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JP2000086286A - Glass composition for dielectric layer of plasma display panel - Google Patents

Glass composition for dielectric layer of plasma display panel

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JP2000086286A
JP2000086286A JP26329898A JP26329898A JP2000086286A JP 2000086286 A JP2000086286 A JP 2000086286A JP 26329898 A JP26329898 A JP 26329898A JP 26329898 A JP26329898 A JP 26329898A JP 2000086286 A JP2000086286 A JP 2000086286A
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JP
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glass
composition
pdp
dielectric
layer
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Application number
JP26329898A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Higo
Kenichi Nishiwaki
Haruhiko Okuno
晴彦 奥野
徹 肥後
健一 西脇
Original Assignee
Okuno Chem Ind Co Ltd
奥野製薬工業株式会社
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/08Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass material for a dielectric layer of a plasma display panel(PDP), which is free from poisonous problems and exhibits insulation performance equivalent to that of the conventional glass containing lead and other excellent characteristics.
SOLUTION: The glass composition is used for forming a dielectric layer covering address electrodes provided on the surface of a back board of PDP and is composed of 70-100 wt.% of P2O5 glass powder having a low melting point and 0-30 wt.% of an inorganic pigment and an inorganic filler. The address electrodes provided on the back board of PDP is covered with a sintered material of the glass composition.
COPYRIGHT: (C)2000,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)の背面板上に設けられたアドレス電極を被覆する誘電体層の形成のためのガラス組成物、これを施工して得られる誘電体層を有するP BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is a plasma display panel (hereinafter, referred to as PDP) glass composition for forming a dielectric layer covering the address electrodes provided on the backplate, and construction this give P having a dielectric layer to be
DPの背面板及びその製造方法に関する。 Backplate DP and a manufacturing method thereof.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、テレビジョン、コンピューター等の平面表示装置の分野では、ハイビジョン方式のような高精度で且つ微細な画質の表示装置が開発され、その表示手段も大型化、高精度微細化が要望され、これに対応するものとしてプラズマディスプレイ方式が注目されつつある。 In the field of recent years, televisions, flat panel display such as a computer, a display device and a fine picture quality with high precision, such as high-definition system is developed, size also the display unit, high-precision microfabrication there is a need, plasma display method is attracting attention as corresponding thereto.

【0003】該プラズマディスプレイ方式のパネル、即ちPDPは、概略、適当な基板上に、透明電極及び金属電極よりなる行電極を形成し、これを誘電体ガラス層で被覆し、その表面にMgO保護層を形成させた前面板と、適当な基板上に金属のアドレス電極(列電極)及びこれを被覆する誘電体ガラス層を設け、その上に放電セルを形成するための隔壁を形成させ、且つセル底部及び隔壁側面に蛍光体層を形成させた背面板とを貼り合わせた構造を有している。 [0003] The plasma display mode panel, i.e. PDP is a schematic, on a suitable substrate to form a row electrode made of a transparent electrode and a metal electrode, which was coated with a dielectric glass layer, MgO protection on its surface a front plate to form a layer, a dielectric glass layer covering the metal of the address electrodes (column electrodes) and it is provided on a suitable substrate to form a barrier rib for forming a discharge cell thereon, and and a bonding structure and a back plate to the cell bottom and the partition wall side to form a phosphor layer. 該PDPは、上記セル内の電極間放電によって、セル内に充填した放電ガスを励起し、その際発する紫外線により基底状態にある蛍光体を発光させて画素を形成することができる。 The PDP is the inter-electrode discharge in the cell to excite the discharge gas filled in the cell, it is possible to form the pixel by emitting phosphors in the ground state by ultraviolet rays emitted at that time.

【0004】上記PDPは、より詳しくはその基板上に、通常シリコン酸化物のバッシベーション膜、あるいは低融点ガラス層からなる下地層(白色の場合は反射層ともなる)を形成させ、その上に、Ag、Ni、Al、 [0004] The PDP is more detail on the substrate, (in the case of white is also a reflection layer) Usually Basshibeshon film underlayer or made of a low-melting-point glass layer, the silicon oxide to form, thereon , Ag, Ni, Al,
Cr−Cu−Cr等の金属を厚膜印刷法、スパッタリング−フォトリソグラフィ法、無電解めっき−フォリソグラフィ法等によって、ストライプ状に析出乃至印刷してなるアドレス電極を形成させ、この電極を、誘電体ガラス層で被覆し、更に、各アドレス電極に隣接するように隔壁を設置し、底部アドレス電極を被覆した誘電体ガラス上及び隔壁側面に、交互に赤、青及び緑の蛍光体を配置して製造されている。 Cr-Cu-Cr metal thick film printing method such as sputtering - photolithography, electroless plating - by follower lithography or the like, to form address electrodes formed by deposition or printing in stripes, the electrodes, the dielectric covered with body glass layer, further, a partition wall is installed so as to be adjacent to each address electrode, the bottom address electrodes in the dielectric glass and septum side coated, red, blue and green phosphors arranged alternately It is manufactured Te.

【0005】従来、上記PDPの背面板のアドレス電極を被覆する誘電体ガラス組成物としては、蛍光表示管、 [0005] As a conventional dielectric glass composition for coating an address electrode of the back plate of the PDP, fluorescent display tube,
チップ抵抗、セラミック厚膜回路等に使用されていたP Chip resistors, has been used in the ceramic thick-film circuits or the like P
bO−SiO 2 −B 23系の低融点ガラス(鉛系ガラス)がそのまま又は若干組成の調整、例えば輝度向上のための白色乃至明色にするための組成の調整を行なわれて、専ら用いられてきている。 Adjustment of bO-SiO 2 -B 2 O 3 based low melting point glass (lead glass) is directly or slightly composition, for example, been made of a white or adjustment of the composition for the light color for the brightness enhancement exclusively it has been used. 即ち、上記鉛系ガラス組成物が背面板全面に約20−30μmの膜厚で塗布、焼成されてきている。 That is, the lead-based glass composition coated at a thickness of about 20-30μm the back plate the entire surface, has been fired.

【0006】該鉛系ガラス以外のガラス組成物としては、例えばアドレス電極の反射下地層用としてのP 25 [0006] The glass composition other than該鉛based glass, for example, P 2 O 5 as a reflective underlying layer address electrodes
−ZnO−Al 23 (特開平9−231910号公報参照)や、隔壁材料としてのP 25系ガラス(特開平8− -ZnO-Al 2 O 3 (see Japanese Patent Laid-Open No. 9-231910) and, P 2 P 5 based glass as a partition material (JP-A-8-
301631号公報参照)が、提案されてはいるが、上記アドレス電極を被覆する誘電体層用のガラス組成物としての鉛を含まないガラス組成物は、その開発も試みられておらず、提案されてもいない。 See Japanese Patent 301631) it is, although it is proposed that a glass composition containing no lead as a glass composition for a dielectric layer covering the address electrodes, the development also not been attempted, the proposed even if not.

【0007】しかるに、上記ガラス組成物は有害な鉛成分を多量に含む点より、昨今の環境問題、特に作業環境やPDPの廃棄処分等を考慮すると、その利用は決して好ましいものではなく、むしろ回避すべきものである。 [0007] However, the glass composition from the point containing a large amount of toxic lead component, recent environmental issues, especially considering the waste disposal of the working environment and PDP, its use is not in any way desirable, but rather avoids and the like should be.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来P As described above [0006], conventional P
DPのアドレス電極を被覆する誘電体ガラスとして汎用されてきた鉛を含むPbO−SiO 2 −B 23系ガラスに代わって、毒性が問題とならず、しかも該鉛系ガラスと同等もしくはそれをも凌ぐ絶縁特性(耐電圧)、その他の優れた特性を発揮し得る新しい誘電体ガラス組成物の開発が当業界で要望されている。 Instead of the PbO-SiO 2 -B 2 O 3 system glass containing lead has been widely used as dielectric glass that covers the address electrodes of the DP, toxicity no problem, yet equal or it with該鉛glass insulation characteristics (withstand voltage), the development of new dielectric glass composition capable of exhibiting other excellent properties has been desired in the art to be surpassed.

【0009】特に、かかる誘導体ガラス組成物に要求される性能としては、(1)鉛成分を含有しないこと、(2)絶縁性に悪影響を与えるおそれのあるアルカリ成分を含有しないこと(銀電極においては特にそのマイグレーションを防止すること)、(3)ガラス単体が500℃以下で基板ガラスと融着し得る低融点を有すること、(4)線熱膨張係数(ガラス単体)が95×10 -7以下であること(低膨張化フィラーの配合を特に必要としないか又は最小限に抑えて、誘導体としての絶縁性を確保できること)等が挙げられる。 In particular, the performance required for such derivatives glass composition, (1) that does not contain lead component, (2) that it does not contain an alkali component that may adversely affect insulation (in silver electrode especially to prevent its migration) is (3) having a low melting point glass alone may be fused with the substrate glass at 500 ° C. or less, (4) linear thermal expansion coefficient (glass alone) is 95 × 10 -7 less it (by suppressing the low expansion of particular or do not require minimum compounding of the filler, it can ensure insulation as derivatives) and the like.

【0010】本発明者は上記要求性能を有するPDP背面板のアドレス電極被覆誘電体層用ガラス組成物を得ることを目的として、鋭意研究を重ねた。 The present inventors have for the purpose of obtaining the address electrode covering the dielectric layer glass composition for PDP back plate having the required performance, conducted intensive research. その結果、以下に示す特定組成のガラス組成物が、上記目的に合致して、優れた諸性能を有することを見いだした。 As a result, the glass composition having a specific composition shown below, to meet the above object and found to have excellent various properties. 本発明はかかる新しい知見に基づいて完成されたものである。 The present invention has been completed based on the new finding.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、PDP According to the present invention, in order to solve the problems], PDP
の背面板上に設けられたアドレス電極を被覆する誘電体層を形成させるためのガラス組成物であって、P 25系低融点ガラス粉末70〜100重量%と無機顔料及び無機フィラー0〜30重量%とからなることを特徴とするPDPの誘電体層用ガラス組成物が提供される。 A glass composition for forming a dielectric layer covering the address electrodes provided on the back plate, P 2 O 5 based low melting glass powder 70% to 100% by weight and inorganic pigments and inorganic fillers 0 dielectric layer glass composition for PDP is provided which is characterized in that it consists of 30 wt%.

【0012】特に本発明によれば、P 25系低融点ガラス粉末が、P 25 45〜60モル%、ZnO30〜40 [0012] According to a particularly present invention, P 2 O 5 based low-melting glass powder, P 2 O 5 45~60 mol%, ZnO30~40
モル%、TiO 2 1〜10モル%、CaO0〜15モル%及びMgO0〜15モル%(但しCaO+MgO=1 Mol%, TiO 2 1 to 10 mol%, CaO0~15 mol% and MgO0~15 mol% (provided that CaO + MgO = 1
〜15モル%とする)の組成を有するものである上記P The P and has a composition of 15 to mol%)
DPの誘電体層用ガラス組成物が提供される。 Dielectric layer glass composition for DP is provided.

【0013】また本発明によれば、上記誘電体層用ガラス組成物の焼成物でアドレス電極を被覆されてなることを特徴とするPDPの背面板、及びPDP用背面板上に、上記誘電体層用ガラス組成物を施工し、焼成することを特徴とするPDP背面板の製造方法が提供される。 [0013] According to the present invention, PDP backplate, characterized in that formed by covering the address electrodes in the firing of the dielectric layer glass composition, and on the PDP for the back plate, the dielectric and applying a layer glass composition, method of manufacturing the PDP back plate, characterized in that firing is provided.

【0014】 [0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係わるPDPの誘電体層用ガラス組成物に用いられるP 25系低融点ガラス粉末につき詳述する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, detailed per P 2 O 5 based low melting point glass frit used for the dielectric layer glass composition for PDP according to the present invention.

【0015】これはP 25 45〜60モル%、ZnO3 [0015] This is P 2 O 5 45~60 mol%, ZnO3
0〜40モル%、TiO 2 1〜10モル%、CaO0〜 0-40 mol%, TiO 2 1 to 10 mol%, CaO0~
15モル%及びMgO0〜15モル%(但しCaO+M 15 mol% and MgO0~15 mol% (provided that CaO + M
gO=1〜15モル%とする)の組成を有するものであるのが好ましい。 Preferably one having a composition of gO = 1 to 15 mol%).

【0016】ここで、上記ガラス粉末の主成分とするP [0016] Here, P is the main component of the above glass powder
25は、一般にこの種ガラス粉末に汎用されている、例えばリン酸アンモニウムやリン酸水溶液等を原料として用いてガラス中に含有させることができる。 2 O 5 is generally may be incorporated in the glass by using are generic to such glass powder, for example, ammonium phosphate and phosphoric acid aqueous solution or the like as a raw material. その含有量が上記範囲をあまりに下回る場合は、得られるガラス粉末は、その焼き付け温度(融着温度)が上昇しすぎる。 If the content is too less than the above range, the glass powder obtained, the baking temperature (fusing temperature) becomes too high.
逆に上記範囲をあまりに上回る場合は、焼き付け皮膜の耐水性が極端に悪化する。 If conversely too exceeds the above range, the water resistance of the baked coating are extremely deteriorated. 好ましい含有量は、約47〜 The preferred content is from about 47 to
55モル%の範囲から選ばれるのがよい。 It may be selected from the range of 55 mol%.

【0017】上記ガラス粉末を構成するZnOは、例えば原料として亜鉛華を用いてガラス中に含有させることができる。 [0017] ZnO constituting the glass powder may be contained in the glass by using zinc as example materials. これは得られるガラスの膨張係数を上げることなく、融着温度を低下させる作用を奏する。 This is not to increase the expansion coefficient of the glass obtained exhibits the effect of lowering the fusion temperature. これが3 This is 3
0モル%をあまりに下回ると上記融着温度低下作用を奏し難くなり得られるガラスの融着温度が500℃を越えるものとなる不利がある。 0 mol% too below the fusion temperature of the glass to be obtained becomes difficult exhibit the above fusion temperature lowering effect is the disadvantage that becomes exceeding 500 ° C.. 逆に40モル%を越えてあまりに多くなると得られるガラスの耐薬品性が低下する不利がある。 The chemical resistance of the glass to be obtained opposite becomes too much beyond 40 mol%, thus lowering.

【0018】TiO 2は、例えば酸化チタンを用いてガラス中に配合でき、その少量の使用で得られるガラスの耐水性、耐酸性、耐アルカリ性を向上させる働きがあるが、10モル%を越えて多量に含有させると、ガラスが白濁化し、また融着温度が高くなりすぎる不利がある。 [0018] TiO 2, for example can be formulated in the glass using titanium oxide, the water resistance of the glass to be obtained in that a small amount of use, acid resistance, there is a function of improving the alkali resistance, more than 10 mole% when the large amount is contained, the glass is clouded, also there is a disadvantage that the fusion temperature is too high.

【0019】CaO及びMgOは、例えば酸化物又は炭酸塩を原料として、ガラス中に配合することができる。 [0019] CaO and MgO, for example the oxides or carbonates as starting materials, can be incorporated in the glass.
この両者は、共に少量の添加で耐水性及び耐薬品性を向上させる作用を奏するため、これらの配合は好ましいものである。 This both, for performing an operation to improve both small water resistance and chemical resistance in addition, these formulations are preferred. 上記作用は、いずれか一方のみの添加配合によっても、勿論、両者の添加配合によっても、発揮させることができる。 Above-described action, with the addition formulation either alone, of course, also by both the addition formulation, can be exhibited. その配合量は、好ましくは両者の合計量として約3〜12モル%の範囲から選ばれるのがよい。 The amount thereof, and it is preferably selected from the range of about 3 to 12 mole% as the total amount of both. 但し、両者の合計の配合量が15モル%を越えてあまりに多量となると融着温度が上昇しすぎる傾向がある。 However, there is a tendency that the fusion temperature if the amount of total of both is too a large amount beyond 15 mol% becomes too high.

【0020】上記低融点ガラス粉末は、上記各ガラス成分の所定量を必須成分として含有することを前提として、必要に応じて、他の適当なガラス成分を含有することもできる。 [0020] The low melting point glass powder, assuming that it contains a predetermined amount of the above glass component as essential components, if desired, can also contain other suitable glass component. この必要に応じて添加配合できるガラス成分及びその配合量は、得られるガラスの特性に悪影響を与えないもの及び範囲から適宜選択できる。 The glass component and the amount thereof can be added optionally added it may be appropriately selected from properties that do not adversely affect the and scope of the glass to be obtained. 該ガラス成分の具体例としては、例えばSnO、SnO 2 、Si Specific examples of the glass component, for example SnO, SnO 2, Si
2 、WO 3 、MoO 3 、Li 2 O、Na 2 O、K 2 O、B 2 O 2, WO 3, MoO 3 , Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, B 2
3 、Al 23 、Tl 23 、V 25等を例示できる。 O 3, Al 2 O 3, Tl 2 O 3, may be exemplified V 2 O 5 or the like. これらは一種又は二種以上用いることができ、その添加配合量は、いずれも3モル%以内であるのが望ましい。 They may be used one or two or more, the addition amount are both desirably within 3 mole%. これらの配合は融着温度、耐薬品性の微調整に役立つ。 These formulations are useful in fusion temperature, fine adjustment of the chemical resistance.

【0021】本発明の低融点ガラス粉末は、上記各成分の原料化合物を所定のガラス組成となるように混合した後、常法に従って、ガラス化後、粉末化することにより調整できる。 The low-melting glass powder of the present invention, after mixing to the starting compound of the above components a predetermined glass composition can be adjusted according to a conventional method, after vitrification, by powdering. 例えば、代表的には、各原料の混合バッチを、約900〜1100℃で溶融し、融液状ガラスを水冷ロールに挟んで冷却フレーク状とし、その後ボールミル等を用いて湿式あるいは乾式粉砕することにより、所望の低融点ガラス粉末を調整できる。 For example, typically, the mixed batch of each raw material, by melted at about 900 to 1100 ° C., a melting liquid glass and cooled flake sandwiched cooled roll, to wet or dry milling with subsequent ball mill It can be adjusted the desired low melting point glass frit. 尚、湿式粉砕を水中で行なう場合には、水分を濾去して得られるケーキを低温で真空乾燥するのが望ましい。 Incidentally, in the case of wet grinding in water, it is desirable to vacuum drying the cake obtained by filtering off the water at low temperature. かくして調整される粉末の粒度は特に限定されるものではないが、一般には0.1〜30μmの範囲にあるのが好ましく、この粉末は更に分級等によって約0.5〜15μmの範囲に調整されるのが好適である。 Thus the particle size of the powder to be adjusted is not particularly limited, generally is preferably in the range of 0.1 to 30 [mu] m, the powder is adjusted to a range of about 0.5~15μm by further classifying the like it is preferable to that.

【0022】本発明誘電体層用ガラス組成物は、上記P [0022] The present invention dielectric layer glass composition, the P
25系低融点ガラス粉末70〜100重量%に、無機顔料及び無機フィラー0〜30重量%を配合して調整される。 2 O 5 based on the low-melting glass powder 70% to 100% by weight, is adjusted by blending 0-30 wt% inorganic pigments and inorganic fillers.

【0023】ここで、無機顔料としては、セルの底部となる誘電体ガラス層を白色とすることによって放電発光時の輝度の向上をはかるためには、白色系無機顔料の使用が好ましい。 [0023] As the inorganic pigment, a dielectric glass layer made of the bottom of the cell in order to improve the luminance in discharge light emission by white, the use of white inorganic pigments are preferable. かかる白色系無機顔料としては、通常この種ガラス組成物に配合されることの知られている各種のもの、例えばTiO 2 (酸化チタン)、ZnO(亜鉛華)等を例示できる。 Such white mineral pigments, usually any of various known be formulated in this type of glass composition, for example, TiO 2 (titanium oxide) can be exemplified by ZnO (zinc white), and the like. これら無機顔料の粒径は約0.1 The particle size of these inorganic pigments are about 0.1
〜3μmの範囲であるのがよい。 It is in the range of ~3μm.

【0024】PDPのアドレス電極を誘電体ガラス層で被覆する目的は、ストライプ状に伸びる各アドレス電極間のリーク(短絡)を防止することにある。 The purpose of covering the PDP address electrodes with a dielectric glass layer is to prevent leakage (short-circuit) between the address electrodes extending in a stripe shape. 白色顔料を添加して輝度向上をはかるのは副次的な目的であり、よって顔料の添加は必ずしも必要がない。 The measure brightness improved by adding the white pigment is a secondary objective, therefore the addition of the pigment do not necessarily need. 顔料無添加の場合、下部の電極位置が視認でき、後工程における位置合わせが容易となる。 For the pigment no addition, the lower portion of the electrode position can be visually recognized, which facilitates alignment in a later step.

【0025】本発明の誘電体ガラス組成物に使用するP [0025] P to be used for the dielectric glass composition of the present invention
25系低融点ガラスは、基板ガラスの線膨張係数(ソーダライム板ガラス:87〜88×10 -7 )と同程度の8 2 O 5 based low melting glass, the linear expansion coefficient of the substrate glass (soda-lime glass plate: 87~88 × 10 -7) and comparable 8
0〜95×10 -7の熱線膨張係数を有する。 Having a linear thermal expansion coefficient of 0 to 95 × 10 -7. それゆえ、 therefore,
必ずしも低膨張化のための無機フィラーを添加する必要はないが、本発明の範囲内でガラス組成によっては低膨張化フィラーの添加が好ましい場合もある。 Need not necessarily adding an inorganic filler for low expansion reduction, by a glass composition within the scope of the present invention in some cases the addition of a low expansion of the filler is preferred. かかる低膨張化剤としては、β−ユークリプトタイト、β−スポシューメン、溶融シリカ、コージェライト等を挙げることができる。 Such low expansion agent, beta-user crypto tight, beta-Suposhumen, fused silica, mention may be made of cordierite or the like. これらはその一種を単独で用いることもでき、また二種以上を混合して用いることもできる。 It can also make use of one kind alone or may be used as a mixture of two or more. それらの粒径は、一般には約0.1〜10μmの範囲から選ばれるのが好ましい。 These particle size of generally selected from the range of about 0.1~10μm are preferred.

【0026】その他無機フィラーとして、焼成温度を調節するために、例えばAl 23 、SiO 2 、ZrO 2 、Z [0026] Other inorganic fillers in order to adjust the firing temperature, for example, Al 2 O 3, SiO 2, ZrO 2, Z
rSiO 2 、MgO等の粉末を添加することができる。 It can be added to powder of RSiO 2, MgO and the like.
さらにフィラーとして各アドレス電極間の絶縁性を損なわない添加範囲でNi、Cr等の金属粒子を添加することもできる。 Furthermore Ni in addition does not impair the insulating property between the address electrodes as the filler, it can be added to metal particles such as Cr. これらの添加によれば、誘電体ガラス層に蓄積された電荷を適度にリークして誤放電を防止することができる。 According to these additives, it is possible to prevent appropriately leaked by erroneous discharge the charge accumulated in the dielectric glass layer.

【0027】上記無機顔料、無機フィラーの添加量は、 [0027] The inorganic pigment, the addition amount of the inorganic filler,
30重量%まで許容されるが、30重量%を越えると5 Although acceptable up to 30% by weight, more than 30% by weight, 5
00〜600℃の焼成温度範囲において、ガラスの溶融状態が十分でなく、電気絶縁性(耐電圧)に悪影響を及ぼすおそれのあるポーラスなガラス層となる不利がある。 In the firing temperature range of from 00 to 600 ° C., molten glass is not sufficient, there is a disadvantage that the electrically insulating could adversely affect the (withstand voltage) porous glass layer. 通常好ましくは20重量%以下の配合量が採用でき、これによって安定した絶縁性を示すガラス層を形成できる。 Usually preferably it is employed the amount of 20 wt% or less, thereby to form a glass layer exhibiting a stable insulation.

【0028】本発明の誘電体層用ガラス組成物は、一般には、これを有機ヴィヒクルと混合して適当なペースト状形態に調製して使用される。 The dielectric layer glass composition of the present invention generally which was mixed with an organic Vihikuru used to prepare a suitable paste form. 上記有機ヴィヒクルとしては、一般にこの種誘電体層用ガラスペーストに利用されている各種のもののいずれでもよく、これらは通常樹脂の溶剤溶液からなっている。 Examples of the organic Vihikuru generally may be any of various ones have been used for this type dielectric layer glass paste, which is made from a solvent solution of a normal resin. ここで用いられる樹脂としては、セルロース系樹脂及びアクリル系樹脂が好ましいものとして例示できる。 The resin used herein can be illustrated as cellulose resin and acrylic resin are preferable. 該セルロース系樹脂には、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ニトロセルロース等が、アクリル系樹脂には、ポリブチルアクリレート、ポリイソブチルメタクリレート等が含まれる。 The said cellulose resin, ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, nitrocellulose and the like, the acrylic resin, polybutyl acrylate, polyisobutyl methacrylate and the like. 上記樹脂は、一般には調整されるガラスペースト組成物中にその1種を単独で又は2種以上を併用して、合計量が0.5〜20重量%程度の範囲で配合されるのがよい。 The resin is generally alone or in combination of two or more of the one in the glass paste composition to be adjusted, the good total amount is formulated in a range of about 0.5 to 20 wt% .

【0029】上記樹脂の溶剤溶液を構成する溶剤も通常知られている各種のものでよく、特に限定されないが、 The solvent constituting the solvent solution of the resin may be of normal known various, but are not limited to,
樹脂の溶解性に優れ、粘稠性のオイルを形成し得るものが好ましい。 Excellent solubility of the resin, it is preferable capable of forming a viscous oil. これには中沸点及び高沸点のエステル系溶剤、エーテル系溶剤、石油系溶剤等が含まれる。 This mid-boiling and high boiling ester solvents include ether-based solvents include petroleum based solvents. その具体例としては、例えばブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のエステル系溶剤、ブチルカルビトール等のエーテル系溶剤、ナフサ、ミネラルターペン等の石油系溶剤等を例示できる。 Specific examples thereof can be exemplified butyl cellosolve acetate, ester solvents such as butyl carbitol acetate, ether solvents such as butyl carbitol, naphtha, petroleum solvents such as mineral turpentine. 之等は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用することもできる。 This like may be may be used alone or in combination of two or more.

【0030】以下、上記ガラスペースト組成物の調製とこれを用いた誘電体層の形成方法につき詳述すれば、例えば上記樹脂を比較的高沸点の溶剤に溶解したオイル中に、所定量の本発明ガラス組成物を、例えば三本ロール、ボールミル、サンドミル等の分散機で分散させて、 [0030] Hereinafter, if detailed per forming the method of preparing a dielectric layer using the same of the glass paste composition, for example in oil dissolved in a solvent of relatively high boiling point of the above resin, a predetermined amount of the the invention glass composition, for example, three-roll, a ball mill, and dispersed in a sand mill,
スラリー状乃至ペースト状物を調製する。 To prepare a slurry or paste-like product. この組成物を、アドレス電極を施したPDPの背面ガラス基板上に施工する。 The composition is construction on the rear glass substrate of the PDP subjected to the address electrodes.

【0031】上記背面ガラス基板へのペースト状物の施工方法は、例えばドクターブレード法、ロールコート法、スクリーン印刷法、テーブルコーター、リバースコーター、スプレー法等の通常の各種方法に従うことができる。 The construction method of the pasty material to the back glass substrate, for example, a doctor blade method, a roll coating method, a screen printing method, a table coater, may follow the reverse coater, conventional various methods spray method. これらの内では、膜厚を均一にできる点及びパターニングの必要がない点より、スクリーン印刷方法が最も適切である。 Among these, from the point it is not necessary for uniformly can point and patterning the film thickness, a screen printing method is most suitable.

【0032】あらかじめ本発明ガラス組成物をドライなグリーンシート状にしておいて、ガラス基板の電極上にラミネートすることも可能である。 The advance of the present invention glass composition allowed to dry green sheet, it is also possible to laminate on the glass substrate electrode.

【0033】上記の如くしてアドレス電極上に塗布されたガラス組成物を有する背面基板を、次いで焼成炉中に投入し、500〜600℃の温度で焼成することにより、所望の絶縁性に優れた均一な誘電体ガラス層を形成できる。 [0033] The rear substrate having the above as to the glass composition coated on the address electrodes, and then was poured into a baking furnace and baked at a temperature of 500 to 600 ° C., excellent desired insulating It was capable of forming a uniform dielectric glass layer.

【0034】本発明誘電体層用ガラス組成物は、アドレス電極の絶縁性の確保や、輝度向上のための反射層としてアドレス電極の下地層としても使用することができる。 The present invention dielectric layer glass composition, insulating and securing of the address electrodes can be used as an underlying layer of the address electrode as a reflective layer for brightness enhancing.

【0035】 [0035]

【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、実施例を挙げる。 EXAMPLES Hereinafter, for describing the present invention in more detail, examples are given. 尚、例中、部及び%はいずれも重量基準によるものである。 Note that both in the examples, parts and percentages are by weight.

【0036】 [0036]

【実施例1〜6及び比較例a及びb】リン酸二水素アンモニウム、特号亜鉛華、酸化チタン、炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウムをバッチ原料として、表1に1〜6 [Examples 1-6 and Comparative Examples a and b] ammonium dihydrogen phosphate, Japanese Patent zinc white, titanium oxide, as a batch raw material of calcium carbonate and magnesium carbonate, in Table 1 1-6
(本発明)として示す所定のガラス組成及び同表1にa A predetermined glass composition and the same table 1 shown as (the present invention) a
及びb(比較)として示す所定のガラス組成となるように、それぞれの原料を配合して、1000〜1100℃ And b to a predetermined glass composition shown (Comparative), by blending each raw material, 1000 to 1100 ° C.
で溶融した。 In melted. 取り出した溶融細流を水冷ロールにて急冷して、フレーク状のガラスを得た。 The molten trickle taken out by quenching in water-cooled rolls to obtain a flaky glass.

【0037】ついで、得られたガラスを乾式ボールミルにて粉砕して、粒径0.1〜25μmの粉末を得、これを分級して15μm以下の粒度に調整した。 [0037] Then, the resulting glass was triturated with a dry ball mill to give a powder of particle size 0.1~25Myuemu, and adjusted to a particle size of less than 15μm it was classified.

【0038】上記ガラス粉末を単独で、又はこれに表1 [0038] alone the glass powder, or in table 1
に示す所定量の無機顔料及び無機フィラーを配合して、 A predetermined amount of inorganic pigment and an inorganic filler shown in compounded,
本発明ガラス組成物としての混合粉末(1〜6)及び比較ガラス組成物としての混合粉末(a及びb)を得た。 Mixed powder as a mixed powder (1-6) and comparative glass compositions as the present invention glass composition (a and b) were obtained.

【0039】上記で得られた各ガラス組成物のそれぞれ72%と、α−ターピネオール92%にエチルセルロース6%及びポリイソブチルメタクリレートポリマー2% [0039] 72% respectively of each glass composition obtained above and, alpha-terpineol 92% ethyl cellulose 6% and polyisobutyl methacrylate polymer 2%
を溶解したヴィヒクル28%とを、バタフライミキサーにて混練し、三本ロールにて固形分をヴィヒクル中に分散させて、誘電体層用ガラスペーストを得た。 And Vihikuru 28% were dissolved, were kneaded with a butterfly mixer, a solid component in a three-roll dispersed in Vihikuru to obtain a glass paste dielectric layer.

【0040】以下、上記ガラスペーストを施工して得られる誘電体層の最も重要な特性の一つである絶縁性(耐電圧)及び本発明ガラス組成物粉末の焼成後の膨張係数を、以下の方法によって測定した。 [0040] Hereinafter, the most important characteristic is one insulative (withstand voltage) of and expansion coefficient after firing of the present invention glass composition powder of the dielectric layer obtained by applying a the glass paste, the following It was measured by the method.

【0041】(1)耐電圧の測定 ソーダライムガラス基板上に焼成タイプの銀ペーストを印刷し、570℃で焼成して下部電極を形成させた。 [0041] (1) to print a firing type silver paste measurement soda lime glass substrate having a withstand voltage of, to form a lower electrode and fired at 570 ° C.. この上に本発明誘電体層用ガラスペーストを下部電極を全面被覆する形で印刷し、580℃で焼成した。 The present invention dielectric layer glass paste on the lower electrode is printed in the form of the entire surface coating, and baked at 580 ° C.. 尚、焼成後の膜厚が30μmとなる様に、印刷条件、ペースト組成を調整した。 The film thickness after baking as a 30 [mu] m, the printing condition, and a paste composition. さらにこの上に熱硬化タイプの銀ペーストを下部電極より少し小さい面積にて印刷し、150℃ Further a thermosetting type silver paste was printed in slightly smaller area than the lower electrode on the, 0.99 ° C.
で加熱して上部電極を形成させた。 In heated to form an upper electrode. 上部電極と下部電極の相反対する地点に接点をとり、菊水電子株式会社の耐電圧測定器(モデル875AZ)で0.5mAの電力がリークした時点を絶縁破壊として、耐電圧値を決定した。 Taking the contacts into the phase opposite to the point of the upper and lower electrodes, a time when the power of 0.5mA leaked as dielectric breakdown withstand voltage measuring instrument Kikusui Electronic Co., Ltd. (model 875AZ), it was determined the withstand voltage value.

【0042】(2)本発明ガラス組成物の線熱膨張係数の測定 ガラス粉末、無機顔料及び無機フィラーを混合した本発明ガラス組成物粉末を加圧下に棒状に成形し、誘電体ガラスの焼成と同一条件で焼成して得られる棒状焼成物について、所定長さにカット後、TMA(熱機械分析装置)を用いて膨張係数を算出(50〜350℃の範囲) [0042] (2) Measurement of glass powder of linear thermal expansion coefficient of the present invention glass composition, the present invention glass composition powder obtained by mixing inorganic pigments and inorganic fillers molded into a rod shape under pressure, and fired dielectric glass the rod-like fired product obtained by firing under the same conditions, after cutting to length, TMA calculated expansion coefficients using (thermomechanical analyzer) (range of 50 to 350 ° C.)
した。 did.

【0043】上記各測定結果を表1に示す。 [0043] Table 1 shows the measurement results. 尚、無機フィラー粉末としては、β−ユークリブトタイトを用いた。 As the inorganic filler powder, using β- user crib preparative tight.

【0044】 [0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】上記表1より明らかなように、本発明ガラス組成物の利用によれば、比較ガラス組成物(比較例1:無機顔料及び無機フィラー含有量が30重量%を越えるもの、比較例2及び3:例えば下地層用として公知のP 25系ガラスに無機顔料を本発明範囲内で加えたもの)に比して優れた耐電圧を有する誘電体層が形成できることが判る。 As it is apparent from Table 1, according to the use of the present invention glass composition, Comparative glass composition (Comparative Example 1: which inorganic pigment and an inorganic filler content exceeds 30 wt%, Comparative Example 2 and 3: for example, it can be seen that the dielectric layer having an excellent withstand voltage than the inorganic pigment plus within the scope of the present invention) in a known P 2 O 5 based glass for the undercoat layer can be formed.

フロントページの続き (72)発明者 奥野 晴彦 大阪府大阪市中央区道修町4丁目7番10号 奥野製薬工業株式会社内 Fターム(参考) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB09 CC10 DA01 DB01 DC01 DD05 DD06 DE05 DF01 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EG01 FA01 FB03 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM12 NN26 NN32 PP01 PP02 PP03 PP05 PP06 PP12 5C040 FA01 FA04 GA03 GB14 GD07 KB02 KB19 KB28 MA30 Front page of the continuation (72) inventor Haruhiko Okuno, Chuo-ku, Osaka-shi Doshomachi 4-chome, No. 7, No. 10 Okuno Chemical Industry Co., Ltd. in the F-term (reference) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB09 CC10 DA01 DB01 DC01 DD05 DD06 DE05 DF01 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EG01 FA01 FB03 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM12 NN26 NN32 PP01 PP02 PP03 PP05 PP06 PP12 5C040 FA01 FA04 GA03 GB14 GD07 KB02 KB19 KB28 MA30

Claims (4)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 プラズマディスプレイパネルの背面板上に設けられたアドレス電極を被覆する誘電体層を形成させるためのガラス組成物であって、P 25系低融点ガラス粉末70〜100重量%と無機顔料及び無機フィラー0〜30重量%とからなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの誘電体層用ガラス組成物。 1. A glass composition for forming a dielectric layer covering the address electrodes provided on the back plate of a plasma display panel, P 2 O 5 based low melting point glass frit 70 to 100 wt% dielectric layer glass composition for a plasma display panel, characterized in that consisting of 0 to 30 wt% inorganic pigment and an inorganic filler.
  2. 【請求項2】 P 25系低融点ガラス粉末が、P 25 Wherein P 2 O 5 based low-melting glass powder, P 2 O 5 4
    5〜60モル%、ZnO30〜40モル%、TiO 2 5-60 mol%, ZnO30~40 mol%, TiO 2 1
    〜10モル%、CaO0〜15モル%及びMgO0〜1 10 mol%, CaO0~15 mol% and MgO0~1
    5モル%(但しCaO+MgO=1〜15モル%とする)の組成を有するものである請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの誘電体層用ガラス組成物。 5 mol% (provided that CaO + MgO = 1 to 15 mol% to) dielectric layer glass composition for plasma display panel according to claim 1 and has a composition.
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の誘電体層用ガラス組成物の焼成物でアドレス電極を被覆されてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背面板。 3. A back plate of a plasma display panel, characterized in that formed by covering the address electrodes at the firing of the dielectric layer glass composition according to claim 1 or 2.
  4. 【請求項4】 プラズマディスプレイパネル用背面板上に、請求項1又は2に記載の誘電体層用ガラス組成物を施工し、焼成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル背面板の製造方法。 4. A plasma display panel backplate, and applying a dielectric layer glass composition according to claim 1 or 2, the manufacturing method of the plasma display panel backplate and firing.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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