、スペーサ15の頂部と電極基板20との間にはほとんど隙間が生じない構造が得られる。 Thus, the flat top portion of the spacer 15, because in contact with the flat region on the electrode substrate 20, the structure hardly occurs a gap between the top portion and the electrode substrate 20 of the spacer 15 is obtained. 従って、液晶がそのような隙間を介してスペーサ15の長手方向を横切って移動することはないので、 Thus, the liquid crystal does not move across the longitudinal direction of the spacer 15 through such gaps,
配向乱れが広がらず、かつ耐衝撃性に優れた液晶表示素子を提供することができる。 Alignment disorder is not spread, and it is possible to provide a liquid crystal display device excellent in impact resistance. しかも、スペーサ15が液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成されているので、スメクティック層の層方向に対する液晶の動きがスペーサによって防止される。 Moreover, the spacer 15 is so formed in the direction parallel to the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal, the movement of the liquid crystal is prevented by the spacer to the layer direction of the smectic layer.

【0052】なお、本実施例では、電極パターンがストライプ状である例を示したが、本発明では後述するように種々の電極パターンが可能である(図5(a)および(b)参照)。 [0052] In this embodiment, the electrode pattern is an example a stripe shape, the present invention is capable of various electrode patterns as will be described later (FIG. 5 (a) and (b) refer) .

【0053】〔実施の形態2〕本発明の実施の他の形態について、図4および図5に基づいて説明すれば以下の通りである。 [0053] For another embodiment of the [Embodiment 2] The present invention will be hereinafter described with reference to FIGS. なお、前記の実施の形態1における構成要素と同様の構成要素には同一の符号を付記し、その詳細な説明を省略する。 Note that the same components as in Embodiment 1 of the embodiment the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

【0054】本実施の形態に係る液晶表示素子は、図4 [0054] The liquid crystal display device according to the present embodiment, FIG. 4
に示すように、前記実施の形態1における電極基板10 As shown in, the electrode substrate 10 in the first embodiment
・20にそれぞれ金属配線16・26を加えた電極基板30・40を備える構成である。 - 20 is configured to respectively include an electrode substrate 30, 40 plus the metal interconnection 16, 26. すなわち、前記実施の形態1において、電極12・22の形成前にそれぞれ金属配線16・26をストライプ状に形成する。 That is, in the first embodiment, respectively to form the metal wiring 16, 26 in a stripe pattern before the formation of the electrode 12 · 22. この金属配線16・26は、銅、アルミニウム、チタン、金、クロム、タンタルなどの金属材料を用いてリフトオフ法、 Lift-off the metal wire 16, 26, using copper, aluminum, titanium, gold, chromium, a metal material such as tantalum,
エッチング法などで形成されており、電極12・22の配線抵抗を低下させる。 It is formed by an etching method, to lower the wiring resistance of the electrodes 12 and 22. その後、金属配線16・26に一部重なり、かつ平行となるように電極12・22を形成する。 Thereafter, the overlapping portion in the metal wiring 16, 26, and forming the electrodes 12 and 22 in parallel.

【0055】また、スペーサ15を、基板11上に電極22および金属配線26の長手方向に対して平行方向となるように形成する。 [0055] Further, the spacer 15 is formed so as to be parallel to the longitudinal direction of the electrode 22 and the metal wiring 26 on the substrate 11. スペーサ15の形成位置は、基板21上の下記の領域に相当する位置である。 Forming position of the spacer 15 is a position corresponding to the following regions on the substrate 21. すなわち、 That is,
スペーサ15aの形成位置は金属配線26に重なる電極22上の領域Aであり、スペーサ15bの形成位置は隣接する電極22・22の間で、かつ金属配線26上の領域Cであり、スペーサ15cの形成位置は金属配線26 Formation position of the spacer 15a is an area A on the electrode 22 that overlaps the metal wiring 26, the formation position of the spacer 15b is between the adjacent electrodes 22 and 22, and an area C on the metal wiring 26, the spacer 15c forming position of the metal wiring 26
上であって電極22と一部重なる領域Dである。 An area D that a top to partially overlap with the electrode 22.

【0056】従って、スペーサ15a〜15cは、電極基板30において、電極12および金属配線16の長手方向に対して垂直方向かつ基板面方向に、電極12および金属配線16を横切るように形成される。 [0056] Accordingly, the spacer 15a~15c, in the electrode substrate 30, in the vertical direction and the substrate surface direction with respect to the longitudinal direction of the electrode 12 and the metal wiring 16 is formed across the electrode 12 and the metal wiring 16. そのため、 for that reason,
実施の形態1と同様に電極12および金属配線16に因る段差の影響が軽減され、スペーサ15の頂部が平坦になる。 Effect of the step due to the electrode 12 and the metal wiring 16 as in the first embodiment is reduced, the top of the spacer 15 becomes flat.

【0057】また、スペーサ15a・15bの頂部が電極基板40に接する位置である領域A・Cは、電極22 [0057] The region A · C top of the spacer 15a · 15b is positioned in contact with the electrode substrate 40, electrode 22
および金属配線26に因る段差がなく平坦である。 And the step due to the metal wire 26 is flat without. 従って、スペーサ15a・15bの平坦な頂部が、電極基板40上の平坦な領域に接するので、スペーサ15a・1 Therefore, the flat top of the spacer 15a · 15b is because contact with the flat region on the electrode substrate 40, the spacer 15a · 1
5bの頂部と電極基板40との間にはほとんど隙間が生じない構造が得られる。 Structure almost no gap between the 5b top and the electrode substrate 40 is obtained.

【0058】また、領域Dは、電極22と重なる金属配線26上の領域Eと、電極22と重ならない金属配線2 [0058] The region D is a region E on the metal wiring 26 overlapping the electrodes 22, metal wiring does not overlap the electrode 22 2
6上の領域Fとからなる。 Consisting of a region F on 6. 電極22および金属配線26 Electrode 22 and the metal wiring 26
の厚さのため、領域E・Fは同一平面上になく、領域E For thickness, the area E · F is not on the same plane, a region E
・F間で段差が生じている。 · Step is generated between the F. 従って、スペーサ15cの頂部は、領域Eでのみ電極基板40と接しており、領域Fではスペーサ15cの頂部と電極基板40との間に隙間が生じている。 Therefore, the top of the spacer 15c is in contact with the electrode substrate 40 only in the region E, a gap is formed between the top portion and the electrode substrate 40 in the region F in the spacer 15c. しかし、領域Eではスペーサ15cの頂部と電極基板40との間には隙間が生じていないので、領域Fで生じた隙間は、スペーサ15cの長手方向に対して垂直方向かつ基板面方向、すなわちスペーサ1 However, because does not occur a gap between the top portion and the electrode substrate 40 of the spacer 15c in the region E, the gap formed in the region F, the vertical direction and the substrate surface direction with respect to the longitudinal direction of the spacer 15c, i.e. spacer 1
5cの頂部の幅全体にわたって形成されていない。 Not formed over the entire width of the top of 5c. そのため、液晶がスペーサ15cを横切って移動することはないので、配向乱れが広がらず、かつ耐衝撃性に優れた液晶表示素子を提供することができる。 Therefore, the liquid crystal is so does not move across the spacer 15c, alignment disorder is not spread, and it is possible to provide a liquid crystal display device excellent in impact resistance.

【0059】同様の理由から、スペーサ15bの頂部が電極22および金属配線26の形成されていない領域B [0059] For the same reason, the region B where the top of the spacer 15b is not formed in the electrode 22 and the metal wiring 26
と領域Cとに跨がって接する構成であっても、配向乱れが広がらず、かつ耐衝撃性に優れた構造を得ることができる。 And be configured to contact straddling the region C, alignment disorder is not spread, it is possible to obtain a structure excellent in impact resistance.

【0060】このように、スペーサ15a〜15cは、 [0060] In this way, the spacer 15a~15c is,
電極22および金属配線26の長手方向に平行となるように形成されていれば、電極基板40上の金属配線26 Be formed so as to be parallel to the longitudinal direction of the electrode 22 and the metal wiring 26, the metal wiring on the electrode substrate 40 of 26
上のどの位置に形成されてもよい。 It may be formed in any position of the above.

【0061】以上のような工程により作製された液晶表示素子は、20kg/cm 2で加圧しても配向乱れが生じず、 [0061] The above liquid crystal display element manufactured by a process as is also pressurized with 20 kg / cm 2 does not occur alignment disturbance,
優れた耐衝撃性を備えていることが確認された。 It was confirmed that have excellent impact resistance. また、 Also,
±0.03μm以内の均一なセル厚を確保することができ、注入不良領域のない液晶表示素子が得られた。 ± uniform cell thickness within 0.03μm can be secured, the liquid crystal display device having no implanted defect region is obtained.

【0062】なお、本実施の形態では、金属配線16・ [0062] In this embodiment, the metal wires 16,
26を電極12・22の形成前に形成しているが、電極12・22の形成後でも形成することが可能である。 Forming a 26 before the formation of the electrode 12 and 22, but can be formed even after the formation of the electrode 12 · 22. また、金属配線16・26は、電極12・22と重ならずに隣接して形成されていてもよいし、電極12・22の上あるいは下にその一部あるいはすべてが重なるように形成されていてもよい。 The metal wires 16, 26 may be formed adjacent without overlapping with the electrode 12 · 22, are formed so that part or all of the underlying or on the electrode 12 · 22 it may be.

【0063】本実施の形態においては、電極12・22 [0063] In this embodiment, the electrodes 12 and 22
あるいは金属配線16・26の長手方向とは、電極12 Or the longitudinal direction of the metal wires 16, 26, electrodes 12
・22あるいは金属配線16・26の形状がストライプ状であれば、その長辺方向である。 If, 22 or shape of the metal wires 16, 26 is a stripe, which is the long side direction.

【0064】また、次の図5(a)および(b)に示すような電極構造では長手方向の定義が異なる。 [0064] Further, the longitudinal direction of the definition is different in the electrode structure shown in the following FIGS. 5 (a) and (b). 図5 Figure 5
(a)に示す電極構造では、各画素あるいは複数の画素毎に電極12・22が独立して形成され、それらが直線状の金属配線16・26で接続されている。 In the electrode structure shown in (a), electrode 12 and 22 for each pixel or a plurality of pixels are formed independently, they are connected by straight metal wires 16, 26. この構造では、金属配線16・26の長辺方向が長手方向となる。 In this structure, the longitudinal direction of the metal wires 16, 26 is the longitudinal direction.
一方、図5(b)に示す構造では、各画素あるいは複数の画素毎に電極12・22が独立して形成され、隣接する2つの電極12(22)が短い1つの金属配線16 On the other hand, in the structure shown in FIG. 5 (b), each pixel or for each of a plurality of pixel electrodes 12 and 22 are formed independently of one two adjacent electrodes 12 (22) is short metal wiring 16
(26)で接続されている。 It is connected by (26). この構造では、電極12・ In this structure, the electrode 12 ·
22が金属配線16・26で電気的に接続された方向が長手方向となる。 22 is electrically connected direction is the longitudinal direction in the metal wires 16, 26.

【0065】〔比較例1〕ここで、比較例として従来の工程により作製された液晶表示素子を挙げ、実施の形態1および2の液晶表示素子と比較する。 [0065] Comparative Example 1 Here, taking a liquid crystal display element manufactured by a conventional process as a comparative example, compared with the liquid crystal display device of the first and second embodiments.

【0066】従来の液晶表示素子は、図6(a)および(b)に示すように、スペーサ109を基板101上の隣接する電極103間で、かつ電極103の長手方向に対して平行方向に形成した構成である。 [0066] Conventional liquid crystal display device, as shown in FIG. 6 (a) and (b), the spacer 109 between the adjacent electrodes 103 on the substrate 101, and in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode 103 is the formation and configuration.

【0067】スペーサ109は、隣接する電極103間における平坦な領域に形成されるため、その領域と電極103との間の段差の影響を受けず、スペーサ109の頂部が平坦である。 [0067] The spacer 109 is to be formed in the flat area between adjacent electrodes 103, without being affected by the difference in level between the region and the electrode 103, the top of the spacer 109 is flat.

【0068】しかし、スペーサ109を基板102と貼り合わせる際に、スペーサ109と電極104が交差する。 [0068] However, when bonding the spacers 109 and the substrate 102, the spacer 109 and the electrode 104 intersect. 従って、スペーサ109の頂部には、隣接する電極104のある領域とない領域との間の段差に起因する隙間(凹部111)が生じる。 Therefore, the top portion of the spacer 109, a gap caused by the level difference between the free and of the adjacent electrode 104 area region (recess 111) occurs.

【0069】前記の実施の形態1においては、スペーサ15が電極12を横切るように形成されているので、電極12に因る段差の影響が軽減され、平坦になったスペーサ15の頂部と電極基板20上の配向制御層24とが隙間なくほぼ完全に貼り合わされている。 [0069] In the foregoing first embodiment, since the spacer 15 is formed so as to cross the electrode 12, the influence of the level difference due to the electrode 12 is reduced, the top and the electrode substrate of the spacer 15 which is flat and the orientation control layer 24 on 20 are bonded almost completely without any gap. これに対し、 On the other hand,
本比較例では、スペーサ109の頂部は平坦であるが、 In this comparative example, the top of the spacer 109 but is flat,
基板102と貼り合せた際に上記の隙間がスペーサ10 The above gap spacer 10 when bonded to the substrate 102
9の頂部と接する部分に存在している点が、実施の形態1と異なっている。 That are present in a portion in contact with the top of 9 is different from the first embodiment.

【0070】上記のような従来工程により作製された液晶表示素子を加圧した場合、5kg/cm 2 kで配向乱れが生じ、しかも、配向乱れが上記の間隙の部分からスペーサ109で区切られた領域を越えて隣接する領域に広がった。 [0070] When pressurized liquid crystal display element manufactured by a conventional process as described above, alignment disturbance occurs in 5 kg / cm 2 k, addition, alignment disorder is separated by a spacer 109 from the portion of the gap It spreads in a region adjacent beyond the region. このように、本比較例の液晶表示素子は実施の形態1の液晶表示素子に比べて耐衝撃性が劣っていることが判った。 Thus, the liquid crystal display device of this comparative example was found to impact resistance inferior to the liquid crystal display device of the first embodiment.

【0071】〔比較例2〕他の比較例に係る液晶表示素子は、基本的には比較例1の液晶表示素子と同じ構造を有するが、配向制御層107・108にスペーサ109 [0071] Comparative Example 2 is a liquid crystal display device according to another comparative example basically has the same structure as the liquid crystal display device of Comparative Example 1, the spacer 109 in the orientation control layer 107, 108
の長手方向に対して垂直方向にラビング処理が施されていることを特徴としている。 It is characterized in that is rubbed in a direction perpendicular to the longitudinal direction. すなわち、前記の実施の形態1では、スペーサ15が液晶のスメクティック層の層法線方向に対して平行に形成されているのに対し、本比較例2では、スメクティック層の層法線方向に対して垂直方向に形成されている点が異なる。 That is, in the first of the embodiment, while the spacer 15 is formed parallel to the layer normal direction of the smectic layers of the liquid crystal, in Comparative Example 2, with respect to the layer normal direction of the smectic layer that it is formed in the vertical direction Te is different.

【0072】上記のような従来工程より作製された液晶表示素子を加圧すると、配向乱れがスメクティック層法線に対して垂直方向に発生し、スペーサ109がスメクティック層法線方向に対して垂直方向に形成されているため、配向乱れの広がりがスペーサ109によって止められず、広範囲に及んだ。 [0072] Pressurizing the liquid crystal display device such fabricated from conventional processes as described above, occurs in the direction perpendicular to the alignment disturbance is smectic layer normal, the direction vertical spacers 109 relative to the smectic layer normal direction because it is formed on the spreading of alignment disturbance can not be stopped by the spacer 109, it was widespread. このような従来工程により作製された液晶表示素子と実施の形態1の液晶表示素子とを比較すると、耐衝撃性において後者が優れていることが判った。 Comparing such a conventional process and a liquid crystal display element manufactured by a liquid crystal display device of embodiment 1, it was found that the latter is superior in impact resistance.

【0073】 [0073]

【発明の効果】以上のように、請求項1に係る液晶表示素子は、少なくとも一方が光透過性を有する一対の基板であって、それぞれの間で互いに交差する方向に延びる複数の電極が設けられる一対の基板と、該電極を有する面で対向する該一対の基板間に挟持される液晶層と、少なくとも一方の基板上に設けられるとともに他方の基板に直接あるいは他の膜を介して接着される均一な高さを有する壁状のスペーサとを備え、上記スペーサが、接着される基板上の上記電極あるいは上記電極に並設される金属配線の長手方向に対して平行方向に形成されている構成である。 As is evident from the foregoing description, a liquid crystal display device according to claim 1, at least one of a pair of substrates having optical transparency, a plurality of electrodes are provided to extend in a direction crossing each other between the respective a pair of substrates is a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates facing each other with the surface having the electrodes are bonded directly or via another layer on the other substrate together is provided on at least one of the substrates and a wall-shaped spacers having a uniform height that, the spacer is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the metal wires are arranged in parallel in the electrode or the electrode on the substrate to be bonded it is a configuration.

【0074】これにより、スペーサが電極あるいは金属配線の厚さに起因する凹凸上を横切る構造が得られるので、スペーサに及ぶ凹凸による段差の影響を軽減することができる。 [0074] Thus, the spacer is so structured that traverses over uneven due to the thickness of the electrode or the metal wiring can be obtained, it is possible to reduce the influence of the step caused by irregularities ranging spacer. この結果、スペーサ頂部がほぼ平坦になる。 As a result, the spacer top is substantially planar. また、スペーサの頂部が対向基板上の平坦な領域に直接あるいは他の膜を介して貼り合わされることになるので、スペーサ頂部が対向基板と隙間なく貼り合わされる。 Further, since the top portion of the spacer is to be bonded directly or via another layer on a flat region on the opposing substrate, the spacer top is bonded without the counter substrate and the gap. 従って、優れた耐衝撃性およびセル厚均一性を備えるとともに、注入不良のない液晶表示素子を提供することができるという効果を奏する。 Therefore, there is an effect that it is possible with with excellent impact resistance and cell thickness uniformity, provides no injection defective liquid crystal display device.

【0075】請求項2に係る液晶表示素子は、請求項1 [0075] The liquid crystal display device according to claim 2, claim 1
に係る液晶表示素子において、上記スペーサが、接着される基板上で隣接する上記電極の間で該基板に接着されているので、スペーサが画素領域外に形成される。 In the liquid crystal display device according to the above spacer, since it is bonded to the substrate between the adjacent electrodes on the substrate to be bonded, the spacer is formed outside the pixel region. 従って、画素内にスペーサを形成する場合に起こる開口率および表示品位の低下を回避することができるという効果を奏する。 Therefore, there is an effect that it is possible to avoid a decrease in aperture ratio and the display quality occurring when forming the spacer in the pixel.

【0076】請求項3に係る液晶表示素子は、請求項1 [0076] The liquid crystal display device according to claim 3, claim 1
または2に係る液晶表示素子において、上記スペーサが、接着される基板上で上記金属配線の形成位置で該基板に接着されているので、スペーサと対向基板上の金属配線とがセル厚方向に対して同じ位置に重なって形成される。 Or in the liquid crystal display device according to 2, the spacer is, since it is bonded to the substrate at a forming position of the metal wiring on the substrate to be bonded, to the metal wiring and the cell thickness direction on the spacer and the opposing substrate It is formed to overlap at the same position Te. 従って、スペーサおよび金属配線による開口率の低下を最小限に抑えることができ、表示品位の低下を回避することができるという効果を奏する。 Therefore, an effect that a reduction in the aperture ratio due to the spacer and the metal wiring can be minimized, it is possible to avoid a reduction in display quality. また、スペーサの平坦な頂部が平坦な金属配線上に直接あるいは他の膜を介して接するので、耐衝撃性に優れた液晶表示素子を提供できるという効果も併せて奏する。 Further, since the flat top of the spacer is in contact directly or via another layer on a flat metal wire, even together so effective that it is possible to provide a liquid crystal display device excellent in impact resistance.

【0077】請求項4に係る液晶表示素子は、請求項1 [0077] The liquid crystal display device according to claim 4, claim 1
ないし3のいずれかに係る液晶表示素子において、上記液晶層を形成する液晶が強誘電性液晶であるので、耐衝撃性に優れた基板に強誘電性液晶が挟持されることにより、外圧に弱いという強誘電性液晶の欠点が解消される。 In to the liquid crystal display device according to any one of 3, the liquid crystal forming the liquid crystal layer is ferroelectric liquid crystal, by a ferroelectric liquid crystal excellent substrate in impact resistance is held, vulnerable to external pressure ferroelectric liquid crystal drawback is eliminated. 従って、強誘電性液晶の優れた特性が発揮された液晶表示素子を提供することが可能となるという効果を奏する。 Therefore, an effect that it becomes possible to provide a liquid crystal display device excellent characteristics of the ferroelectric liquid crystal has been demonstrated.

【0078】請求項5に係る液晶表示素子は、請求項1 [0078] The liquid crystal display device according to claim 5, claim 1
ないし4のいずれかに係る液晶表示素子において、上記液晶層を形成する液晶がスメクティック相を示し、上記スペーサが該液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成されているので、スメクティック層の層方向への液晶の移動がスペーサによって防止される。 In to the liquid crystal display device according to any one of 4, the liquid crystal forming the liquid crystal layer is a smectic phase, since the spacer is formed in the direction parallel to the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal, smectic liquid crystal movement in the layer direction of the layer is prevented by the spacer. 従って、より耐衝撃性に優れた強誘電性液晶表示素子を提供することができるという効果を奏する。 Therefore, an effect that it is possible to provide a ferroelectric liquid crystal display device having more excellent impact resistance.

【0079】請求項6に係る液晶表示素子の製造方法は、少なくとも一方が光透過性を有する一対の基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法において、 [0079] method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, at least one of the manufacturing method of the liquid crystal display device formed by sealing a liquid crystal between a pair of substrates having optical transparency,
上記一対の基板上に電極を形成する第1工程と、一方の基板上に、均一な高さを有する壁状のスペーサを、他方の基板上の上記電極あるいは上記電極に並設される金属配線の長手方向に対して平行方向に位置するように形成する第2工程と、上記スペーサを他方の基板に直接あるいは他の膜を介して接着させて一対の基板を貼り合わせる第3工程とを含んでいる方法である。 A first step of forming an electrode on the pair of substrates, on one of the substrates, the wall-shaped spacers having a uniform height, metal wires are arranged in parallel in the electrode or the electrode on the other substrate It includes a second step of forming so as to be positioned in a direction parallel to the longitudinal direction, and a third step of bonding the pair of substrates are adhered directly or through other layer the spacer on the other substrate a Dale method.

【0080】このように、スペーサを対向する基板上の電極あるいは金属配線の長手方向に対して平行方向に形成することにより、スペーサの頂部の段差が緩和されほぼ平坦になる。 [0080] Thus, by forming in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode or a metal wiring on the substrate facing the spacer, the step at the top of the spacer is reduced becomes substantially flat. また、対向基板上におけるスペーサの頂部と接する領域は、スペーサが対向基板上の電極あるいは金属配線の長手方向に対して平行方向に形成されているので、対向基板上の電極に因る段差の影響を受けずに平坦である。 Also, the region in contact with the top of the spacer on the counter substrate, since the spacer is formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the electrode or a metal wiring on the counter substrate, the influence of the level difference due to the electrode on the counter substrate it is flat without being. そのため、スペーサの平坦な頂部が平坦な対向基板に貼り合わされるので、これらの間にはほとんど間隙が生じない。 Therefore, since the flat top of the spacer is bonded to a flat counter substrate, most gap does not occur between them. 従って、耐衝撃性の向上した液晶表示素子を提供することが可能となるという効果を奏する。 Therefore, an effect that it is possible to provide a liquid crystal display device with improved impact resistance.

【0081】請求項7に係る液晶表示素子の製造方法は、請求項6に係る製造方法の上記第2工程において、 [0081] method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 7, in the second step of the manufacturing method according to claim 6,
上記スペーサを上記第3工程で接着される基板上の隣接する上記電極の間に位置するように形成するので、スペーサが画素領域外に形成される。 Since the spacer is formed so as to be located between adjacent the electrodes on the substrate to be bonded in the third step, the spacer is formed outside the pixel region. 従って、画素内にスペーサを形成する場合に起こる開口率および表示品位の低下を回避することができるという効果を奏する。 Therefore, there is an effect that it is possible to avoid a decrease in aperture ratio and the display quality occurring when forming the spacer in the pixel.

【0082】請求項8に係る液晶表示素子の製造方法は、請求項6または7に係る製造方法の上記第2工程において、上記第3工程で接着される基板上の上記金属配線の形成位置に形成するので、スペーサおよび金属配線がセル厚方向に対して同じ位置に形成される。 [0082] method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 8, in the second step of the manufacturing method according to claim 6 or 7, the forming position of the metal wiring on the substrate to be bonded in the third step since forming, spacers and the metal wiring is formed in the same position with respect to the cell thickness direction. 従って、 Therefore,
スペーサおよび金属配線による開口率の低下を最小限に抑えることができるという効果を奏する。 An effect that a reduction in the aperture ratio due to the spacer and the metal wiring can be minimized.

【0083】請求項9に係る液晶表示素子の製造方法は、請求項6ないし8のいずれかに係る製造方法の上記第2工程において、上記スペーサをスメクティック相を示す上記液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成するので、スメクティック層の層方向に対する液晶の動きがスペーサによって防止される。 [0083] method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, in the second step of the manufacturing method according to any one of claims 6 to 8, the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal exhibiting a smectic phase the spacer because it forms in the direction parallel to the line, the movement of the liquid crystal is prevented by the spacer to the layer direction of the smectic layer. 従って、 Therefore,
加圧による配向乱れが隣接するスペーサに区切られた領域に広がらず、より耐衝撃性が向上した液晶表示素子を提供することができるという効果を奏する。 Not spread to alignment disorder due to pressurization is divided into adjacent spacer region, an effect that more impact resistance can be provided a liquid crystal display device with improved.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】(a)は本発明の実施の一形態に係る液晶表示素子の概略構成を示す断面図であり、(b)は(a)のX−X'線矢視断面図である。 1 (a) is a sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, an X-X 'cross-sectional view taken along line of (b) is (a).

【図2】上記液晶表示素子における一方の電極基板の概略構造を示す斜視図である。 2 is a perspective view showing a schematic structure of one of the electrode substrates in the liquid crystal display device.

【図3】図2の構造の断面図である。 3 is a cross-sectional view of the structure of FIG.

【図4】本発明に係る実施の他の形態に係る液晶表示素子の概略構成を示す断面図である。 Is a sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal display device according to another embodiment according to the present invention; FIG.

【図5】(a)および(b)はそれぞれ図4の液晶表示素子における電極と金属配線との異なる2種類の構造およびその配置を示す平面図である。 5 (a) and (b) is a plan view showing the two different types of structures and their arrangement between the electrode and the metal wiring in the liquid crystal display device of FIG. 4, respectively.

【図6】(a)は従来の製造工程によって作製された液晶表示素子の概略構成を示す断面図であり、(b)は(a)のY−Y'線矢視断面図である。 6 (a) is a sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal display element manufactured by the conventional manufacturing process, which is Y-Y 'in cross-sectional view taken along line of (b) is (a).

【図7】従来の製造工程によって作製された他の液晶表示素子の概略構成を示す断面図である。 7 is a cross-sectional view schematically showing the structure of another liquid crystal display device fabricated by the conventional manufacturing process.

【図8】従来の製造工程によって作製されたさらに他の液晶表示素子の概略構成を示す断面図である。 8 is a sectional view showing a schematic configuration of still another liquid crystal display device fabricated by the conventional manufacturing process.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

11・21 基板 12・22 電極 15 スペーサ 16・26 金属配線 31 液晶層 11 - 21 substrate 12, 22 electrode 15 spacer 16, 26 metal wires 31 liquid crystal layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 390040604 イギリス国 THE SECRETARY OF ST ATE FOR DEFENCE IN HER BRITANNIC MAJES TY'S GOVERNMENT OF THE UNETED KINGDOM OF GREAT BRITAIN AN D NORTHERN IRELAND イギリス国 ハンプシャー ジーユー14 0エルエックス ファーンボロー アイヴ ェリー ロード(番地なし) ディフェン ス エヴァリュエイション アンド リサ ーチ エージェンシー (72)発明者 玉井 和彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 内田 秀樹 大阪府大阪市阿倍野区長池 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (71) applicant 390040604 UK tHE SECRETARY oF ST ATE fOR DEFENCE iN HER BRITANNIC MAJES TY'S GOVERNMENT oF tHE UNETED KINGDOM oF GREAT BRITAIN AN D NORTHERN IRELAND UK Hampshire gU 14 0 El X-Fern borrow I've ferry load (no address) Difen scan Eva Ryu Apex Deployment and Lisa over Ji agency (72) inventor Kazuhiko Tamai Osaka Abeno-ku, Osaka Nagaike-cho, No. 22 No. 22 shi Sharp within Co., Ltd. (72) inventor Hideki Uchida Osaka Cabinet Office Abeno-ku, Osaka Nagaike 22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 繁田 光浩 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 2H088 FA02 GA04 HA02 JA17 MA01 MA17 MA18 MA20 2H089 LA09 LA10 NA05 NA14 QA03 QA14 QA15 QA16 RA13 TA02 22 No. 22 No. Shea Sharp within Co., Ltd. (72) inventor Mitsuhiro Shigeta Osaka Abeno-ku, Osaka Nagaike-cho, No. 22 No. 22 Shea Sharp Co., Ltd. in the F-term (reference) 2H088 FA02 GA04 HA02 JA17 MA01 MA17 MA18 MA20 2H089 LA09 LA10 NA05 NA14 QA03 QA14 QA15 QA16 RA13 TA02

Claims (9)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】少なくとも一方が光透過性を有する一対の基板であって、それぞれの間で互いに交差する方向に延びる複数の電極が設けられる一対の基板と、該電極を有する面で対向する該一対の基板間に挟持される液晶層と、少なくとも一方の基板上に設けられるとともに他方の基板に直接あるいは他の膜を介して接着される均一な高さを有する壁状のスペーサとを備えた液晶表示素子において、 上記スペーサが、接着される基板上の上記電極あるいは上記電極に並設される金属配線の長手方向に対して平行方向に形成されていることを特徴とする液晶表示素子。 1. A at least one of a pair of substrates having optical transparency, a pair of substrates having a plurality of electrodes are provided extending in a direction crossing each other between the respective said opposed by a surface having the electrode and a liquid crystal layer sandwiched between a pair of substrates, and a wall-shaped spacers having a uniform height to be bonded directly or via another layer on the other substrate together is provided on at least one of the substrates in the liquid crystal display element, the spacer, the liquid crystal display element characterized by being formed in a direction parallel to the longitudinal direction of the metal wires are arranged in parallel in the electrode or the electrode on the substrate to be bonded.
  2. 【請求項2】上記スペーサが、接着される基板上で隣接する上記電極の間で該基板に接着されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。 Wherein said spacer is a liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that it is bonded to the substrate between the adjacent electrodes on the substrate to be bonded.
  3. 【請求項3】上記スペーサが、接着される基板上で上記金属配線の形成位置で該基板に接着されていることを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示素子。 Wherein said spacer is a liquid crystal display device according to claim 1, wherein that it is bonded to the substrate at a forming position of the metal wiring on the substrate to be bonded.
  4. 【請求項4】上記液晶層を形成する液晶が強誘電性液晶であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の液晶表示素子。 4. A liquid crystal display device according to any one of 3 claims 1, wherein the liquid crystal forming the liquid crystal layer is a ferroelectric liquid crystal.
  5. 【請求項5】上記液晶層を形成する液晶がスメクティック相を示し、上記スペーサが該液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の液晶表示素子。 5. A liquid crystal forming the liquid crystal layer is a smectic phase, we claim 1, characterized in that the spacer is formed in the direction parallel to the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal 4 the liquid crystal display device according to any one of.
  6. 【請求項6】少なくとも一方が光透過性を有する一対の基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法において、 上記一対の基板上に電極を形成する第1工程と、 一方の基板上に、均一な高さを有する壁状のスペーサを、他方の基板上の上記電極あるいは上記電極に並設される金属配線の長手方向に対して平行方向に位置するように形成する第2工程と、 上記スペーサを他方の基板に直接あるいは他の膜を介して接着させて一対の基板を貼り合わせる第3工程とを含んでいることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 6. At least one of the manufacturing method of the liquid crystal display device formed by sealing a liquid crystal between a pair of substrates having optical transparency, a first step of forming an electrode on the pair of substrates, one substrate above the wall-shaped spacers having a uniform height, a second step of forming so as to be positioned in a direction parallel to the longitudinal direction of the metal wires are arranged in parallel in the electrode or the electrode on the other substrate When, a method of manufacturing a liquid crystal display element characterized by said spacer is adhered directly or through other layer on the other substrate and a third step of bonding the pair of substrates.
  7. 【請求項7】上記第2工程において、上記スペーサを上記第3工程で接着される基板上の隣接する上記電極の間に位置するように形成することを特徴とする請求項6記載の液晶表示素子の製造方法。 7. The second step, the liquid crystal display according to claim 6, wherein the spacer and forming so as to be located between adjacent the electrodes on the substrate to be bonded in the third step manufacturing method for the device.
  8. 【請求項8】前記第2工程において、上記第3工程で接着される基板上の上記金属配線の形成位置に形成することを特徴とする請求項6または7記載の液晶表示素子の製造方法。 8. A second step, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to claim 6 or 7, wherein the forming the forming position of the metal wiring on the substrate to be bonded in the third step.
  9. 【請求項9】上記第2工程において、上記スペーサをスメクティック相を示す上記液晶のスメクティック層の層法線に対して平行方向に形成することを特徴とする請求項6ないし8のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 9. The second step, according to any one of claims 6 to 8, characterized in that formed in the direction parallel to the layer normal of the smectic layers of the liquid crystal exhibiting a smectic phase the spacer method of manufacturing a liquid crystal display element of.
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