JP2000066237A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2000066237A
JP2000066237A JP23806098A JP23806098A JP2000066237A JP 2000066237 A JP2000066237 A JP 2000066237A JP 23806098 A JP23806098 A JP 23806098A JP 23806098 A JP23806098 A JP 23806098A JP 2000066237 A JP2000066237 A JP 2000066237A
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JP
Japan
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data lines
liquid crystal
data line
insulating film
light
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JP23806098A
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Japanese (ja)
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Masayuki Iida
正幸 飯田
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to decrease stripes, etc., and to improve image quality by forming light shielding films, which overlap via an insulating film on data lines formed finer than regions formed with black matrices and are part of the black matrices, to a electrically floating state. SOLUTION: The insulating film 23 covering the light shielding films 21 is formed on a transparent substrate 11. The light shielding films 21 are formed on the data lines 13 in the state of overlapping on layout on the data lines 13 formed narrower than the line width of the black matrices via the insulating film 23 and in the state of shielding the light from the regions formed with the conventional data lines functioning as the black matrices. Further, the light shielding films 21 are held in a so-called electrically floating state by the insulating film 23. The coupling from the adjacent data lines may be decreased, the generation of the strips, etc., may be lessened and the image quality may be improved according to this constitution.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
し、詳しくはデータ線を利用してブラックマトリクスの
一部を形成している液晶表示装置の遮光に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to light shielding of a liquid crystal display device which forms a part of a black matrix using data lines.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示装置では、図3の要部レ
イアウト図に示すように、アルミニウム等の金属で形成
したデータ線113を遮光用のブラックマトリクスの一
部として用いている。そのため、データ線113の線幅
はブラックマトリクスの形成領域の幅と同等に形成され
ている。
2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, as shown in a layout diagram of a main part in FIG. 3, a data line 113 formed of a metal such as aluminum is used as a part of a black matrix for shielding light. Therefore, the line width of the data line 113 is formed to be equal to the width of the formation region of the black matrix.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶表
示装置の微細化が進むと、隣り合うデータ線同士が接近
し、データ線間のいわゆる響きが無視できなくなる。す
なわち、サンプリングが終了してホールド状態にあるデ
ータ線の隣でサンプリングが開始されると、そこでの電
位変動が隣のホールド状態のデータ線に影響を与える。
それが結果的にすじ等の画質の劣化を来すことになる。
However, as the miniaturization of the liquid crystal display device progresses, adjacent data lines come closer to each other and so-called resonance between the data lines cannot be ignored. That is, when sampling ends and sampling starts next to the data line in the hold state, the potential fluctuation there affects the data line in the adjacent hold state.
As a result, image quality such as streaks is deteriorated.

【0004】通常、金属配線間のカップリングを抑える
には、2通りの方法があるが、いずれも以下のような課
題を有している。すなわち、データ線に使われる金属膜
の膜厚を薄くしてデータ線間のカップリングを抑えよう
とする第1の方法では、データ線の抵抗が上昇して、他
の回路的に低インピーダンスが求められる部分に悪影響
を与えることになる。
Normally, there are two methods for suppressing the coupling between metal wirings, all of which have the following problems. That is, in the first method of reducing the thickness of the metal film used for the data line to suppress the coupling between the data lines, the resistance of the data line increases, and the low impedance of other circuits is reduced. This will have an adverse effect on what is required.

【0005】一方、データ線の線幅を細くし、データ線
間の距離を十分にとることにより、隣のデータ線からの
カップリングを減少させ、すじ等を軽減して、画質の向
上を図る第2の方法では、元来、データ線はブラックマ
トリクスとして用いているため、データ線を単純に細く
しただけでは、液晶層のリバースチルトドメイン領域が
ブラックマトリクス領域の外に位置することになり、そ
の部分が光抜けを起こすことになる。
On the other hand, by reducing the line width of the data lines and providing a sufficient distance between the data lines, coupling from an adjacent data line is reduced, and stripes and the like are reduced, thereby improving image quality. In the second method, since the data lines are originally used as a black matrix, simply making the data lines thinner causes the reverse tilt domain region of the liquid crystal layer to be located outside the black matrix region. That portion will cause light leakage.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたものであって、データ線を利用し
てブラックマトリクスの一部を形成している液晶表示装
置において、データ線はブラックマトリクスの形成領域
よりも細く形成されていて、このブラックマトリクスの
形成領域よりも細く形成したデータ線に対して絶縁膜を
介して重なり、かつブラックマトリクスの一部となる遮
光膜が電気的にフローティング状態に形成されているも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is directed to a liquid crystal display device using a data line to form a part of a black matrix. Is formed thinner than the black matrix formation area, and the light-shielding film that overlaps with the data line formed smaller than the black matrix formation area via the insulating film and becomes a part of the black matrix is electrically connected. Is formed in a floating state.

【0007】上記液晶表示装置では、データ線はブラッ
クマトリクスの形成領域よりも細く形成されていること
から、データ線間の距離を十分にとることが可能になる
ので、隣のデータ線からのカップリングが減少され、す
じ等が軽減されて、画質が向上する。またブラックマト
リクスの形成領域よりも細く形成したデータ線に対して
絶縁膜を介して重なり、かつブラックマトリクスの一部
となる遮光膜が形成されていることから、元来、ブラッ
クマトリクスで覆われていた液晶層のリバースチルトド
メイン領域は、データ線を細くしても上記遮光膜により
覆われるので、その部分で光抜けを起こすことはない。
さらに遮光膜は電気的にフローティング状態に形成され
ていることから、遮光膜はデータ線に対して負荷になら
ない。
In the above liquid crystal display device, since the data lines are formed narrower than the black matrix forming region, a sufficient distance between the data lines can be obtained. Rings are reduced, lines and the like are reduced, and image quality is improved. In addition, since a light-shielding film that overlaps with the data line formed smaller than the formation region of the black matrix via an insulating film and forms a part of the black matrix is formed, the data line is originally covered with the black matrix. The reverse tilt domain region of the liquid crystal layer is covered with the light-shielding film even if the data line is made thinner, so that light leakage does not occur at that portion.
Further, since the light-shielding film is formed in an electrically floating state, the light-shielding film does not load the data lines.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の液晶表示装置に係わる実
施の形態の一例を、図1の要部レイアウト図および概略
断面図によって説明する。この図1では、遮光膜とデー
タ線との関係をレイアウト図により示し、図2では図1
のA−A線部分における液晶表示装置の断面の概略構成
を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to a layout diagram and a schematic sectional view of a main part of FIG. In FIG. 1, the relationship between the light shielding film and the data lines is shown by a layout diagram, and in FIG.
1 shows a schematic configuration of a cross section of the liquid crystal display device taken along line AA of FIG.

【0009】図1および図2に示すように、透明基板1
1上には、遮光膜21が、後に説明するブラックマトリ
クスの線幅よりも狭めたデータ線13にレイアウト上で
重なる状態に、かつブラックマトリクスとして機能した
従来のデータ線が形成されていた領域を遮光する状態に
形成されている。上記透明基板11には、一例として石
英基板を用い、上記遮光膜21には、一例として金属膜
を用いる。その金属膜には、例えばチタン膜またはアル
ミニウム膜が用いられる。また、図面X軸方向(例えば
水平方向)のブラックマトリクスを形成するデータ線の
X軸方向部分14間を遮光する状態に、透明基板11上
には遮光膜22が配設されている。この遮光膜22は、
上記遮光膜21と同様に、例えばチタン膜またはアルミ
ニウム膜で形成されている。したがって、上記遮光膜2
1と上記遮光膜22とは、同一金属層をパターニングし
て形成することが可能である。この図では、上記説明し
たように、同一金属層で形成した例を示した。
As shown in FIG. 1 and FIG.
1, a region where the light-shielding film 21 overlaps the data line 13 narrower than the line width of the black matrix, which will be described later, on the layout, and where the conventional data line functioning as the black matrix is formed. It is formed so as to shield light. A quartz substrate is used as an example of the transparent substrate 11, and a metal film is used as an example of the light shielding film 21. As the metal film, for example, a titanium film or an aluminum film is used. Further, a light-shielding film 22 is provided on the transparent substrate 11 so as to shield light between the X-axis direction portions 14 of data lines forming a black matrix in the X-axis direction (for example, horizontal direction) in the drawing. This light shielding film 22
Like the light-shielding film 21, it is formed of, for example, a titanium film or an aluminum film. Therefore, the light shielding film 2
1 and the light shielding film 22 can be formed by patterning the same metal layer. In this figure, as described above, an example in which the same metal layer is used is shown.

【0010】さらに、上記透明基板11上には遮光膜2
1および遮光膜22を覆う絶縁膜23が形成されてい
る。この絶縁膜23により、上記遮光膜21、遮光膜2
2は、いわゆる電気的にフローティング状態になってい
る。上記絶縁膜23上には、図示はしないが、この液晶
表示装置の画素トランジスタとなるTFT(Thin FilmT
oransistor )が形成されている。さらに絶縁膜23上
には、上記TFT(図示省略)を覆う状態に第1の絶縁
膜12が形成されている。この第1の絶縁膜12上に
は、データ線13が形成されている。このデータ線13
は、従来の液晶表示装置ではブラックマトリクスを形成
するものであるが、ここでは、図面X軸方向のブラック
マトリクスを形成する上記データ線のX軸方向部分14
を除いて、ブラックマトリクスの形成領域よりも線幅が
狭くなるように形成されている。
Further, the light shielding film 2 is formed on the transparent substrate 11.
1 and an insulating film 23 covering the light shielding film 22 are formed. The insulating film 23 allows the light shielding film 21 and the light shielding film 2 to be formed.
2 is in a so-called electrically floating state. Although not shown, a TFT (Thin FilmT) serving as a pixel transistor of the liquid crystal display device is formed on the insulating film 23.
oransistor). Further, a first insulating film 12 is formed on the insulating film 23 so as to cover the TFT (not shown). The data lines 13 are formed on the first insulating film 12. This data line 13
Is to form a black matrix in a conventional liquid crystal display device, but here, the X-axis portion 14 of the data line forming the black matrix in the X-axis direction in the drawing is used.
Except for, the line width is formed to be narrower than the formation region of the black matrix.

【0011】上記第1の絶縁膜12上には、上記データ
線13、データ線のX軸方向部分14等を覆う状態に第
2の絶縁膜15が形成されている。さらに第2の絶縁膜
15上には平坦化絶縁膜16が形成され、その表面がほ
ぼ平坦化されている。この平坦化絶縁膜16上の所定の
位置には画素電極31が形成され、液晶層32を挟んで
対向電極33を液晶層32側に設けた対向基板34が設
けられている。このように、液晶表示装置1は構成され
ている。
A second insulating film 15 is formed on the first insulating film 12 so as to cover the data lines 13 and the X-direction portions 14 of the data lines. Further, a flattening insulating film 16 is formed on the second insulating film 15, and the surface thereof is almost flattened. A pixel electrode 31 is formed at a predetermined position on the planarization insulating film 16, and a counter substrate 34 having a counter electrode 33 provided on the liquid crystal layer 32 side with a liquid crystal layer 32 interposed therebetween is provided. Thus, the liquid crystal display device 1 is configured.

【0012】なお、上記遮光膜21,22は、遮光のみ
が目的であるため、他の層と絶縁されていれば、どの層
間に配置されていてもよい。
The light-shielding films 21 and 22 are for light-shielding only, and may be arranged between any layers as long as they are insulated from other layers.

【0013】上記液晶表示装置1では、データ線13は
従来のブラックマトリクスと共用していたデータ線より
も線幅が細く形成されていることから、データ線13
(13A)、データ線13(13B)間の距離を十分に
とることが可能になる。このように、データ線13A,
13B間の距離を十分にとることができるので、例えば
サンプリングが終了してホールド状態にあるデータ線1
3Aの隣のデータ線13Bでサンプリングが開始されて
も、そこでの電位変動がホールド状態のデータ線13A
に影響を与えることがなくなる。そのため、例えばデー
タ線13Aではその隣のデータ線13Bからのカップリ
ングが減少して、すじ等が軽減されるので、画質が向上
する。
In the liquid crystal display device 1, the data line 13 is formed to have a smaller line width than the data line shared with the conventional black matrix.
(13A), a sufficient distance between the data lines 13 (13B) can be obtained. Thus, the data lines 13A,
Since the distance between the data lines 13B and 13B can be sufficiently set, for example, the data line 1 in a hold state after sampling is completed.
Even if the sampling is started on the data line 13B adjacent to the data line 13A, the potential fluctuation there is caused by the data line 13A in the hold state.
Will not be affected. Therefore, for example, in the data line 13A, the coupling from the adjacent data line 13B is reduced, and the streak and the like are reduced, so that the image quality is improved.

【0014】またデータ線13に対して絶縁膜23を介
して、ブラックマトリクスの線幅よりも狭めたデータ線
13にレイアウト上で重なる状態に、かつブラックマト
リクスとして機能した従来のデータ線が形成されていた
領域を遮光する状態に遮光膜21が形成されていること
から、元来、ブラックマトリクスで覆われていた液晶層
22のリバースチルトドメイン領域は、データ線13を
細くしても、この遮光膜21により覆われる。そのた
め、液晶層22のリバースチルトドメイン領域で光抜け
を起こすことはない。したがって、液晶表示装置1の信
頼性が低下することはない。
A conventional data line functioning as a black matrix is formed on the data line 13 via an insulating film 23 so as to overlap the data line 13 narrower than the line width of the black matrix on the layout. Since the light-shielding film 21 is formed so as to shield the light-blocking region, the reverse tilt domain region of the liquid crystal layer 22 originally covered with the black matrix is protected from light-shielding even if the data line 13 is thinned. Covered by the film 21. Therefore, light does not leak through the reverse tilt domain region of the liquid crystal layer 22. Therefore, the reliability of the liquid crystal display device 1 does not decrease.

【0015】また遮光膜21は、電気的にフローティン
グ状態に形成されているので、データ線13に対する負
荷にならない。
Since the light shielding film 21 is formed in an electrically floating state, it does not become a load on the data line 13.

【0016】またデータ線13間が広がることにより、
製造プロセス上で発生する異物によってデータ線間が短
絡することに対して余裕が拡大されるので、製造プロセ
ス上の歩留りの向上が図れる。
Further, since the space between the data lines 13 is expanded,
Since the margin for short-circuiting between data lines due to foreign matter generated in the manufacturing process is increased, the yield in the manufacturing process can be improved.

【0017】さらにデータ線13が細く形成されること
により、データ線13自身の容量が小さくなる。よっ
て、サンプリングを行うスイッチ(例えばアナログスイ
ッチ)を小さく形成することができる。このスイッチは
大きなサイズを必要とし、チップ上、かなりの面積を占
める。そこでチップに占める上記スイッチの面積が小さ
くなれば全体のチップサイズも小さくできるので、同一
サイズのウエハにおいては理収の増加が図れる。
Further, since the data line 13 is formed thin, the capacity of the data line 13 itself is reduced. Therefore, a switch for performing sampling (for example, an analog switch) can be formed small. This switch requires a large size and occupies a considerable area on the chip. Therefore, if the area of the switch occupying a chip is reduced, the overall chip size can be reduced, so that the yield can be increased for wafers of the same size.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上、説明したように本発明の液晶表示
装置によれば、データ線はブラックマトリクスの形成領
域よりも細く形成されているので、データ線間の距離を
十分にとることができる。その結果、隣のデータ線から
のカップリングを減少することが可能になり、すじ等の
発生を軽減することができるので、液晶表示装置の画質
を向上させることができる。しかもブラックマトリクス
の形成領域よりも細く形成したデータ線に対して絶縁膜
を介して重なり、かつその領域でブラックマトリクスの
一部となる遮光膜が形成されているので、元来、ブラッ
クマトリクスで覆われていた液晶層のリバースチルトド
メイン領域をその遮光膜で覆うことができる。そのた
め、液晶層のリバースチルトドメイン領域で光抜けを起
こすことはないので、液晶表示装置は性能の劣化を来さ
ない。さらに遮光膜は電気的にフローティング状態に形
成されているので、遮光膜はデータ線に対して負荷にな
らない。そのため、データ線の信号伝達速度を低下させ
ることはない。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the data lines are formed narrower than the black matrix forming region, a sufficient distance between the data lines can be secured. . As a result, the coupling from the adjacent data line can be reduced, and the occurrence of streaks and the like can be reduced, so that the image quality of the liquid crystal display device can be improved. In addition, the light-shielding film that overlaps with the data line formed thinner than the black matrix formation area via the insulating film and forms a part of the black matrix is formed in that area, so that it is originally covered with the black matrix. The reverse tilt domain region of the liquid crystal layer can be covered with the light shielding film. Therefore, light does not leak through the reverse tilt domain region of the liquid crystal layer, and thus the performance of the liquid crystal display device does not deteriorate. Further, since the light-shielding film is formed in an electrically floating state, the light-shielding film does not load the data lines. Therefore, the signal transmission speed of the data line is not reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置に係わる実施の形態の一
例を示す要部レイアウト図である。
FIG. 1 is a main part layout diagram showing an example of an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明の液晶表示装置に係わる実施の形態の一
例を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図3】従来の液晶表示装置におけるデータ線とブラッ
クマトリクスの関係を説明する要部レイアウト図であ
る。
FIG. 3 is a main part layout diagram for explaining a relationship between a data line and a black matrix in a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…液晶表示装置、13…データ線、21…遮光膜、2
3…絶縁膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device, 13 ... Data line, 21 ... Light shielding film, 2
3 ... Insulating film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 データ線を利用してブラックマトリクス
の一部を形成している液晶表示装置において、 前記データ線は前記ブラックマトリクスの形成領域より
も細く形成されていて、 前記ブラックマトリクスの形成領域よりも細く形成した
前記データ線に対して絶縁膜を介して重なりかつ前記ブ
ラックマトリクスの一部となる遮光膜が電気的フローテ
ィング状態に形成されていることを特徴とする液晶表示
装置。
1. A liquid crystal display device in which a part of a black matrix is formed by using a data line, wherein the data line is formed to be thinner than a region where the black matrix is formed. A liquid crystal display device, wherein a light-shielding film that overlaps with the data line formed thinner via an insulating film and becomes a part of the black matrix is formed in an electrically floating state.
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