ES2138895B1 - Recubrimientos dobles si/sio2 producidos mediante laser. - Google Patents

Recubrimientos dobles si/sio2 producidos mediante laser.

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ES2138895B1 ES9700026A ES9700026A ES2138895B1 ES 2138895 B1 ES2138895 B1 ES 2138895B1 ES 9700026 A ES9700026 A ES 9700026A ES 9700026 A ES9700026 A ES 9700026A ES 2138895 B1 ES2138895 B1 ES 2138895B1
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Recubrimientos dobles Si/SiO2 producidos mediante láser. Recubrimientos de silicio/óxido de silicio pueden ser aplicados sobre diferentes materiales y componentes por medio de un método basado en la Deposición Química a partir de Vapor inducida por Láser (LCVD). Este método hace uso de un láser de excímero ArF para irradiar diferentes mezclas de gases precursores introducidos en una cámara de reacción en la que previamente se ha hecho alto vacío. La flexibilidad de este método permite controlar las propiedades físico-químicas y el espesor de los recubrimientos, siendo de especial aplicación en la protección de materiales metálicos contra el ataque de agentes externos, fundamentalmente cuando dichos componentes están sometidos a temperaturas elevadas y atmósferas muy agresivas.
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CN104532211B (zh) * 2014-10-18 2017-08-25 华中科技大学 一种激光辅助低温生长氮化物材料的方法与装备

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