JP2000012217A - Manufacture of color conversion filter for electroluminescent display - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、エレクトロルミネ
ッセンス表示用色変換フィルター（以下、ＥＬ表示用色
変換フィルター、あるいは、単に色変換フィルターと称
する。）の製造方法に関する。より詳しくは、平滑性や
パターン精度に優れ、表面にエレクトロルミネッセンス
素子（以下、ＥＬ素子と称する。）を積層した場合に、
ＥＬ素子の断線等が少ないＥＬ表示用色変換フィルター
を容易に提供できる製造方法に関する。したがって、本
発明により得られたＥＬ表示用色変換フィルターは、壁
掛けＴＶ、車載用ＴＶ、携帯電話、ポケットベル、ノー
ト型パーソナルコンピュータ等のＥＬ表示装置を用いた
情報機器に好適に使用することができる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color conversion filter for electroluminescence display (hereinafter referred to as a color conversion filter for EL display or simply a color conversion filter). More specifically, when an electroluminescence element (hereinafter, referred to as an EL element) is laminated on the surface with excellent smoothness and pattern accuracy,
The present invention relates to a manufacturing method capable of easily providing a color conversion filter for EL display with less disconnection or the like of an EL element. Therefore, the color conversion filter for EL display obtained according to the present invention can be suitably used for information devices using an EL display device such as a wall-mounted TV, an in-vehicle TV, a mobile phone, a pager, and a notebook personal computer. it can.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、エレクトロルミネッセンス表示装
置（以下、ＥＬ表示装置）は、自己発光が可能で、視認
性が高く、軽量、薄型化のディスプレイが提供できると
して注目されている。ここで、ＥＬ表示装置は、ＥＬ素
子を含んで以下のように構成が提案されている。 ＥＬ素子のみから構成する。 ＥＬ素子と、色変換フィルター（色変換層）とを組み
合わせて構成する。 ＥＬ素子と、カラーフィルターとを組み合わせて構成
する。2. Description of the Related Art Electroluminescent display devices (hereinafter referred to as EL display devices) have been attracting attention as being capable of providing a self-luminous, highly visible, lightweight and thin display. Here, the following configuration has been proposed for an EL display device including an EL element. It is composed of only EL elements. An EL element is combined with a color conversion filter (color conversion layer). It is configured by combining an EL element and a color filter.
【０００３】図５に、の構成のＥＬ表示装置を示し、
図６に、およびの構成のＥＬ表示装置をそれぞれ示
す。なお、の構成の場合、図６において番号７２で表
される部材が色変換フィルターになり、また、の構成
の場合、番号７２で表される部材がカラーフィルターと
なる。FIG. 5 shows an EL display device having the following structure.
FIG. 6 shows an EL display device having the configurations of and. In the case of the configuration, the member denoted by reference numeral 72 in FIG. 6 is a color conversion filter, and in the case of the configuration, the member denoted by reference numeral 72 is a color filter.
【０００４】ここで、の構成において種々の発光色を
実現するためには、ＥＬ素子中に種々の色素をドーピン
グしたり、多層化したりする必要がある。しかしなが
ら、発光色の調整が困難であるという問題があった。ま
た、の構成では、ＥＬ素子の発光をカラーフィルター
が吸収するため、発光効率が低いという問題があった。
そこで、の構成が、発光効率が高く、種々の色を発光
させることができる点から、ＥＬ表示装置として有望視
されている。しかしながら、の構成においても、色変
換フィルター（色変換層）が平坦化されていないと、Ｅ
Ｌ素子に歪みが生じて、電極における断線や短絡が生じ
やすいという問題があった。Here, in order to realize various luminescent colors in the above structure, it is necessary to dope the EL element with various dyes or to form a multilayer structure. However, there is a problem that it is difficult to adjust the emission color. In addition, the configuration has a problem in that the light emission efficiency is low because the color filter absorbs the light emitted from the EL element.
Therefore, the configuration has been regarded as promising as an EL display device because it has high luminous efficiency and can emit various colors. However, even in the configuration described above, if the color conversion filter (color conversion layer) is not flattened, E
There is a problem that distortion occurs in the L element and disconnection or short circuit in the electrode is likely to occur.
【０００５】この点、従来のＥＬ表示用色変換フィルタ
ー５８の問題点およびそれを用いたＥＬ表示装置７０に
ついての問題点を、図３および図４を参照しながら説明
する。図３は、従来のＥＬ表示用色変換フィルター５８
の製造方法を示しており、得られたＥＬ表示用色変換フ
ィルター５８は、透光性基板５２上に、遮光層５４と色
変換層５６とが平面的に分離配置されて構成されてい
る。そして、図３（ｂ）に示す遮光層５４は、図３
（ａ）に示す透光性基板５２上に、例えば、フォトリソ
グラフィー法を用いてパターン化することにより形成し
てある。The problem of the conventional color conversion filter 58 for EL display and the problem of the EL display device 70 using the same will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. FIG. 3 shows a conventional color conversion filter 58 for EL display.
The color conversion filter 58 for EL display is obtained by disposing a light-shielding layer 54 and a color conversion layer 56 on a light-transmitting substrate 52 in a planar manner. Then, the light shielding layer 54 shown in FIG.
It is formed on the translucent substrate 52 shown in (a) by patterning using, for example, a photolithography method.
【０００６】また、図３（ｅ）に示す色変換層５６は、
図３（ｃ）〜図３（ｄ）に示すように、遮光層５４を、
例えば、フォトリソグラフィー法を用いて形成した後、
光硬化型色変換層形成材料５５を、遮光層５４が形成さ
れた透光性基板５２上に製膜し、さらにフォトリソグラ
フィー法等を用いてパターン化することにより形成して
ある。より具体的には、図３（ｄ）に示すように、製膜
された光硬化型色変換層形成材料５５に対して、フォト
マスク５９を介して、遮光層５４側から紫外線６０を露
光し、パターン形成をしている。したがって、照射した
紫外線６０の一部が漏れて、フォトマスク５９のエッジ
を回り込むという問題が見られた。そのため、遮光層５
４上の光硬化型色変換層形成材料５５を光硬化させてし
まい、精度良く色変換層を形成することができない。ま
た、大型、高精細の色変換フィルターを形成する場合に
は、フォトマスク５９の位置ずれが生じやすい。したが
って、図３（ｅ）に示す色変換層５６の両端部が遮光層
５４上で跳ね上がっているのは、色変換層５６を精度良
く形成できないことを示している。The color conversion layer 56 shown in FIG.
As shown in FIGS. 3C to 3D, the light shielding layer 54 is
For example, after forming using a photolithography method,
The photo-curable color conversion layer forming material 55 is formed by forming a film on the light-transmitting substrate 52 on which the light-shielding layer 54 is formed, and then patterning the same using photolithography or the like. More specifically, as shown in FIG. 3D, the formed photocurable color conversion layer forming material 55 is exposed to ultraviolet rays 60 from the light shielding layer 54 side via a photomask 59. And pattern formation. Therefore, there is a problem that a part of the irradiated ultraviolet rays 60 leaks and goes around the edge of the photomask 59. Therefore, the light shielding layer 5
4, the photo-curable color conversion layer forming material 55 is photo-cured, and the color conversion layer cannot be accurately formed. Further, when forming a large-sized, high-definition color conversion filter, the photomask 59 is likely to be misaligned. Therefore, the fact that both end portions of the color conversion layer 56 shown in FIG. 3E jump up on the light shielding layer 54 indicates that the color conversion layer 56 cannot be formed with high accuracy.
【０００７】また、図４は、従来のＥＬ表示用色変換フ
ィルター５８を用いて作製したＥＬ表示装置７０を示し
ている。かかるＥＬ表示装置７０は、ＥＬ表示用色変換
フィルター５８上に、蒸着法等を用いて、順次に下部電
極６２、発光層６４、上部電極６６からなる有機ＥＬ素
子６８を形成することにより構成してある。そして、従
来のＥＬ表示用色変換フィルター５８は平坦性に乏しい
ために、図４に示すように、ＥＬ表示装置７０におい
て、下部電極６２や上部電極６６が断線したり、あるい
は短絡を生じやすくなる。この点、下部電極６２と上部
電極６６との短絡を記号Ａで示しており、また、上部電
極６６の断線を記号Ｂで表している。FIG. 4 shows an EL display device 70 manufactured using a conventional color conversion filter 58 for EL display. The EL display device 70 is configured by sequentially forming an organic EL element 68 including a lower electrode 62, a light emitting layer 64, and an upper electrode 66 on an EL display color conversion filter 58 by using a vapor deposition method or the like. It is. Since the conventional color conversion filter 58 for EL display has poor flatness, the lower electrode 62 and the upper electrode 66 in the EL display device 70 are liable to be disconnected or short-circuited as shown in FIG. . In this regard, a short circuit between the lower electrode 62 and the upper electrode 66 is indicated by a symbol A, and a disconnection of the upper electrode 66 is indicated by a symbol B.
【０００８】そこで、液晶用カラーフィルターの分野で
はあるが、背面露光を利用したカラーフィルターの平坦
化方法が、種々提案されている。例えば、特開平５−１
７３０１３号公報および特開平５−１８１００９号公報
には、先にＲＧＢ画素のいずれか２色の画素（カラーレ
ジスト）を基材上に形成しておき、残りの画素（カラー
レジスト）や遮光層を、背面露光にて形成することによ
り、平坦化したカラーフィルターを製造する方法が開示
されている。しかしながら、かかる製造方法において
は、カラーレジストを用いて、先にＲＧＢ画素を作製
し、最後に遮光層を作製するために、遮光層をフォトマ
スクとして用いていない。そのため、ＲＧＢ画素のカラ
ーレジストでは十分な遮光性を有していないので、背面
露光を行った際に紫外線が漏れて、不必要な箇所のカラ
ーレジストが硬化し、フィルター残渣が残ったり、得ら
れるパターンの精度が低下しやすいという問度があっ
た。In the field of color filters for liquid crystals, various methods for flattening color filters using backside exposure have been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-1
In JP-A-73013 and JP-A-5-18109, pixels (color resists) of any two colors of RGB pixels are first formed on a base material, and the remaining pixels (color resists) and light shielding layers are formed. Discloses a method of manufacturing a flattened color filter by forming it by back exposure. However, in such a manufacturing method, the light-shielding layer is not used as a photomask because the RGB pixels are first manufactured using the color resist, and finally the light-shielding layer is manufactured. Therefore, since the color resist of the RGB pixels does not have a sufficient light-shielding property, ultraviolet light leaks when back exposure is performed, and the color resist at an unnecessary portion is hardened, and a filter residue remains or is obtained. There was a question that the precision of the pattern was likely to be reduced.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の発明者らは、
上述した問題を鋭意検討した結果、遮光層を最初に形成
し、そして、かかる遮光層をフォトマスクの機能を付与
して背面露光を行うことにより、ＥＬ表示用色変換フィ
ルターにおいて優れた平滑性やパターン精度が得られる
ことを見出した。すなわち、本発明は、平滑性やパター
ン精度に優れ、表面にエレクトロルミネッセンス素子
（以下、ＥＬ素子と称する。）を積層した場合に、ＥＬ
素子の断線等が少ないＥＬ表示用色変換フィルターを容
易に提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The inventors of the present invention
As a result of diligent examination of the above-described problems, a light-shielding layer is formed first, and then the light-shielding layer is provided with a photomask function to perform back exposure, thereby achieving excellent smoothness and excellent smoothness in a color conversion filter for EL display. It has been found that pattern accuracy can be obtained. That is, the present invention is excellent in smoothness and pattern accuracy, and when an electroluminescent element (hereinafter, referred to as an EL element) is laminated on the surface, an EL element is provided.
An object of the present invention is to easily provide a color conversion filter for EL display in which element disconnection and the like are reduced.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、透光性基板上
に、遮光層と色変換層とが平面的に分離配置されたエレ
クトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製造方
法において、下記（Ａ）〜（Ｄ）工程を含むことを特徴
とする。 （Ａ）透光性基板上に、パターン化された遮光層を形成
する工程 （Ｂ）光硬化型色変換層形成材料を、遮光層が形成され
た透光性基板上に製膜する工程 （Ｃ）（Ｂ）工程で製膜された光硬化型色変換層形成材
料を、透光性基板側から背面露光する工程 （Ｄ）未硬化の光硬化型色変換層形成材料を除去する工
程 このように遮光層を利用して、背面露光の光を遮断する
ことにより、色変換層を精度良く、平滑に作製すること
ができる。また、別途のフォトマスクを準備してフィル
ターと位置合わせをする必要がないので、フォトマスク
がずれてパターン精度が低下することがなく、あるいは
露光工程を簡略化することができる。According to the present invention, there is provided a method for producing a color conversion filter for an electroluminescence display in which a light-shielding layer and a color conversion layer are disposed on a light-transmitting substrate in a two-dimensional manner. ) To (D). (A) Step of forming a patterned light-shielding layer on a light-transmitting substrate (B) Step of forming a photocurable color conversion layer forming material on a light-transmitting substrate on which a light-shielding layer is formed ( C) a step of exposing the photocurable color conversion layer forming material formed in the step (B) to the back surface from the light-transmitting substrate side; and (D) a step of removing the uncured photocurable color conversion layer forming material. By blocking the light for back exposure using the light-shielding layer as described above, the color conversion layer can be accurately and smoothly manufactured. Further, since there is no need to prepare a separate photomask and align it with the filter, the photomask does not shift and the pattern accuracy does not decrease, or the exposure process can be simplified.
【００１１】また、本発明のＥＬ表示用色変換フィルタ
ーの製造方法を実施するにあたり、色変換層が蛍光体層
であることが好ましい。In carrying out the method for producing a color conversion filter for EL display of the present invention, it is preferable that the color conversion layer is a phosphor layer.
【００１２】また、本発明のＥＬ表示用色変換フィルタ
ーの製造方法を実施するにあたり、色変換層が白色の蛍
光を発する蛍光体層であることが好ましい。In carrying out the method of manufacturing a color conversion filter for EL display of the present invention, it is preferable that the color conversion layer is a phosphor layer that emits white fluorescence.
【００１３】また、本発明のＥＬ表示用色変換フィルタ
ーの製造方法を実施するにあたり、遮光層における３０
０〜７００ｎｍの波長領域の吸光度を０．５以上の値と
することが好ましい。吸光度をこのような範囲の値とす
ることにより、背面露光の光を確実に遮断して、フォト
マスクとしての優れた機能を発揮することができる。し
たがって、ＥＬ表示用色変換フィルターにおいて、色変
換層をより精度良く作製することができる。なお、吸光
度は光学濃度と同義語である。In carrying out the method of manufacturing a color conversion filter for EL display according to the present invention, 30
It is preferable to set the absorbance in the wavelength range of 0 to 700 nm to a value of 0.5 or more. By setting the absorbance to a value in such a range, light for back exposure can be reliably blocked, and an excellent function as a photomask can be exhibited. Therefore, in the color conversion filter for EL display, the color conversion layer can be manufactured with higher accuracy. Note that absorbance is a synonym for optical density.
【００１４】また、本発明のＥＬ表示用色変換フィルタ
ーの製造方法を実施するにあたり、遮光層が黒色材料を
含み、当該遮光層の全体量を１００重量％としたとき
に、黒色材料の配合量を０．１〜５０重量％の範囲内の
値とすることが好ましい。黒色材料の配合量をこのよう
な範囲内の値とすることにより、背面露光の光を確実に
遮断して、フォトマスクとしての優れた機能を発揮する
ことができる。したがって、ＥＬ表示用色変換フィルタ
ーにおいて、色変換層をより精度良く作製することがで
きる。In implementing the method of manufacturing a color conversion filter for EL display according to the present invention, when the light-shielding layer contains a black material and the total amount of the light-shielding layer is 100% by weight, Is preferably in the range of 0.1 to 50% by weight. By setting the blending amount of the black material to a value within such a range, light for back exposure can be reliably blocked, and an excellent function as a photomask can be exhibited. Therefore, in the color conversion filter for EL display, the color conversion layer can be manufactured with higher accuracy.
【００１５】また、本発明のＥＬ表示用色変換フィルタ
ーの製造方法を実施するにあたり、遮光層が金属材料か
ら構成されていることが好ましい。金属材料から構成さ
れた遮光層は、遮光効果に特に優れており、背面露光の
光を確実に遮断して、フォトマスクとしての優れた機能
を発揮することができる。したがって、ＥＬ表示用色変
換フィルターにおいて、色変換層をより精度良く作製す
ることができる。In carrying out the method of manufacturing a color conversion filter for EL display of the present invention, it is preferable that the light-shielding layer is made of a metal material. The light-shielding layer made of a metal material has a particularly excellent light-shielding effect, can reliably block light for back exposure, and can exhibit an excellent function as a photomask. Therefore, in the color conversion filter for EL display, the color conversion layer can be manufactured with higher accuracy.
【００１６】また、本発明のＥＬ表示用色変換フィルタ
ーの製造方法を実施するにあたり、遮光層が紫外線吸収
剤を含み、当該遮光層の全体量を１００重量％としたと
きに、紫外線吸収剤の配合量を０．１〜５０重量％の範
囲内の値とすることが好ましい。遮光層がこのような範
囲内の紫外線吸収剤を含むことにより、背面露光の光
（紫外線）を確実に遮断して、フォトマスクとしての優
れた機能を発揮することができる。In carrying out the method of manufacturing a color conversion filter for EL display of the present invention, when the light-shielding layer contains an ultraviolet absorber and the total amount of the light-shielding layer is 100% by weight, It is preferable to set the compounding amount to a value within the range of 0.1 to 50% by weight. When the light-shielding layer contains an ultraviolet absorbent in such a range, light (ultraviolet light) for back exposure can be reliably blocked, and an excellent function as a photomask can be exhibited.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】本発明における実施形態を、図１
（ａ）〜（ｅ）を参照しつつ、具体的に説明する。本発
明の実施形態は、下記（Ａ）〜（Ｄ）工程を含んで、透
光性基板２上に、遮光層４と色変換層６とが平面的に分
離配置されたＥＬ表示用色変換フィルター８を製造する
方法である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be specifically described with reference to (a) to (e). The embodiment of the present invention includes the following steps (A) to (D), in which the light-shielding layer 4 and the color conversion layer 6 are arranged on the light-transmitting substrate 2 in a two-dimensionally separated manner. This is a method for manufacturing the filter 8.
【００１８】（Ａ）透光性基板上に、遮光層を部分的に
形成する工程 透光性基板２上に、遮光層４をフォトリソグラフィー法
あるいは印刷法等により、平面的に分離配置して形成す
る工程である。図１（ａ）および（ｂ）に概要を示す。
図１（ａ）は、透光性基板２を用意する工程を示し、図
１（ｂ）は、用意した透光性基板２上に、遮光層４を形
成する工程を示している。(A) Step of Partially Forming Light-Shielding Layer on Light-Transmissive Substrate Light-shielding layer 4 is separated and arranged on light-transmitting substrate 2 by photolithography or printing. This is the step of forming. FIGS. 1A and 1B show the outline.
FIG. 1A shows a step of preparing the light-transmitting substrate 2, and FIG. 1B shows a step of forming the light-shielding layer 4 on the prepared light-transmitting substrate 2.
【００１９】ここで、図１（ａ）および（ｂ）に使用す
る透光性基板２は、色変換フィルター８を支持する基板
であり、特にその形態は制限されるものではない。例え
ば、透光性基板２の種類として、ガラス板や透明プラス
チック板等の平板を使用することが好ましい。具体的に
は、ソーダ石灰ガラス板、バリウム−ストロンチウム含
有ガラス板、鉛ガラス板、アルミノケイ酸ガラス板、ホ
ウケイ酸ガラス板、バリウムホウケイ酸ガラス板、石英
ガラス板、ポリカーボネート板、アクリル板、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリ
サルフォン等を挙げることができる。Here, the translucent substrate 2 used in FIGS. 1A and 1B is a substrate that supports the color conversion filter 8, and its form is not particularly limited. For example, it is preferable to use a flat plate such as a glass plate or a transparent plastic plate as the type of the light-transmitting substrate 2. Specifically, soda-lime glass plate, barium-strontium-containing glass plate, lead glass plate, aluminosilicate glass plate, borosilicate glass plate, barium borosilicate glass plate, quartz glass plate, polycarbonate plate, acrylic plate, polyethylene terephthalate, Examples thereof include polyether sulfide and polysulfone.
【００２０】また、使用する透光性基板２は平坦である
ことが好ましく、より具体的には、表面粗さ計を用い
て、表面凹凸の値が、１．０μｍ以下の値であることが
好ましく、０．５μｍ以下の値であることがより好まし
く、さらに好ましくは、０．１μｍ以下の値である。透
光性基板２における表面凹凸の値が、１．０μｍを超え
ると、積層される色変換フィルター８の平坦性が低下
し、その上に形成される有機ＥＬ素子１８の断線等が多
くなる傾向がある。The translucent substrate 2 to be used is preferably flat, and more specifically, the value of the surface unevenness is less than 1.0 μm using a surface roughness meter. Preferably, the value is 0.5 μm or less, and more preferably, 0.1 μm or less. If the value of the surface irregularities of the translucent substrate 2 exceeds 1.0 μm, the flatness of the color conversion filter 8 to be laminated is reduced, and the disconnection of the organic EL element 18 formed thereon tends to increase. There is.
【００２１】また、使用する透光性基板２において、可
視光域（波長４００〜７００ｎｍ）における光透過率が
５０％以上の値であることが好ましく、より好ましく
は、７０％以上の値であり、さらに好ましくは、９０％
以上の値である。透光性基板２の光透過率が低いと、色
変換層６から取り出された光を吸収してしまい、発光効
率が低下する傾向がある。In the translucent substrate 2 to be used, the light transmittance in the visible light region (wavelength 400 to 700 nm) is preferably 50% or more, more preferably 70% or more. , More preferably 90%
This is the above value. When the light transmittance of the translucent substrate 2 is low, the light extracted from the color conversion layer 6 is absorbed, and the luminous efficiency tends to decrease.
【００２２】また、使用する透光性基板２は、紫外線吸
収性が低いものが好ましい。紫外線吸収性が高いと、背
面露光した際に、透光性基板２が紫外線を多く吸収して
しまい、得られる色変換フィルター８におけるパターン
精度が低下しやすいためである。The translucent substrate 2 to be used preferably has a low ultraviolet absorptivity. If the ultraviolet absorption is high, the translucent substrate 2 absorbs a large amount of ultraviolet light when the back surface is exposed, and the pattern accuracy of the obtained color conversion filter 8 tends to be reduced.
【００２３】さらに、透光性基板２の厚さについても特
に制限されるものではないが、例えば、１０．０〜２０
００μｍの範囲内の値とするのが好ましい。透光性基板
２の厚さが１０μｍ未満となると機械的強度が低下する
傾向があり、一方、透光性基板２の厚さが２０００μｍ
を超えると、得られる色変換フィルター８のパターンの
精度が低下する傾向がある。Further, the thickness of the light-transmitting substrate 2 is not particularly limited.
The value is preferably within the range of 00 μm. If the thickness of the translucent substrate 2 is less than 10 μm, the mechanical strength tends to decrease, while the thickness of the translucent substrate 2 is 2000 μm.
If it exceeds, the accuracy of the obtained pattern of the color conversion filter 8 tends to decrease.
【００２４】次いで、図１（ｂ）における遮光層４につ
いて説明する。かかる遮光層４は、最終的には色変換フ
ィルター８における各色変換層６の間に設けてあり、好
ましくは、各色変換層６の間に埋め込まれている。そし
て、かかる遮光層４は、ＥＬ素子からの発光および各色
変換層６からの光あるいはいずれか一方からの光を有効
に遮光して、視野角依存性を少なくし、しかも色にじみ
のない、視認性に優れたＥＬ表示装置２０を提供する目
的で形成されている。Next, the light shielding layer 4 in FIG. 1B will be described. The light-shielding layer 4 is finally provided between the respective color conversion layers 6 in the color conversion filter 8, and is preferably embedded between the respective color conversion layers 6. The light-shielding layer 4 effectively shields light emitted from the EL element and light from each color conversion layer 6 or light from any one of the light-shielding layers 4, thereby reducing the viewing angle dependency and, furthermore, having no color blur. It is formed for the purpose of providing the EL display device 20 having excellent performance.
【００２５】ここで、遮光層４は、黒色色素、金属材
料、紫外線吸収剤の少なくとも一つを、色変換層６に用
いるバインダー樹脂と同様のバインダー樹脂中に溶解ま
たは分散させた状態で使用するか、あるいは金属材料薄
膜で構成することが好ましい。そして、例えばフォトリ
ソグラフィー法あるいは印刷法を用いてパターニングす
ることにより、遮光層４を容易に形成することができ
る。Here, the light-shielding layer 4 is used in a state in which at least one of a black pigment, a metal material, and an ultraviolet absorber is dissolved or dispersed in the same binder resin as the binder resin used for the color conversion layer 6. Alternatively, it is preferable that the thin film is formed of a metal material thin film. The light-shielding layer 4 can be easily formed by patterning using, for example, a photolithography method or a printing method.
【００２６】また、色変換層６が蛍光体層の場合には、
後述する理由からカラーフィルターの場合に比べて、よ
り厚膜とするのが好ましい。したがって、色変換層６が
蛍光体の場合は、色変換層６および遮光層４の厚さをそ
れぞれ等しくすることにより、色変換フィルター８を平
坦化するには、遮光層４の膜厚を１〜１００μｍの範囲
内の値とすることが好ましい。When the color conversion layer 6 is a phosphor layer,
It is preferable to make the film thicker than in the case of a color filter for the reasons described below. Therefore, when the color conversion layer 6 is a phosphor, to make the color conversion filter 8 flat by making the thicknesses of the color conversion layer 6 and the light shielding layer 4 equal to each other, the thickness of the light shielding layer 4 must be 1 It is preferable that the value be in the range of 100 μm to 100 μm.
【００２７】また、遮光層４の表面形状は特に制限され
るものではないが、格子状あるいはストライプ状とする
のが好ましい。そして、色変換層６が蛍光体層で構成さ
れている場合には、蛍光体層側からの光の漏れが大きく
なる傾向がある。したがって、かかる光の漏れを少なく
するために、遮光層４の表面形状を格子状とするのが好
ましい。また、遮光層４の断面形状は、図１（ｂ）に示
すように矩形状とするのが好ましいが、逆台形状または
Ｔ字状とするのも好ましい。The surface shape of the light-shielding layer 4 is not particularly limited, but is preferably a lattice or stripe. When the color conversion layer 6 is formed of a phosphor layer, light leakage from the phosphor layer tends to increase. Therefore, in order to reduce such light leakage, it is preferable that the surface shape of the light shielding layer 4 is a lattice shape. The cross-sectional shape of the light-shielding layer 4 is preferably rectangular as shown in FIG. 1B, but is preferably inverted trapezoidal or T-shaped.
【００２８】次いで、遮光層４における吸光度について
説明する。遮光層４における吸光度は大きい方が好まし
いが、具体的に、発光部材の光または色変換層（特に蛍
光体層）からの発光における波長に相当する領域、すな
わち波長４００〜７００ｎｍの可視領域における光およ
び、主に、露光波長領域である波長３００〜４００ｎｍ
の光において、吸光度が０．５以上の値であることが好
ましい。遮光層４の吸光度が０．５未満となると、遮光
性を失うので、ＥＬ表示装置の視認性を悪くするのみな
らず、背面露光した際のフォトマスクとしての機能が低
下し、得られるフィルターパターンの精度が低下する傾
向がある。Next, the absorbance of the light shielding layer 4 will be described. Although it is preferable that the light absorbance in the light-shielding layer 4 is large, specifically, light in a visible light region having a wavelength of 400 to 700 nm, which corresponds to a wavelength of light emitted from a light emitting member or light emitted from a color conversion layer (particularly, a phosphor layer). And mainly a wavelength of 300 to 400 nm, which is an exposure wavelength region.
It is preferable that the absorbance is 0.5 or more. When the absorbance of the light-shielding layer 4 is less than 0.5, the light-shielding property is lost, so that not only the visibility of the EL display device is deteriorated, but also the function as a photomask at the time of back exposure is reduced, and the obtained filter pattern is reduced. Accuracy tends to decrease.
【００２９】次いで、遮光層４の構成材料について説明
する。遮光層４の構成材料は、特に制限されるものでは
ないが、例えば金属材料、黒色材料（色素）または紫外
線吸収剤を単独で使用することもできるし、二成分系と
して、黒色材料（色素）および金属材料、黒色材料（色
素）および紫外線吸収剤、金属材料および紫外線吸収剤
の組み合わせ、あるいは三成分系として、金属材料と、
黒色材料（色素）と、紫外線吸収剤との組み合わせも良
い。Next, constituent materials of the light shielding layer 4 will be described. The constituent material of the light-shielding layer 4 is not particularly limited. For example, a metal material, a black material (dye) or an ultraviolet absorber can be used alone, or a black material (dye) as a two-component system. And a metal material, a black material (dye) and an ultraviolet absorber, a combination of a metal material and an ultraviolet absorber, or a metal material as a three-component system,
A combination of a black material (dye) and an ultraviolet absorber may also be used.
【００３０】ここで、遮光層４に使用する金属材料とし
て、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｋ、
Ｍｇ、Ｂａ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｓｉ、Ｓｎ、
Ｗ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａ、ステンレス（ＳＵ
Ｓ）等の１種または２種以上の組み合わせを挙げること
ができる。なお、遮光層４の金属材料として、これらの
金属材料の酸化物、窒化物、硫化物、硝酸塩、硫酸塩等
を用いてもよく、必要に応じて炭素が含有されていても
よい。Here, as the metal material used for the light shielding layer 4, Ag, Al, Au, Cu, Fe, Ge, In, K,
Mg, Ba, Na, Ni, Pb, Pt, Si, Sn,
W, Zn, Cr, Ti, Mo, Ta, stainless steel (SU
One or a combination of two or more such as S) can be mentioned. As the metal material of the light-shielding layer 4, oxides, nitrides, sulfides, nitrates, sulfates, and the like of these metal materials may be used, and carbon may be contained as necessary.
【００３１】また、遮光層４における好ましい黒色材料
（色素）としては、カーボンブラック、衝撃法で得られ
たカーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラッ
ク、およびカラーフィルター色素を混合して黒色化した
材料等の１種単独または２種以上の組み合わせを挙げる
ことができる。Preferred black materials (dyes) in the light-shielding layer 4 include carbon black, carbon black obtained by an impact method, titanium black, aniline black, and a material blackened by mixing a color filter dye. One type or a combination of two or more types can be mentioned.
【００３２】また、遮光層４における金属材料または黒
色材料の配合量についても特に制限されるものではない
が、遮光層４の全体量を１００重量％としたときに、
０．１〜５０重量％の範囲内の値とするのが好ましい。
黒色材料等の配合量が０．１重量％未満となると、遮光
層４におけるフォトマスクとしての機能が低下する傾向
があり、５０重量％を超えると、遮光層４の透光性基板
に対する密着力や遮光層のパターン精度が低下する傾向
にある。したがって、遮光層４における黒色材料の配合
量を、０．５〜５０重量％の範囲内の値とするのがより
好ましく、１．０〜３０重量％の範囲内の値とするのが
さらに好ましい。The amount of the metal material or the black material in the light-shielding layer 4 is not particularly limited. However, when the total amount of the light-shielding layer 4 is 100% by weight,
It is preferable to set the value in the range of 0.1 to 50% by weight.
When the amount of the black material or the like is less than 0.1% by weight, the function of the light-shielding layer 4 as a photomask tends to decrease, and when the amount exceeds 50% by weight, the adhesion of the light-shielding layer 4 to the light-transmitting substrate. Also, the pattern accuracy of the light-shielding layer tends to decrease. Therefore, the blending amount of the black material in the light-shielding layer 4 is more preferably set to a value in the range of 0.5 to 50% by weight, and even more preferably to a value in the range of 1.0 to 30% by weight. .
【００３３】また、遮光層４に紫外線吸収剤を配合する
場合、その種類についても特に制限されるものではない
が、例えば、ベンゾトリアゾール、サリチル酸エステル
系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレー
ト系化合物、ＴｉＯ2 、ＣｅＯ2 、ＣｄＳなどの材料が
挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種単独で使用
することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて
使用することもできる。When an ultraviolet absorber is incorporated into the light-shielding layer 4, the type thereof is not particularly limited. For example, benzotriazole, salicylate compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, TiO 2 , CeO 2 , CdS, and the like. These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.
【００３４】さらに、遮光層４における紫外線吸収剤の
配合量についても特に制限されるものではないが、遮光
層４の全体量を１００重量％としたときに、紫外線吸収
剤の配合量を０．１〜５０重量％の範囲内の値とするの
が好ましい。紫外線吸収剤の配合量が０．１重量％未満
となると、遮光層４におけるフォトマスクとしての機能
が低下する傾向があり、一方、５０重量％を超えると、
遮光層４の透光性基板に対する密着力や遮光層のパター
ン精度が低下する傾向にある。The amount of the ultraviolet absorber in the light-shielding layer 4 is not particularly limited. However, when the total amount of the light-shielding layer 4 is 100% by weight, the amount of the ultraviolet absorber is 0.1%. It is preferable to set the value in the range of 1 to 50% by weight. If the amount of the ultraviolet absorber is less than 0.1% by weight, the function of the light-shielding layer 4 as a photomask tends to decrease.
The adhesive strength of the light-shielding layer 4 to the light-transmitting substrate and the pattern accuracy of the light-shielding layer tend to decrease.
【００３５】（Ｂ）光硬化型色変換層形成材料を、遮光
層が形成された透光性基板上に製膜する工程 光硬化型色変換層形成材料５の種類は、紫外線等の光を
照射することにより、短時間で硬化でき、かつ色変換可
能なものであれば特に制限されるものではないが、蛍光
材料やカラーフィルター材料を使用することができる。
このうち、カラーフィルター材料は、特に、ＥＬ表示装
置における発光色の微調整の目的で使用される。(B) Step of Forming a Photocurable Color Conversion Layer Forming Material on a Transparent Substrate on which a Light-Shielding Layer is Formed The material is not particularly limited as long as it can be cured in a short time by irradiation and can perform color conversion, but a fluorescent material or a color filter material can be used.
Among them, the color filter material is used particularly for the purpose of finely adjusting the emission color in the EL display device.
【００３６】蛍光材料 蛍光材料は、蛍光色素と光硬化成分を含むバインダー樹
脂から構成されているが、蛍光色素は、顔料樹脂等に予
め溶解または分散させて、顔料化しても良い。Fluorescent Material The fluorescent material is composed of a binder resin containing a fluorescent dye and a photo-curing component. The fluorescent dye may be dissolved or dispersed in a pigment resin or the like in advance to form a pigment.
【００３７】ここで、蛍光材料に使用するのに好ましい
蛍光色素について説明する。まず、近紫外光からは紫色
のＥＬ素子の発光から青色発光に変換する蛍光色素とし
ては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン
（以下Ｂｉｓ−ＭＳＢ）、トランスー４，４−ジフェニ
ルスチルペン（以下ＤＰＳ）の等スチルペン系色素や７
一ヒドロキシー４−メチルクマリン（以下クマリン４）
等のクマリン系色素を挙げることができる。Here, a preferred fluorescent dye used for the fluorescent material will be described. First, 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene (hereinafter referred to as Bis-MSB), trans-4,4-diphenylstill are used as fluorescent dyes that convert from near-ultraviolet light to light emission from a violet EL element to blue light emission. Still-pen dyes such as pen (hereinafter DPS) and 7
Monohydroxy-4-methylcoumarin (hereinafter coumarin 4)
And the like.
【００３８】次いで、青色、青緑色または白色のＥＬ素
子の発光から、緑色発光に変換する蛍光色素について
は、例えば、２，３，５，６，−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒ
ドロー８−トリフロルメチルキノリジノ（９，９ａ，１
−ｇｈ）クマリン（以下クマリン１５３）、３−（２’
−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン
（以下クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリ
ル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルナミノクマリン（以下クマ
リン７）等のクマリン色素およびクマリン色素系染料で
あるベーシックイエロー５１、ソルベントイエロー１
１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素
等を挙げることができる。Next, with respect to a fluorescent dye that converts the emission of blue, blue-green or white EL elements into green emission, for example, 2,3,5,6, -1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylmethyl Norizino (9, 9a, 1
-Gh) coumarin (hereinafter coumarin 153), 3- (2 ′)
-Benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (hereinafter coumarin 6), 3- (2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylamino coumarin (hereinafter coumarin 7), and basic yellow which is a coumarin dye-based dye. 51, solvent yellow 1
1, naphthalimide dyes such as Solvent Yellow 116 and the like.
【００３９】また、青色、緑色、または白色のＥＬ素子
の発光から、橙色〜赤色の発光に変換する蛍光色素につ
いては、例えば、４−ジシアノメチレンー２−メチルー
６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリル）−４Ｈ−ピラン
（以下ＤＣＭ）等のシアニン系色素、１−エチルー２−
（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル）−ピリジニウムーパークロレート（以下ピリ
ジン１）等のピリジン系色素、ローダミンＢ、ローダミ
ン６Ｇ等のローダミン系色素およびオキサジン系色素等
が挙げられる。For a fluorescent dye that converts light emitted from a blue, green, or white EL device to light emitted from orange to red, for example, 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostillyl) ) -4H-pyran (hereinafter DCM) and other cyanine dyes, 1-ethyl-2-
Examples include pyridine dyes such as (4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl) -pyridinium perchlorate (hereinafter referred to as pyridine 1), rhodamine dyes such as rhodamine B and rhodamine 6G, and oxazine dyes. Can be
【００４０】さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、
塩基性染料、分散染料等）も蛍光性があれば使用するこ
とが可能である。また、上述したとおり、蛍光色素をポ
リメタクリル酸エステル、ポリ塩化ピニル、塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホン
アミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ペンソグアナ
ミン樹脂等の顔料樹脂中にあらかじめ練りこんで顔料と
したものでもよい。なお、これらの蛍光色素または顔料
は、必要に応じて、単独または２種以上を混合して用い
てもよい。Further, various dyes (direct dyes, acid dyes,
Basic dyes, disperse dyes, etc.) can also be used as long as they have fluorescence. Further, as described above, the fluorescent dye is used in a pigment resin such as polymethacrylic acid ester, polypinyl chloride, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, and pensoguanamine resin. May be kneaded in advance into a pigment. These fluorescent dyes or pigments may be used alone or as a mixture of two or more, if necessary.
【００４１】次いで、蛍光色素の添加量について説明す
る。かかる添加量は、蛍光色素の種類によっても若干異
なるが、蛍光色素の顔料樹脂およびバインダー樹脂等を
含めた蛍光体層の全体量を１００重量％としたときに、
蛍光色素の添加量（濃度）を、１×１０-4〜１．０ｍｏ
ｌ／ｋｇの範囲内の値とするのが好ましい。したがっ
て、より好ましくは１×１０-3〜１×１０-1ｍｏｌ／ｋ
ｇの範囲内の値であり、さらに好ましくは１×１０-2〜
５×１０-2ｍｏｌ／ｋｇの範囲内の値である。Next, the amount of the fluorescent dye added will be described. The amount of addition varies slightly depending on the type of the fluorescent dye, but when the total amount of the phosphor layer including the pigment resin and the binder resin of the fluorescent dye is 100% by weight,
The addition amount (concentration) of the fluorescent dye is 1 × 10 −4 to 1.0 mo
Preferably, the value is in the range of 1 / kg. Therefore, more preferably, 1 × 10 -3 to 1 × 10 -1 mol / k.
g, more preferably 1 × 10 −2 to
It is a value within the range of 5 × 10 −2 mol / kg.
【００４２】次いで、蛍光材料（光硬化型色変換層形成
材料）におけるバインダー樹脂について説明する。かか
るバインダー樹脂の種類は、特に制限されるものではな
いが、具体的に、透明材料（可視光領域の光の透過率が
５０％以上）であることが好ましい。例えば、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ポリアミド、シリコーン、エポキシ
等の１種単独または２種以上の組み合わせが挙げられ
る。Next, the binder resin in the fluorescent material (light-curing type color conversion layer forming material) will be described. The type of the binder resin is not particularly limited, but specifically, it is preferably a transparent material (having a transmittance of light in a visible light region of 50% or more). For example, polymethylmethacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyester, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, polyamide, silicone, epoxy and the like may be used alone or in combination of two or more.
【００４３】特に、図１（ｅ）に示すように、色変換層
３として、例えば蛍光体層を平面的に分離配置するため
には、フォトリソグラフイ一法が適用できる感光性樹脂
を使用することが好ましい。例えば、アクリル酸系樹
脂、メタクリル酸系樹脂、ポリケイ皮酸ビニル系樹脂、
硬ゴム系樹脂等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂
（光硬化型レジスト材料）の１種単独または２種以上の
組み合わせが挙げられる。In particular, as shown in FIG. 1E, a photosensitive resin to which a photolithography method can be applied is used as the color conversion layer 3 to, for example, separately arrange a phosphor layer in a plane. Is preferred. For example, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl cinnamate resin,
One type or a combination of two or more types of a photosensitive resin (photocurable resist material) having a reactive vinyl group such as a hard rubber-based resin may be used.
【００４４】カラーフィルター材料 カラーフィルター材料は、以下の色素をバインダー樹脂
中に溶解または分散させることにより構成することがで
きる。Color Filter Material The color filter material can be constituted by dissolving or dispersing the following dyes in a binder resin.
【００４５】赤色（Ｒ）色素：ぺリレン系顔料、レーキ
顔料、アソ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノ
ン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔
料、イソインドリノン系顔料等の１種単独または２種類
以上を組み合わせた混合物が好ましい。Red (R) dye: Perylene pigment, lake pigment, azo pigment, quinacridone pigment, anthraquinone pigment, anthracene pigment, isoindoline pigment, isoindolinone pigment or the like alone or 2 Mixtures of more than one type are preferred.
【００４６】緑色（Ｇ）色素：ハロゲン多置換フタロシ
アニン系顔料、ハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔
料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン
系顔料、イソインドリノン系顔料等の１種単独または２
種類以上を組み合わせた混合物が好ましい。Green (G) dye: one or two of halogen-substituted phthalocyanine pigment, halogen-substituted copper phthalocyanine pigment, triphenylmethane-based basic dye, isoindoline-based pigment, isoindolinone-based pigment, etc.
Mixtures of more than one type are preferred.
【００４７】青色（Ｂ）色素：銅フタロシアニン系顔
料、インタンスロン系顔料、インドフェノール系顔料、
シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等の１種単独また
は２種類以上を組み合わせた混合物が好ましい。Blue (B) dye: copper phthalocyanine pigment, intronic pigment, indophenol pigment,
One type of a cyanine-based pigment, a dioxazine-based pigment, or the like, alone or a mixture of two or more types is preferable.
【００４８】また、カラーフィルター材料に使用される
バインダー樹脂として、蛍光材料に使用するバインダー
樹脂と同様の材料を選ぶことができる。したがって、こ
こでの説明は省略する。As the binder resin used for the color filter material, the same material as the binder resin used for the fluorescent material can be selected. Therefore, the description here is omitted.
【００４９】また、カラーフィルター材料における色素
の濃度は、カラーフィルターがパターニングでき、か
つ、ＥＬ素子の発光を十分透過できる程度のものであれ
ばよい。具体的には、色素の種頬にもよるが、使用する
バインター樹脂を含めたカラーフィルター膜の全体量を
１００重量％としたときに、色素の添加量を１〜５０重
量％の範囲内の値とするのが好ましい。The concentration of the dye in the color filter material may be such that the color filter can be patterned and that the light emission of the EL element can be sufficiently transmitted. Specifically, when the total amount of the color filter film including the binder resin to be used is 100% by weight, the amount of the dye is in the range of 1 to 50% by weight, although it depends on the type of the dye. It is preferable to use a value.
【００５０】（Ｃ）透光性基板側から、（Ｂ）工程で製
膜された光硬化型色変換層形成材料を背面露光する工程 背面露光における露光方法や露光条件は特に制限はない
が、たとえば、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノン
ランプ等の光源を用いて、光硬化型色変換層形成材料５
の分光感度に応じた波長の光を照射することができる。(C) A step of back-exposing the photocurable color conversion layer forming material formed in the step (B) from the translucent substrate side. There is no particular limitation on the exposure method and exposure conditions in the back exposure, For example, using a light source such as a mercury lamp, a halogen lamp, or a xenon lamp, a photocurable color conversion layer forming material 5 is formed.
Can be irradiated with light having a wavelength corresponding to the spectral sensitivity.
【００５１】また、精度のよい色変換層６を形成するた
めには、平行光を基板に対して垂直に照射することが好
ましい。この点、図１（ｄ）で、露光のための光（紫外
線等）を矢印９で表しているが、かかる矢印９が平行で
あるのは、このことを表している。In order to form the color conversion layer 6 with high accuracy, it is preferable to irradiate the substrate with parallel light perpendicularly. In this regard, in FIG. 1D, light (ultraviolet light or the like) for exposure is indicated by an arrow 9, and the parallelism of the arrow 9 indicates this.
【００５２】（Ｄ）未硬化の光硬化型色変換層形成材料
を除去する工程 未硬化の光硬化型色変換層形成材料５を除去する方法
は、特に制限されるものではないが、現像剤を使用して
行うことができる。かかる現像剤としては、具体的に有
機溶剤、アルカリ水溶液あるいはＲＩＥ（リアクティブ
イオンエッチング）に用いられる分解ガス等が使用可能
である。(D) Step of Removing Uncured Photocurable Color Conversion Layer Forming Material The method of removing uncured photocurable color conversion layer forming material 5 is not particularly limited. Can be done using Specific examples of such a developer include an organic solvent, an aqueous alkaline solution, and a decomposition gas used in RIE (reactive ion etching).
【００５３】次いで、未硬化の光硬化型色変換層形成材
料５を除去して、最終的に得られる色変換層６について
説明する。まず、色変換層６（蛍光体層）の膜厚に関し
て言えば、ＥＬ素子の発光を十分に受光（吸収）し、蛍
光発生機能を妨げるものでなければ、特にその厚さは制
限されるものではない。但し、具体的に色変換層６の厚
さを１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲内の値とすることが好まし
い。色変換層６の膜厚が１０ｎｍ未満となると、色変換
性能が低下する傾向があり、一方、膜厚が１ｍｍを超え
ると、蛍光発生機能が妨げられる傾向がある。したがっ
て、色変換層６の膜厚に関して、より好ましくは１μｍ
〜１ｍｍの範囲内の値であり、さらに好ましくは１〜１
００μｍの範囲内の値である。Next, the color conversion layer 6 finally obtained by removing the uncured light-curable color conversion layer forming material 5 will be described. First, regarding the film thickness of the color conversion layer 6 (phosphor layer), the thickness is particularly limited unless the light emission of the EL element is sufficiently received (absorbed) and does not hinder the fluorescence generation function. is not. However, specifically, it is preferable that the thickness of the color conversion layer 6 be a value within the range of 10 nm to 1 mm. When the thickness of the color conversion layer 6 is less than 10 nm, the color conversion performance tends to decrease, while when the thickness exceeds 1 mm, the fluorescence generation function tends to be hindered. Therefore, the thickness of the color conversion layer 6 is more preferably 1 μm
値 1 mm, more preferably 1-1.
It is a value within the range of 00 μm.
【００５４】その他、青色〜青緑色のＥＬ素子の発光
を、白色に変換する場合には、橙色〜赤色までの発光に
変換する色素を用いる必要があるが、ＥＬ素子の発光を
一部透過させて、青色〜赤色までの発光を得れば良い。
そのためには、色変換層６の膜厚を橙色〜赤色発光の色
変換層６よりも薄くするか、あるいは色素濃度を小さく
すればよい。In addition, in order to convert the light emission of the blue to blue-green EL elements to white, it is necessary to use a dye that converts the light emission of orange to red. Then, it is sufficient to obtain light emission from blue to red.
For this purpose, the thickness of the color conversion layer 6 may be made smaller than that of the color conversion layer 6 for emitting orange to red light, or the dye concentration may be reduced.
【００５５】ここで、色変換層６として、蛍光色素を含
有する蛍光体層を用いた場合には、カラーフィルターと
比べて、一般に厚膜となるが、その理由について具体的
に説明する。蛍光色素は、カラーフィルター色素に比べ
て濃度に敏感で、顔料樹脂またはバインダー樹脂中に、
低濃度で分散または可溶化させることにより、蛍光性を
高くすることができる。しかしながら、蛍光色素は、Ｅ
Ｌ素子の発光を十分に吸収しなければならないので、カ
ラーフィルター並の吸光度が必要である。したがって、
下記式（１）で表されるランベルトーベール（Ｌａｍｂ
ｅｒｔ−Ｂｅｅｒ）の式から理解されるように、色素の
吸光係数（色素に固有の値である。）が一定の場合にお
いて、高い吸光度を得るためには、蛍光体層を厚膜とす
ることが好ましい。よって、色変換層６として蛍光体層
を用いた場合には、カラーフィルターと比べて、一般に
厚膜とすることになる。したがって、色変換素といて、
蛍光体層を用いた場合には、図４に示したような色変換
層の跳ね上がりの絶対値が極端に大きくなるので、本発
明の意義は大きい。Here, when a phosphor layer containing a fluorescent dye is used as the color conversion layer 6, it is generally thicker than a color filter. The reason for this will be described in detail. Fluorescent dyes are more sensitive to concentration than color filter dyes, and in pigment resins or binder resins,
By dispersing or solubilizing at a low concentration, the fluorescence can be increased. However, the fluorescent dyes
Since the light emission of the L element must be sufficiently absorbed, an absorbance equivalent to that of a color filter is required. Therefore,
Lambert-Veil (Lamb) represented by the following formula (1)
As can be understood from the equation (ert-Beer), in order to obtain high absorbance when the extinction coefficient of the dye (a value specific to the dye) is constant, the phosphor layer must be a thick film. Is preferred. Therefore, when a phosphor layer is used as the color conversion layer 6, it is generally thicker than a color filter. Therefore, as a color conversion element,
When the phosphor layer is used, the absolute value of the jump of the color conversion layer as shown in FIG. 4 becomes extremely large, so that the present invention is significant.
【００５６】Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｅｅｒの式 Ａ＝εｃｌ （式１） Ａ：吸光度 ε：吸光係数 ｃ：色素濃度 ｌ：膜厚Lambert-Beer equation A = εcl (Equation 1) A: Absorbance ε: Absorption coefficient c: Dye concentration l: Film thickness
【００５７】[0057]
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。なお、以下の説明において特に断りがない限り、
「部」および「％」は重量基準を意味する。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. In the following description, unless otherwise specified,
“Parts” and “%” mean on a weight basis.
【００５８】［実施例１］ （色変換フィルターの作製）図１（ａ）〜（ｅ）に示す
工程例にしたがって、遮光層と色変換層とからなる色変
換フィルターを作製した。まず、透光性基板として、縦
１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス基
板（コーニング社製７０５９）を用い、その上に５重量
％（対固形分）のカーボンブラックを分散させたアクリ
レート系光硬化型レジスト（新日鉄化学製、Ｖ２５９Ｐ
Ａ、固形分濃度５０重量％、溶液粘度２５０ｃｐｓ／２
５℃）を、遮光層用材料としてスピンコートした。Example 1 (Preparation of Color Conversion Filter) A color conversion filter comprising a light-shielding layer and a color conversion layer was prepared according to the process steps shown in FIGS. 1 (a) to 1 (e). First, a glass substrate (7059, manufactured by Corning Incorporated) having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 1.1 mm was used as a light-transmitting substrate, and acrylate on which 5% by weight (solid content) of carbon black was dispersed. Based photo-curable resist (V259P, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
A, solid content concentration 50% by weight, solution viscosity 250 cps / 2
5 ° C.) as a light shielding layer material.
【００５９】次いで、温度８０℃で遮光層用材料をベー
クした後、高圧水銀灯を光源とする露光機にセットし
た。そして、幅５０μｍライン、２５０μｍギャップの
ストライプ状パターンを有るフォトマスクを介して、露
光量が９００ｍＪ／ｃｍ2 （波長３６５ｎｍ）となるよ
うな条件で背面露光した。その後、濃度１重量％の炭酸
ナトリウム水溶液を用いて、未露光部を室温現像し、透
光性基板側から露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ2 （波長３
６５ｎｍ）となるような条件で、フォトマスクを用いず
に全面露光した。なお、温度２００℃でベークした後
の、遮光層（パターン済）の膜厚は７μｍであった。ま
た、この遮光層の３００〜７００ｎｍの波長範囲におけ
る吸光度は、０．５以上の値であった。Next, the material for the light-shielding layer was baked at a temperature of 80 ° C., and set in an exposure machine using a high-pressure mercury lamp as a light source. Then, back exposure was performed through a photomask having a stripe pattern with a width of 50 μm and a gap of 250 μm under a condition that the exposure amount was 900 mJ / cm 2 (wavelength 365 nm). Thereafter, the unexposed portion was developed at room temperature using an aqueous solution of sodium carbonate having a concentration of 1% by weight, and the exposure amount was 3000 mJ / cm 2 (wavelength 3
The entire surface was exposed without using a photomask under the condition of 65 nm). The thickness of the light-shielding layer (patterned) after baking at a temperature of 200 ° C. was 7 μm. The light absorbance of this light-shielding layer in the wavelength range of 300 to 700 nm was 0.5 or more.
【００６０】次いで、クマリン６と、蛍光顔料と、アク
リル系の光硬化型レジスト（新日鉄化学製、Ｖ２５９Ｐ
Ａ、固形分濃度５０重量％、溶液粘度２５０ｃｐｓ／２
５℃）とからなる光硬化型色変換層形成材料を、パター
ン化された遮光層の上からスピンコートし、さらに温度
８０℃でベークした。なお、蛍光顔料は、ローダミンＢ
およびローダミン６Ｇ（それぞれ対ベンゾグアナミン樹
脂４重量％）をベンゾグアナミン樹脂中に練り込んで構
成した。また、クマリン６の添加量を、蛍光顔料と、ア
クリル系の光硬化型レジストの固形分との合計量（１ｋ
ｇ）に対し、０．０３ｍｏｌの値とした。さらに、光硬
化型色変換層形成材料（固形分）の全体量を１００重量
％としたときに、蛍光顔料の配合量を３０重量％、アク
リル系の光硬化型レジスト（固形分）の配合量を７０重
量％となるように構成した。Next, coumarin 6, a fluorescent pigment, and an acrylic photocurable resist (V259P, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
A, solid content concentration 50% by weight, solution viscosity 250 cps / 2
5 ° C.) was spin-coated on the patterned light-shielding layer, and baked at a temperature of 80 ° C. The fluorescent pigment is Rhodamine B
And Rhodamine 6G (each 4% by weight based on benzoguanamine resin) were kneaded into the benzoguanamine resin. Further, the addition amount of coumarin 6 is determined by the total amount (1 k) of the fluorescent pigment and the solid content of the acrylic photocurable resist.
g) to 0.03 mol. Further, when the total amount of the photocurable color conversion layer forming material (solid content) is 100% by weight, the compounding amount of the fluorescent pigment is 30% by weight, and the compounding amount of the acrylic photocurable resist (solids). Was set to be 70% by weight.
【００６１】次いで、透光性基板側から、露光量が６０
０ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、さらに炭
酸ナトリウム水溶液（濃度１重量％）を用いて室温現像
して、未露光部の光硬化型色変換層形成材料を除去し
た。その後、温度２００℃でべ−クして、色変換層（蛍
光体層）のパターンを形成した。かかる色変換層の膜厚
は約７μmであり、遮光層の膜厚と等しいことが確認さ
れた。Next, from the translucent substrate side, the exposure amount is 60
Ultraviolet rays were irradiated so as to be 0 mJ / cm 2, and further developed at room temperature using an aqueous solution of sodium carbonate (concentration: 1% by weight) to remove the unexposed portions of the photocurable color conversion layer forming material. Thereafter, baking was performed at a temperature of 200 ° C. to form a pattern of a color conversion layer (phosphor layer). The thickness of the color conversion layer was about 7 μm, which was confirmed to be equal to the thickness of the light shielding layer.
【００６２】このようにして、図１（ｅ）に示すような
遮光層４と色変換層６とからなる色変換フィルター８、
透光性基板２上に作製した。そして、表面粗さ計（ＤＥ
ＫＴＡＫ３０３０）を用いて、色変換フィルター８の表
面凹凸を測定したところ、０．５μｍ以下の値であっ
た。したがって、得られた色変換フィルター８は、優れ
た平坦性を有していることが確認された。なお、後に有
機ＥＬ素子の発光輝度および色度を確認するため、この
時点において、色変換フィルター８における色変換層６
の一部を、機械的に削り取っておいた。As described above, the color conversion filter 8 composed of the light shielding layer 4 and the color conversion layer 6 as shown in FIG.
It was formed on a light-transmitting substrate 2. And a surface roughness meter (DE
When the surface irregularities of the color conversion filter 8 were measured using KTAK3030), the value was 0.5 μm or less. Therefore, it was confirmed that the obtained color conversion filter 8 had excellent flatness. At this time, the color conversion layer 6 in the color conversion filter 8 was used to confirm the emission luminance and chromaticity of the organic EL element later.
A part of was mechanically scraped off.
【００６３】（ＥＬ表示装置の作製）次いで、色変換フ
ィルター８上に、有機ＥＬ素子１８を形成し、図２に示
すＥＬ表示装置２０を作製した。まず、色変換フィルタ
ー８が形成された透光性基板２を１６０℃に加熱した
後、スパッタリング装置を用い、１×１０-6ｔｏｒｒの
真空条件にて、厚さ０．１５μｍ、表面抵抗２０Ω／□
のＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜を、透明電極（陽極
および陰極の取り出し用電極）として形成した。(Preparation of EL Display Device) Next, an organic EL element 18 was formed on the color conversion filter 8 to prepare an EL display device 20 shown in FIG. First, after the translucent substrate 2 on which the color conversion filter 8 is formed is heated to 160 ° C., a thickness of 0.15 μm and a surface resistance of 20 Ω / are obtained using a sputtering apparatus under a vacuum condition of 1 × 10 −6 torr. □
(Indium tin oxide) film was formed as a transparent electrode (an electrode for taking out an anode and a cathode).
【００６４】次いで、ポジ型フォトレジスト（富士ハン
トエレクトロニクステクノロジー社製、ＨＰＲ２０４）
を、ＩＴＯ膜上にスピンコートし、さらに８０℃でベー
クした。その後、露光機を用い、陽極用ＩＴＯパターン
（２５０μｍライン、５０μｍギャップ、ストライプ
状）および、陰極の取り出し電極用ＩＴＯパターン（６
００μｍライン、１００μｍギャップ、ストライプ状）
が得られるフォトマスクを遮光層パターンに位置合わせ
した後、露光量１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線
を照射した。その後、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド）水溶液（濃度２．３８重量％）を用
いて、露光部のレジストを現像除去し、温度１２０℃に
てポストベークして、レジストパターンを形成した。Next, a positive photoresist (HPR204, manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.)
Was spin-coated on the ITO film and baked at 80 ° C. Then, using an exposure machine, an ITO pattern for anode (250 μm line, 50 μm gap, stripe shape) and an ITO pattern for cathode extraction electrode (6
(00 μm line, 100 μm gap, stripe shape)
Was aligned with the light-shielding layer pattern, and then irradiated with ultraviolet rays so that the exposure amount became 100 mJ / cm 2 . Thereafter, using a TMAH (tetramethylammonium hydroxide) aqueous solution (concentration: 2.38% by weight), the exposed portion of the resist was developed and removed, and post-baked at a temperature of 120 ° C. to form a resist pattern.
【００６５】次いで、レジストパターンが形成された基
板を、エッチング液である臭化水素水溶液（濃度４７重
量％、室温）に浸漬し、露出しているＩＴＯ膜部分をエ
ッチングした。その後、レジストを剥離剤（長瀬産業社
製Ｎ３０３）を用いて剥離して、所望のＩＴＯ膜パター
ン１２を形成した。Next, the substrate on which the resist pattern was formed was immersed in an aqueous solution of hydrogen bromide (concentration: 47% by weight, room temperature) as an etchant, and the exposed ITO film portion was etched. Thereafter, the resist was stripped using a stripping agent (N303 manufactured by Nagase & Co., Ltd.) to form a desired ITO film pattern 12.
【００６６】次いで、このＩＴＯ膜パターン１２が形成
された基板を、イソプロパノール（ＩＰＡ）洗浄および
紫外線（ＵＶ）洗浄した後、真空蒸着装置（日本真空技
術社製）における真空槽内の基板ホルダーに固定した。
次いで、モリブテン製の抵抗加熱ポートに正孔注入材料
としてＭＴＤＡＴＡ（４，４′，４′′−トリス［Ｎ−
（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフ
ェニルアミン）およびＮＰＤ（４，４′−ビス［Ｎ−
（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニ
ル）、発光材料としてＤＰＶＢｉ（４，４′−ビス
（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル）、ドーパン
トとしてＤＰＡＶＢ（Ｎ，Ｎ′−ジフェニルアミノビニ
ルベンゼン）、電子注入材料としてＡｌｑ（トリス（８
−キノリノール）アルミニウム）をそれぞれ収容した。
また、陰極１６の第２金属としてＡｇをタングステン製
フィラメントに、陰極１６の電子注入性金属としてＭｇ
をモリブテン製ボートにそれぞれ装着した。その後、真
空槽を５×１０-7ｔｏｒｒまで減圧した後、以下の順序
で順次発光層１４を積層し、図２に示すＥＬ表示装置２
０を作製した。Next, the substrate on which the ITO film pattern 12 has been formed is washed with isopropanol (IPA) and ultraviolet (UV), and then fixed to a substrate holder in a vacuum chamber of a vacuum evaporation apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Engineering Co., Ltd.). did.
Subsequently, MTDATA (4,4 ', 4 "-tris [N-) was used as a hole injection material in a molybdenum resistance heating port.
(3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine) and NPD (4,4'-bis [N-
(1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl), DPVBi (4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl) as a luminescent material, and DPAVB (N, N'-diphenylaminovinylbenzene) as a dopant Alq (Tris (8
Quinolinol) aluminum).
Ag is used as the second metal of the cathode 16 as a tungsten filament, and Mg is used as the electron injecting metal of the cathode 16.
Was attached to each molybdenum boat. Thereafter, the pressure in the vacuum chamber was reduced to 5 × 10 −7 torr, and then the light emitting layers 14 were sequentially stacked in the following order, and the EL display device 2 shown in FIG.
0 was produced.
【００６７】まず、正孔注入層としては、ＭＴＤＡＴＡ
を蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓの条件で蒸着し、膜
厚を２００ｎｍとし、同様に、ＮＰＤを蒸着速度０．１
〜０．３ｎｍ／ｓの条件で蒸着し、膜厚を２０ｎｍとし
た。また、発光層は、ホスト材料であるＤＰＶＢｉを蒸
着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ、ドーパントであるＤＰ
ＡＶＢを蒸着速度０．０５ｎｍ／ｓで同時蒸着し、膜厚
４０ｎｍ（ホスト材料に対するドーバントの重量比は
１．２〜１．６）とした。First, as the hole injection layer, MTDATA was used.
Is deposited at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / s to a film thickness of 200 nm. Similarly, NPD is deposited at a deposition rate of 0.1
Vapor deposition was performed under the conditions of ０．３0.3 nm / s to a film thickness of 20 nm. The light emitting layer is formed by depositing DPVBi as a host material at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / s and DP as a dopant.
AVB was co-deposited at a deposition rate of 0.05 nm / s to a film thickness of 40 nm (the weight ratio of Dobant to host material was 1.2 to 1.6).
【００６８】また、電子注入層としては、Ａｌｑを蒸着
速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓの条件で蒸着し、膜厚を２
０ｎｍとした。また、陰極１６としては、陽極のＩＴＯ
膜パターン１２に対し垂直方向の位置とし、取り出し電
極用ＩＴＯパターンと接続し、６００μｍライン、１０
０μｍギャップのストライプパターンになるようなマス
クを介して、ＭｇおよびＡｇを同時蒸着した。すなわ
ち、Ｍｇは、蒸着速度１．３〜１．４ｎｍ／ｓ、Ａｇ
は、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓでそれぞれ蒸着し、これら
を併せた膜厚を２００ｎｍとした。なお、正孔注入層か
ら陰極１６の蒸着まで、真空状態をそのまま保持して、
一連の操作として行った。For the electron injection layer, Alq was deposited at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / s and the thickness was 2
It was set to 0 nm. In addition, as the cathode 16, ITO of the anode is used.
A vertical position with respect to the film pattern 12 was connected to an ITO pattern for an extraction electrode.
Mg and Ag were co-evaporated through a mask having a stripe pattern with a gap of 0 μm. That is, Mg is deposited at a deposition rate of 1.3 to 1.4 nm / s,
Was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / s, and the combined film thickness was 200 nm. In addition, from the hole injection layer to the deposition of the cathode 16, the vacuum state is maintained as it is,
Performed as a series of operations.
【００６９】（ＥＬ表示装置の評価）得られたＥＬ表示
装置２０における陽極１２と陰極１６との間に、直流８
Ｖの電圧を印加したところ、電圧を印加した陽極１２と
陰極１６との交差部分が発光し、色変換層６を削った部
分から見える有機ＥＬ素子１８の発光輝度は１００ｃｄ
／ｍ2 であり、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳ Ｚ８７０１）
における色度はｘ＝０．１６、ｙ＝０．２４であり、青
色の発光が得られることが確認された。また、色変換層
６から見える光の発光輝度は、７０ｃｄ／ｍ2 であっ
た。ＣＩＥ色度はｘ＝０．３１、ｙ＝０．３１であり、
白色の発光が得られることが確認された。また、得られ
たＥＬ表示装置２０は、視認性が広く、あらゆる角度か
ら観測しても色にじみのない表示が得られることが確認
された。(Evaluation of EL Display Device) A direct current 8 was applied between the anode 12 and the cathode 16 in the obtained EL display device 20.
When a voltage of V was applied, the intersection between the anode 12 and the cathode 16 to which the voltage was applied emits light, and the light emission luminance of the organic EL element 18 that can be seen from the portion where the color conversion layer 6 is shaved is 100 cd.
/ M 2 and CIE chromaticity coordinates (JIS Z8701)
Was = 0.16 and y = 0.24, and it was confirmed that blue light emission was obtained. The light emission luminance of light seen from the color conversion layer 6 was 70 cd / m 2 . CIE chromaticity is x = 0.31, y = 0.31,
It was confirmed that white light emission was obtained. In addition, it was confirmed that the obtained EL display device 20 had wide visibility and that a display free from color bleeding was obtained even when observed from all angles.
【００７０】また、得られたＥＬ表示装置２０におい
て、色変換フィルター８が平坦化されているためと思わ
れるが、クロストーク（色変換層の凹凸に起因した、陽
極と陰極の短絡による所望する発光部分以外の発光）お
よび電極の断線による表示欠陥はほとんど見られず、良
好な表示ができることを確認した。In the obtained EL display device 20, it is considered that the color conversion filter 8 is flattened. However, crosstalk (desired due to short-circuiting between the anode and the cathode due to unevenness of the color conversion layer) is considered. Display defects due to light emission other than the light-emitting portion) and disconnection of the electrode were hardly observed, and it was confirmed that good display was possible.
【００７１】［実施例２］遮光層の膜厚が１３μｍ（吸
光度０．５以上）、色変換層の膜厚が１３μｍとなるよ
うに、遮光層の材料および光硬化型色変換層形成材料を
スピンコートする際の回転数を実施例１よりも小さくし
たこと以外は、実施例１と同一の条件で色変換フィルタ
ーを作成した。Example 2 The material for the light-shielding layer and the material for forming the photo-curable color conversion layer were adjusted so that the thickness of the light-shielding layer was 13 μm (absorbance 0.5 or more) and the thickness of the color conversion layer was 13 μm. A color conversion filter was prepared under the same conditions as in Example 1 except that the number of revolutions for spin coating was smaller than that in Example 1.
【００７２】得られた色変換フィルターの表面凹凸を、
実施例１と同様に、表面粗さ計（ＤＥＫＴＡＫ３０３
０）を用いて測定したところ、０．５μｍ以下の値であ
った。また、実施例１と同様にＥＬ表示装置を作製し、
直流８Ｖの電圧を陽極と陰極との間に印加したところ、
色変換層から見える光の発光輝度として、２５ｃｄ／ｍ
2 という値が得られた。また、ＣＩＥ色度はｘ＝０．６
０、ｙ＝０．３５であり、赤色の発光が得られることが
確認された。さらに、得られたＥＬ表示装置において、
色変換フィルターが平坦化されているためと思われる
が、クロストークおよび電極の断線による表示欠陥はほ
とんど見られなかった。The unevenness of the surface of the obtained color conversion filter was
As in Example 1, a surface roughness meter (DEKTAK303) was used.
0), it was less than 0.5 μm. Further, an EL display device was manufactured in the same manner as in Example 1, and
When a voltage of DC 8 V was applied between the anode and the cathode,
25 cd / m2 as the emission luminance of light seen from the color conversion layer
A value of 2 was obtained. The CIE chromaticity is x = 0.6
0, y = 0.35, and it was confirmed that red light emission was obtained. Further, in the obtained EL display device,
This is probably due to the flattening of the color conversion filter, but almost no display defects due to crosstalk and disconnection of the electrodes were observed.
【００７３】［実施例３］実施例１において、遮光層用
材料に、紫外線吸収剤（ＴｉＯ2 ）を１重量％添加した
以外は、実施例１と同一の条件で色変換フィルターを作
成した。Example 3 A color conversion filter was prepared under the same conditions as in Example 1 except that 1% by weight of an ultraviolet absorber (TiO 2 ) was added to the light shielding layer material.
【００７４】得られた色変換フィルターの表面凹凸を、
実施例１と同様に、表面粗さ計（ＤＥＫＴＡＫ３０３
０）を用いて測定したところ、０．５μｍ以下の値であ
った。さらに、本実施例では、遮光層に紫外線吸収剤を
含んでいるためと思われるが、得られた色変換フィルタ
ーを光学顕微鏡で観察したところ、より優れたパターン
精度が得られていることが確認された。The surface irregularities of the obtained color conversion filter are
As in Example 1, a surface roughness meter (DEKTAK303) was used.
0), it was less than 0.5 μm. Furthermore, in this example, it is thought that the light-shielding layer contained an ultraviolet absorber, but when the obtained color conversion filter was observed with an optical microscope, it was confirmed that better pattern accuracy was obtained. Was done.
【００７５】また、実施例１と同様にＥＬ表示装置を作
製し、直流８Ｖの電圧を陽極と陰極との間に印加したと
ころ、色変換層から見える光の発光輝度は、７０ｃｄ／
ｍ2であった。また、ＣＩＥ色度はｘ＝０．３１、ｙ＝
０．３１であり、白色の発光が得られることが確認され
た。さらに、得られたＥＬ表示装置において、色変換フ
ィルターが平坦化されているためと思われるが、クロス
トークおよび電極の断線による表示欠陥はほとんど見ら
れなかった。When an EL display device was manufactured in the same manner as in Example 1, and a voltage of DC 8 V was applied between the anode and the cathode, the light emission luminance of the light viewed from the color conversion layer was 70 cd /
m 2 . Also, the CIE chromaticity is x = 0.31, y =
0.31, and it was confirmed that white light emission was obtained. Further, in the obtained EL display device, it is considered that the color conversion filter was flattened, but almost no display defects due to crosstalk and disconnection of the electrode were observed.
【００７６】［比較例］実施例１において光硬化型色変
換層形成材料をスピンコート後に、かかる光硬化型色変
換層形成材料側にフォトマスクを配置し、アライメント
露光したこと以外は、同一の条件で色変換フィルターを
作成した。COMPARATIVE EXAMPLE The same procedure as in Example 1 was performed except that after spin-coating the photocurable color conversion layer forming material, a photomask was arranged on the photocurable color conversion layer forming material side and alignment exposure was performed. Created a color conversion filter with conditions.
【００７７】得られた色変換フィルターにおける表面凸
凹を、表面粗さ計（ＤＥＫＴＡＫ３０３０）を用いて測
定したところ、７μｍという大きな値であることが確認
された。また、色変換フィルターの断面を光学顕微鏡で
観察したところ、図３に示すように、遮光層上の一部に
形成した色変換層がはねあがっていた。次いで、得られ
た色変換フィルターを用いて、ＥＬ表示装置を作成した
ところ、色変換フィルターが平坦化されてないためと思
われるが、クロストークが多発し、電極の断線による表
示欠陥も多く発生した。When the surface roughness of the obtained color conversion filter was measured using a surface roughness meter (DEKTAK3030), it was confirmed that the value was as large as 7 μm. Further, when the cross section of the color conversion filter was observed with an optical microscope, as shown in FIG. 3, the color conversion layer formed on a part of the light-shielding layer was rebounded. Next, when an EL display device was manufactured using the obtained color conversion filter, it is considered that the color conversion filter was not flattened, but crosstalk frequently occurred and display defects due to disconnection of the electrode also occurred. did.
【００７８】[0078]
【発明の効果】本発明の製造方法により、平滑性やパタ
ーン精度に優れ、表面にＥＬ素子を積層した場合に、Ｅ
Ｌ素子の断線等が少ないＥＬ表示装置を提供することが
できるＥＬ表示用色変換フィルターを容易に提供できる
ようになった。According to the manufacturing method of the present invention, when the EL element is laminated on the surface with excellent smoothness and pattern accuracy, E
It has become possible to easily provide a color conversion filter for EL display capable of providing an EL display device with less disconnection of the L element.
【図１】本発明のＥＬ表示用色変換フィルターの製造方
法における工程図である。FIG. 1 is a process chart in a method for manufacturing a color conversion filter for EL display of the present invention.
【図２】本発明のＥＬ表示用色変換フィルターを用いた
ＥＬ表示装置の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of an EL display device using the color conversion filter for EL display of the present invention.
【図３】従来のＥＬ表示用色変換フィルターの製造方法
における工程図である。FIG. 3 is a process chart in a conventional method for manufacturing a color conversion filter for EL display.
【図４】従来のＥＬ表示用色変換フィルターを用いたＥ
Ｌ表示装置の断面図である。FIG. 4 shows E using a conventional color conversion filter for EL display.
It is sectional drawing of an L display device.
【図５】従来のＥＬ表示装置例である（その１）。FIG. 5 is an example of a conventional EL display device (part 1).
【図６】従来のＥＬ表示装置例である（その２）。FIG. 6 is an example of a conventional EL display device (part 2).
２ 透光性基板（ガラス基板） ４ 遮光層 ５ 光硬化型色変換層形成材料 ６ 色変換層 ８ 色変換フィルター ９ 光（紫外線） １２ 陽極（下部電極、ＩＴＯ膜パターン） １４ 発光層 １６ 陰極（上部電極） １８ 有機ＥＬ素子 ２０ 有機ＥＬ表示装置 Reference Signs List 2 light-transmitting substrate (glass substrate) 4 light-shielding layer 5 light-curing color conversion layer forming material 6 color conversion layer 8 color conversion filter 9 light (ultraviolet) 12 anode (lower electrode, ITO film pattern) 14 light-emitting layer 16 cathode ( Upper electrode) 18 organic EL element 20 organic EL display
Claims (7)
平面的に分離配置された色変換フィルターの製造方法に
おいて、下記（Ａ）〜（Ｄ）工程を含むことを特徴とす
るエレクトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの
製造方法。 （Ａ）透光性基板上に、パターン化された遮光層を形成
する工程 （Ｂ）光硬化型色変換層形成材料を、遮光層が形成され
た透光性基板上に製膜する工程 （Ｃ）前記（Ｂ）工程で製膜された光硬化型色変換層形
成材料を、透光性基板側から背面露光する工程 （Ｄ）未硬化の光硬化型色変換層形成材料を除去する工
程1. A method of manufacturing a color conversion filter in which a light-shielding layer and a color conversion layer are disposed on a light-transmitting substrate and separated from each other in a plane, the method includes the following steps (A) to (D). Of producing a color conversion filter for electroluminescence display. (A) Step of forming a patterned light-shielding layer on a light-transmitting substrate (B) Step of forming a photocurable color conversion layer forming material on a light-transmitting substrate on which a light-shielding layer is formed ( C) a step of exposing the photocurable color conversion layer forming material formed in the above step (B) to a back surface from the transparent substrate side; and (D) a step of removing the uncured photocurable color conversion layer forming material.
徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス表
示用色変換フィルターの製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the color conversion layer is a phosphor layer.
体層であることを特徴とする請求項１または２に記載の
エレクトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製
造方法。3. The method for producing a color conversion filter for electroluminescence display according to claim 1, wherein the color conversion layer is a phosphor layer that emits white fluorescent light.
の波長領域の吸光度を０．５以上の値とすることを特徴
とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のエレクトロ
ルミネッセンス表示用色変換フィルターの製造方法。4. The light-shielding layer has a thickness of 300 to 700 nm.
The method for producing a color conversion filter for an electroluminescence display according to any one of claims 1 to 3, wherein the absorbance in the wavelength region is set to a value of 0.5 or more.
層の全体量を１００重量％としたときに、黒色材料の配
合量を０．１〜５０重量％の範囲内の値とすることを特
徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のエレクト
ロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製造方法。5. The light-shielding layer contains a black material, and when the total amount of the light-shielding layer is 100% by weight, the blending amount of the black material is set to a value within a range of 0.1 to 50% by weight. The method for producing a color conversion filter for electroluminescence display according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
たは金属材料薄膜で構成されていることを特徴とする請
求項１〜５のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッ
センス表示用色変換フィルターの製造方法。6. The color conversion filter according to claim 1, wherein the light-shielding layer contains a metal material or is formed of a metal material thin film. Manufacturing method.
遮光層の全体量を１００重量％としたときに、紫外線吸
収剤の配合量を０．１〜５０重量％の範囲内の値とする
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の
エレクトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製
造方法。7. The light-shielding layer contains an ultraviolet absorber, and when the total amount of the light-shielding layer is 100% by weight, the blending amount of the ultraviolet absorber is set to a value within the range of 0.1 to 50% by weight. The method for producing a color conversion filter for electroluminescence display according to any one of claims 1 to 6, wherein:
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- 1998-06-19 JP JP17334598A patent/JP2000012217A/en active Pending
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