FR2688425A1 - Centrifuge tray for treating, preferably coating, substrate boards - Google Patents

Centrifuge tray for treating, preferably coating, substrate boards Download PDF

Info

Publication number
FR2688425A1
FR2688425A1 FR9302813A FR9302813A FR2688425A1 FR 2688425 A1 FR2688425 A1 FR 2688425A1 FR 9302813 A FR9302813 A FR 9302813A FR 9302813 A FR9302813 A FR 9302813A FR 2688425 A1 FR2688425 A1 FR 2688425A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
receiving plate
fact
plate
substrate
centrifuge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
FR9302813A
Other languages
French (fr)
Inventor
Thaler Helmut
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nokia Technology GmbH
Original Assignee
Nokia Technology GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nokia Technology GmbH filed Critical Nokia Technology GmbH
Publication of FR2688425A1 publication Critical patent/FR2688425A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/08Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

On the upper face of the receiving tray (11) are arranged clamping jaws (13) which grip the substrate board (12) on the centrifuge tray (10). These clamping jaws (13) are guided by guide slots (15) on the lower face (16) of the receiving tray. On the lower face (16) of the receiving tray (11) are furthermore arranged guide grooves (20) into which pivots (21) are inserted. Each pivot (21) is surrounded by two washers (22.1, 22.2). Washers (19.1, 19.2) are also slipped over the pins (14) which project from the lower face (16). Each washer (19.1, 19.2) of a pin (14) is respectively connected, by means of a connection rod (17), only with a washer (22.1, 22.2) of another pivot (21).

Description

PLATEAU GENTRIFUGEUR POUR TRAITER, DE PREFERENCE
REVETIR,DES PLAQUETTES DE SUBSTRAT.
GENTRIFUGE TRAY FOR TREATMENT, PREFERABLY
COVER, SUBSTRATE PLATES.

Domaine technique
L' invention concerne l'amélioration de plateaux centrifugeurs pour revetir des plaquettes de substrat.
Technical area
The invention relates to the improvement of centrifuge plates for coating substrate wafers.

Etat de la technique
Les plateaux centrifugeurs pour revêtir des plaquettes de substrat sont connus de façon générale dans I'état de la technique.
State of the art
Centrifuge plates for coating substrate wafers are generally known in the state of the art.

Pour fixer les plaquettes de substrat sur le plateau récepteur des plateaux centrifugeurs, on connaît essentiellement trois dispositifs. To fix the substrate plates on the receiving plate of the centrifuge plates, three devices are essentially known.

Selon le premier dispositif, des perçages sont usinés dans le plateau récepteur planparallèle.  According to the first device, holes are machined in the planarallel receiving plate.

Lorsque lton pose une plaquette de substrat sur le plateau récepteur, l'orientation et la fixation de la plaquette de substrat résultent du fait que lton oriente tout d'abord la plaquette de substrat par rapport au centre du plateau récepteur puis qu'on la fixe dans cette position au moyen de broches enfichées dans les perçages. Comme on peut facilement le voir, lorsque l'on doit soumettre successivement des plaquettes de substrat de différentes dimensions à un traitement sur le dispositif à plateau centrifugeur, cette technique est très coûteuse puisque l'on doit exécuter la procédure d'orientation et de fixation pour chaque format de plaquette de substrat.When lton places a substrate wafer on the receiving tray, the orientation and fixing of the substrate wafer results from the fact that lton first of all orientates the substrate wafer relative to the center of the receiving tray and then fixes it in this position by means of pins inserted in the holes. As can easily be seen, when it is necessary to successively subject substrate wafers of different dimensions to a treatment on the centrifuge plate device, this technique is very expensive since one has to carry out the orientation and fixing procedure for each substrate wafer format.

Un dispositif connu par ailleurs simplifie la procédure d'orientation et de fixation en ce sens que dans le plateau récepteur sont pr évu prévues de fines ouvertures dont I'extrémité opposée au plateau récepteur est reliée à une pompe à vide. Ce dispositif simplifie la situation de la plaquette de substrat qu'il faut également orienter sur le plateau récepteur en ce sens qu'après que l'on a orienté la plaquette de substrat celle-ci est aspirée sous l'action de la dépression régnant aux ouvertures. Mais ces techniques présentent l'inconvénient que, dans le cas de plaquettes de substrat très minces, cellesci s'impriment facilement dans les ouvertures sous l'action de la dépression. La conséquence en est que, de ce fait, ltépaisseur de couche à rapporter sur la plaquette de substrat devient irrégulière. A device known moreover simplifies the orientation and fixing procedure in the sense that in the receiving plate are provided provided with fine openings whose end opposite the receiving plate is connected to a vacuum pump. This device simplifies the situation of the substrate wafer which must also be oriented on the receiving plate in the sense that after the substrate wafer has been oriented, it is sucked under the action of the vacuum prevailing at the openings. However, these techniques have the drawback that, in the case of very thin substrate wafers, these are easily imprinted in the openings under the action of vacuum. The consequence of this is that, as a result, the thickness of the layer to be added to the substrate wafer becomes irregular.

Un troisième dispositif connu présente un plateau récepteur qui, en fonction de la conformation de la plaquette de substrat à revêtir, présente dans la surface du plateau récepteur un creux dans lequel on dépose la plaquette de substrat à revêtir. Des plateaux récepteur de ce type simplifient l'orientation et la fixation des plaquettes de substrat sur le plateau récepteur, mais présentent l'incon vénient que pour chaque format de plaquette de substrat il faut disposer de l'un de ces très coûteux plateaux récepteurs.  A third known device has a receiving plate which, depending on the shape of the substrate wafer to be coated, has a recess in the surface of the receiving plate in which the substrate wafer to be coated is deposited. Receiver trays of this type simplify the orientation and fixing of the substrate wafers on the receiver tray, but have the disadvantage that for each format of substrate wafer, one of these very expensive receiver trays is required.

L'invention a donc pour but d'indiquer un dispositif qui évite les inconvénients des services connus et qui simplifie l'orientation et la fixation de plaquettes de substrat de différentes dimensions sur le plateau récepteur. The invention therefore aims to indicate a device which avoids the drawbacks of known services and which simplifies the orientation and fixing of substrate wafers of different dimensions on the receiving plate.

Présentation de l'invention
Le plateau centrifugeur conforme à l'invention comporte un plateau récepteur, de préférence rond, disposé sur un axe de rotation et un dispositif pour fixer la plaquette de substrat sur le plateau récepteur.
Presentation of the invention
The centrifuge plate according to the invention comprises a receiving plate, preferably round, arranged on an axis of rotation and a device for fixing the substrate plate on the receiving plate.

Ce plateau est caractérisé
- par le fait que, pour centrer et fixer la plaquette de substrat sur le plateau récepteur, ce plateau récepteur présente deux fentes de guidage allongées dont les axes longitudinaux passent par le centre du plan du plateau récepteur et dont les axes longitudinaux font l'un avec 11 autre un angle de 180 ,
- par le fait que sur la face inférieure du plateau récepteur sont prévues deux rainures de guidage allongées dont les axes longitudinaux passent également par le milieu du plan du plateau récepteur et font avec les axes longitudinaux des fentes de guidage un angle de 900,
- par le fait que dans chaque rainure de guidage est disposé, avec liberté de coulissement, un pivot dont l'extrémité libre est reliée à une masse centrifuge,
- par le fait que dans chaque fente de guidage est disposée, avec liberté de coulissement, une broche dont une première extrémité, qui déborde depuis la face supérieure du plateau récepteur, est reliée à un mors de bridage,
- par le fait que, sur les axes longitudinaux des pivots et des broches, dans la zone dans laquelle ceux-ci débordent sous la face inférieure du plateau récepteur, sont chaque fois enfilées, de façon imperdable, deux rondelles disposées avec liberté de rotation autour de l'axe longitudinal des pivots et des broches,
- par le fait que chaque rondelle disposée sur un pivot n'est reliée qu'avec une seule rondelle disposée sur une broche, étant précisé que les deux tringles de liaison qui partent de chacun des pivots sont reliées avec des rondelles disposées sur des broches différentes,
par le fait que l'on peut échanger les masses centrifuges,
par le fait que l'on peut échanger les mors de bridage,
par le fait que chaque mors de bridage présente au moins un évidement qui correspond au contour latéral de la plaquette de substrat aux points contre lesquels le mors de bridage pousse lors de la rotation du plateau récepteur,
par le fait que les surfaces des mors de bridage qui, lors de la rotation du plateau récepteur, poussent contre la plaquette de substrat, sont munies d'une couche antiglissement.
This tray is characterized
- by the fact that, to center and fix the substrate plate on the receiving plate, this receiving plate has two elongated guide slots whose longitudinal axes pass through the center of the plane of the receiving plate and whose longitudinal axes form one with another 11 an angle of 180,
- by the fact that on the underside of the receiving plate are provided two elongated guide grooves, the longitudinal axes of which also pass through the middle of the plane of the receiving plate and form with the longitudinal axes of the guide slots an angle of 900,
- by the fact that in each guide groove is arranged, with freedom of sliding, a pivot whose free end is connected to a centrifugal mass,
- by the fact that in each guide slot is arranged, with freedom of sliding, a pin, a first end of which, which projects from the upper face of the receiving plate, is connected to a clamping jaw,
- by the fact that, on the longitudinal axes of the pivots and pins, in the zone in which these overflow under the underside of the receiving plate, are each time threaded, in a captive manner, two washers arranged with freedom of rotation around the longitudinal axis of the pivots and spindles,
- by the fact that each washer arranged on a pivot is connected only with a single washer arranged on a pin, it being specified that the two connecting rods which start from each of the pivots are connected with washers arranged on different pins ,
by the fact that we can exchange the centrifugal masses,
by the fact that we can exchange the clamping jaws,
by the fact that each clamping jaw has at least one recess which corresponds to the lateral contour of the substrate wafer at the points against which the clamping jaw pushes during the rotation of the receiving plate,
by the fact that the surfaces of the clamping jaws which, during the rotation of the receiving plate, push against the substrate wafer, are provided with an anti-slip layer.

L'invention repose sur l'vidée de l'utilisation de la force centrifuge. Si l'on ne dépose une plaquette de substrat sur la face supérieure du plateau récepteur qu'en l'orientant grossièrement et si l'on fait alors coulisser l'un des deux mors de bridage le long des formes de guidage, en direction du centre du plateau récepteur, ce mouvement de coulissement se poursuit sur l'autre mors de bridage par l'intermédiaire des tringles de liaison; Dès que les deux mors de bridage s'appuient parfaitement contre la plaquette de substrat, celle-ci est orientée sur le plateau récepteur. Si alors on met le plateau récepteur en rotation, la force centrifuge créée par la masse des masses centrifuges fait que les masses centrifuges disposées sur les pivots tendent, dans les rainures de guidage, en direction du bord du plateau récepteur. Etant donné que, par l'intermédiaire des rondelles qui y sont enfilées et des tringles de liaison, les pivots sont reliés avec les rondelles disposées sur les broches, les mors de bridage, également reliés avec les broches, sont davantage poussés contre la plaquette de substrat. De ce fait, la plaquette de substrat est fixée dans cette position pendant la rotation du plateau récepteur. The invention is based on the idea of using centrifugal force. If a substrate plate is only deposited on the upper face of the receiving plate by roughly orienting it and if one of the two clamping jaws is then made to slide along the guide shapes, in the direction of the center of the receiving plate, this sliding movement continues on the other clamping jaw via the linkage rods; As soon as the two clamping jaws press perfectly against the substrate plate, it is oriented on the receiving plate. If then the receiving plate is rotated, the centrifugal force created by the mass of the centrifugal masses means that the centrifugal masses placed on the pivots tend, in the guide grooves, towards the edge of the receiving plate. Since, via the washers which are threaded therein and connecting rods, the pivots are connected with the washers arranged on the pins, the clamping jaws, also connected with the pins, are pushed further against the plate. substrate. Therefore, the substrate wafer is fixed in this position during the rotation of the receiving plate.

Si l'on peut échanger les masses centrifuges, on peut régler la force de pression des mors de bridage. Il est ainsi exclu de rendre inutilisables ces plaquettes de substrat sous l'action d'une force de pression trop élevée. If the centrifugal masses can be exchanged, the pressure force of the clamping jaws can be adjusted. It is thus excluded from rendering these substrate plates unusable under the action of too high a pressing force.

Des mors de bridage pouvant s'échanger présentent l'avantage de permettre de revêtir, sans problèmes et avec une épaisseur de couche régulière, même des plaquettes de substrat d'épaisseur différente. Si en effet les mors de bridage débordaient l'épaisseur des plaquettes de substrat qui y sont placées, on pourrait en arriver, en cas d'application à la tournette, à des écarts d'épaisseur de la couche de revêtement au voisinage des mors de bridage, puisque là, les matériaux de revêtement ne peuvent pas être centrifugés librement et sans obstacle. Clamping jaws which can be exchanged have the advantage of making it possible to coat, without problems and with a regular layer thickness, even substrate wafers of different thickness. If indeed the clamping jaws exceeded the thickness of the substrate plates which are placed there, one could arrive, in the case of application with the spinner, of thickness differences of the coating layer in the vicinity of the jaws of clamping, since there, the coating materials cannot be centrifuged freely and without obstacle.

Si les mors de bridage présentent au moins un évidement qui correspond au contour latéral des plaquettes de substrat au point contre lequel les mors de bridage poussent lors de la rotation du plateau récepteur, on obtient une fixation particulièrement solide des plaquettes de substrat sur le plateau récepteur. I1 est très particulièrement avantageux que les mors de bridage soient disposés avec liberté de rotation sur les broches et présentent plusieurs évidements de forme différente. Dans ce cas, une simple rotation des mors de bridage permet d'obtenir une adaptation très facile du dispositif aux différentes formes des plaquettes de substrat. If the clamping jaws have at least one recess which corresponds to the lateral contour of the substrate plates at the point against which the clamping jaws push during the rotation of the receiving plate, a particularly solid fixing of the substrate plates on the receiving plate is obtained. . I1 is very particularly advantageous that the clamping jaws are arranged with freedom of rotation on the pins and have several recesses of different shape. In this case, a simple rotation of the clamping jaws makes it possible to obtain a very easy adaptation of the device to the different shapes of the substrate wafers.

Si les surfaces des évidements des mors de bridage, qui, lors de la rotation du plateau récepteur, poussent contre les plaquettes de substrat sont munies d'une couche antiglissement, la fixation des plaquettes de substrat sur le plateau récepteur s'améliore largement. If the surfaces of the recesses of the clamping jaws, which, during the rotation of the receiving plate, push against the substrate plates are provided with an anti-slip layer, the fixing of the substrate plates on the receiving plate improves.

Brève description des figures
La figure 1 est une vue de dessus d'un plateau centrifugeur ; et
la figure 2 est une vue perspective, de dessous, d'un plateau centrifugeur.
Brief description of the figures
Figure 1 is a top view of a centrifuge tray; and
Figure 2 is a perspective view, from below, of a centrifuge plate.

Mise en oeuvre de l'invention
On va maintenant expliquer l'invention en détail à l'aide des deux figures. La figure 1 représente un plateau centrifugeur 10 sur le plateau récepteur 11 duquel repose une plaquette de substrat rectangulaire 12. Cette plaquette de substrat 12 est orientée et fixée sur le plateau récepteur 11 aux deux angles, diagonalement opposés, de chacun des mors de bridage 13. L'orientation de la plaquette de substrat 12 résulte du fait que l'on pose la plaquette de substrat 12 sur la face supérieure du plateau récepteur 11 en l'orientant grossièrement et que l'un des deux mors de bridage 13 se déplace selon la direction de la flèche F1. Etant donné que chaque mors de bridage 13 est disposé sur une broche 14 avec liberté de rotation et que cette broche 14 est guidée, par rapport à la face inférieure 16 du plateau récepteur 11, par les fentes de guidage 15 usinées dans le plateau récepteur 11, alors, par l'intermédiaire des tringles de liaison 17 avec lesquelles la broche 14 portant l'autre mors de bridage 13 est reliée, cet autre mors de bridage 13 coulisse selon la direction de la flèche F1 en direction du centre du plateau récepteur 11 si un seul mors de bridage 13 s'est déplacé selon la direction de cette flèche. Du fait que, dans cet exemple de réalisation, la longueur de toutes les tringles de liaison 17 est égale, le trajet de coulissement que décrivent les mors de bridage 13 est égal. Grâce à l'égalité de ces trajets de coulissement des deux mors de bridage 13, le milieu de la plaquette de substrat 12 s'oriente en direction du milieu du plateau récepteur 11. La façon dont la construction est réalisée à la face inférieure 16 du plateau récepteur 11 et le mode de fonctionnement de cette construction ne sont que signalés sur la figure 1 et on les explique en détail ci-dessous à l'aide de la figure 2.
Implementation of the invention
We will now explain the invention in detail using the two figures. FIG. 1 represents a centrifuge plate 10 on the receiving plate 11 from which a rectangular substrate plate 12 rests. This substrate plate 12 is oriented and fixed on the receiving plate 11 at the two diagonally opposite angles of each of the clamping jaws 13 The orientation of the substrate plate 12 results from the fact that the substrate plate 12 is placed on the upper face of the receiving plate 11 by roughly orienting it and that one of the two clamping jaws 13 moves according to the direction of arrow F1. Since each clamping jaw 13 is disposed on a spindle 14 with freedom of rotation and that this spindle 14 is guided, relative to the underside 16 of the receiving plate 11, by the guide slots 15 machined in the receiving plate 11 , then, via the connecting rods 17 with which the pin 14 carrying the other clamping jaw 13 is connected, this other clamping jaw 13 slides in the direction of the arrow F1 towards the center of the receiving plate 11 if a single clamping jaw 13 has moved in the direction of this arrow. Because, in this exemplary embodiment, the length of all the connecting rods 17 is equal, the sliding path described by the clamping jaws 13 is equal. Thanks to the equality of these sliding paths of the two clamping jaws 13, the middle of the substrate plate 12 is oriented in the direction of the middle of the receiving plate 11. The way in which the construction is carried out on the underside 16 of the receiver plate 11 and the operating mode of this construction are only indicated in FIG. 1 and they are explained in detail below with the aid of FIG. 2.

Les mors de bridage 13, représentés sur la figure 1, présentent deux évidements 18.1, 18.2. Les évidements 18.1 ont une conformation rectangulaire et s'appuient directement contre deux angles, diagonalement opposés l'un à l'autre, de la plaquette de substrat 12. Etant donné que les mors de bridage 13 sont disposés sur les broches 14 avec liberté de rotation, en faisant tourner les mors de bridage 13 d'un angle de 180 , il est également possible d'orienter et de fixer une plaquette de substrat ronde au moyen des évidements 18.2 (cas non représenté). Dans ce dernier cas, il est recommandé de munir de garniture antiglissement (non représentée) les surfaces des évidements 18.2 qui ont un contact direct avec la plaquette de substrat.The clamping jaws 13, shown in FIG. 1, have two recesses 18.1, 18.2. The recesses 18.1 have a rectangular conformation and bear directly against two angles, diagonally opposite one another, of the substrate board 12. Since the clamping jaws 13 are arranged on the pins 14 with freedom of rotation, by rotating the clamping jaws 13 by an angle of 180, it is also possible to orient and fix a round substrate board by means of the recesses 18.2 (case not shown). In the latter case, it is recommended to provide anti-slip lining (not shown) the surfaces of the recesses 18.2 which have direct contact with the substrate board.

La figure 2 représente en perspective la face inférieure 16 du plateau récepteur 11. On peut y voir que les broches 14 débordent de la face inférieure 16 du plateau récepteur 11. Sur chacune des broches 14 sont chaque fois enfilées, de façon imperdable, sur la face inférieure 16 du plateau récepteur 11, deux rondelles 19.1, 19.2. Chacune de ces rondelles 19.1, 19.2 peut tourner autour de l'axe longitudinal des broches 14. Comme le montre également la figure 2, les axes longitudinaux des fentes de guidage 15 passent par le milieu du plateau récepteur 11, les axes faisant entre eux un angle de 1800.  FIG. 2 is a perspective view of the underside 16 of the receiver plate 11. It can be seen there that the pins 14 project from the underside 16 of the receiver plate 11. On each of the pins 14 are each time threaded, captively, onto the lower face 16 of the receiving plate 11, two washers 19.1, 19.2. Each of these washers 19.1, 19.2 can rotate around the longitudinal axis of the pins 14. As also shown in FIG. 2, the longitudinal axes of the guide slots 15 pass through the middle of the receiving plate 11, the axes forming between them a angle of 1800.

En outre, dans la face inférieure 16 du plateau récepteur 11 sont usinées des rainures de guidage 20 dont les axes longitudinaux passent également par le milieu du plateau récepteur 11. Les axes longitudinaux des rainures de guidage 20 font avec les axes longitudinaux des fentes de guidage 15 un angle de 90". Dans chacune des rainures de guidage 20 est inséré, de façon imperdable, un pivot coulissant 21. L'axe longitudinal de chacun des pivots 21 déborde la face inférieure 16 du plateau récepteur 11. Sur l'axe longitudinal de chacun des pivots 21 sont également enfilées deux rondelles 22.1, 22.2. Ces rondelles 22.1, 22.2 peuvent également tourner autour de l'axe longitudinal des pivots 21. A l'extrémité, opposée à la face inférieure 16 du plateau récepteur 11, de chacun des pivots 21 est fixée, de façon imperdable, une masse centrifuge 23. Chacune des rondelles 22.1, 22.2, disposée sur un pivot 21 n'est chaque fois reliée que par une tringle de liaison 17 avec l'une des rondelles 19.1, 19.2 disposée sur une broche 14, en ce sens que chacune des deux tringles de liaison 17 qui partent d'un pivot 21 va vers des broches 14 différentes. C'est ainsi que la rondelle 19.1 de la broche 14, disposée à gauche sur la figure 2, est reliée avec la rondelle 22.1 du pivot supérieur 21, et la rondelle 19.1, avec la rondelle 22.2 du pivot inférieur 21, tandis que la rondelle 19.1 de la broche de droite 14 est reliée avec la rondelle 22.1 du pivot inférieur 21 et la rondelle 19.2, avec la rondelle 22.2 du pivot supérieur 21. In addition, in the lower face 16 of the receiving plate 11 are machined guide grooves 20 whose longitudinal axes also pass through the middle of the receiving plate 11. The longitudinal axes of the guide grooves 20 form with the longitudinal axes of the guide slots 15 at an angle of 90 ". In each of the guide grooves 20 is inserted, in a captive manner, a sliding pivot 21. The longitudinal axis of each of the pivots 21 extends beyond the underside 16 of the receiving plate 11. On the longitudinal axis of each of the pivots 21 are also threaded two washers 22.1, 22.2 These washers 22.1, 22.2 can also rotate around the longitudinal axis of the pivots 21. At the end, opposite the underside 16 of the receiving plate 11, each pivots 21 is fixed, captively, a centrifugal mass 23. Each of the washers 22.1, 22.2, arranged on a pivot 21 is each time connected only by a connecting rod 17 with the 'one of the washers 19.1, 19.2 arranged on a pin 14, in the sense that each of the two connecting rods 17 which start from a pivot 21 goes to different pins 14. Thus the washer 19.1 of the pin 14, arranged on the left in Figure 2, is connected with the washer 22.1 of the upper pivot 21, and the washer 19.1, with the washer 22.2 of the lower pivot 21, while the washer 19.1 of the right spindle 14 is connected with the washer 22.1 of the lower pivot 21 and the washer 19.2, with the washer 22.2 of the upper pivot 21.

Si maintenant, à l'aide de l'arbre 24 rapporté sur la face inférieure 16, on met en rotation le plateau récepteur 11 dans le sens de la flèche, les pivots 21 vont vers le bord du plateau récepteur 11 dans le sens de la flèche F2. Etant donné que les pivots 21 sont reliés, par l'intermédiaire des rondelles 22.1 et 22.2 et des tringles de liaison 17, avec les rondelles 19.1, 19.2 et donc également avec les broches 14, pendant le mouvement des pivots 21, les broches 14 se déplacent le long des fentes de guidage 15 en direction du centre du plateau récepteur 11. Ceci est signalé sur les deux figures par les flèches F1. Etant donné que - comme déjà expliqué en relation avec la figure I - les broches 14 sont reliées avec les mors de bridage 13 du côté supérieur du plateau récepteur 11, les mors de bridage 13 se déplacent également dans le sens de la flèche F1 en direction du centre du plateau récepteur 11. Si une plaquette de substrat 12 est disposée entre les mors de bridage 13, lorsque les mors de bridage 13 s'appuient contre la plaquette de substrat 12 par les évidements 18, le trajet de coulissement des broches 14 est limité. La force ainsi créée pousse alors contre la plaquette de substrat 12 de sorte que celle-ci est fixée en position sur le plateau récepteur en rotation 11. If now, using the shaft 24 attached to the underside 16, the receiving plate 11 is rotated in the direction of the arrow, the pivots 21 go towards the edge of the receiving plate 11 in the direction of the arrow F2. Since the pivots 21 are connected, via the washers 22.1 and 22.2 and the connecting rods 17, with the washers 19.1, 19.2 and therefore also with the pins 14, during the movement of the pivots 21, the pins 14 move along the guide slots 15 in the direction of the center of the receiving plate 11. This is indicated in the two figures by the arrows F1. Since - as already explained in relation to FIG. I - the pins 14 are connected with the clamping jaws 13 on the upper side of the receiving plate 11, the clamping jaws 13 also move in the direction of the arrow F1 in the direction from the center of the receiving plate 11. If a substrate plate 12 is disposed between the clamping jaws 13, when the clamping jaws 13 are pressed against the substrate plate 12 by the recesses 18, the sliding path of the pins 14 is limit. The force thus created then pushes against the substrate plate 12 so that it is fixed in position on the rotating receiving plate 11.

I1 convient d'attirer l'attention sur le fait que la hauteur des mors de bridage 13 les amène juste en dessous de l'épaisseur de la plaquette de substrat 12, de sorte que les mors de bridage 13 ne s'opposent pas au processus de revêtement dans le procédé d'application à la tournette.  It should be pointed out that the height of the clamping jaws 13 brings them just below the thickness of the substrate wafer 12, so that the clamping jaws 13 do not stand in the way of the process. coating in the spinning process.

Claims (5)

REVENDICATIONS 1. Plateau centrifugeur pour traiter de préférence revêtir,des plaquettes de substrat, 1. Centrifuge plate to preferably treat coating, substrate wafers, - avec un plateau récepteur, de préférence rond, disposé sur un axe de rotation et - with a receiving plate, preferably round, arranged on an axis of rotation and - avec un dispositif pour fixer la plaquette de substrat sur le plateau récepteur - with a device to fix the substrate plate on the receiving plate plateau caractérisé characterized tray - par le fait que, pour centrer et fixer la plaquette de substrat (12) sur le plateau récepteur (11), ce plateau récepteur (11) présente deux fentes de guidage allongées (15) dont les axes longitudinaux passent par le centre du plan du plateau récepteur (11) et dont les axes longitudinaux font l'un avec l'autre un angle de 1800,  - by the fact that, to center and fix the substrate board (12) on the receiving plate (11), this receiving plate (11) has two elongated guide slots (15) whose longitudinal axes pass through the center of the plane of the receiving plate (11) and whose longitudinal axes make an angle of 1800 with each other, - par le fait que sur la face inférieure (16) du plateau récepteur (11) sont prévues deux rainures de guidage allongées (20) dont les axes longitudinaux passent également par le milieu du plan du plateau récepteur (11) et font avec les axes longitudinaux des fentes de guidage (15) un angle de 90 ,  - by the fact that on the lower face (16) of the receiving plate (11) are provided two elongated guide grooves (20) whose longitudinal axes also pass through the middle of the plane of the receiving plate (11) and form with the axes longitudinal guide slots (15) at an angle of 90, - par le fait que dans chaque rainure de guidage (20) est disposé, avec liberté de coulissement, un pivot (21) dont ltextrémité libre est reliée à une masse centrifuge (23), - by the fact that in each guide groove (20) is arranged, with freedom of sliding, a pivot (21) whose free end is connected to a centrifugal mass (23), par le fait que dans chaque fente de guidage (15) est disposée, avec liberté de coulissement, une broche (14) dont une première extrémité, qui deborde depuis la face supérieure du plateau récepteur (11), est reliée à un mors de bridage (13), by the fact that in each guide slot (15) is arranged, with freedom of sliding, a pin (14) of which a first end, which projects from the upper face of the receiving plate (11), is connected to a clamping jaw (13), - par le fait que, sur les axes longitudinaux des pivots (21) et des broches (14), dans la zone dans laquelle ceux-ci débordent sous la face inférieure (16) du plateau récepteur (11), sont chaque fois enfilées, de façon imperdable, deux rondelles (19.1, 19.2; - by the fact that, on the longitudinal axes of the pivots (21) and of the pins (14), in the zone in which these project under the lower face (16) of the receiving plate (11), are each time threaded, two captive washers (19.1, 19.2; - par le fait que chaque rondelle (22.1, 22.2) disposée sur un pivot (21) n'est reliée qu'avec une seule rondelle (19.1, 19.2) disposée sur une broche (14), étant précisé que - les deux tringles de liaison (17) qui partent de chacun des pivots (21) sont reliées avec des rondelles (19.1, 19.2) disposées sur des broches différentes (14). - by the fact that each washer (22.1, 22.2) disposed on a pivot (21) is connected only with a single washer (19.1, 19.2) disposed on a pin (14), it being specified that - the two rods of link (17) which start from each of the pivots (21) are connected with washers (19.1, 19.2) arranged on different pins (14). 22.1, 22.2) disposées avec liberté de rotation autour de l'axe longitudinal des pivots (21) et des broches (14), et 22.1, 22.2) arranged with freedom of rotation around the longitudinal axis of the pivots (21) and the pins (14), and 2. Plateau centrifugeur selon la revendication 1,  2. Centrifuge plate according to claim 1, caractérisé characterized par le fait que l'on peut échanger les masses centrifuges (23). by the fact that it is possible to exchange the centrifugal masses (23). 3. Plateau centrifugeur selon l'une des revendications précédentes, 3. centrifuge plate according to one of the preceding claims, caractérisé characterized par le fait que l'on peut échanger les mors de bridage (13). by the fact that it is possible to exchange the clamping jaws (13). par le fait que chaque mors de bridage (13) présente au moins un évidement (18.1, 18.2) qui correspond au contour latéral de la plaquette de substrat (12) aux points contre lesquels le mors de bridage (13) pousse lors de la rotation du plateau récepteur (11). by the fact that each clamping jaw (13) has at least one recess (18.1, 18.2) which corresponds to the lateral contour of the substrate board (12) at the points against which the clamping jaw (13) pushes during rotation of the receiver plate (11). caractérisé characterized 4. Plateau centrifugeur selon l'une des revendications précédentes, 4. centrifuge plate according to one of the preceding claims, 5. Plateau centrifugeur selon l'une des revendications précédentes, 5. centrifuge plate according to one of the preceding claims, caractérisé characterized par le fait que les surfaces des mors de bridage (13), qui, lors de la rotation du plateau récepteur (11), poussent contre la plaquette de substrat (12), sont munies d'une couche antiglissement.  by the fact that the surfaces of the clamping jaws (13), which, when the receiving plate (11) rotates, push against the substrate plate (12), are provided with an anti-slip layer.
FR9302813A 1992-03-12 1993-03-11 Centrifuge tray for treating, preferably coating, substrate boards Pending FR2688425A1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE9203320U DE9203320U1 (en) 1992-03-12 1992-03-12 Centrifugal disc for processing, preferably coating, substrate plates

Publications (1)

Publication Number Publication Date
FR2688425A1 true FR2688425A1 (en) 1993-09-17

Family

ID=6877176

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR9302813A Pending FR2688425A1 (en) 1992-03-12 1993-03-11 Centrifuge tray for treating, preferably coating, substrate boards

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE9203320U1 (en)
FR (1) FR2688425A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105107657A (en) * 2015-08-17 2015-12-02 芜湖市金建胶合板厂 Paint spraying equipment for upper end surface of circular plate
CN105268577A (en) * 2015-10-27 2016-01-27 芜湖市泰能电热器具有限公司 Braking spiral paint spraying equipment

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2218165A (en) * 1936-09-29 1940-10-15 Arthur H Gaebel Apparatus for preparing photoengraving plates
DE1139018B (en) * 1960-10-12 1962-10-31 Reprotechnik Leipzig Veb Device for clamping printing or etching plates in a centrifugal device for applying photosensitive layers
SU665951A1 (en) * 1977-11-09 1979-06-05 Предприятие П/Я Р-6707 Apparatus for applying photoresist layer onto plates
US4677758A (en) * 1985-10-08 1987-07-07 Seiichiro Aigo Spin drier for semiconductor material
US4875434A (en) * 1987-04-02 1989-10-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for coating a substrate with a coating material

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2218165A (en) * 1936-09-29 1940-10-15 Arthur H Gaebel Apparatus for preparing photoengraving plates
DE1139018B (en) * 1960-10-12 1962-10-31 Reprotechnik Leipzig Veb Device for clamping printing or etching plates in a centrifugal device for applying photosensitive layers
SU665951A1 (en) * 1977-11-09 1979-06-05 Предприятие П/Я Р-6707 Apparatus for applying photoresist layer onto plates
US4677758A (en) * 1985-10-08 1987-07-07 Seiichiro Aigo Spin drier for semiconductor material
US4875434A (en) * 1987-04-02 1989-10-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for coating a substrate with a coating material

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Week 8007, Derwent World Patents Index; AN 80-12382C *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105107657A (en) * 2015-08-17 2015-12-02 芜湖市金建胶合板厂 Paint spraying equipment for upper end surface of circular plate
CN105268577A (en) * 2015-10-27 2016-01-27 芜湖市泰能电热器具有限公司 Braking spiral paint spraying equipment
CN105268577B (en) * 2015-10-27 2017-09-12 广州贝铂涂料有限公司 A kind of clamp screw formula paint spraying apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
DE9203320U1 (en) 1992-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0366506B1 (en) Device for abrasive machining of cylindrical bearing surfaces of workpieces, in particular for belt grinding of crankshaft journals and pins
EP0035963A1 (en) Apparatus for sawing disk-like material
CH691045A5 (en) A method for the orientation of several crystalline parts placed side by side on a cutting support for a simultaneous cutting in a cutting machine and device for
FR2880570A1 (en) CHEMICAL-PHYSICAL POLISHING BUFFER HAVING RADIALLY ALTERNATE GROOVE GROOVE SEGMENT CONFIGURATION
FR2538597A1 (en) DISC LOADING DEVICE
EP1078391A1 (en) Method and device for changing a semiconductor wafer position
FR2606498A1 (en) METHOD AND APPARATUS FOR DRYING WAFERS BY CENTRIFUGATION
FR3061487A1 (en) MODULE FOR SUPPLYING A DEVICE FOR TRANSFER OR TRANSPORT, IN PARTICULAR PHARMACEUTICAL TABLETS
FR2688425A1 (en) Centrifuge tray for treating, preferably coating, substrate boards
FR2567057A1 (en) APPARATUS FOR GRINDING GLASS PLATES
FR2571645A1 (en) APPARATUS FOR GRINDING GLASS PLATES
EP0334709B1 (en) Apparatus for selective tin-plating of the conductors of a high density integrated support and a tin-plating process utilizing such an apparatus
WO1999058433A1 (en) Mechanism for automatically directing and dispensing parts
EP0589771A1 (en) Chip cards manufacturing device
FR2715263A1 (en) Chip components from guide plate to holding plate pushing appts
FR2531889A1 (en) DEVICE FOR TIGHTENING A SAW BLADE IN A MACHINE FOR FORMING SAWS
FR2624839A1 (en) APPARATUS FOR HORIZONTAL TRANSFER OF SILICON WAFERS IN PARTICULAR
FR2466832A1 (en) TRANSDUCER-REPORTER ASSEMBLY FOR A DOUBLE-SIDED SOFT DISK
EP1129748B1 (en) Ski treatment machine with lateral driving device
EP0506533A1 (en) Sawing apparatus
EP0488901B1 (en) Machine for driving stoppers into containers
FR2473986A1 (en) INSTALLATION FOR MODIFYING THE DEPARTMENT OF ARTICLES DISPOSED OF FILE, IN PARTICULAR OF CONFECTIONERY ARTICLES TO BE PACKED OR PACKED
FR2639194A1 (en) Machine for separating the offsets (cloves) of bulbs
FR2675786A1 (en) Device for pivoting panels or similar square or rectangular articles passing by in a manufacturing line
CH383879A (en) Bottle handling device