ES2222793B1 - WIEN TYPE MONOCROMATOR WITH OPENING CORRECTION. - Google Patents

WIEN TYPE MONOCROMATOR WITH OPENING CORRECTION.

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ES2222793B1 ES200300666A ES200300666A ES2222793B1 ES 2222793 B1 ES2222793 B1 ES 2222793B1 ES 200300666 A ES200300666 A ES 200300666A ES 200300666 A ES200300666 A ES 200300666A ES 2222793 B1 ES2222793 B1 ES 2222793B1
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Abstract

Monocromador tipo Wien con corrección de aberraciones. La invención mejora los dos parámetros más característicos de los filtros de Wien: resolución en energía y dispersión espacial. Consta de dos filtros idénticos, cada uno formado por doce polos que se extienden paralelos al eje óptico. Cada polo está construido con un material conductor magnético. Se le aplica un potencial y se imana con una corriente calculados para conseguir una configuración de campos tales que las componentes dipolar eléctrica y magnética cumplen la condición de Wien. En cada polo se excitan, además, los potenciales y corrientes adecuados para crear campos cuadripolares eléctricos y magnéticos que, combinados con los anteriores, permiten un gran control de la fuerza total que actúa sobre las cargas y corregir las aberraciones inherentes al sistema. Modificando el radio de los polos diagonales se añade otro factor de control. Ajustando las excitaciones y dicho radio simultáneamente, se mejora la resolución en energíaen decenas o centenas respecto de filtros de Wien convencionales. El uso de un segundo filtro idéntico al primero por el que se hace pasar el haz una vez seleccionado en energía, reduce notablemente el tamaño del haz.Monochromator type Wien with correction of aberrations. The invention improves the two most characteristic parameters of Wien filters: energy resolution and spatial dispersion. It consists of two identical filters, each formed by twelve poles that extend parallel to the optical axis. Each pole is constructed with a magnetic conductive material. A potential is applied and magnetized with a current calculated to achieve a configuration of fields such that the electric and magnetic dipole components fulfill the Wien condition. In each pole, the potentials and currents suitable for creating electric and magnetic quadripolar fields are also excited, which, combined with the previous ones, allow a great control of the total force acting on the charges and correct the aberrations inherent in the system. Modifying the radius of the diagonal poles adds another control factor. By adjusting the excitations and said radio simultaneously, the resolution in energy is improved in tens or hundreds compared to conventional Wien filters. The use of a second filter identical to the first through which the beam is passed once selected in energy, significantly reduces the size of the beam.

Description

Monocromador tipo wien con corrección de aberraciones.Monochrome type wien with correction of aberrations.

Campo técnico de la invenciónTechnical Field of the Invention

La invención que se presenta en esta memoria se encuadra en el campo de la óptica electrónica concretamente de los dispositivos capaces de seleccionar aquellas partículas cargadas que, formando parte de un haz, lleven una energía prefijada U_{0}. Está relacionado con los filtros de Wien (filtros \vec{E} \times \vec{B}), giradores de spin, analizadores de energía, separadores de iones y similares.The invention presented herein falls within the field of optoelectronics devices specifically able to select those particles charged that part of a beam with a predetermined energy U _ {0}. It is related to Wien filters (filters \ vec {E} \ times \ vec {B}), spin spinners, energy analyzers, ion separators and the like.

La invención se relaciona también con un microscopio electrónico que utilice los monocromadores tipo wien.The invention also relates to an electron microscope that uses the wien monochromators.

Estado de la técnicaState of the art

El funcionamiento del dispositivo está basado en la creación de una región en donde actúen campos eléctricos y magnéticos perpendiculares entre sí y a la dirección de avance del haz. Las magnitudes de los campos han de ser tales que produzcan la cancelación de las fuerzas eléctrica y magnética para partículas con energía U_{0} al atravesar el dispositivo, cuando entran con una velocidad paralela al eje del mismo (condición de Wien).The operation of the device is based on the creation of a region where electric and magnetic fields act perpendicular to each other and to the direction of advance of the beam. The magnitudes of the fields must be such as to cause the cancellation of the electric and magnetic forces for particles with energy U _ {0} to the flow through the device when entering a velocity parallel to the axis of the same (condition Wien).

Este tipo de monocromadores (o filtros de energía) se ha venido utilizando a lo largo de los últimos cien años, siendo objeto de diversas mejoras con el fin de optimizar sus prestaciones. Uno de sus principales problemas consistía en que la condición de Wien sólo se cumplía estrictamente en la región central del filtro pero no en sus extremos donde los efectos de borde para el campo eléctrico y magnético eran muy distintos, y por tanto las fuerzas eléctrica y magnética asociadas a ellos diferían apreciablemente. La solución a este problema fue abordada por T. T. Tang [T.T. Tang, Optik 74 (1986) 51-56] y H. Rose [ H. Rose, Optik 77 (1987) 26-34] proponiendo una configuración multipolar que utiliza un material magnético conductor tanto para generar el campo magnético \vec{B} (rodeando el polo correspondiente con un bobinado por el que se hace pasar una corriente eléctrica) como para crear el campo eléctrico \vec{E} (aplicando un potencial adecuado al mismo), perpendicular a \vec{B}. La distribución de ambos campos en esta configuración obedece a la misma ecuación diferencial y por tanto sus módulos cumplirán la condición de Wien en todo punto del espacio: E = \nu_{0}B, siendo \nu_{0} la velocidad axial de la partícula correspondiente a la energía U_{0}.This type of monochromators (or energy filters) has been used over the last hundred years, being subject to various improvements in order to optimize its performance. One of its main problems was that Wien's condition was only strictly fulfilled in the central region of the filter but not at its ends where the edge effects for the electric and magnetic field were very different, and therefore the electric and magnetic forces associated with them differed appreciably. The solution to this problem was addressed by TT Tang [TT Tang, Optik 74 (1986) 51-56] and H. Rose [H. Rose, Optik 77 (1987) 26-34] proposing a multipolar configuration using a magnetic material conductor both to generate the magnetic field \ vec {B} (surrounding the corresponding pole with a winding through which an electric current is passed) and to create the electric field \ vec {E} (applying a suitable potential to it), perpendicular to \ vec {B}. The distribution of both fields in this configuration is due to the same differential equation and therefore its modules will fulfill the Wien condition at every point in space: E = \ nu_ {0} B , where \ nu_ {0} is the axial velocity of the corresponding particle energy U _ {0}.

Sin embargo esta mejora no resuelve un problema que es inherente al funcionamiento del filtro cuando se utiliza con los campos dipolares mencionados más una componente cuadripolar eléctrica, añadida para conseguir la convergencia del haz a la salida del filtro. Así, partiendo de un haz puntual a la entrada y lanzando las cargas con una componente de velocidad transversal según diferentes ángulos acimutales (entre 0° y 360°) superpuesta a la velocidad axial nominal \nu_{0}, el haz no converge a la salida en un punto sino que ocupa una cierta región del espacio cuando se hace un corte del mismo en un plano perpendicular al eje óptico [K. Tsuno y J. Rouse, J. Electron Microsc. 45 (1996) 417-427.]. A la forma que toma este corte transversal del haz se le llama figura de aberración y da cuenta de la dispersión espacial que sufre el haz de partículas seleccionado por el filtro.However, this improvement does not solve a problem that is inherent in the operation of the filter when used with the aforementioned dipole fields plus an electric quadripolar component, added to achieve the convergence of the beam at the output of the filter. Thus, starting from a point beam at the entrance and launching the loads with a transverse velocity component according to different azimuthal angles (between 0 ° and 360 °) superimposed on the nominal axial speed \ nu_ {0}, the beam does not converge at exit at a point but occupies a certain region of space when a cut is made in a plane perpendicular to the optical axis [K. Tsuno and J. Rouse, J. Electron Microsc. 45 (1996) 417-427.]. The shape that this cross section of the beam takes is called the aberration figure and accounts for the spatial dispersion suffered by the particle beam selected by the filter.

La caracterización de cualquier dispositivo utilizado en Óptica Electrónica requiere dos etapas claramente diferenciadas: 1) cálculo de la distribución de campos; 2) determinación de las trayectorias que siguen las partículas cargadas bajo la acción de dichos campos. Para obtener la distribución de campos, los autores han desarrollado una versión del método de elementos de contorno (Boundary Element Method, BEM) por ser el que mejor se adapta a la simulación de los contornos de los polos que se utilizan en este diseño. Además, se pueden optimizar los algoritmos para conseguir una precisión elevada en los resultados.The characterization of any device used in Electronic Optics requires two clearly differentiated stages: 1) calculation of field distribution; 2) determination of the trajectories that the charged particles follow under the action of said fields. To obtain the distribution of fields, the authors have developed a version of the Boundary Element Method (BEM ) method because it is the one that best suits the simulation of the contours of the poles used in this design. In addition, algorithms can be optimized to achieve high accuracy in the results.

Las componentes de la fuerza actuando sobre un electrón de masa m, carga -e, que atraviesa el filtro con velocidad v(\nu_{x}, \nu_{y}, \nu_{z}) y aceleración a(a_{x}, a_{y}, a_{z}), vienen dadas por:The components of the force acting on an electron of mass m , charge- e , which crosses the filter with velocity v (\ nu_ {x}, \ nu_ {y}, \ nu_ {z}) and acceleration a ( a_ {x }, a_ {y}, a_ {z} ), are given by:

F_{x} = ma_{x} = -e \ \{E_{x} +\nu_{y}B_{z} - \nu_{z}B_{y}\},F_ {x} = ma_ {x} = -e \ \ {E_ {x} + \ nu_ {y} B_ {z} - \ nu_ {z} B_ {y} \},

F_{y} = ma_{y} = -e \ \{E_{y} +\nu_{z}B_{x} - \nu_{x}B_{z}\},F_ {y} = ma_ {y} = -e \ \ {E_ {y} + \ nu_ {z} B_ {x} - \ nu_ {x} B_ {z} \},

F_{z} = ma_{z} = -e \ \{E_{z} +\nu_{x}B_{y} - \nu_{y}B_{x}\},F_ {z} = ma_ {z} = -e \ \ {E_ {z} + \ nu_ {x} B_ {y} - \ nu_ {y} B_ {x} \},

siendo E_{x}, E_{y}, E_{z} las componentes del campo eléctrico y B_{x}, B_{y}, B_{z} las del campo magnético. Hay una gran variedad de técnicas numéricas para la integración de estas ecuaciones. En este caso se ha empleado un algoritmo del tipo
Dormand-Prince de 5° orden, que ofrece una buena eficiencia y cumple los requisitos de precisión estable-
cidos.
E x, E y, E z being the components of the electric field and B x, B y, B z those of the magnetic field. There is a great variety of numerical techniques for the integration of these equations. In this case an algorithm of the type has been used
Dormand-Prince 5th order, which offers good efficiency and meets stable precision requirements
acids.

Haciendo una simulación muy precisa del funcionamiento del filtro de K. Tsuno y J. Rouse mediante estos algoritmos [G. Martínez y K. Tsuno, Ultramicroscopy 93 (2002) 253-261], los inventores de esta patente demostraron que el origen del problema consiste en que las partículas (electrones en este caso) lanzadas con velocidades transversales tales que se acercan hacia los polos a los que se aplica un potencial positivo, incrementan su velocidad axial, mientras que los lanzados en el sentido opuesto sufren una disminución de dicha componente de velocidad al atravesar el filtro. El resultado es que la fuerza magnética que actúa sobre ellas es ligeramente diferente de la fuerza eléctrica, obligándolas a cortar al eje en distintos puntos.Making a very precise simulation of the operation of the filter of K. Tsuno and J. Rouse using these algorithms [G. Martínez and K. Tsuno, Ultramicroscopy 93 (2002) 253-261], the inventors of this patent demonstrated that the origin of the problem is that the particles (electrons in this case) released with transverse speeds such that they approach the poles at those that apply a positive potential, increase their axial velocity, while those thrown in the opposite direction suffer a decrease in said velocity component when passing through the filter. The result is that the magnetic force acting on them is slightly different from the electric force, forcing them to cut the shaft at different points.

En ese mismo estudio los inventores proponen como solución la utilización de un doble filtro, es decir, colocar dos configuraciones idénticas en serie de forma que a la salida del primer filtro se haga la selección en energía y a la salida del segundo se tenga el haz casi totalmente corregido en lo que se refiere a dispersión espacial. En los diseños analizados se consigue reducir el tamaño de la figura de aberración en un factor mayor que diez, lo cual es útil para muchas aplicaciones. El uso del doble filtro ya se había establecido en los años 70 aunque no con la optimización que supone la configuración de 12 polos conductores magnéticos [W.H.J. Andersen. J.B. Le Pole, J. Phys. E: Sci. Instrum. 3 (1970) 121-126].In the same study, the inventors propose as a solution the use of a double filter, that is, to place two identical configurations in series so that at the exit of the first filter the selection is made in energy and at the exit of the second one the beam is almost totally corrected in terms of spatial dispersion. The designs analyzed reduce the size of the aberration figure by a factor greater than ten, which is useful for many applications. The use of the double filter had already been established in the 70s but not with the optimization of the configuration of 12 magnetic conductor poles [WHJ Andersen. JB Le Pole, J. Phys. E: Sci. Instrum. 3 (1970) 121-126].

Si bien el montaje de un doble filtro mejora notablemente el comportamiento del monocromador, hay aplicaciones para las que se requieren valores más elevados no sólo de la resolución espacial sino también de la resolución en energía. Este es el caso de los microscopios de última generación en los que se intenta llegar a un poder de resolución de 1 \ring{A} o inferior. Por tanto, el objetivo de las modificaciones que se han incorporado al dispositivo y que se presentan en el siguiente apartado son esencialmente estas dos mejoras.Although the mounting of a double filter greatly improves the performance of the monochromator, there are applications for which higher values are required not only for spatial resolution but also for energy resolution . This is the case of the latest generation microscopes in which an resolution power of 1 Å or less is attempted. Therefore, the purpose of the modifications that have been incorporated into the device and which are presented in the following section are essentially these two improvements.

Explicación de la invenciónExplanation of the invention. Monocromador tipo wien con corrección de aberraciones Wien type monochromator with aberration correction

En primer lugar describimos la geometría del dispositivo y después pasaremos a detallar la forma en que se excitan los polos para generar la distribución de campos deseada.First we describe the geometry of the device and then we will go on to detail the way in which excite the poles to generate the field distribution desired.

La figura 1 muestra un corte longitudinal del monocromador consistente en dos filtros de Wien colocados consecutivamente a lo largo del eje óptico (eje Z). Los componentes de dichos filtros (polos) tienen simetría de orden 12 con respecto al eje óptico. El plano R representado esquemáticamente por una línea de trazos, es asimismo un plano de reflexión del sistema. Por medio la ranura situada en dicho plano se realiza la selección de la parte del haz que lleva la energía nominal U_{0}. Los conductores situados en los extremos tienen la misión de apantallar los campos creados por otros componentes (e.g. lentes retardadoras, aceleradoras, etc.) que se encuentran antes o después del
dispositivo.
Figure 1 shows a longitudinal section of the monochromator consisting of two Wien filters placed consecutively along the optical axis (Z axis). The components of said filters (poles) have symmetry of order 12 with respect to the optical axis. The plane R represented schematically by a dashed line, is also a reflection plane of the system. By means of the groove located in said plane the selection of the part of the beam carrying the nominal energy U 0 is made. The drivers located at the ends have the mission of shielding the fields created by other components (eg retarding lenses, accelerators, etc.) that are found before or after the
device.

A continuación la figura 2 se representa la sección transversal de uno de los filtros (plano X-Y) que forman parte del monocromador. Ésta consta de doce polos numerados correlativamente de 1 a 12 y dispuestos de forma concéntrica alrededor del eje. Deben ser construidos con un material magnético y buen conductor para que puedan generar simultáneamente campos eléctricos y magnéticos. El ángulo que cubre cada polo en la dirección acimutal es \phi y el espaciado entre polos consecutivos \Delta\phi. En la dirección radial, los polos se extienden desde un radio interior r hasta un radio exterior r_{e} suficientemente grande como para dar cabida a los bobinados por los que circularán las corrientes que imanan el material (r_{e} \approx 5r ).Figure 2 shows the cross section of one of the filters (XY plane) that are part of the monochromator. This consists of twelve poles numbered correlatively from 1 to 12 and arranged concentrically around the axis. They must be built with a magnetic material and a good conductor so that they can simultaneously generate electric and magnetic fields. The angle that covers each pole in the azimuthal direction is \ phi and the spacing between consecutive poles \ Delta \ phi. In the radial direction, the poles extend from an inner radius r to an outer radius r e large enough to accommodate the windings through which the currents that magnetize the material will circulate ( r e \ approx 5 r ).

En la invención que se presenta, el valor de r varía ligeramente de unos polos a otros de forma que:In the present invention, the value of r varies slightly from one pole to another so that:

r = r_{0} en los polos 1, 3, 4, 6, 7, 9 10, 12 r = r 0 at poles 1, 3, 4, 6, 7, 9 10, 12

r = r_{0} + \delta en los polos 2, 5, 8, 11 r = r 0 + δ at poles 2, 5, 8, 11

Con más detalle la figura 3 muestra cómo se han excitado los polos para generar el campo dipolar eléctrico, E_{1}, el campo dipolar magnético, B_{1}, y el cuadripolar eléctrico, E_{2}. Aplicando un potencial V_{1}, a los polos 1-2-11-12 y un potencial -V_{1} a los polos 5-6-7-8 se crea un campo E_{1} relativamente uniforme en la región central, dirigido hacia las x negativas. Por otra parte, haciendo pasar una corriente I_{1}, por un bobinado de N espiras alrededor de los polos 2-3-4-5 y el mismo bobinado pero en sentido inverso sobre los polos 8-9-10-11, se obtiene un campo B_{1} con una distribución de líneas semejante a la de E_{1} pero en el sentido negativo del eje Y. Finalmente, aplicando un potencial V_{2} a los polos 1-12, 6-7, y -V_{2} a los polos 3-4, 9-10 se consigue una distribución tipo cuadripolo eléctrico que es útil para controlar la convergencia del haz. Más adelante se darán detalles del comportamiento del monocromador excitado con estos campos únicamente (monocromador de referencia).In more detail Figure 3 shows how the poles are excited to generate the electric dipole field, E {1}, the magnetic dipole field, B _ {1}, and the electric quadrupole, E {2}. Applying a potential V {1}, the 1-2-11-12 poles and a potential - V _ {1} to the poles 5-6-7-8 a field E {1} creates relatively uniform the central region, directed towards the negative x . Moreover, a current I passing _ {1}, for winding coils around the N poles 2-3-4-5 and the same winding in reverse on 8-9-10-11 poles, a field B _ {1} obtained with a similar distribution lines to E _ {1} yet in the negative direction of the Y axis Finally, applying a potential V {2} to 1 to 12 poles, 6 -7, and - V _ {2} to 3-4, 9-10 poles one quadrupole electric distribution type is useful for controlling the convergence of the beam direction . Details of the behavior of the excited monochromator with these fields only will be given later ( reference monochromator ).

Con el fin de mejorar las prestaciones del sistema es imprescindible añadir una componente cuadripolar magnética. En la figura 4 se indican las magnitudes y signos de las corrientes necesarias para generar un campo B_{2} con (que permite mejorar las prestaciones) con distribución semejante a la creada por el potencial eléctrico V_{2} pero cuyas lineas de campo son ortogonales a las cuadripolares eléctricas. Se bobinan corrientes nI_{2} sobre los polos 1, 3, 7 y 9; corrientes -nI_{2} sobre 4, 6, 10 y 12; corrientes 2nI_{2} sobre 2, 8 y corrientes -2nI_{2} sobre 5, 11.In order to improve the performance of the system it is essential to add a magnetic quadrupole component. In Figure 4 the magnitudes are indicated and signs of the currents needed to generate a field B {2} with (that improves performance) with similar distribution to that created by the electric potential V {2} but lines which of Field are orthogonal to the quadripolar electric. They are wound currents nI _ {2} on the poles 1, 3, 7 and 9; currents - nI2 over 4, 6, 10 and 12; currents 2 nI 2 over 2, 8 and currents -2 nI 2 over 5, 11.

Descripción de las figurasDescription of the figures

La invención se acompaña de una serie de figuras, que con carácter ilustrativo representan lo siguiente:The invention is accompanied by a series of figures, which illustratively represent the following:

Figura 1.- Diagrama del corte longitudinal del monocromador.Figure 1.- Diagram of the longitudinal section of the Monochromator

Figura 2.- Diagrama de la sección transversal de un filtro de 12 polos.Figure 2.- Diagram of the cross section of a 12-pole filter

Figura 3.- Forma de excitar los campos dipolares eléctrico y magnético y el campo cuadripolar eléctrico.Figure 3.- Way to excite the dipole fields electric and magnetic and the quadripolar electric field.

Figura 4.- Forma de excitar el campo cuadripolar magnético.Figure 4.- Way to excite the quadripolar field magnetic.

Figura 5.- Trayectorias a través de los monocromadores para electrones lanzados con ángulo acimutal \varphi = 0° y semiapertura \alpha =\pm1°. Las líneas de trazos corresponden a trayectorias en el monocromador de referencia y las continuas a trayectorias en el modelo a patentar.Figure 5.- Paths through the monochromators for electrons released with azimuthal angle 0 = 0 ° and half-opening α = 11 °. The dashed lines correspond to trajectories in the reference monochromator and the continuous lines to trajectories in the model to be patented.

Figura 6.- Proyección en el plano Y-Z de trayectorias a través de los monocromadores para electrones lanzados con ángulo acimutal \varphi = 0° y semiapertura \alpha =\pm1°.Figure 6.- Projection in the plane Y-Z trajectories through monochromators for electrons released with azimuth angle \ varphi = 0 ° and half-opening α = ± 1 °.

Figura 7.- Proyección en el plano X-Z de trayectorias a través de los monocromadores para electrones lanzados con ángulo acimutal \varphi = 0° y semiapertura \alpha =\pml°. Las proyecciones son idénticas para los dos valores de \alpha. La línea de trazos corresponde a trayectorias en el monocromador de referencia y la continua a trayectorias en el modelo a patentar.Figure 7.- Projection in the XZ plane of trajectories through the monochromators for electrons released with azimuthal angle \ varphi = 0 ° and semi-opening α = \ pml °. The projections are identical for the two values of α. The dashed line corresponds to trajectories in the reference monochromator and continues to trajectories in the model to be patented.

Figura 8.- Figura de aberración en el plano R calculada para el monocromador de referencia.Figure 8.- Aberration figure in the R plane calculated for the reference monochromator .

Figura 9.- Figura de aberración en el plano R calculada para el monocromador de la invención.Figure 9.- Aberration figure in the R plane calculated for the monochromator of the invention.

Figura 10.- Ídem figura 9 con la escala del eje X modificada.Figure 10.- Idem figure 9 with the X axis scale modified

Figura 11.- Figura de aberración a la salida del sistema calculada para el monocromador de referencia.Figure 11.- Aberration figure at the system output calculated for the reference monochromator .

Figura 12.- Figura de aberración a la salida del sistema calculada para el monocromador de la invención.Figure 12.- Figure of aberration at the exit of the system calculated for the monochromator of the invention.

Modo de realización de la invenciónEmbodiment of the invention

Se ilustra mediante un ejemplo las mejoras introducidas en la invención. Para ello se van a comparar los resultados con los obtenidos en el monocromador de referencia mencionado anteriormente.The improvements introduced in the invention are illustrated by an example. For this, the results will be compared with those obtained in the reference monochromator mentioned above.

Los datos de la geometría para el monocromador de referencia, según las figuras 1 y 2 (todos los valores expresados en mm excepto los correspondientes a ángulos) son:The geometry data for the reference monochromator , according to figures 1 and 2 (all values expressed in mm except those corresponding to angles) are:

H = 40; r = r_{0} = 5; r_{e} = 25; d = 5; w = 10; r_{p} = 2; \phi = 24°; \Delta \phi = 6°. H = 40; r = r 0 = 5; r e = 25; d = 5; w = 10; r p = 2; ph = 24 °; Δ \ phi = 6 °.

Los valores de las excitaciones, apropiados para seleccionar un haz de electrones con energía U_{0} = 1000 eV, son:Values excitations, they appropriate to select an electron beam with energy U _ {0} = 1000 eV, are:

V_{1}= 696.020 V; V_{2} = 65.4906 V; NI_{1} = 120.563 ampervueltas. V 1 = 696.020 V; V 2 = 65.4906 V; NI _ {1} = 120,563 ampervueltas.

La geometría del modelo a patentar difiere de la anterior únicamente en el radio interior de los polos, de forma que se construye con la siguiente disposición:The geometry of the model to be patented differs from the anterior only within the inner radius of the poles, so that It is built with the following provision:

\sqbulletr = r_{0} = 5 en los polos 1, 3, 4, 6, 7, 9 10, 12r = r 0 = 5 at poles 1, 3, 4, 6, 7, 9, 10, 12

\sqbulletr = r_{0} + \delta = 5 + 0.0574 en los polos 2, 5, 8, 11 r r = r 0 + δ = 5 + 0.0574 at poles 2, 5, 8, 11

Los valores de las excitaciones, apropiados para seleccionar un haz de electrones con energía U_{0} = 1000 eV e incluyendo una componente cuadripolar magnética, son:Excitations values, appropriate to select an electron beam with energy U _ {0} = 1000 eV and including a quadrupole magnetic component are:

V_{1} = 702.707 V; V_{2} = 190.925 V; NI_{1} = 121.721 ampervueltas; nI_{2} = 12.9345 ampervueltas. V1 = 702.707 V; V 2 = 190.925 V; NI _ {1} = 121,721 ampervueltas; nI _ {2} = 12.9345 ampervueltas.

Las figuras que se van a comentar a continuación muestran trayectorias de electrones calculadas en ambos monocromadores. Son las que se utilizan para caracterizar las llamadas aberraciones geométricas de apertura. Las excitaciones se han elegido de forma que existe una total simetría en los cortes con el eje Z. Todas ellas parten del mismo punto que se encuentra situado en dicho eje a la entrada del dispositivo (lado izquierdo en las figuras) y a una distancia de 30 mm del centro del primer filtro. Todas llevan la misma velocidad axial inicial \nu_{z0} =1.876\times10^{7} ms^{-1} y la velocidad transversal es \nu_{t0} =\pm3.275\times10^{5} ms^{-1}, que corresponde a un ángulo de semiapertura \alpha =\pml°. Las trayectorias se integran a lo largo del doble filtro y cortan el eje a una distancia de 30 mm con respecto al centro del segundo filtro. El plano donde se forma una imagen intermedia coincide con el plano R de reflexión y dista asimismo 30 mm del centro del primer y segundo filtro. El recorrido total a lo largo del eje Z es pues de 4\times30 = 120 mm.The figures to be commented below show electron paths calculated on both Monochromators They are the ones used to characterize the called opening geometric aberrations. The excitations are have chosen so that there is total symmetry in the cuts with the Z axis. All of them start from the same point as located on said axis at the entrance of the device (left side in the figures) and at a distance of 30 mm from the center of the first filter. They all carry the same initial axial velocity \ nu_ {z0} = 1.876 x 10 7 ms -1 and the transverse velocity is \ nu_ {t0} = \ pm3.275 \ times10 <5> ms <-1>, which corresponds at a half-opening angle? =?. The trajectories are integrate along the double filter and cut the shaft at a distance 30 mm from the center of the second filter. The plane where an intermediate image is formed coincides with the reflection plane R and it is also 30 mm from the center of the first and second filters. He total travel along the Z axis is therefore 4 \ times30 = 120 mm

La figura 5 muestra las trayectorias calculadas cuando se lanzan los electrones con las condiciones iniciales mencionadas en el plano X-Z (ángulo acimutal \varphi = 0º). Las lineas de trazos discontinuos corresponden a trayectorias calculadas en el monocromador de referencia y las lineas continuas se han calculado en el modelo objeto de la invención. Se ve claramente que se ha corregido la aberración del sistema original donde las trayectorias con velocidad inicial transversal positiva cruzan el eje después del plano R y las que comienzan con velocidad transversal negativa cruzan antes del plano R. En el nuevo modelo ambas trayectorias se cortan en dicho plano.Figure 5 shows the trajectories calculated when the electrons are released with the initial conditions mentioned in the XZ plane (azimuth angle \ varphi = 0º). The dashed lines correspond to paths calculated in the reference monochromator and the continuous lines have been calculated in the model object of the invention. It is clear that the aberration of the original system has been corrected where the paths with positive initial transverse velocity cross the axis after the R plane and those that begin with negative transverse velocity cross before the R plane. In the new model both paths are cut in said plane.

La figura 6 muestra la proyección de las trayectorias en el plano Y-Z que han sido lanzadas con las mismas condiciones iníciales que en el caso anterior, excepto que el ángulo acimutal es ahora \varphi = 90°. Las proyecciones coinciden para los dos sistemas que estamos comparando y ambas dan una imagen intermedia en el plano R. Es de notar que esto se consigue ajustando el valor del potencial que crea la componente cuadripolar E_{2} en el monocromador de referencia, mientras que en el nuevo hay que ajustar E_{2} y B_{2} simultáneamente. Las trayectorias que se muestran en la figura 7 son, a nuestro juicio, las más importantes a la hora de juzgar las mejoras introducidas en el sistema objeto de esta patente. Son las proyecciones en el plano X-Z de las trayectorias de partículas lanzadas con \varphi = 90°; en la línea de trazos se ve que a la hora de formar una imagen en el plano R no se encuentra en un valor nulo sino que se separa unos 2.5 \num. mientras que para el sistema corregido se logra llevar el valor a cero. Además, y dada la simetría impuesta, al salir del segundo filtro también cae a un valor nulo.Figure 6 shows the projection of the trajectories in the YZ plane that have been launched with the same initial conditions as in the previous case, except that the azimuth angle is now var = 90 °. Projections agree for the two systems are compared and both give an intermediate image in R. It plane noted that this is achieved by adjusting the value of the potential created by the quadrupole component E {2} in the monochromator reference while in the new E must be set {2} and B {2} simultaneously. The trajectories shown in Figure 7 are, in our opinion, the most important when judging the improvements introduced in the system object of this patent. They are the projections in the XZ plane of the trajectories of particles thrown with var = 90 °; in the dashed line it is seen that at the time of forming an image in the R plane it is not in a null value but about 2.5 \ num is separated. while for the corrected system the value is zeroed. In addition, and given the symmetry imposed, when leaving the second filter it also falls to a null value.

El efecto de las modificaciones también se puede apreciar claramente en las figuras de aberración obtenidas para el monocromador de referencia y el nuevo. En las figuras 8 y 9 se muestran los cortes transversales del haz en el plano R para la primera y segunda configuración respectivamente. En el monocromador de referencia se ve que el centro del haz se halla fuera del eje y que el diámetro de la envolvente es de unos 25 \num. La figura 9 ilustra claramente el efecto de la corrección llevada a cabo en los planos X-Z e Y-Z: el haz está centrado con respecto al eje óptico, lo hace muy estrecho en la dirección del eje X y lo acorta en la del eje Y. Esto se aprecia mejor en la figura 10 donde se muestran los mismos puntos que en la figura 9 pero con escalas diferentes en ambos ejes.The effect of the modifications can also be clearly seen in the aberration figures obtained for the reference monochromator and the new one. Figures 8 and 9 show the cross sections of the beam in the R plane for the first and second configuration respectively. In the reference monochromator it is seen that the center of the beam is outside the axis and that the diameter of the envelope is about 25 \ num. Figure 9 clearly illustrates the effect of the correction carried out in the XZ and YZ planes: the beam is centered with respect to the optical axis, makes it very narrow in the direction of the X axis and shortens it in that of the Y axis. it is best seen in figure 10 where the same points are shown as in figure 9 but with different scales on both axes.

Podemos aprovechar las figuras de aberración mostradas para aclarar el concepto de "resolución en energía", E_{res}, del monocromador. Si en lugar de la energía nominal U_{0}, el haz entra con energía U_{0} – \DeltaU_{0}, las trayectorias siguen caminos ligeramente diferentes a los dibujados en las figuras 5-7 y sufren una desviación hacia las x positivas; análogamente, las trayectorias con energía U_{0} + \DeltaU_{0} forman su figura de aberración en lado de las x negativas. Para obtener E_{res} se calcula el valor mínimo de \DeltaU_{0} cuya figura de aberración no presenta intersección con la de la correspondiente a U_{0} y a partir de él se defineWe can take advantage of the aberration figures shown to clarify the concept of "energy resolution", E res, of the monochromator. If instead of the nominal energy U 0, the beam enters with energy U 0 - Δ U 0, the paths follow paths slightly different from those drawn in Figures 5-7 and suffer a deviation towards the positive x ; Similarly, the paths with energy U 0 + Δ U 0 form their aberration figure on the side of the negative x . For E {res} minimum value of \ Delta U _ {0} is calculated figure whose aberration has no intersection with the corresponding U _ {0} and from it defined

E_{res} = \frac{\Delta U_{0}}{U_{0}}E_ {res} = \ frac {\ Delta U_ {0}} {U_ {0}}

Dadas las características del dispositivo, es claro que las modificaciones introducidas permiten mejorar sustancialmente la resolución en energía del nuevo monocromador.Given the characteristics of the device, it is Of course, the modifications introduced allow us to improve substantially the energy resolution of the new Monochromator

Por último, en las figuras 11 y 12 se muestran las secciones transversales del haz a la salida del monocromador, cuando se forma la segunda imagen. Si se comparan las figuras 8 y 11, se puede apreciar el efecto corrector de un doble filtro mencionado en el apartado anterior, es decir, se puede reducir el tamaño del haz en un factor mayor que 100 colocando un segundo filtro en serie con el primero y excitado con los mismos valores de corriente y tensión (lo que simplifica mucho su montaje). Este efecto beneficioso se sigue manteniendo para el filtro de la invención pero sólo en la dirección del eje Y, ya que la corrección en el eje X ya se efectuó en el primer filtro en la forma más óptima posible. Si se comparan las figuras 11 y 12, se puede observar una mejora en la dispersión espacial del nuevo filtro, con una reducción del tamaño por un factor 2 en la dirección X y por 5 en la dirección Y.Finally, Figures 11 and 12 show the cross sections of the beam at the exit of the monochromator, When the second image is formed. If figures 8 and 11, the corrective effect of a double filter can be seen mentioned in the previous section, that is, you can reduce the beam size by a factor greater than 100 by placing a second filter in series with the first and excited with the same values of current and voltage (which greatly simplifies its assembly). This beneficial effect is still maintained for the filter of the invention but only in the direction of the Y axis, since the correction in the X axis it was already carried out in the first filter in the most optimal possible. If you compare figures 11 and 12, you can observe an improvement in the spatial dispersion of the new filter, with a reduction in size by a factor 2 in the X direction and by 5 in the Y direction.

Hay que señalar que el caso mostrado es tan sólo un ejemplo de la forma en que el dispositivo puede trabajar. Así, se han mostrado trayectorias para ángulos de semiapertura de 1º; sin embargo, en microscopios de alta resolución se trabaja con ángulos de 0.5° e inferiores. Hemos comprobado que en todos los casos, y con pequeños reajustes de las excitaciones, se tiene un comportamiento semejante al presentado en esta memoria. Además, la resolución en energía aumenta y el tamaño de haz a la salida se reduce a medida que disminuye el ángulo \alpha. A modo de ejemplo digamos que para un haz con U_{0} = 1000 eV, la resolución en energía pasa de un valor E_{res} =2.75\timesl0^{-5} para \alpha =1° a un valor E_{res} =2.0\timesl0^{-6} para \alpha =0.4°. Estas cantidades representan un aumento en factores de 38 y 160, respectivamente, con respecto a los valores de E_{res} calculados para el monocromador de referencia.It should be noted that the case shown is just an example of how the device can work. Thus, trajectories have been shown for semi-opening angles of 1 °; however, high resolution microscopes work at angles of 0.5 ° and lower. We have verified that in all cases, and with small readjustments of the excitations, there is a behavior similar to that presented in this report. In addition, the resolution in energy increases and the beam size at the output decreases as the angle α decreases. As an example, let's say that for a beam with U 0 = 1000 eV, the energy resolution goes from a value E res = 2.75 x 5 - 5 for α = 1 ° to a value E res = 2.0 x -6 for α = 0.4 °. These amounts represent an increase in factors of 38 and 160, respectively, with respect to the E res values calculated for the reference monochromator .

Lo mismo se puede decir de los valores asignados al radio de los polos y la separación entre ellos (datos geométricos). Si se modifican dentro de unos márgenes razonables, ajustando las excitaciones a los nuevos datos se puede conseguir la corrección de aberraciones que hemos presentado aquí, o bien en un grado suficiente como para obtener un comportamiento muy mejorado.The same can be said of the assigned values at the radius of the poles and the separation between them (data geometric). If they change within reasonable margins, adjusting the excitations to the new data you can get the correction of aberrations that we have presented here, or in a enough degree to get a very behavior improved.

A la hora de mecanizar, montar, y alinear los elementos del monocromador es inevitable que se produzcan desviaciones con respectos a los valores usados en el diseño. En el lenguaje técnico se habla de "aberraciones mecánicas" y pueden degradar la calidad de la imagen apreciablemente. Sin embargo, en la actualidad los laboratorios pueden disponer de una maquinaria para la mecanización de las piezas controlada por ordenador y que aseguran precisiones por debajo del \num en longitudes de varios mm. También han progresado en los últimos años las técnicas de alineamiento con la utilización del láser. Para que se pueda apreciar el efecto corrector de aberraciones que se presenta en esta memoria, es necesario efectuar la construcción del monocromador utilizando estándares de calidad lo mas altos posible.When machining, assembling, and aligning Monochromator elements are inevitable to occur deviations with respect to the values used in the design. At technical language is spoken of "mechanical aberrations" and can Degrade image quality appreciably. However, in the Nowadays laboratories can have a machinery for the mechanization of the parts controlled by computer and that ensure accuracies below \ num in lengths of several mm Techniques have also progressed in recent years alignment with the use of the laser. So that you can appreciate the corrective effect of aberrations presented in this memory, it is necessary to carry out the construction of the monochromator using the highest quality standards possible.

Claims (8)

1. Un monocromador tipo wien con corrección de aberraciones caracterizado porque comprende: dos filtros de Wien idénticos colocados a lo largo de un eje óptico sustancialmente paralelo al eje Z y con un plano R perpendicular a dicho eje con respecto al cual se disponen los dos filtros simétricamente (plano de reflexión).1. A wien monochromator with aberration correction characterized in that it comprises: two identical Wien filters placed along an optical axis substantially parallel to the Z axis and with an R plane perpendicular to said axis with respect to which the two filters are arranged symmetrically (reflection plane). 2. Monocromador, según reivindicación 1, caracterizado porque para un haz de partículas lanzado desde el eje óptico cerca de su entrada y según diferentes ángulos acimutales, permite:2. Monochromator according to claim 1, characterized in that for a particle beam launched from the optical axis near its entrance and according to different azimuthal angles, it allows: - formar una primera imagen en el plano de reflexión R, centrada en el eje óptico y con una mínima dispersión en el eje X, lo cual da lugar a resoluciones en la energía del haz muy superiores a la de otros filtros de Wien sin corrección de aberraciones- form a first image in the plane of R reflection, centered on the optical axis and with minimal dispersion on the X axis, which results in resolutions in the beam energy far superior to that of other Wien filters without correction of aberrations - formar una segunda imagen a la salida del dispositivo con una dispersión espacial sustancialmente menor que en otros filtros de Wien sin corrección de aberraciones.- form a second image at the exit of the device with a spatial dispersion substantially less than in other Wien filters without correction of aberrations. 3. Monocromador, según reivindicaciones 1 y 2, caracterizado porque cada uno de los filtros, es una configuración de conductores magnéticos capaz de producir al menos un campo dipolar eléctrico en la dirección del eje X y un campo dipolar magnético en la dirección del eje Y, consistente en:3. Monochromator, according to claims 1 and 2, characterized in that each of the filters is a configuration of magnetic conductors capable of producing at least one electric dipole field in the direction of the X axis and a magnetic dipole field in the direction of the Y axis , consisting of: 12 polos que se extienden sustancialmente paralelos al eje óptico presentando una simetría de orden 12 en torno a dicho eje, y cuyas caras de entrada y salida se encuentran en el plano X-Y.12 poles that extend substantially parallel to the optical axis presenting a symmetry of order 12 in around said axis, and whose input and output faces are in the X-Y plane. 4. Monocromador, según reivindicación anterior, caracterizado porque el radio interior de los polos varía según la posición que ocupan.4. Monochromator, according to the preceding claim, characterized in that the inner radius of the poles varies according to the position they occupy. 5. Monocromador, según las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque cada uno de los filtros contiene las excitaciones añadidas para producir un campo cuadripolar eléctrico con simetría respecto de los planos X-Z e Y-Z, y uno magnético con simetría en torno a los planos formados por los ejes X = \pmY y el eje Z, siendo las lineas de campo de ambas componentes cuadripolares perpendiculares entre sí.5. Monochromator, according to the preceding claims, characterized in that each of the filters contains the excitations added to produce an electric quadrupole field with symmetry with respect to the XZ and YZ planes, and a magnetic one with symmetry around the planes formed by the axes X = ± Y and the Z axis, the field lines of both quadripolar components being perpendicular to each other. 6. Monocromador, según reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el diseño de los polos de los filtros contiene la modificación del radio interior de los polos cuyo planos medios están situados en un ángulo acimutal de 45°, 135°, 225° y 315° con respecto al plano X-Z. El valor \delta del incremento del radio con respecto al de los restantes polos, r_{0}, ha de ser tal que 0.008 \leq \delta/r_{0} \leq 0,016 para obtener una mejora estimable con respecto a otros filtros sin corrección de aberraciones.6. Monochromator, according to previous claims, characterized in that the design of the filter poles contains the modification of the inner radius of the poles whose average planes are located at an azimuth angle of 45 °, 135 °, 225 ° and 315 ° with respect to to the XZ plane. The value δ of the increase in radius with respect to that of the remaining poles, r 0, must be such that 0.008 δ / r 0 ≤ 0.016 to obtain an estimated improvement over others filters without correction of aberrations. 7. Monocromador, según reivindicaciones anteriores, donde el filtro está caracterizado por tener una relación \delta/r_{0} y estar excitado con los potenciales y las corrientes tales que anulan completamente las aberraciones geométricas de apertura de un haz de partículas cargadas, en los planos X-Z e Y-Z y minimizan, consecuentemente, dichas aberraciones en el resto del haz.7. Monochromator, according to previous claims, wherein the filter is characterized by having a ratio δ / r 0 and being excited with the potentials and currents such that completely cancel out the geometric opening aberrations of a beam of charged particles, in the XZ and YZ planes and consequently minimize said aberrations in the rest of the beam. 8. Un microscopio electrónico caracterizado porque contiene:8. An electron microscope characterized in that it contains: - Una fuente de electrones para generar y acelerar un haz de electrones- A source of electrons to generate and accelerate an electron beam - El monocromador de las reivindicaciones 1 a 7.- The monochromator of claims 1 to 7.
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