ES2713654T3

ES2713654T3 - Hoja de vidrio recubierta termotratable

Info

Publication number: ES2713654T3
Application number: ES14781650T
Authority: ES
Inventors: Axel Nöthe; Thomas Paul
Original assignee: Pilkington Group Ltd
Current assignee: Pilkington Group Ltd
Priority date: 2013-10-07
Filing date: 2014-10-06
Publication date: 2019-05-23
Anticipated expiration: 2034-10-06
Also published as: TR201903254T4; US20160257611A1; JP2016534960A; GB2518899A; WO2015052494A1; US9981873B2; EP3055264B1; JP6588894B2; CN114620951A; EP3055264A1; GB201317687D0; CN105636919A

Abstract

Una hoja de vidrio recubierta incluyendo al menos las capas siguientes en secuencia: un sustrato de vidrio; una capa antirreflexión inferior incluyendo una o varias de las capas siguientes: una capa dieléctrica base a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones; y/o un óxido de Ti; y/o un óxido de Zr; una capa dieléctrica a base de un óxido metálico, tal como un óxido de Zn y Sn, un óxido de Sn, y/o un óxido de Nb; y una capa dieléctrica superior a base de un óxido de Zn, y una capa funcional a base de plata; y al menos una capa antirreflexión adicional; donde la capa antirreflexión adicional incluye al menos las capas siguientes en secuencia: al menos una capa barrera a base de NiCr, Nb, Ti, Zr, Zn, Sn, In y/o Cr y/o sus óxidos y/o nitruros; al menos una capa de absorción a base de nitruro de tungsteno situada en contacto directo con la capa barrera; y al menos una capa dieléctrica superyacente situada en contacto directo con la capa de absorción, y donde la al menos única capa dieléctrica superyacente incluye: una capa dieléctrica a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones; y/o una capa dieléctrica a base de un óxido metálico tal como un óxido de uno o varios de Ti, Zr, Zn, Sn, In y/o Nb, tal como un óxido de Zn y Sn; y donde cuando la capa dieléctrica superyacente es a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones, la capa barrera que está en contacto directo con la al menos única capa de absorción no es a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones.

Description

d e s c r ip c io n

Hoja de vidrio recubierta termotratable

La invencion se refiere a hojas de vidrio recubiertas termotratables con un recubrimiento de control solar. La invencion tambien se refiere a acristalamientos multiples que incorporan dichas hojas.

Las hojas de vidrio termotratadas que se templan para impartirles propiedades de seguridad y/o se curvan, son necesarias en gran numero de ambitos de aplicacion, por ejemplo, para acristalamientos arquitectonicos ^o de vehnculos de motor. E^s conocido que, para templar termicamente y/o curvar hojas de vidrio, hay que procesar las hojas de vidrio mediante un tratamiento termico a temperaturas proximas ^o superiores al punto de ablandamiento del vidrio usado y luego templarlas por enfriamiento rapido ^o curvarlas con la ayuda de medios de curvado. El rango de temperatura relevante para vidrio flotante estandar del tipo de soda cal sflice es tipicamente de aproximadamente 580-690°C, manteniendose las hojas de vidrio a dicho rango de temperatura durante varios minutos antes de iniciar el proceso real de temple y/o curvado.

"Termotratamiento", "termotratado" y "termotratable" en la descripcion siguiente y en las reivindicaciones se refieren a procesos termicos de curvado y/o temple como los mencionados anteriormente y a otros procesos termicos durante los que una hoja de vidrio recubierta llega a temperaturas del rango de aproximadamente 580-690°C durante un penodo de varios minutos, por ejemplo, de hasta aproximadamente 10 minutos. Se considera que una hoja de vidrio recubierta es termotratable si sobrevive a un tratamiento termico sin dano significativo, siendo los danos tfpicos producidos por tratamientos termicos altos valores de enturbiamiento, picaduras ^o puntos.

E^s deseable poder fabricar un rango de hojas de vidrio recubiertas con una variedad de valores de transmision de luz y/o calor con el fin de satisfacer necesidades concretas. Un acercamiento para alcanzar este objetivo es usar una pila ^o plataforma multicapa comun para cada uno de los diferentes tipos de producto (por ejemplo, baja emisividad y control solar, y productos tanto termotratables como no termotratables) y luego sintonizar las propiedades opticas de la pila anadiendo grosores diferentes de al menos una capa de absorcion a cada una de las pilas.

En el contexto de la presente invencion, donde se dice que una capa es una "capa de absorcion" quiere decirse que la capa tiene absorcion mensurable dentro del espectro de ene^a solar, incluyendo, aunque sin limitacion, la parte visible del espectro. Por lo tanto, tal capa de absorcion puede cumplir la finalidad general de controlar (reducir) la transmision de energfa solar a traves de hojas de vidrio recubiertas.

Algunas capas de absorcion son conocidas en la tecnica anterior. Por ejemplo, EP 0718250 A2 describe una pila de recubrimiento con una capa metalica protectora (por ejemplo, Nb, Ta, Ti, Cr, Ni, NbTa, TaCr ^o NiCr) situada directamente encima de una capa metalica funcional tal como plata. El grosor de la capa protectora metalica puede ser modificado para regular la transmision de I^uz.

WO 2008/075107 A l describe el ^uso de capas barrera de nitruro de tungsteno como capas de absorcion, preferiblemente tanto directamente encima como debajo de una capa funcional a base de plata. Para lograr una funcion suficiente de barrera y control solar, las capas barrera incluyendo nitruro de tungsteno W N ^x(^x < 1) deberan tener un grosor de al menos aproximadamente 2 nm. El hecho de que la capa barrera debe tener un grosor mmimo (para que la capa barrera proteja adecuadamente la capa a base de plata contra el plasma reactivo durante el recubrimiento reactivo de las capas dielectricas posteriores) significa que el grosor de la capa de nitruro de tungsteno es restringido, de tal manera que no hay plena libertad con respecto a las propiedades opticas que pueden lograrse. Ademas, se hallo que la adhesion de capas barrera a base de nitruro de tungsteno a una capa a base de plata es menor que la adhesion de otras capas barrera. La baja adhesion entre capas individuales de una pila de recubrimiento puede dar lugar a deslaminacion de la pila de recubrimiento, por ejemplo, durante I^os tratamientos termicos.

WO 2009/067263 A l describe recubrimientos con al menos dos capas de plata que pueden estar protegidas con capas barrera de absorcion. Las capas barrera de absorcion pueden seleccionarse de un amplio rango de materiales, aunque se prefiere NiCr. Las capas de absorcion a base de NiCr tienden a oxidarse durante I^os tratamientos termicos y por ello cambiar ^sus propiedades opticas de forma significativa.

WO 2009/001143 A l describe hojas de vidrio recubiertas donde una capa de absorcion esta embebida en una capa de (oxi)nitruro de Al que es parte de una capa antirreflexion de una pila de baja emisividad y/o recubrimiento de control solar. La capa de absorcion puede incluir un metal ^o un nitruro metalico, preferiblemente NiCr, tungsteno ^{o sus} nitruros. Tal disposicion incrementa la complejidad de la pila.

Sena deseable proporcionar un recubrimiento de control solar que incorpore al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno que sea termicamente estable al tratamiento termico de tal manera que las propiedades opticas no cambien, que permita mayor flexibilidad con respecto a las propiedades opticas que puedan lograrse, y que permita capas barrera con mejor adhesion a capas a base de plata, sin necesidad de embeber la capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno en una capa protectora, por ejemplo, de un (oxi)nitruro de Al y/o Si.

Segun un primer aspecto de la presente invencion se facilita una hoja de vidrio recubierta como la definida en la reivindicacion 1.

La presente invencion proporciona hojas de vidrio recubiertas multicapa que incluyen una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno que permite sintonizar finamente las propiedades opticas, tales como transmitancia de ene^a solar y/o Iuz, de las hojas segun el grosor de la capa de absorcion. La disposicion de la presente invencion permite alta absorcion de energfa solar y/o Iuz incluso cuando se usan capas de absorcion relativamente finas. Las hojas de la presente invencion pueden exhibir bajo enturbiamiento y colores transmitidos o reflejados estables, en particular relativamente neutros, antes y despues del tratamiento termico (la prueba consistfa en calentar una muestra de 6 mm de grosor a 610°C durante 5 minutos). De hecho, las propiedades opticas generales pueden experimentar cambios mmimos durante el tratamiento de calor, Io que es ventajoso desde la perspectiva de la fabricacion. Dichas hojas de vidrio recubiertas pueden exhibir en particular modificaciones del color de reflexion producidas por un tratamiento termico tan pequenas que las hojas de vidrio recubiertas termotratadas o no termotratadas pueden acristalarse adyacentes una a otra sin una diferencia de color de reflexion significativamente superior a las inevitables tolerancias de produccion de hojas de vidrio recubiertas. Se hallo inesperadamente que estos beneficios pueden lograrse sin tener que embeber la capa de absorcion en una capa protectora de (oxi)nitruro de Al y/o Si, es decir, la capa de nitruro de tungsteno puede estar en contacto con una capa oxidada, como NiCrOx, y todavfa tener propiedades opticas estables durante un tratamiento termico. Ademas, la disposicion particular de la presente invencion permite mayor flexibilidad con respecto a las propiedades opticas (por ejemplo, las caractensticas de color) que pueden lograrse, y permite el uso de capas barrera con mejor adhesion a capas a base de plata que el nitruro de tungsteno proporcionando una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno ademas de al menos una capa barrera de tal manera que este espaciada de una capa funcional subyacente a base de plata por tal(es) capa(s) barrera.

Al menos una capa barrera se basa en NiCr, Nb, Ti, Zr, Zn, Sn, In y/o Cr y/o ^susoxidos y/o nitruros.

La al menos unica capa barrera situada en una capa antirreflexion dada puede tener preferiblemente un grosor total de al menos 0,5 nm, mas preferiblemente al menos 1 nm, incluso mas preferiblemente al menos 3 nm, muy preferiblemente al menos 5 nm; pero preferiblemente a Io sumo 12 nm, mas preferiblemente a Io sumo 10 nm, incluso mas preferiblemente a I^osumo 8 nm, muy preferiblemente a I^osumo 7 nm. Estos grosores preferidos permiten una mayor facilidad de deposicion y mejora de las caractensticas opticas, tales como enturbiamiento, reteniendo al mismo tiempo la durabilidad mecanica. Aunque la al menos unica capa barrera esta situada en una capa antirreflexion, se prefiere que dicha capa barrera tenga un grosor total que sea suficientemente fino de modo que dicha capa barrera no contribuya de forma significativa a las propiedades antirreflectoras de dicha capa antirreflexion.

Preferiblemente, dicha capa barrera subyacente es una capa barrera superior subyacente. En el contexto de la presente invencion, el uso del termino "superior" en relacion a las capas barrera indica la capa barrera concreta de una capa antirreflexion dada que esta situada mas alejada del sustrato de vidrio.

Preferiblemente, al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en contacto directo tanto con una capa barrera superior subyacente como con una capa dielectrica superyacente. Esta disposicion es beneficiosa en terminos de exhibir el enturbiamiento mas bajo y tiene el potencial de lograr I^oscolores transmitidos ^oreflejados muy neutros antes y despues del tratamiento termico.

Otra capa antirreflexion que esta situada mas lejos del sustrato de vidrio puede denominarse "capa antirreflexion superior". Preferiblemente al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en la capa antirreflexion superior. Esta posicion es ventajosa porque minimiza la influencia de la capa de absorcion en el color de reflexion de lado de vidrio percibido por un observador, de tal manera que, aunque las caractensticas de transmision de I^uzy/o energfa de una pila de recubrimiento dada se vanen modificando el grosor de la capa de absorcion, la hoja puede exhibir casi el mismo aspecto. Ademas, esta posicion proporciona mayor flexibilidad con respecto a las propiedades opticas que pueden lograrse en comparacion con la colocacion de una capa de absorcion en otras capas antirreflexion.

En algunas realizaciones, la hoja incluye solamente una capa funcional a base de plata. En estas realizaciones, la unica capa antirreflexion adicional es la capa antirreflexion superior.

En otras realizaciones, la hoja incluye mas de una capa funcional a base de plata. Por ejemplo, la hoja puede incluir dos, tres o mas capas funcionales a base de plata. Cuando la hoja incluye mas de una capa funcional a base de plata, cada capa funcional a base de plata esta espaciada de una capa funcional adyacente a base de plata por una capa antirreflexion central formando un filtro de interferencia Fabry-Perot, por Io que las propiedades opticas del recubrimiento de control solar pueden optimizarse mas para la aplicacion respectiva, como es conocido en la tecnica.

En realizaciones donde la hoja incluye mas de una capa funcional a base de plata, la al menos unica capa antirreflexion adicional puede ser funcionalmente una capa antirreflexion central y/o una capa antirreflexion superior como se ha definido anteriormente. As ^ la al menos unica capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno puede estar situada en la capa antirreflexion superior y/o en al menos una capa antirreflexion central de un recubrimiento incluyendo mas de una capa funcional a base de plata.

Cada capa de absorcion puede tener preferiblemente un grosor de al menos 0,5 nm, mas preferiblemente al menos 1 nm, incluso mas preferiblemente al menos 2 nm, muy preferiblemente al menos 3 nm; pero preferiblemente a lo sumo 25 nm, mas preferiblemente a lo sumo 15 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 8 nm, muy preferiblemente a lo sumo 5 nm.

Cada capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno se deposita preferiblemente como un nitruro esencialmente estequiometrico, por ejemplo, suministrando suficiente nitrogeno al pulverizar capas de absorcion de nitruro de tungsteno desde blancos de tungsteno. Sin embargo, la invencion no se limita a tales capas de nitruro de tungsteno esencialmente estequiometrico.

La capa antirreflexion inferior incluye una o varias de las capas siguientes:

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones;

una capa dielectrica a base de un oxido de Ti y/o de un oxido de Zr;

una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn, un oxido de Sn, y/o un oxido de Nb; una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn.

Preferiblemente, la capa antirreflexion inferior incluye al menos, en secuencia desde el sustrato de vidrio,

* una capa dielectrica base a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones; y/o un oxido de Ti; y/o un oxido de Zr;

* una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn, un oxido de Sn, y/o un oxido de Nb; y

* una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn.

La capa antirreflexion inferior puede constar de las tres capas en secuencia como se ha expuesto anteriormente. En algunas realizaciones, la capa antirreflexion inferior incluye al menos, en secuencia desde el sustrato de vidrio, * una capa dielectrica base a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones; y/o un oxido de Ti; y/o un oxido de Zr;

* una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn.

La capa dielectrica base es la parte inferior de la capa antirreflexion inferior adyacente al sustrato de vidrio. Puede tener un grosor de al menos 5 nm, preferiblemente de 5 a 60 nm, mas preferiblemente de 10 a 50 nm, incluso mas preferiblemente de 20 a 45 nm, muy preferiblemente de 20 a 35 nm. La capa dielectrica base puede incluir mas de una capa. La capa dielectrica base puede servir como una barrera de difusion de lado de vidrio entre otros usos. El termino "(oxi)nitruro de Si" abarca tanto nitruro de Si (SiNx) como oxinitruro de Si (SiOxNy) mientras que el termino "(oxi)nitruro de Al" abarca tanto nitruro de Al (AINx) como oxinitruro de Al (AlOxNy). Las capas de nitruro de Si, oxinitruro de Si, nitruro de Al y oxinitruro de Al son preferiblemente esencialmente estequiometricas (por ejemplo, nitruro de Si = Si ³ N ⁴ , x = 1,33; nitruro de Al = AlN, x = 1), pero tambien pueden ser subestequioometricas o incluso superestequiometricas, a condicion de que la termotratabilidad del recubrimiento no quede afectada negativamente por ello. En una realizacion preferida, la capa base de la capa antirreflexion inferior incluye o consta de una capa de un nitruro mezclado esencialmente estequiometrico SigoAhoNx.

Las capas de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones pueden pulverizarse reactivamente desde blancos a base de Si y/o Al respectivamente en una atmosfera de pulverizacion conteniendo nitrogeno y argon. Un contenido de oxfgeno de la capa base a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o sus aleaciones puede deberse a oxfgeno residual en la atmosfera de pulverizacion o a un contenido controlado de oxfgeno anadido en dicha atmosfera. Se prefiere por lo general que el contenido de oxfgeno del (oxi)nitruro de Si y/o (oxi)nitruro de Al sea significativamente inferior a su contenido de nitrogeno, es dedr, si la relacion atomica O/N en la capa se mantiene significativamente por debajo de 1. E^smuy preferible usar nitruro de Si y/o nitruro de Al con un contenido despreciable de ox^geno para la capa base de la capa antirreflexion inferior. Esta caractenstica puede ser controlada asegurando que el mdice de refraccion de la capa no difiera significativamente del mdice de refraccion de una capa de nitruro de Si y/o nitruro de Al libre de oxfgeno.

Cae dentro del alcance de la invencion usar blancos de Si y/o Al mezclados o anadir de otro modo metales o semiconductores al componente de Si y/o Al de dicha capa a condicion de que no se pierda la propiedad esencial de barrera y proteccion de la capa base de la capa antirreflexion inferior. E^sconocido y establecido mezclar blancos de Al con Si, no excluyendose otros blancos mezclados. Puede haber tipicamente componentes adicionales en cantidades de hasta aproximadamente 10-15% en peso. Al esta generalmente presente en blancos de Si mezclados en una cantidad de aproximadamente 10% en peso.

La capa dielectrica base de la capa antirreflexion inferior puede incluir alternativa o adicionalmente al menos una capa a base de TiOx y/o ZrOx donde ^xes de 1,5 a 2,0.

La capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn, un oxido de Sn, y/o un oxido de Nb, de la capa antirreflexion inferior esta situada sobre la capa base. Sirve para mejorar la estabilidad durante un tratamiento termico proporcionando una capa densa y termicamente estable y contribuyendo a reducir el enturbiamiento despues de un tratamiento termico. La capa dielectrica a base de un oxido metalico puede tener un grosor de al menos 0,5 nm, preferiblemente de 0,5 a 10 nm, mas preferiblemente de 0,5 a 9 nm, incluso mas preferiblemente de 1 a 8 nm, incluso mas preferiblemente de 1 a 7 nm, incluso mas preferiblemente de 2 a 6 nm, incluso mas preferiblemente de 3 a 6 nm, muy preferiblemente de 3 a 5 nm. Se prefiere un Ifmite de grosor superior de aproximadamente 8 nm debido a las condiciones de interferencia optica y por una reduccion de la termotratabilidad debido a la reduccion resultante del grosor de la capa dielectrica base que sena necesario para mantener las condiciones Ifmite de interferencia optica para la antirreflexion de la capa funcional.

La capa dielectrica a base de un oxido metalico esta situada preferiblemente directamente sobre una capa dielectrica base a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o ^susaleaciones.

Si la capa dielectrica a base de un oxido metalico se basa en un oxido de Zn y Sn (abreviatura: ZnSnOx), incluye preferiblemente aproximadamente 10-90% en peso de Zn y 90-10% en peso de Sn, mas preferiblemente aproximadamente 40-60% en peso de Zn y aproximadamente 40-60% en peso de Sn, preferiblemente aproximadamente 50% en peso de cada uno de Zn y Sn, en % en peso de su contenido metalico total. Una capa a base de un oxido de Zn y Sn puede depositarse por pulverizacion reactiva de un bianco de ZnSn mezclado en la presencia de O2.

La capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn de la capa antirreflexion inferior funciona primariamente como una capa de promocion de crecimiento para una capa funcional a base de plata depositada posteriormente. La capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn se mezcla opcionalmente con metales tales como Al, Sn, 0 Ga en una cantidad de hasta aproximadamente 10% en peso (% en peso con referenda al contenido de metal deseado). Un contenido tfpico de dichos metales tales como Al, Sn 0 Ga es de aproximadamente 2% en peso, prefiriendose realmente Al. En otras realizaciones preferidas, la capa superior a base de un oxido de Zn puede incluir a lo sumo 18% en peso de Sn, mas preferiblemente a lo sumo 15% en peso de Sn, incluso mas preferiblemente a lo sumo 10% en peso de Sn. Los oxidos de ZnO y Zn mezclados han demostrado ser muy efectivos como una capa de promocion de crecimiento que ayuda a lograr una baja resistencia de la hoja a un grosor dado de la capa funcional a base de plata depositado posteriormente. Es preferible que la capa dielectrica superior de la capa antirreflexion inferior sea pulverizada reactivamente desde un bianco de Zn en presencia de O20 que se deposite pulverizando un bianco ceramico, por ejemplo, a base de ZnO:AI, en una atmosfera no conteniendo 0 conteniendo solamente una cantidad baja, por lo general de no mas de aproximadamente 5% en volumen, de oxfgeno. La capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn puede tener un grosor de al menos 2 nm, preferiblemente de 2 a 20 nm, mas preferiblemente de 4 a 15 nm, incluso mas preferiblemente de 5 a 13 nm, incluso mas preferiblemente de 5 a 11 nm. La(s) capa(s) funcional(es) a base de plata puede(n) constar esencialmente de plata sin ningun aditivo, como es normalmente el caso en el ambito de los recubrimientos de baja emisividad y/o control solar. Sin embargo, cae dentro del alcance de la invencion modificar las propiedades de la(s) capa(s) funcional(es) a base de plata anadiendo agentes dopantes, aditivos de aleacion 0 analogos 0 incluso anadiendo capas muy finas metal 0 compuesto de metal, a condicion de que las propiedades de la(s) capa(s) funcional(es) a base de plata necesaria(s) para ^sufuncion como capa(s) reflectoras de IR de alta transmision de luz y absorcion de luz no se deterioren sustancialmente por ello.

El grosor de una capa funcional a base de plata esta dominado por su finalidad tecnica. Para fines tfpicos de control solar, el grosor de capa preferido para una sola capa a base de plata es de 5 a 20 nm, mas preferiblemente de 5 a 15 nm, incluso mas preferiblemente de 5 a 12 nm, incluso mas preferiblemente de 7 a 11 nm, muy preferiblemente de 8 a 10 nm. Con dicho grosor de capa, pueden lograrse facilmente valores de transmitancia de luz superiores a 86% y una emisividad normal inferior a 0,05 despues de un tratamiento termico con recubrimientos incluyendo una sola capa funcional a base de plata. Si se desean mejores propiedades de control solar, el grosor de la capa funclonal a base de plata puede incrementar adecuadamente ^o se pueden disponer varias capas funcionales a base de plata espaciadas.

Cuando la hoja incluye dos capas funcionales a base de plata, la capa funcional a base de plata situada mas alejada del sustrato de vidrio puede tener preferiblemente un grosor de 5 a 25 nm, mas preferiblemente de 10 a 21 nm, incluso mas preferiblemente de 13 a 19 nm, incluso mas preferiblemente de 14 a l8 nm, muy preferiblemente de 15 a 18 nm.

Cuando la hoja incluye tres capas funcionales a base de plata, las dos capas funcionales a base de plata situadas mas alejadas del sustrato de vidrio pueden tener independientemente preferiblemente un grosor de 5 a 25 nm, mas preferiblemente de 10 a 21 nm, incluso mas preferiblemente de 13 a l9 nm, incluso mas preferiblemente de 14 a 18 nm, muy preferiblemente de 15 a 18 nm.

Preferiblemente, la capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn en la capa antirreflexion inferior esta en contacto directo con la capa funcional a base de plata depositada posteriormente.

Una capa antirreflexion central puede incluir al menos una combinacion de una ^o varias de las capas siguientes: al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti;

una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn, un oxido de Sn, y/o un oxido de Nb; y

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

En algunas realizaciones preferidas, cada capa funcional a base de plata esta espaciada de una capa funcional adyacente a base de plata por una capa antirreflexion central,

donde cada capa antirreflexion central incluye al menos,

en secuencia desde la capa funcional a base de plata que esta situada mas proxima al sustrato de vidrio de las capas funcionales a base de plata entre las que esta situada la capa antirreflexion central,

al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti;

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr,

una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn; y una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn.

Una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno puede estar situada en dicha capa antirreflexion central segun el parrafo anterior, por ejemplo, puede estar situada entre la al menos unica capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr. Cuando una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en dicha capa antirreflexion central, preferiblemente dicha capa de absorcion esta situada entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

En otras realizaciones preferidas, cada capa funcional a base de plata esta espaciada de una capa funcional adyacente a base de plata por una capa antirreflexion central,

donde cada capa antirreflexion central incluye al menos,

al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

opcionalmente, al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti;

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitmro de Si, y/o un (oxi)nitmro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr,

una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn; y

una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn.

Una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno puede estar situada en dicha capa antirreflexion central segun el parrafo anterior, por ejemplo, puede estar situada entre la al menos unica capa barrera a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr. Cuando una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en dicha capa antirreflexion central segun el parrafo anterior, preferiblemente la al menos unica capa barrera opcional a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti no esta presente. Preferiblemente, dicha capa de absorcion esta situada entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr. Se ha establecido que, inesperadamente, la capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti no es necesaria cuando hay una capa de absorcion. Cuando la al menos unica capa barrera opcional a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno estan presentes en dicha capa antirreflexion central segun el parrafo anterior, preferiblemente la capa de absorcion esta situada entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

La al menos unica capa barrera a base de un oxido de NiCr puede tener preferiblemente un grosor de al menos 0,3 nm, mas preferiblemente al menos 0,4 nm, incluso mas preferiblemente al menos 0,5 nm, muy preferiblemente al menos 0,6 nm; pero preferiblemente a lo sumo 10 nm, mas preferiblemente a lo sumo 5 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 2 nm, muy preferiblemente a lo sumo 1 nm. Estos grosores preferidos permiten una facilidad adicional de deposicion y mejora de las caractensticas opticas, tales como enturbiamiento, conservando al mismo tiempo la durabilidad mecanica.

La al menos unica capa barrera opcional a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti de una capa antirreflexion central puede tener independientemente preferiblemente un grosor de al menos 1 nm, mas preferiblemente al menos 2 nm, incluso mas preferiblemente al menos 3 nm, muy preferiblemente al menos 4 nm; pero preferiblemente a lo sumo 10 nm, mas preferiblemente a lo sumo 7 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 6 nm, muy preferiblemente a lo sumo 5 nm. Estos grosores preferidos permiten una facilidad adicional de deposicion y mejora de las caractensticas opticas, tales como enturbiamiento, conservando al mismo tiempo la durabilidad mecanica. En el contexto de la presente invencion, las capas barrera tienen la finalidad primaria de proteger una capa funcional a base de plata subyacente contra el dano durante el proceso de deposicion de capas posteriores y durante los tratamientos termicos. Tambien sirven para proporcionar adhesion entre las capas funcionales a base de plata y las capas posteriores, tales como capas dielectricas ^o capas de absorcion. Haciendolas lo mas finas que sea posible, dependiendo de los materiales elegidos, estan disenadas para no contribuir de forma significativa a la funcion de antirreflexion de las capas antirreflexion. Por el contrario, las capas dielectricas segun la invencion tienen como ^su funcion primaria antirreflejar la(s) capa(s) funcional(es) a base de plata en base a la interferencia optica; por lo tanto, hay que darles un grosor significativamente mayor que a las capas barrera.

Se ha hallado en general que se puede lograr una excelente proteccion de la(s) capa(s) funcional(es) a base de plata durante el proceso de deposicion y una alta estabilidad optica durante un tratamiento termico si una capa barrera incluye una capa de un oxido metalico mezclado pulverizado a partir de un bianco de oxido metalico mezclado. Cuando una capa barrera se basa en un oxido de Zn, dicho oxido puede ser un oxido metalico mezclado tal como ZnO:Al. Se logran buenos resultados en especial si se pulveriza una capa barrera a base de ZnO:Al a partir de un bianco de ZnO:Al conductor. Puede depositarse ZnO:Ai completamente oxidado ^o de tal manera que sea ligeramente suboxfdico. Preferiblemente, la capa barrera de ZnO:Al es esencialmente estequiometrica. El ^uso de capas barrera de ZnO:Al esencialmente estequiometricas mas bien que capas barrera metalicas ^o de ZnO:Al menos de 95% estequiometricas da lugar a una estabilidad optica sumamente alta del recubrimiento durante un tratamiento termico y ayuda efectivamente a mantener pequenas las modificaciones opticas durante un tratamiento de calor. Ademas, el ^uso de capas barrera a base de oxidos metalicos esencialmente estequiometricos proporciona beneficios en terminos de robustez mecanica.

Cuando una capa barrera se basa en un oxido de NiCr, se deposita preferiblemente como un oxido subestequiometrico. Esto permite que la capa actue como un depurador/absorbedor de oxfgeno durante un tratamiento termico.

Al menos una porcion de una capa barrera que esta en contacto directo con una capa funcional a base de plata se deposita preferiblemente usando pulverizacion no reactiva de un bianco oxfdico para evitar el dano de la plata.

Preferiblemente, las capas barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti se depositan por pulverizacion no reactiva. En el caso de capas barrera oxfdicas, se pulverizan preferiblemente a partir de blancos ceramicos. En el contexto de la presente invencion, el termino "pulverizacion no reactiva" incluye pulverizar un bianco oxfdico en una atmosfera de ox^geno baja (no ^o hasta 5% en volumen de oxfgeno) para obtener un oxido esencialmente estequiometrico.

Donde una capa barrera se basa en TiOx, ^x puede ser de 1,5 a 2,0.

La descripcion general precedente con relacion a capas barrera se aplica tambien a capas barrera de las capas antirreflexion superiores, como se explica mejor mas adelante.

La capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn de una capa antirreflexion central puede tener preferiblemente un grosor de al menos 2 nm, mas preferiblemente al menos 5 nm, incluso mas preferiblemente al menos 8 nm, muy preferiblemente al menos 10 nm; pero preferiblemente a lo sumo 40 nm, mas preferiblemente a lo sumo 30 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 20 nm, muy preferiblemente a lo sumo 15 nm.

La capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr de una capa antirreflexion central puede tener preferiblemente un grosor de al menos 10 nm, mas preferiblemente al menos 30 nm, incluso mas preferiblemente al menos 40 nm, muy preferiblemente al menos 50 nm; pero preferiblemente a lo sumo 80 nm, mas preferiblemente a lo sumo 70 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 60 nm, muy preferiblemente a lo sumo 55 nm.

La capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn de una capa antirreflexion central puede tener preferiblemente un grosor de al menos 2 nm, mas preferiblemente al menos 7 nm, incluso mas preferiblemente al menos 12 nm, muy preferiblemente al menos 15 nm; pero preferiblemente a lo sumo 25 nm, mas preferiblemente a lo sumo 20 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo l8 nm, muy preferiblemente a lo sumo 17 nm.

La capa antirreflexion superior puede incluir al menos una combinacion de una ^o varias de las capas siguientes: al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti;

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr; y

una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn.

En algunas realizaciones preferidas, la capa antirreflexion superior incluye al menos, en secuencia desde la capa funcional a base de plata que esta situada mas alejada del sustrato de vidrio,

al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti;

al menos una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr; y

Una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno puede estar situada en dicha capa antirreflexion superior segun el parrafo anterior, por ejemplo, puede estar situada entre la al menos unica capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr. Preferiblemente, dicha capa de absorcion esta situada entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

En otras realizaciones preferidas, la capa antirreflexion superior incluye al menos, en secuencia desde la capa funcional a base de plata que esta situada mas alejada del sustrato de vidrio,

al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr, y

Una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno puede estar situada en dicha capa antirreflexion superior segun el parrafo anterior, por ejemplo, puede estar situada entre la al menos unica capa barrera a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr. En tales casos, preferiblemente la al menos unica capa barrera opcional a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti no esta presente. Preferiblemente, dicha capa de absorcion esta situada entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr. Se ha establecido que, inesperadamente, una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti no es necesaria cuando una capa de absorcion esta presente. Cuando una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno estan presentes en dicha capa antirreflexion superior segun el parrafo anterior, preferiblemente la capa de absorcion esta situada entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti y/o Ti y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

Una capa barrera a base de un oxido de NiCr de la capa antirreflexion superior puede tener preferiblemente un grosor de al menos 0,3 nm, mas preferiblemente al menos 0,4 nm, incluso mas preferiblemente al menos 0,5 nm, muy preferiblemente al menos 0,6 nm; pero preferiblemente a lo sumo 10 nm, mas preferiblemente a lo sumo 5 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 2 nm, muy preferiblemente a lo sumo 1 nm. Estos grosores preferidos permiten la facilidad adicional de deposicion y la mejora de caractensticas opticas tales como el enturbiamiento, conservando al mismo tiempo la durabilidad mecanica.

Una capa barrera a base de un oxido de Zn y/o un oxido de Ti de la capa antirreflexion superior puede tener preferiblemente un grosor de al menos 1 nm, mas preferiblemente al menos 2 nm, incluso mas preferiblemente al menos 3 nm, muy preferiblemente al menos 4 nm; pero preferiblemente a lo sumo 10 nm, mas preferiblemente a lo sumo 7 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 6 nm, muy preferiblemente a lo sumo 5 nm. Estos grosores preferidos permiten ademas la facilidad de deposicion y la mejora de caractensticas opticas tales como el enturbiamiento, conservando al mismo tiempo la durabilidad mecanica.

La capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr de la capa antirreflexion superior puede tener preferiblemente un grosor de al menos 2 nm, mas preferiblemente al menos 5 nm, incluso mas preferiblemente al menos 10 nm, muy preferiblemente al menos 15 nm; pero preferiblemente a lo sumo 40 nm, mas preferiblemente a lo sumo 30 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 25 nm, muy preferiblemente a lo sumo 20 nm. Tales grosores tambien proporcionan una mejora en terminos de robustez mecanica de la hoja recubierta. Dicha capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr puede estar preferiblemente en contacto directo con la capa barrera superior de la capa antirreflexion superior cuando la capa antirreflexion superior no incluye una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno.

La capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr, que en algunos casos puede formar una parte principal de la capa antirreflexion superior, proporciona estabilidad (mejor proteccion durante los tratamientos termicos) y propiedades de barrera a la difusion. Dicha capa se deposita preferiblemente como una capa de nitruro de Al y/o nitruro de Si pulverizando reactivamente un bianco de Si, Al ^o SiAl mezclado, por ejemplo, de un bianco de SigoAlio en una atmosfera conteniendo N2. La composicion de la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Al y/o un (oxi)nitruro de Si puede ser SigoAlioNx esencialmente estequiometrico.

La capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn de la capa antirreflexion superior puede tener preferiblemente un grosor de al menos 1 nm, mas preferiblemente al menos 4 nm, incluso mas preferiblemente al menos 6 nm, muy preferiblemente al menos 8 nm; pero preferiblemente a lo sumo 20 nm, mas preferiblemente a lo sumo 15 nm, incluso mas preferiblemente a lo sumo 12 nm, muy preferiblemente a lo sumo 10 nm. Tales grosores tambien proporcionan una mejora en terminos de la robustez mecanica de la hoja recubierta. Cuando dicha capa es un oxido de Zn y Sn, incluye preferiblemente aproximadamente 10-90% en peso de Zn y 90-10% en peso de Sn, mas preferiblemente aproximadamente 40-60% en peso de Zn y aproximadamente 40-60% en peso de Sn, preferiblemente aproximadamente 50% en peso cada uno de Zn y Sn, en % en peso de ^su contenido metalico total. Dicha capa puede depositarse por pulverizacion reactiva de un bianco de ZnSn mezclado en la presencia de O2 y contribuye a las propiedades de antirreflexion de la capa antirreflexion superior.

La capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr de la capa antirreflexion superior puede estar en contacto directo con la capa dielectrica a base de un oxido metalico de la capa antirreflexion superior en el sentido en que se define aqm sin ninguna capa dielectrica adicional interviniente.

Preferiblemente, la capa dielectrica a base de un oxido metalico de la capa antirreflexion superior Incluye una capa a base de un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn.

La capa antirreflexion superior puede tener un grosor total de 20 a 60 nm, preferiblemente de 20 a 50 nm, mas preferiblemente de 20 a 40 nm, incluso mas preferiblemente de 25 a 35 nm.

Puede depositarse una capa protectora como una capa superior (capa exterior) de la capa antirreflexion superior para mayor robustez mecanica y/o qmmica, por ejemplo, resistencia al rayado. Dicha capa protectora puede incluir una capa a base de un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

Para reducir el aumento de transmitancia de luz durante un tratamiento de calor, todas las capas individuales de las capas antirreflexion superior, central e inferior, aparte de las capas barrera, son depositadas preferiblemente con una composicion esencialmente estequiometrica.

Para optimizar mas las propiedades opticas de la hoja recubierta, las capas antirreflexion superior y/o inferior pueden incluir ademas capas parciales que constan de materiales adecuados generalmente conocidos para capas dielectricas de baja emisividad y/o recubrimientos de control solar, en particular elegidos de uno ^ovarios de los oxidos de Ce, Hf, Ta, Al ^{o sus}combinaciones. Sin embargo, al anadir tales capas parciales adicionales, habra que verificar que la termotratabilidad deseada no se deteriore por ello.

Se apreciara que cualquier capa parcial adicional puede contener aditivos que modifican sus propiedades y/o facilitan su fabricacion, por ejemplo, agentes dopantes o productos de reaccion de gases de la pulverizacion reactiva. En el caso de capas a base de oxido, se puede anadir a la atmosfera de pulverizacion nitrogeno que da lugar a la formacion de oxinitruros mas bien que oxidos; en el caso de capas a base de nitruro, se puede anadir a la atmosfera de pulverizacion oxfgeno que tambien da lugar a la formacion de oxinitruros mas bien que nitruros.

Hay que tener cuidado, realizando una seleccion apropiada de material, estructura y grosor al anadir cualquier capa parcial adicional a la secuencia de capas basica de la hoja de la invencion, de que las propiedades deseadas primariamente, por ejemplo, a una alta estabilidad termica, no se deterioren significativamente por ello.

La invencion no se limita a un proceso espedfico de produccion para el recubrimiento. Sin embargo, se prefiere en especial que al menos una de las capas y muy preferiblemente todas las capas sean aplicadas por deposicion catodica por magnetron, en el modo DC, en el modo pulsado, en el modo de frecuencia media ^oen cualquier otro modo adecuado, por lo que los blancos metalicos ^osemiconductores son pulverizados reactiva ^ono reactivamente en una atmosfera de pulverizacion adecuada. Dependiendo de los materiales a pulverizar, se puede usar blancos pianos o tubulares rotativos.

El proceso de recubrimiento se lleva a cabo preferiblemente estableciendo condiciones de recubrimiento adecuadas de tal manera que cualquier deficit de oxfgeno (^onitrogeno) de cualquier capa de oxido (^onitruro) de las capas antirreflexion del recubrimiento se mantenga bajo para lograr una alta estabilidad de la transmitancia de luz y color de las hojas de vidrio recubiertas durante un tratamiento termico.

La estabilidad termica de las hojas de vidrio recubiertas segun la invencion la refleja el hecho de que las hojas de vidrio recubiertas termotratadas no exhiben niveles inaceptables de enturbiamiento. Los grandes aumentos del valor de enturbiamiento, si se detectasen durante un tratamiento termico, indicanan que el recubrimiento esta empezando a danarse.

Segun otro aspecto de la presente invencion, se facilita un acristalamiento multiple que incorpora una hoja de vidrio recubierta segun la presente invencion. Por ejemplo, el acristalamiento multiple puede ser de vidrio laminado ^ovidrio aislante.

La invencion se describira mejor ahora por medio de las realizaciones espedficas siguientes, que se ofrecen a modo de ilustracion y no de limitacion:

En todos los Ejemplos, los recubrimientos se depositaron sobre hojas de vidrio flotante estandar de 6 mm de grosor (10 cm ^x10 cm) con una transmitancia de luz de aproximadamente 89% usando dispositivos de deposicion catodica por magnetron Ca y/o CC, aplicandose deposicion catodica de frecuencia media donde sea apropiado. Antes del recubrimiento, el vidrio se lavo dos veces en una lavadora Benteler (marca comercial registrada). Todas las capas dielectricas de un oxido de Zn y Sn (ZnSnOx, relacion en peso de Zn:Sn “ 50:50) fueron pulverizadas de forma reactiva a partir de blancos de zinc-estano en una atmosfera de pulverizacion de Ar/02.

Las capas dielectricas superiores de promocion de crecimiento, de ZnO:Al, de las capas antirreflexion inferior, central y superior fueron pulverizadas a partir de blancos de Zn dopados con Al (contenido de Al aproximadamente 2% en peso) en una atmosfera de pulverizacion de Ar/02.

Las capas funcionales que en todos I^os Ejemplos constaban de plata esencialmente pura (Ag) fueron pulverizadas desde blancos de plata en una atmosfera de pulverizacion de Ar sin ox^geno anadido y a una presion parcial de oxfgeno residual inferior a 10-5 mbar. Las capas barrera de NiCrOx subestequiometrico fueron pulverizadas reactivamente a partir de blancos de mquel-cromo en una atmosfera de pulverizacion de Ar/02.

Las capas barrera de absorcion de NiCr fueron pulverizadas a partir de blancos de mquel-cromo en una atmosfera de pulverizacion de Ar conteniendo solamente oxfgeno residual.

Las capas barrera de oxido de zinc dopado con Al (ZnO:Al, "ZAO") fueron pulverizadas a partir de blancos de ZnOx:Al ceramicos conductores en una atmosfera de pulverizacion de Ar/02 con bajo contenido de ox^geno.

Las capas dielectricas de nitruro de silicio aluminio mezclados (SigoAlioNx) fueron pulverizadas reactivamente a partir de blancos de SigoAlio mezclados en una atmosfera de pulverizacion de Ar/N2 conteniendo solamente oxfgeno residual. Las capas de nitruro de Al fueron pulverizadas reactivamente a partir de blancos de Al en una atmosfera de pulverizacion de Ar/N2 conteniendo solamente oxfgeno residual.

Las capas de absorcion de nitruro de tungsteno fueron pulverizadas reactivamente a partir de blancos de W en una atmosfera de pulverizacion de Ar/N2 conteniendo solamente oxfgeno residual.

Tabla 1: Puntuacion de enturbiamiento, propiedades de transmitancia de I^uz y reflexion para una hoja de vidrio recubierta comparativa y una hoja de vidrio recubierta segun la presente invencion. Donde: AD = depositado, HT = despues del tratamiento termico, Color Rf = color en reflexion cuando se ve desde el lado recubierto de la hoja, Color Rg = color en reflexion cuando se ve desde el lado no recubierto (vidrio) de la hoja, AE = cambio en el color de reflexion despues del tratamiento termico, y %T^l = porcentaje de transmitancia de I^uz. La metodologfa usada para recoger I^os datos de la Tabla 1 se expone mas adelante. En la Tabla 1, en cada ejemplo, las capas fueron depositadas sobre una hoja de vidrio en una secuencia que empieza en la primera capa mostrada.

Pruebas de termotratabilidad

Despues de la deposicion de I^osrecubrimientos de I^osEjemplos, se midieron I^osvalores de T ^l y color y las muestras fueron termotratadas a aproximadamente 610°C durante 5 minutos aproximadamente. A continuacion, se midieron I^osvalores de enturbiamiento, T ^l y color. L^osresultados se exponen en la Tabla 1 anterior.

Los valores indicados para la transmitancia porcentual de Iuz, %T ^l , de las hojas de vidrio recubiertas en Ios Ejemplos se derivaron de mediciones segun EN 140.

Las caracteristicas de color se midieron e indican usando las coordenadas establecidas CIE LAB a*, b* (vease por ejemplo (0030) y (0031) en WO 2004-063 i l l A l). Preferiblemente, las hojas recubiertas exhiben modificaciones del color de reflexion, producidas por un tratamiento termico, tan pequenas que hojas de vidrio recubiertas termotratadas y no termotratadas pueden ser acristaladas adyacentes unas a otras sin una diferencia de color de reflexion significativamente mayor que las inevitables tolerancias de produccion de hojas de vidrio recubiertas. Para lograrlo, las hojas recubiertas deberan exhibir un AE* < 3, preferiblemente AE* < 2 (donde el cambio en el color de reflexion despues del tratamiento termico, AE* = SQR[(L* ⁱ -L*²)2 + (a*i -a*²)2 + (b*i-b*²)2], siendo L* ⁱ , a* y b* Ios valores de color de reflexion antes y despues del tratamiento termico). El cambio de color, AE*, se define por 1976 CIE (L* a* b*) con iluminante D65 y observador 10°.

Se aplico un sistema de puntuacion de enturbiamiento visible subjetivo al Ejemplo. Se hallo que el sistema de evaluacion de calidad descrito a continuacion era necesario para distinguir mejor la calidad visual de Ios recubrimientos en condiciones de I^uz brillante, propiedades que no son completamente reflejadas por I^os valores de enturbiamiento estandar medidos segun ASTM D 1003-61.

El sistema de evaluacion considera el efecto mas macroscopico de I^os fallos visibles en el recubrimiento que producen variaciones locales del color donde el recubrimiento esta danado ^o es imperfecto (puntuacion de enturbiamiento en la Tabla 1). L^os efectos macroscopicos de I^os fallos visibles en el recubrimiento despues de un tratamiento termico (I^os ejemplos no exhiben enturbiamiento antes de un tratamiento por calor) fueron evaluados subjetivamente viendo muestras bajo I^uz brillante. La evaluacion se basa en un sistema de puntuacion de perfeccion (clasificacion) usando puntuaciones entre 0 (perfecto, sin fallos) a 3 (alto numero de fallos y/o puntos claramente visibles) hasta 5 (enturbiamiento denso, a menudo ya visible a simple vista), clasificando el aspecto visual de las muestras de vidrio recubiertas despues de un tratamiento por calor.

La evaluacion visual se realizo usando un haz de potencia (antorcha) de 2,5 millones de candelas dirigido en angulos de incidencia entre aproximadamente -90° y aproximadamente 90° (con relacion a la incidencia normal) en dos pianos ortogonales (es decir, girando la antorcha primero en un piano horizontal y luego en un piano vertical) sobre una hoja de vidrio recubierta colocada delante de una caja negra. La caja negra tiene un tamano suficientemente grande de modo que varias muestras de vidrio recubiertas pueden ser evaluadas al mismo tiempo. Las hojas de vidrio recubiertas son observadas y ^su calidad visual se evalua variando el angulo de incidencia como se ha descrito anteriormente, dirigiendo el haz de I^uz desde el observador a traves de las hojas de vidrio recubiertas. Las hojas de vidrio recubiertas se colocaron delante de la caja negra de modo que ^su recubrimiento mirase al observador. Se considera que las hojas de vidrio recubiertas termotratadas con una puntuacion > 3 no han superado la prueba.

Resumen de resultados

La hoja recubierta del Ejemplo Comparativo 1 utiliza una capa barrera de absorcion de NiCr en la capa antirreflexion superior para obtener propiedades tanto de absorcion como de barrera. La hoja recubierta no presenta enturbiamiento detectable despues del tratamiento por calor. Sin embargo, la hoja presenta grandes cambios en las propiedades del color de reflexion despues del tratamiento termico, de modo que I^os valores AE con respecto a la observacion tanto desde el lado recubierto como desde el lado de vidrio son altos.

En contraposicion, la hoja recubierta del Ejemplo 2, que usa una capa de absorcion de nitruro de tungsteno encima de una capa barrera de NiCrOx en la capa antirreflexion superior, exhibe cambios muy pequenos en las propiedades del color de reflexion despues del tratamiento termico, de tal manera que I^os valores AE con respecto a la observacion tanto desde el lado recubierto como desde el lado de vidrio son muy bajos. L^os bajos valores de transmitancia de I^uz muestran el efecto de la capa de absorcion de nitruro de tungsteno y tambien hay mmimo cambio en la transmitancia de I^uz despues del tratamiento termico. Este mmimo cambio en la transmitancia de I^uz se debe principalmente a las dos capas de NiCrOx, que se oxidan mas durante tratamiento termico. Ademas, la hoja recubierta no presenta enturbiamiento detectable despues del tratamiento termico.

En la explicacion de la invencion anterior, a no ser que se indique I^o contrario, la descripcion de valores alternativos para el ifmite superior ^o inferior del rango permitido de un parametro, unida a una indicacion de que uno de dichos valores es mas preferible que el otro, se ha de interpretar como una declaracion impUcita de que cada valor intermedio de dicho parametro, que este entre el mas preferido y el menos preferido de dichas alternativas, se prefiere a dicho valor menos preferido y tambien a cada valor que este entre dicho valor menos preferido y dicho valor intermedio.

En el contexto de la presente invencion, donde se dice que una capa es "a base de" un material ^o materiales concretos, quiere decirse que la capa consta predominantemente de dicho material ^o materiales correspondientes, I^o que quiere decir tipicamente que incluye al menos aproximadamente 50% de dicho material ^o materiales.

En el contexto de la presente invencion, un "oxido esencialmente estequiometrico" quiere decir un oxido que es al menos 95%, pero a I^o sumo 105% estequiometrico, mientras que un "oxido ligeramente subestequiometrico" significa un oxido que es al menos 95%, pero menos de 100% estequiometrico.

Si no se especifica nada, I^os valores de transmitancia de I^uz indicados en la memoria descriptiva se especifican en general con referenda a una hoja de vidrio recubierta incluyendo una hoja de vidrio flotante estandar de 4 mm de grosor que tiene una transmitancia de I^uzT^l de 89% sin recubrimiento.

Claims

r e iv in d ic a c io n e s

1. Una hoja de vidrio recubierta incluyendo al menos las capas siguientes en secuencia:

un sustrato de vidrio;

una capa antirreflexion inferior incluyendo una ^o varias de las capas siguientes:

una capa dielectrica base a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o ^sus aleaciones; y/o

un oxido de Ti; y/o un oxido de Zr;

una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn, y

una capa funcional a base de plata; y

al menos una capa antirreflexion adicional; donde la capa antirreflexion adicional incluye al menos las capas siguientes en secuencia:

al menos una capa barrera a base de NiCr, Nb, Ti, Zr, Zn, Sn, In y/o Cr y/o ^sus oxidos y/o nitruros;

al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno situada en contacto directo con la capa barrera; y al menos una capa dielectrica superyacente situada en contacto directo con la capa de absorcion, y donde la al menos unica capa dielectrica superyacente incluye:

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o ^sus aleaciones; y/o

una capa dielectrica a base de un oxido metalico tal como un oxido de uno ^o varios de Ti, Zr, Zn, Sn, In y/o Nb, tal como un oxido de Zn y Sn; y donde

cuando la capa dielectrica superyacente es a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o ^sus aleaciones, la capa barrera que esta en contacto directo con la al menos unica capa de absorcion no es a base de un (oxi)nitruro de Si y/o un (oxi)nitruro de Al y/o ^sus aleaciones.

2. La hoja de vidrio recubierta segun la reivindicacion 1, donde la al menos unica capa barrera situada en una capa antirreflexion dada tiene un grosor total de al menos 0,5 nm, pero a lo sumo de 8 nm.

3. La hoja de vidrio recubierta segun cualquier reivindicacion precedente, donde cada capa de absorcion tiene un grosor de al menos 2 nm, pero a lo sumo de 25 nm.

4. La hoja de vidrio recubierta segun cualquier reivindicacion precedente, donde la hoja incluye mas de una capa funcional a base de plata,

donde cada capa funcional a base de plata esta espaciada de una capa funcional adyacente a base de plata por una capa antirreflexion central,

donde la capa antirreflexion que esta situada mas lejos del sustrato de vidrio se denomina la capa antirreflexion superior, y

donde al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en la capa antirreflexion superior y/o en una capa antirreflexion central.

5. La hoja de vidrio recubierta segun la reivindicacion 4, donde la(s) capa(s) antirreflexion central(es) incluye(n) al menos una combinacion de una ^o varias de las capas siguientes:

al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti, y/o Ti;

6. La hoja de vidrio recubierta segun la reivindicacion 4 ^o la reivindicacion 5, donde cada capa antirreflexion central incluye al menos,

al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

opcionalmente, al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti, y/o Ti;

una capa dielectrica superior a base de un oxido de Zn;

donde cuando al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en dicha capa antirreflexion central,

dicha al menos unica / capa barrera opcional a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti, y/o Ti no esta presente y dicha capa de absorcion esta situada entre la al menos unica capa barrera a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

7. La hoja de vidrio recubierta segun la reivindicacion 6, donde al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en dicha capa antirreflexion central entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

8. La hoja de vidrio recubierta segun cualquier reivindicacion precedente, donde la capa antirreflexion que esta situada mas lejos del sustrato de vidrio se denomina la capa antirreflexion superior, y donde la capa antirreflexion superior incluye al menos una combinacion de una ^o varias de las capas siguientes:

al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

al menos una capa barrera a base de un oxido de Zn, un oxido de Ti, y/o Ti;

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr; y

9. La hoja de vidrio recubierta segun la reivindicacion 8, donde la capa antirreflexion superior incluye al menos, en secuencia desde la capa funcional a base de plata que esta situada mas alejada del sustrato de vidrio,

al menos una capa barrera a base de un oxido de NiCr;

una capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr, y

una capa dielectrica a base de un oxido metalico, tal como un oxido de Zn y Sn y/o un oxido de Sn;

donde, cuando al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en dicha capa antirreflexion superior, dicha al menos unica / capa barrera opcional a base de un oxido de Zn no esta presente y dicha capa de absorcion esta situada entre la al menos unica capa barrera a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

10. La hoja de vidrio recubierta segun la reivindicacion 9, donde al menos una capa de absorcion a base de nitruro de tungsteno esta situada en dicha capa antirreflexion superior entre y en contacto directo con la capa barrera superior a base de un oxido de NiCr y la capa dielectrica a base de un (oxi)nitruro de Si, y/o un (oxi)nitruro de Al, y/o ^sus aleaciones, y/o un oxido de Al, Si, Ti y/o Zr.

11. Un acristalamiento multiple que incorpora una hoja de vidrio recubierta segun cualquier reivindicacion precedente.