EP3574719A1 - Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques - Google Patents

Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques

Info

Publication number
EP3574719A1
EP3574719A1 EP18705434.1A EP18705434A EP3574719A1 EP 3574719 A1 EP3574719 A1 EP 3574719A1 EP 18705434 A EP18705434 A EP 18705434A EP 3574719 A1 EP3574719 A1 EP 3574719A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
metal
tube
generating
plasma
anode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP18705434.1A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP3574719B1 (fr
Inventor
Tiberiu Minea
Thomas Petty
Daniel LUNDIN
Charles BALLAGE
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Original Assignee
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Centre National de la Recherche Scientifique CNRS filed Critical Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Publication of EP3574719A1 publication Critical patent/EP3574719A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP3574719B1 publication Critical patent/EP3574719B1/fr
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/54Plasma accelerators
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/02Circuits or systems for supplying or feeding radio-frequency energy
    • H05H2007/022Pulsed systems

Definitions

  • the present invention relates to a system for generating a plasma jet.
  • Plasma generating systems of a metal from a solid block of this metal are known. Such systems are used to deposit a metal coating on a substrate, particularly a thin film coating. These systems produce essentially neutral metal vapors, that is to say metal atoms of which only a part is ionized.
  • such a system comprises a vacuum chamber in which is placed a metal block which is brought to a positive potential to become an anode, a cathode which generates electrons, and a substrate for receiving a coating of this metal.
  • the system further comprises a series of magnets which are intended to guide the metal ions formed by vaporization of the metal.
  • the electrons beamed by the cathode are attracted to the anode metal block.
  • a part of the block melts and transforms into a metallic gas.
  • the atoms of this gas are then partially ionized by the flow of electrons emitted by the cathode and form a plasma of positive ions of metal and electrons.
  • These positive metal ions are accelerated to the cathode and to the substrate which is also placed at a negative potential.
  • the cathode is generally annular in shape, so that the ions, guided by the series of magnets arranged around the path between the metal block and the substrate, pass through the cathode and impact the substrate to form a metal coating.
  • the electron emitter is placed in the path of the flow of metal ions, and is therefore gradually damaged by this flow, in particular because of an undesirable deposit of metal ions which is formed on the emitter.
  • the life of the transmitter, and consequently the plasma generation system, is reduced.
  • a magnet cooling device must be integrated into the system to prevent the magnets from being heated above their Curie temperature under the influence of plasma.
  • the present invention aims to remedy these disadvantages.
  • the invention aims to propose a system for generating a plasma jet comprising metal ions that is capable of generating a directional flow whose life is improved, whose manufacture is simplified, and which operates without magnets.
  • the system for generating a plasma jet comprises a tube of electrically insulating material containing a metal in solid form at ambient temperature and an anode in contact with this metal, a generator connected to the anode suitable for to create a positive electric potential at this anode, a heating element adapted to heat a portion of the metal at a heating temperature Te sufficient to vaporize this part of the metal, an electron source located outside the tube and outside the longitudinal axis of the tube, and being able to generate a flow of electrons capable of ionizing the vapor of the metal to form metal ions, so that the metal ions thus produced are able to be repelled and thus accelerated by this potential and ejected out of the tube by the downstream end of the tube, and being neutralized for a part by electrons to form a flow of plasma, the system working without magnets, without acceleration grid.
  • the electron source being located outside the tube and out of its longitudinal axis, is not damaged by the plasma beam.
  • the lifespan of the plasma generation system is therefore increased.
  • the metal used has an atomic mass greater than or equal to that of gold or has a melting temperature less than or equal to that of gold.
  • the system according to the invention can operate with a metal whose melting temperature is lower than other metals, because the system
  • SUBSTITUTE SHEET RULE 26 does not use a concentrated electron beam whose characteristic is to heat the metal very strongly and thus evaporate it too quickly, unlike existing systems.
  • the heating element surrounds the downstream part of the tube.
  • the tube is ceramic, providing electrical and thermal insulation.
  • the anode is distinct from the metal contained in the tube.
  • the electron source comprises the heating element.
  • the electron source comprises an external electron emitter distinct from the heating element.
  • the invention also relates to a method for generating plasma, which comprises the following steps:
  • a tube of electrically insulating material, containing a metal in solid form at room temperature, an anode in contact with this metal, an electric generator connected to this anode, and an electron source located outside the anode are provided.
  • the process does not use magnets, no acceleration grid, and no gas as the initial source of material to be ionized.
  • the generator provides a continuous electric current.
  • the generator provides pulses generating an electric current.
  • FIG. 2 is a view in longitudinal section of another embodiment of the system according to the invention.
  • FIG. 3 is a graph showing the evolution as a function of time of certain quantities when the system according to the invention operates with a series of electrical pulses.
  • the terms “inside” and “outside” denote the region inside and outside the tube, respectively.
  • the terms “upstream” and “downstream” refer to the parts of the tube and the metal cylinder with respect to the direction of flow of the ions in the tube.
  • the system according to the invention comprises a tube 10, which contains a metal cylinder 20 which supplies the metal atoms immediately ionized by the high current density of electrons whose expulsion from the tube constitutes the jet plasma.
  • this metal is called “plasma metal” in order to distinguish it from other metals used in the system.
  • the tube 10 is made of a material whose melting temperature is higher than the melting temperature Tf of the plasma metal 20.
  • the tube 10 is ceramic. This ceramic is for example an aluminum oxide, or a boron nitride.
  • the tube 10 is electrically insulating.
  • a heating element 40 surrounds at least the downstream portion 12 of the tube 10. This heating element 40 is supplied by a heating source 42. For example, the heating element 40 surrounds the entire tube 10. The heating element is for example a filament wound around the tube 10 helically to form a turn.
  • the system according to the invention also comprises an electron source 60.
  • This source of electrons is necessary to balance the positive charge of the ions emitted by the plasma metal 20, so that the particles emitted by the system and used for the propulsion are generally electrically neutral, downstream of the cylinder.
  • the heating element 40 emits electrons, and so is the entire electron source 60. This is the case when the heating element 40 is a filament. This filament is for example tungsten.
  • the heating element 40 is the only source of electrons 60, the manufacture of the system is simplified since the system does not include a separate electron source.
  • the heating element 40 is a cathode (negatively charged).
  • the heating element 40 does not emit electrons.
  • an electron source 60 separate from the heating element 40, and external to the tube 10, is necessary. This situation is shown in FIG. 2.
  • the heating element 40 is a ring which surrounds the downstream part 12 of the tube 10.
  • the electron source 60 is an external emitter 62, which is a cathode located near the downstream end 15 of the downstream portion 12 of the tube 10, or an arc generator.
  • the external transmitter 62 is the only cathode of the system.
  • the heating element 40 is for example made of a material such as a Ni-Cr alloy (for example Nichrome®), a Fe-Cr-Al alloy (such as Kanthal®), or a cupro.
  • both the heating element 40 and the external emitter 62 are a cathode.
  • the electron source 60 is then composed of the heating element 40 and the external emitter 62.
  • the electron source is located outside the tube 10 and out of the longitudinal axis of the tube 10.
  • the heating element 40 is for example made of a material such as lanthanum hexaboride, cerium hexaboride, or mixtures of oxides of barium, strontium, and of calcium.
  • the heating element 40 is surrounded by an electrical insulator.
  • the system has an anode (positively charged) which is in contact with the plasma metal when the metal is in solid form.
  • the anode 30 is in contact with the plasma metal 20 located in the tube 10.
  • the anode 30 is distinct from the plasma metal 20 and is located inside the tube 10.
  • the anode 30 is made of a conductive material which remains solid during the operation of the system of generating a plasma jet.
  • the anode 30 is a metal with a melting temperature much higher than that of the plasma metal 20.
  • the anode is tungsten, tantalum, molybdenum, rhenium, or an alloy of these metals.
  • the anode 30 is a wire which extends in the center of the plasma metal cylinder 20, from its upstream end to its downstream end.
  • An electric generator 50 is connected to the anode 30 and maintains the positive electrical potential at the anode 30.
  • the anode 30 can have any geometry, for example one or more son embedded in the plasma metal 20, or a grid embedded in the plasma metal 20, or a grid which lines the inner face of the tube 10. Whatever its geometry the anode 30 is always in contact with the plasma metal 20, which makes it possible to maintain the arrival of the flow of electrons in the plasma metal 20.
  • This embodiment has the advantage that the electrical potential is maintained on the plasma metal even when a portion of the plasma metal is in the liquid phase.
  • Another advantage is that in case of formation of metal droplets downstream of the plasma metal cylinder 20 during its partial vaporization, the electrical connection to the anode 30 is still achieved. Indeed, these droplets are likely to disturb this electrical connection.
  • the anode 30 is formed by the plasma metal itself.
  • anode in contact with the metal we cover the embodiment where the anode is an element distinct from the metal and in contact with the metal, and the embodiment where the anode is formed by the metal. .
  • the supply of the plasma metal cylinder 20 is continuous, that is to say that the cylinder 20 slides in the tube 10 from upstream to downstream so that its solid downstream end is is still substantially at the same position in the tube 10 as the plasma metal 20 located at the downstream end 15 of the tube 10 is vaporized.
  • the plasma metal cylinder 20 is supplied from a coil.
  • Plasma metal 20 is solid at ambient temperature and pressure (about 20 ° C, 1 atmosphere).
  • the plasma generation system according to the invention preferably uses a plasma metal whose atomic mass is greater than or equal to that of gold (whose atomic mass is 197), or whose melting point is lower or equal to that of gold (1064 ° C).
  • the metals plasmas are chosen from lead (atomic mass of 207, melt temperature of 327 ° C.), bismuth (atomic mass of 208, melt temperature of 271 ° C.), tin (melt 232 ° C), zinc (melting temperature of 420 ° C), tellurium (melting temperature of 450 ° C), indium (melting temperature of 156 ° C), thallium (atomic mass of 204 ° C). melting temperature 303 ° C).
  • the melting temperature of the plasma metal 20 is less than 500 ° C.
  • the plasma metal 20 has an atomic mass greater than or equal to that of gold, and a melting temperature is less than or equal to that of gold.
  • these metals have a lower melting temperature than other metals.
  • the heating temperature necessary to melt these metals which is at most of the order of the melting temperature Tf of the metal, is then lower, which makes it possible to dispense with a cooling device of the tube 10.
  • the power required to heat the plasma metal 20 and produce the ions is lower, which means a lower energy expenditure.
  • the only ions are metal ions.
  • the system according to the invention can be used in a space vehicle propulsion system.
  • the ejection of the plasma generates a moment that can be used for the propulsion (see below the description of the propulsion systems).
  • more plasma metal 20 has a high atomic mass (especially if it is higher to that of xenon (of atomic mass 131), the more the pulse generated during the expulsion of this metal is greater than that generated when xenon is used, for the same ionization state.
  • a metal with a high atomic mass has a lower initial ionization potential than other materials.
  • it is 6.1 eV for thallium, 7.4 eV for lead, and 9.2 eV for gold, which is lower than the ionization potential of xenon (12.1 eV).
  • the probability of ionizing these metals is higher than that of ionizing xenon.
  • a metal with a high atomic mass has a higher probability of being doubly ionized, i.e. it loses two electrons to form metal ions.
  • an ion of this metal is more accelerated than ions losing only a single electron, as generally the case for Xenon.
  • the double ionization potentials of lead (15 eV), thallium (20.4 eV) and gold (20.2 eV) are lower than the double ionization potential of Xenon (21 eV).
  • the invention also relates to a plasma generation method, the operation of which is described below.
  • the plasma metal cylinder 20, in solid form, is placed in the tube 10.
  • the plasma metal 20 is then heated by the heating element 40, powered by the heating source 42, to a heating temperature Te sufficient to vaporize the downstream end of the plasma metal cylinder 20.
  • the heating temperature Te is therefore much higher than the ambient temperature.
  • the plasma metal 20 is placed at a non-zero positive potential by the generator 50 (either directly or via the anode 30 in contact with the plasma metal 20).
  • the metal gas produced by this vaporization is ionized by the electrons emitted by the electron source 60 (which is either the heating element 40 or the external emitter 62, or both). These metal ions are repelled by the metal cylinder 20 because they are of the same positive charge, and are accelerated towards the downstream end 15 of the tube 10. These metal ions, which form a plasma, further collide with the emitted electrons by the electron source 60 so that the plasma stream 70 emitted by the tube 10 at its downstream end 15 is partly a stream of electrically neutral metal particles, in part a flow of metal ions, partly a flow of electrons.
  • the flow propagation direction 70 is indicated by an arrow in FIGS. 1 and 2.
  • the metal ions are accelerated and ejected from the tube 10, and during their ejection part of these metal ions is neutralized by collision with the electrons emitted by the electron source 60. These metal ions which are neutralized are converted into metal particles electrically neutral.
  • the system according to the invention does not have an ion acceleration grid, unlike the HC thrusters (see below). Indeed, these grids are useless because the ions are repelled by the anode and accelerated under a sufficiently high positive voltage (see explanation below). Thus, the manufacture of the system is simplified.
  • the system according to the invention does not have magnets, unlike the HE boosters (see below).
  • the system does not use a magnetic field generated by magnets to act on the electrons, or the ions ejected from the metal.
  • the system is therefore simpler and less expensive to manufacture.
  • the system according to the invention is therefore more compact than other systems according to the prior art.
  • the length of the system is of the order of 10 cm, and its diameter is less than 1 cm, for example equal to 0.5 cm.
  • the tube 10 Since the tube 10 is heated when the system is operating, the metal vapor particles that could have deposited on the inner surface of the downstream portion of the tube 10 will be easily vaporized and will peel off the surface during a future operation. Thus, the tube 10 is not fouled by deposits.
  • the system according to the invention operates in direct current generated by the generator 50, which avoids interference with the electronic components possibly located near the system that could occur if radio frequency or high frequencies are used. .
  • the potential provided to the anode 30 by the generator 50 is of the order of several hundred volts.
  • the intensity of the current is of the order of 1 Ampere and more, which can reach for example 5A or more in impulse mode.
  • the system operates with a series of electrical pulses (pulsed current), using a pulse generator.
  • This mode has the advantage of providing a higher thrust in the case where the system according to the invention is used in a space vehicle propulsion system (see below).
  • the pulse generator is powered by the generator 50.
  • the tests carried out by the inventors show that it is possible to reach a stable current of 2 A (amperes) with an average voltage jump of 2 kV (kilovolts), which gives a power at each pulse of 4 kW (kiloWatts) per pulse.
  • the duration of the pulse is variable between 10 and a few hundred s. In the example of operation given in FIG. 3, the duration of the pulse is approximately 40 (microseconds).
  • the curve referenced S represents the signal of the pulse (in Volts)
  • the curve referenced V represents the discharge potential at the anode (in kiloVolts)
  • the curve referenced I represents the discharge current at the anode (in Amperes ).
  • the duration of the pulse is 40 ⁇ (microseconds), the unit on the abscissa axis of FIG. 3 being in ⁇ .
  • the system allows the efficient transfer of moment to heavy ions, the greater the greater the voltage applied to the anode.
  • the system according to the invention does not operate in the arc mode. standard.
  • the voltage initially supplied is of the order of several thousand volts, and is maintained at a few hundred volts after formation of the arc (phenomenon of rupture or breakdown).
  • the high value of this voltage (voltage) even after breakdown is due to the downstream output formation of the tube 10 of a plasma sphere whose surface is the boundary of the shock wave generated by the expansion of the ion flux in the vacuum.
  • this boundary is highly electrically charged, which contributes to accelerate the metal ions ejected by the plasma metal cylinder 20.
  • it will be called "anomalous arc".
  • the metal ions are naturally repelled by the anode, and in stationary regime the plasma self-maintains with heating maintained by the discharge current (Le., The electrons of the plasma which join the anode), especially for high current regimes.
  • the formation of a perennial anomalous arc in the vacuum is maintained between the cathode and the anode.
  • an external electron emitter 62 will be used as the electron source only to emit electrons for neutralizing the ion plasma towards the downstream end 15 of the tube 10.
  • This operating mode of the plasma generation system has the advantage that in stationary mode the electron source 60, in this case the external transmitter 62, can operate at a lower power consumption.
  • the plasma generating system (and method) according to the invention is used in a propulsion system of a space vehicle, the ejection of the plasma used for the propulsion of this vehicle.
  • thruster For the space propulsion of a space vehicle, such as a satellite, known Hall effect thrusters (or thruster Hall Effect Thruster).
  • This thruster comprises an annular space with a bottom at one end, and open at the other end, in which a magnetic field is established.
  • a cathode which emits electrons, is located at the open end of the annular space often operating with a gas supply (hollow cathode).
  • the bottom of the annular space is an anode, through which are injected xenon atoms or other propellant gas, often stored in liquefied form.
  • the Electrons emitted by the cathode are trapped at the entrance of the annular space by the magnetic field, where they accumulate, a portion of the electrons continuing their paths to the anode.
  • Propulsive gas atoms are ionized by collision with the electrons in the annulus, and accelerated by the electric field towards the open end of this space. At the exit of this space, the ions are neutralized by crossing the cloud of electrons and ejected out of the space in the form of a zero charge plasma. The ejection of this plasma provides propulsion to the spacecraft.
  • a gas is injected through a tube (hollow cylinder) forming the anode, whose inner surface is covered with a material that emits electrons when heated (thermionic emission).
  • heating the tube causes ionization of the gas as it passes through the tube.
  • the ions thus formed are then accelerated by the potential difference between the anode and the cathode which is located at the end of the tube which is opposite to that by which the gas is injected.
  • the thruster HC has drawbacks.
  • the thruster HC operates with a low potential difference (about 30 V) and therefore a low intrinsic thrust.
  • Further acceleration of ions to achieve higher thrust requires voltages of several hundred volts, which involves the use of polarized grids. These grids are placed downstream of the tube. This complicates the propulsion system. In addition these grids, being subject to the flow of accelerated ions, wear out, which decreases their long-term effectiveness.
  • the propulsion system is simplified because it is not necessary to deposit a coating of additional material, electron source, on the inner face of the tube. Indeed, the electron source is located outside the tube.
  • the initial source (precursor material) of material for the ions is, at ambient temperature, not a gas, nor a liquid, but a solid.
  • the precursor material that is used by the system according to the invention before the start of its operation, and therefore before the heating of this precursor material is a solid metal.
  • the acceleration potential of the ions of the propulsion system is greater than that of the HC thrusters and the ions are accelerated under a sufficiently high voltage (see explanation above), which makes it possible to dispense with the use of polarized grids. and therefore to reduce the weight of the system, and increasing its effectiveness.
  • the system therefore works without acceleration grids.
  • the system operates without magnets and therefore without a magnetic field, unlike HE boosters.
  • the system is therefore simpler and less expensive to manufacture.
  • the system according to the invention is therefore more compact than other systems according to the prior art.
  • the length of the system is of the order of 10 cm, and its diameter is less than 1 cm, for example equal to 0.5 cm.
  • the system according to the invention can also be used for other applications, such as the production of multicharged heavy ions for particle accelerators, or for heavy ion thermonuclear fusion.
  • the system according to the invention thus advantageously replaces the existing systems for producing heavy ions, which use magnetic fields.
  • the pulses provided by the generator are of high power, of the order of several hundred kV.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

L'invention concerne un système de génération d'un jet plasma d'ions métalliques. Ce système comprend un tube (10) en matériau isolant électriquement contenant un métal (20) sous forme solide à température ambiante et une anode (30) en contact avec ce métal (20), un générateur (50) connecté à cette anode (30) apte à créer un potentiel électrique positif au niveau de cette anode (30), un élément de chauffage (40) apte à chauffer une partie du métal (20) à une température de chauffage Tc suffisante pour vaporiser cette partie du métal (20), une source d'électrons (60) située à l'extérieur du tube (10) et hors de l'axe longitudinal du tube (10), et étant apte à générer un flux d'électrons capable de ioniser la vapeur du métal pour former des ions métalliques, de telle sorte que les ions métalliques ainsi produits sont aptes à être accélérés par ce potentiel et éjectés hors du tube (10) par l'extrémité aval (15) du tube (10), et étant neutralisés pour une partie par des électrons afin de former un flux (70) de plasma, le système fonctionnant sans aimants, sans grille d'accélération.

Description

SYSTEME DE GENERATION D'UN JET PLASMA D'IONS
METALLIQUES
La présente invention concerne un système de génération d'un jet plasma. On connaît des systèmes de génération de plasma d'un métal à partir d'un bloc solide de ce métal. De tels systèmes sont utilisés pour déposer un revêtement métallique sur un substrat, en particulier un revêtement en couche mince. Ces systèmes produisent essentiellement des vapeurs métalliques neutres, c'est à dire des atomes de métal dont seulement une partie est ionisée.
Par exemple, un tel système comprend une chambre à vide dans laquelle est placé un bloc de métal qui est porté à un potentiel positif pour devenir une anode, une cathode qui génère des électrons, et un substrat destiné à recevoir un revêtement de ce métal. Le système comprend en outre une série d'aimants qui sont destinés à guider les ions métalliques formés par vaporisation du métal.
Dans un tel système, les électrons émis en faisceau par la cathode sont attirés par le bloc de métal formant anode. Sous l'effet du bombardement par les électrons de ce faisceau et de l'élévation locale et intense de température qui en résulte, une partie du bloc fond et se transforme en gaz métallique. Les atomes de ce gaz sont alors partiellement ionisés par le flux d'électrons émis par la cathode et forment un plasma d'ions positifs de métal et d'électrons. Ces ions métalliques positifs sont accélérés vers la cathode et vers le substrat qui est également placé à un potentiel négatif. La cathode est généralement de forme annulaire, de telle sorte que les ions, guidés par la série d'aimants disposés autour du trajet entre le bloc de métal et le substrat, passent au travers de la cathode et impactent le substrat afin d'y former un revêtement métallique.
Un tel système présente cependant des inconvénients.
En effet, l'émetteur d'électrons est placé sur le trajet du flux d'ions métalliques, et est donc progressivement endommagé par ce flux, notamment à cause d'un dépôt indésirable d'ions métalliques qui se forme sur l'émetteur. La durée de vie de l'émetteur, et par voie de conséquence du système de génération de plasma, est donc réduite.
De plus, l'utilisation d'aimants, nécessaire pour former un flux concentré et directionnel d'ions métalliques (plasma), complexifie le système de génération du plasma. En outre, un dispositif de refroidissement des aimants doit être intégré au système pour éviter que les aimants soient chauffés au-dessus de leur température de Curie sous l'influence du plasma.
La présente invention vise à remédier à ces inconvénients.
L'invention vise à proposer un système de génération d'un jet plasma comprenant des ions métalliques qui soit apte à générer un flux directionnel, dont la durée de vie soit améliorée, dont la fabrication soit simplifiée, et qui fonctionne sans aimants.
Ce but est atteint grâce au fait que le système de génération d'un jet plasma comprend un tube en matériau isolant électriquement contenant un métal sous forme solide à température ambiante et une anode en contact avec ce métal, un générateur connecté à l'anode apte à créer un potentiel électrique positif au niveau de cette anode, un élément de chauffage apte à chauffer une partie du métal à une température de chauffage Te suffisante pour vaporiser cette partie du métal, une source d'électrons située à l'extérieur du tube et hors de l'axe longitudinal du tube, et étant apte à générer un flux d'électrons capable d'ioniser la vapeur du métal pour former des ions métalliques, de telle sorte que les ions métalliques ainsi produits sont aptes à être repoussés et ainsi accélérés par ce potentiel et éjectés hors du tube par l'extrémité aval du tube, et étant neutralisés pour une partie par des électrons afin de former un flux de plasma, le système fonctionnant sans aimants, sans grille d'accélération.
Grâce à ces dispositions, on simplifie le système de génération d'un jet plasma car on n'utilise pas d'aimants pour diriger le flux de plasma. En effet, c'est la distribution spécifique du champ électrique à l'intérieur et à proximité du tube qui dirige le plasma.
De plus, la source d'électrons étant située à l'extérieur du tube et hors de son axe longitudinal, n'est pas endommagé par le faisceau de plasma. La durée de vie du système de génération de plasma est donc augmentée.
Avantageusement, le métal utilisé possède une masse atomique supérieure ou égale à celle de l'or ou possède une température de fusion inférieure ou égale à celle de l'or.
Le système selon l'invention peut fonctionner avec un métal dont la température de fusion est plus faible que d'autres métaux, car le système
FEUILLE DE REMPLACEMENT REGLE 26 n'utilise pas de faisceau d'électrons concentré dont la caractéristique est de chauffer très fortement le métal et donc de l'évaporer trop rapidement, contrairement aux systèmes existants.
Avantageusement, l'élément de chauffage entoure la partie aval du tube.
Avantageusement, le tube est en céramique, assurant l'isolation électrique et thermique.
Avantageusement, l'anode est distincte du métal contenu dans le tube.
Avantageusement, la source d'électrons comprend l'élément de chauffage.
Avantageusement, la source d'électrons comprend un émetteur externe d'électrons distinct de l'élément de chauffage.
L'invention concerne également un procédé de génération de plasma, qui comprend les étapes suivantes :
(a) On fournit un tube en matériau isolant électriquement, contenant un métal sous forme solide à température ambiante, une anode en contact avec ce métal, un générateur électrique connecté à cette anode, et une source d'électrons située à l'extérieur du tube,
(b) On applique un potentiel électrique positif au niveau de l'anode à l'aide du générateur,
(c) On chauffe une partie du métal à une température de chauffage Te suffisante pour vaporiser cette partie du métal,
(d) On ionise la vapeur de métal ainsi produite par les électrons émis par la source d'électrons, pour former des ions métalliques qui sont accélérés par ce potentiel et éjectés hors du tube par l'extrémité aval du tube après avoir été pour une partie neutralisés par des électrons, afin de former un flux de plasma,
le procédé n'utilisant pas d'aimants, pas de grille d'accélération, et pas de gaz en tant que source initiale de matière à ioniser.
Par exemple, le générateur fournit un courant électrique continu.
Par exemple, le générateur fournit des impulsions générant un courant électrique.
L'invention sera bien comprise et ses avantages apparaîtront mieux, à la lecture de la description détaillée qui suit, d'un mode de réalisation représenté à titre d'exemple non limitatif. La description se réfère aux dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 est une vue en coupe longitudinale du système selon l'invention.
- la figure 2 est une vue en coupe longitudinale d'un autre mode de réalisation du système selon l'invention,
- la figure 3 est un graphe montrant l'évolution en fonction du temps de certaines quantités lorsque le système selon l'invention fonctionne avec une série d'impulsions électriques.
Dans la description qui suit les termes "intérieur" et "extérieur" indiquent la région à l'intérieur et à l'extérieur du tube, respectivement. Les termes « amont » et « aval » désignent les parties du tube et du cylindre de métal par rapport au sens de circulation des ions dans le tube.
Comme représenté en figure 1, le système selon l'invention comporte un tube 10, qui contient un cylindre en métal 20 qui fournit les atomes métalliques immédiatement ionisés par la forte densité de courant d'électrons dont l'expulsion hors du tube constitue le jet plasma. Dans la description qui suit, ce métal est appelé « métal plasma » afin de le distinguer d'autres métaux utilisés dans le système.
Le tube 10 est réalisé en un matériau dont la température de fusion est supérieure à la température de fusion Tf du métal plasma 20. Par exemple le tube 10 est en céramique. Cette céramique est par exemple un oxyde d'aluminium, ou un nitrure de bore.
Le tube 10 est isolant électriquement.
Un élément de chauffage 40 entoure au moins la partie aval 12 du tube 10. Cet élément de chauffage 40 est alimenté par une source de chauffage 42. Par exemple l'élément de chauffage 40 entoure tout le tube 10. L'élément de chauffage est par exemple un filament enroulé autour du tube 10 de façon hélicoïdale pour former une spire.
Le système selon l'invention comporte également une source d'électrons 60.
Cette source d'électrons est nécessaire pour équilibrer la charge positive des ions émis par le métal plasma 20, de telle sorte que les particules émises par le système et servant à la propulsion soient globalement électriquement neutres, en aval du cylindre.
Par « globalement » électriquement neutre, on entend que le flux qui sort du tube est un mélange d'ions positifs et d'électrons et d'atomes, formant un plasma. La neutralité du jet plasma permet ainsi de préserver son fort caractère directionnel. Dans un premier mode de réalisation, l'élément de chauffage 40 émet des électrons, et est donc la totalité de la source d'électrons 60. Cela est le cas lorsque l'élément de chauffage 40 est un filament. Ce filament est par exemple en tungstène.
L'élément de chauffage 40 étant la seule source d'électrons 60, la fabrication du système est simplifiée, puisque le système ne comprend pas de source d'électrons distincte.
Dans ce mode de réalisation, l'élément de chauffage 40 est une cathode (chargée négativement).
Selon un second mode de réalisation, l'élément de chauffage 40 n'émet pas d'électrons. Dans ce cas, une source d'électrons 60 distincte de l'élément de chauffage 40, et externe au tube 10, est nécessaire. Cette situation est représentée sur la figure 2. L'élément de chauffage 40 est un anneau qui entoure la partie aval 12 du tube 10.
La source d'électrons 60 est un émetteur externe 62, qui est une cathode située à proximité de l'extrémité aval 15 de la partie aval 12 du tube 10, ou un générateur d'arc.
L'émetteur externe 62 est la seule cathode du système. Dans ce cas, l'élément de chauffage 40 est par exemple réalisé en un matériau tel qu'un alliage Ni-Cr (par exemple le Nichrome ®), un alliage Fe-Cr-AI (tel que le Kanthal ®), ou un cupronickel.
Selon un troisième mode de réalisation, à la fois l'élément de chauffage 40 et l'émetteur externe 62 sont une cathode. La source d'électrons 60 est alors constituée de l'élément de chauffage 40 et de l'émetteur externe 62.
Dans tous les cas, la source d'électrons est située à l'extérieur du tube 10 et hors de l'axe longitudinal du tube 10.
Dans le cas d'une cathode chauffée indirectement, l'élément de chauffage 40 est par exemple réalisé en un matériau tel que l'hexaborure de lanthane, l'hexaborure de cérium, ou des mélanges d'oxides de barium, de strontium, et de calcium.
Alternativement, dans le cas d'une cathode chauffée directement, l'élément de chauffage 40 est entouré par un isolant électrique.
Le système comporte une anode 30 (chargée positivement) qui est en contact avec le métal plasma 20 lorsque ce métal est sous forme solide. L'anode 30 est donc en contact avec le métal plasma 20 situé dans le tube 10. Selon un mode de réalisation, illustré en figure 1, l'anode 30 est distincte du métal plasma 20 et est située à l'intérieur du tube 10. L'anode 30 est réalisée en un matériau conducteur qui reste solide pendant le fonctionnement du système de génération d'un jet plasma. Ainsi, l'anode 30 est un métal avec une température de fusion largement supérieure à celle du métal plasma 20. Par exemple, l'anode est en tungstène, tantale, molybdène, rhénium, ou un alliage de ces métaux.
L'anode 30 est un fil qui s'étend au centre du cylindre de métal plasma 20, de son extrémité amont à son extrémité aval.
Un générateur électrique 50 est connecté à l'anode 30 et maintient le potentiel électrique positif à l'anode 30.
L'anode 30 peut avoir une géométrie quelconque, par exemple un ou plusieurs fils noyés dans le métal plasma 20, ou une grille noyée dans le métal plasma 20, ou une grille qui tapisse la face interne du tube 10. Quelle que soit sa géométrie, l'anode 30 est toujours en contact avec le métal plasma 20, ce qui permet de maintenir l'arrivée du flux d'électrons dans le métal plasma 20.
Ce mode de réalisation présente l'avantage que le potentiel électrique est maintenu sur le métal plasma 20 même lorsqu'une partie du métal plasma 20 passe en phase liquide.
Un autre avantage est qu'en cas de formation de gouttelettes de métal en aval du cylindre de métal plasma 20 pendant sa vaporisation partielle, la connexion électrique à l'anode 30 est toujours réalisée. En effet ces gouttelettes sont susceptibles de perturber cette connexion électrique.
Alternativement, l'anode 30 est formée par le métal plasma 20 lui- même.
Par l'expression « anode en contact avec le métal », on couvre le mode de réalisation où l'anode est un élément distinct du métal et en contact avec le métal, et le mode de réalisation où l'anode est formée par le métal.
Avantageusement, l'alimentation du cylindre en métal plasma 20 s'effectue en continu, c'est-à-dire que le cylindre 20 coulisse dans le tube 10 de l'amont vers l'aval de telle sorte que son extrémité aval solide se situe toujours sensiblement à la même position dans le tube 10 au fur et à mesure où le métal plasma 20 situé au niveau de l'extrémité aval 15 du tube 10 est vaporisée. Par exemple le cylindre en métal plasma 20 est fourni à partir d'une bobine.
Le métal plasma 20 est solide à température et pression ambiantes (environ 20°C, 1 atmosphère). Le système de génération de plasma selon l'invention utilise de préférence un métal plasma 20 dont la masse atomique est supérieure ou égale à celle de l'or (dont la masse atomique est de 197), ou dont la température de fusion est inférieure ou égale à celle de l'or (1064°C).
Par exemple les métaux plasmas sont choisis parmi le plomb (masse atomique de 207, température de fusion de 327°C), le bismuth (masse atomique de 208, température de fusion de 271°C), l'étain (température de fusion de 232°C), le zinc (température de fusion de 420°C), le tellure (température de fusion de 450°C), , l'indium (température de fusion de 156°C), le thallium (masse atomique de 204, température de fusion de 303°C).
Avantageusement, la température de fusion du métal plasma 20 est inférieure à 500°C.
Avantageusement, le métal plasma 20 a une masse atomique supérieure ou égale à celle de l'or, et une température de fusion est inférieure ou égale à celle de l'or.
L'utilisation de métaux avec une masse atomique élevée présente plusieurs avantages.
En effet, d'une part ces métaux présentent une température de fusion plus faible que d'autres métaux.
La température de chauffage nécessaire pour fondre ces métaux, qui est au maximum de l'ordre de la température de fusion Tf du métal, est alors moins élevée, ce qui permet de s'affranchir d'un dispositif de refroidissement du tube 10.
De plus, la puissance nécessaire pour chauffer le métal plasma 20 et produire les ions est plus faible, ce qui signifie une dépense d'énergie plus faible. Dans le jet plasma généré par le système selon l'invention, les seuls ions sont des ions métalliques.
D'autre part, le système selon l'invention peut être utilisé dans un système de propulsion de véhicule spatial. En effet, l'éjection du plasma génère un moment pouvant servir à la propulsion (voir ci-dessous la description des systèmes de propulsion). Ainsi, plus le métal plasma 20 présente une masse atomique élevée (en particulier si elle est supérieure à celle du xénon (de masse atomique 131), plus l'impulsion générée lors de l'expulsion de ce métal est supérieure à celle générée lorsque le xénon est utilisé, pour le même état d'ionisation.
En outre, un métal avec une masse atomique élevée présente un premier potentiel d'ionisation plus faible que d'autres matériaux. Par exemple, il est de 6.1 eV pour le thallium, de 7.4 eV pour le plomb, et de 9.2 eV pour l'or, ce qui est plus faible que le potentiel d'ionisation du xénon (12.1 eV). Ainsi, la probabilité d'ioniser ces métaux est plus élevée que celle d'ioniser le xénon.
De plus, un métal avec une masse atomique élevée présente une probabilité plus élevée d'être doublement ionisé, c'est-à-dire qu'il perd deux électrons pour former des ions métalliques. Ainsi, à puissance d'alimentation électrique égale, un ion de ce métal est davantage accéléré que les ions ne perdant qu'un seul électron, tel que généralement le cas pour le Xénon. Par exemple, les potentiels de double ionisation du plomb (15 eV), du thallium (20,4 eV) et de l'or (20,2 eV) sont inférieurs au potentiel de double ionisation du Xénon (21 eV).
L'invention concerne également un procédé de génération de plasma, dont le fonctionnement est décrit ci-après.
Le cylindre de métal plasma 20, sous forme solide, est placé dans le tube 10. Le métal plasma 20 est ensuite chauffé par l'élément de chauffage 40, alimenté par la source de chauffage 42, à une température de chauffage Te suffisante pour vaporiser l'extrémité aval du cylindre de métal plasma 20. La température de chauffage Te est donc bien supérieure à la température ambiante. Simultanément, le métal plasma 20 est placé à un potentiel positif non nul par le générateur 50 (soit directement, soit par l'intermédiaire de l'anode 30 en contact avec le métal plasma 20).
Le gaz métallique, produit de cette vaporisation, est ionisé par les électrons émis par la source d'électrons 60 (qui est soit l'élément de chauffage 40, soit l'émetteur externe 62, soit l'ensemble des deux). Ces ions métalliques sont repoussés par le cylindre de métal 20 car ils sont de même charge positive, et sont accélérés vers l'extrémité aval 15 du tube 10. Ces ions métalliques, qui forment un plasma, entrent en outre en collision avec les électrons émis par la source d'électrons 60 de telle sorte que le flux plasma 70 émis par le tube 10 à son extrémité aval 15 est pour partie un flux de particules métalliques électriquement neutres, pour partie un flux d'ions métalliques, pour partie un flux d'électrons. La direction de propagation du flux 70 est indiquée par une flèche sur les figures 1 et 2.
Ainsi, les ions métalliques sont accélérés puis éjectés du tube 10, et pendant leur éjection une partie de ces ions métalliques est neutralisée par collision avec les électrons émis par la source d'électrons 60. Ces ions métalliques qui sont neutralisés sont transformés en particules métalliques électriquement neutres.
Le système selon l'invention ne comporte pas de grille d'accélération des ions, contrairement aux propulseurs HC (voir ci-dessous). En effet, ces grilles sont inutiles car les ions sont repoussés par l'anode et accélérés sous une tension positive suffisamment élevé (voir explication ci-dessous). Ainsi, la fabrication du système est simplifiée.
Le système selon l'invention ne comporte pas d'aimants, contrairement aux propulseurs HE (voir ci-dessous). Le système n'utilise donc pas de champ magnétique généré par des aimants pour agir sur les électrons, ou sur les ions éjectés du métal. Le système est donc plus simple et moins coûteux à fabriquer.
Le système selon l'invention est par conséquent plus compact que d'autres systèmes selon l'art antérieur. Par exemple, la longueur du système est de l'ordre de 10 cm, et son diamètre est inférieur à 1 cm, par exemple égal à 0,5 cm.
Le tube 10 étant chauffé lorsque le système fonctionne, les particules de vapeur métallique qui auraient pu se déposer sur la surface interne de la partie aval du tube 10 seront aisément vaporisées et se décolleront de la surface lors d'un futur fonctionnement. Ainsi, le tube 10 n'est pas encrassé par des dépôts.
Avantageusement, le système selon l'invention fonctionne en courant continu généré par le générateur 50, ce qui évite l'interférence avec les composants électroniques éventuellement situés à proximité du système qui pourrait se produire si l'on utilise de la radiofréquence ou des hautes fréquences.
Le potentiel fournit à l'anode 30 par le générateur 50 est de l'ordre de plusieurs centaines de Volts. L'intensité du courant est de l'ordre de 1 Ampère et plus, pouvant atteindre par exemple 5A ou plus en mode impulsionnel.
Alternativement, le système fonctionne avec une série d'impulsions électriques (courant puisé), à l'aide d'un générateur d'impulsions. Ce mode de fonctionnement présente l'avantage de fournir une poussée plus élevée dans le cas où le système selon l'invention est utilisé dans un système de propulsion de véhicule spatial (voir ci-dessous). Le générateur d'impulsions est alimenté par le générateur 50. Les essais réalisés par les inventeurs montrent que l'on peut atteindre un courant stable de 2 A (Ampères) avec un saut de tension moyen de 2 kV (kiloVolts), ce qui donne une puissance à chaque impulsion de 4 kW (kiloWatts) par impulsion. La durée de l'impulsion est variable entre 10 et quelques centaines de s. Dans l'exemple de fonctionnement donné en figure 3, la durée de l'impulsion est de 40 (microsecondes) environ. La courbe référencée S représente le signal de l'impulsion (en Volts), la courbe référencée V représente le potentiel de décharge à l'anode (en kiloVolts), la courbe référencée I représente le courant de décharge à l'anode (en Ampères). La durée de l'impulsion est de 40 με (microsecondes), l'unité sur l'axe des abscisses de la figure 3 étant en με.
Cette puissance génère une poussée qui est bien supérieure à celle obtenue avec les propulseurs HE, pour une masse embarquée équivalente (voir ci-dessous).
De plus, l'utilisation des générateurs d'impulsions de plus grande puissance permet en plus d'augmenter le courant, donc le jet plasma, de réaliser d'ionisations multiples, très utiles dans le cas où le système serait utilisé pour un tel objectif.
De plus, le système permet le transfert efficace de moment aux ions lourds, d'autant plus grand que la tension appliquée à l'anode est grande.
Contrairement aux systèmes de l'art antérieur qui utilisent exclusivement une source d'électrons externe (cathode) et pour lesquels il se forme un arc entre la cathode et l'anode, le système selon l'invention ne fonctionne pas en régime d'arc standard. Au contraire, la tension fournie initialement est de l'ordre de plusieurs milliers de Volts, et se maintient à quelques centaines de Volts après formation de l'arc (phénomène de rupture ou claquage). La valeur élevée de ce voltage (tension) même après claquage (comparé au régime d'arc standard où le voltage est inférieur à 100 Volts), est due à la formation en sortie aval du tube 10 d'une sphère de plasma dont la surface est la frontière de l'onde de choc générée par l'expansion du flux d'ions dans le vide. Ainsi, cette frontière est fortement chargée électriquement, ce qui contribue à accélérer les ions métalliques éjectés par le cylindre de métal plasma 20. Pour distinguer ce mode de fonctionnement de l'arc standard, il sera nommé « arc anomal ».
C'est ce fonctionnement particulier du système de d'accélération selon l'invention qui permet de s'affranchir de l'utilisation de grilles d'accélération des ions dans le cas où le système selon l'invention est utilisé dans un système de propulsion de véhicule spatial (voir ci-dessous).
Avantageusement, une fois le plasma généré depuis le cylindre de métal 20 comme expliqué ci-dessus, il est possible sous certaines conditions d'éteindre la source de chauffage 42 alors que l'arc anomal continue à fonctionner. En effet, les ions métalliques sont naturellement repoussés par l'anode, et en régime stationnaire le plasma s'auto- entretient avec un chauffage entretenu par le courant de décharge (Le., les électrons du plasma qui rejoignent l'anode), surtout pour des régimes de courant élevé. Ainsi la formation d'un arc anomal pérenne dans le vide est entretenue entre la cathode et l'anode. Dans ce cas on utilisera un émetteur d'électrons externe 62 comme source d'électrons uniquement pour émettre des électrons servant à neutraliser le plasma d'ions vers l'extrémité aval 15 du tube 10.
Avantageusement, lorsque l'arc anomal est entretenu, on peut faire fonctionner la cathode sans chauffage additionnel. Ce mode de fonctionnement du système de génération de plasma présente l'avantage qu'en régime stationnaire la source d'électrons 60, en l'espèce l'émetteur externe 62, peut fonctionner à une puissance électrique consommée plus faible.
Avantageusement, le système (et le procédé) de génération de plasma selon l'invention est utilisé dans un système de propulsion d'un véhicule spatial, l'éjection du plasma servant à la propulsion de ce véhicule.
Pour la propulsion dans l'espace d'un véhicule spatial, tel un satellite, on connaît les propulseurs à effet Hall (ou propulseur HE (« Hall Effect Thruster »)). Ce propulseur comporte un espace annulaire avec un fond à une extrémité, et ouvert à l'autre extrémité, dans lequel un champ magnétique est établi. Une cathode, qui émet des électrons, est située à l'extrémité ouverte de l'espace annulaire souvent fonctionnant avec une alimentation en gaz (cathode creuse). Le fond de l'espace annulaire constitue une anode, au travers de laquelle sont injectés des atomes de xénon ou un autre gaz propulsif, stocké souvent sous forme liquéfiée. Les électrons émis par la cathode sont piégés à l'entrée de l'espace annulaire par le champ magnétique, où ils s'accumulent, une partie des électrons poursuivant leurs trajets vers l'anode. Les atomes de gaz propulsif sont ionisés par collision avec les électrons dans l'espace annulaire, et accélérés par le champ électrique en direction de l'extrémité ouverte de cet espace. En sortie de cet espace, les ions sont neutralisés en traversant le nuage d'électrons et éjectés hors de l'espace sous forme d'un plasma à charge nulle. L'éjection de ce plasma fournit la propulsion au véhicule spatial.
Pour diminuer le poids du système de propulsion, on cherche à en diminuer la taille. Or cette diminution implique une augmentation du champ magnétique pour conserver le même rendement, ce qui implique une consommation en énergie supplémentaire, et souvent le besoin d'un système de refroidissement des aimants afin de ne pas dépasser la température de Curie ou l'emploi d'électroaimants très consommateurs d'énergie.
Il a alors été développé des systèmes de propulsion fonctionnant sans champ magnétique, en particulier le propulseur à cathode creuse (ou propulseur HC (« Hollow Cathode Thruster »)).
Dans le propulseur HC, un gaz est injecté au travers d'un tube (cylindre creux) formant l'anode, dont la surface interne est recouverte d'un matériau qui émet des électrons lorsqu'il est chauffé (émission thermoionique). Ainsi, le chauffage du tube entraîne une ionisation du gaz lors de son passage au travers du tube. Les ions ainsi formés sont ensuite accélérés par la différence de potentiel entre l'anode et la cathode qui est située à l'extrémité du tube qui est opposée à celle par laquelle le gaz est injecté.
Le propulseur HC présente des inconvénients.
En effet, le propulseur HC fonctionne avec une différence de potentiel faible (30 V environ) et donc une poussée intrinsèque faible. Accélérer davantage les ions afin d'obtenir une poussée supérieure requiert des voltages (tension) de plusieurs centaines de volts, ce qui implique l'utilisation de grilles polarisées. Ces grilles sont placées en aval du tube. Ceci complexifie le système de propulsion. De plus ces grilles, étant soumises au flux des ions accélérés, s'usent, ce qui diminue leur efficacité à long terme.
Ainsi, en utilisant dans le système de propulsion un système de génération d'un jet plasma tel que décrit ci-dessus et dans lequel c'est le flux 70 de plasma qui propulse le véhicule spatial, on simplifie le système de propulsion car il n'est pas nécessaire de déposer un revêtement d'un matériau supplémentaire, source d'électrons, sur la face interne du tube. En effet, la source d'électrons est située à l'extérieur du tube.
Selon l'invention, la source initiale (matériau précurseur) de matière pour les ions (matière à ioniser) n'est, à température ambiante, pas un gaz, ni un liquide, mais un solide. En d'autres termes, le matériau précurseur qui est utilisé par le système selon l'invention avant le début de son fonctionnement, donc avant le chauffage de ce matériau précurseur, est un métal solide.
L'utilisation d'un métal solide comme source initiale de matière pour les ions et non d'un gaz tel que le xénon ou d'un liquide permet de simplifier la fabrication et de diminuer la masse (embarquée) du système de propulsion puisqu'il n'est plus nécessaire d'utiliser des conteneurs pressurisés de gaz avec un contrôle de température, et les équipements associés (tuyaux de circulation du gaz, valves).
Le potentiel d'accélération des ions du système de propulsion est supérieur à celui des propulseurs HC et les ions sont accélérés sous un voltage suffisamment élevé (voir explication ci-dessus), ce qui permet de s'affranchir de l'utilisation de grilles polarisées et donc de diminuer le poids du système, et ce qui en augmente l'efficacité.
Le système fonctionne donc sans grilles d'accélération.
Le système fonctionne sans aimants donc sans champ magnétique, contrairement aux propulseurs HE. Le système est donc plus simple et moins coûteux à fabriquer.
Le système selon l'invention est par conséquent plus compact que d'autres systèmes selon l'art antérieur. Par exemple, la longueur du système est de l'ordre de 10 cm, et son diamètre est inférieur à 1 cm, par exemple égal à 0,5 cm.
Le système selon l'invention peut également être utilisé pour d'autres applications, telles que la production d'ions lourds multichargés pour des accélérateurs de particules, ou pour la fusion thermonucléaire par ions lourds. Le système selon l'invention remplace ainsi avantageusement les systèmes existants de production d'ions lourds, qui utilisent des champs magnétiques.
Dans les accélérateurs, les impulsions fournies par le générateur sont d'une haute puissance, de l'ordre de plusieurs centaines de kV.

Claims

REVENDICATIONS
1. Système de génération d'un jet plasma, caractérisé en ce qu'il comprend un tube (10) en matériau isolant électriquement contenant un métal (20) sous forme solide à température ambiante et une anode (30) en contact avec ledit métal (20), un générateur électrique (50) connecté à ladite anode (30) apte à créer un potentiel électrique positif au niveau de ladite anode (30), un élément de chauffage (40) apte à chauffer une partie dudit métal (20) à une température de chauffage Te suffisante pour vaporiser ladite partie du métal (20), une source d'électrons (60) située à l'extérieur du tube (10) et hors de l'axe longitudinal du tube (10), et étant apte à générer un flux d'électrons capable de ioniser la vapeur dudit métal pour former des ions métalliques, de telle sorte que les ions métalliques ainsi produits sont aptes à être repoussés et ainsi accélérés par ce potentiel et éjectés hors dudit tube (10) par l'extrémité aval (15) dudit tube (10), et étant neutralisés pour une partie par des électrons afin de former un flux (70) de plasma, ledit système fonctionnant sans aimants, sans grille d'accélération.
2. Système de génération d'un jet plasma selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit métal (20) possède une masse atomique supérieure ou égale à celle de l'or, ou possède une température de fusion inférieure ou égale à celle de l'or.
3. Système de génération d'un jet plasma selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit élément de chauffage (40) entoure la partie aval (12) dudit tube (10).
4. Système de génération d'un jet plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit tube (10) est en céramique.
5. Système de génération d'un jet plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'anode (30) est distincte du métal (20) contenu dans ledit tube (10).
6. Système de génération d'un jet plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que ladite source d'électrons (60) comprend ledit élément de chauffage (40).
7. Système de génération d'un jet plasma selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que ladite source d'électrons (60) comprend un émetteur externe d'électrons (62) distinct dudit élément de chauffage (40).
8. Système de propulsion pour un véhicule spatial caractérisé en ce qu'il comprend un système de génération d'un jet plasma selon l'une quelconque des revendications précédentes, l'éjection dudit plasma servant à la propulsion.
9. Procédé de génération d'un jet plasma caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes :
(a) On fournit un tube (10) en matériau isolant électriquement, contenant un métal (20) sous forme solide à température ambiante, une anode (30) en contact avec ledit métal (20), un générateur (50) connecté à ladite anode (30), et une source d'électrons (60) située à l'extérieur du tube (10) et hors de l'axe longitudinal du tube (10),
(b) On applique un potentiel électrique positif au niveau de ladite anode (30) à l'aide dudit générateur (50),
(c) On chauffe une partie dudit métal (20) à une température de chauffage Te suffisante pour vaporiser ladite partie du métal (20),
(d) On ionise la vapeur dudit métal ainsi produite par les électrons émis par ladite source d'électrons (60), pour former des ions métalliques qui sont accélérés par ledit potentiel et éjectés hors dudit tube (10) par l'extrémité aval (15) dudit tube (10), et étant pour une partie neutralisés par des électrons, afin de former un flux (70) de plasma, ledit procédé n'utilisant pas d'aimants, pas de grille d'accélération.
10. Procédé de génération d'un jet plasma selon la revendication 9, caractérisé en ce que ledit générateur (50) fournit un courant électrique continu.
11. Procédé de génération d'un jet plasma selon la revendication 9, caractérisé en ce que ledit générateur (50) fournit des impulsions générant un courant électrique.
EP18705434.1A 2017-01-30 2018-01-30 Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques Active EP3574719B1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1750750A FR3062545B1 (fr) 2017-01-30 2017-01-30 Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques
PCT/FR2018/050205 WO2018138458A1 (fr) 2017-01-30 2018-01-30 Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP3574719A1 true EP3574719A1 (fr) 2019-12-04
EP3574719B1 EP3574719B1 (fr) 2022-04-20

Family

ID=59253595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP18705434.1A Active EP3574719B1 (fr) 2017-01-30 2018-01-30 Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10863612B2 (fr)
EP (1) EP3574719B1 (fr)
FR (1) FR3062545B1 (fr)
WO (1) WO2018138458A1 (fr)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110732301B (zh) * 2019-11-08 2021-07-13 天津双微电子科技有限公司 液态汽化等离子体结构
CN118273902B (zh) * 2024-04-17 2025-09-16 哈尔滨工业大学 一种微阴极电弧推力器

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4328667A (en) * 1979-03-30 1982-05-11 The European Space Research Organisation Field-emission ion source and ion thruster apparatus comprising such sources
DE10130464B4 (de) * 2001-06-23 2010-09-16 Thales Electron Devices Gmbh Plasmabeschleuniger-Anordnung
US6769241B2 (en) * 2001-07-09 2004-08-03 W. E. Research Llc Description of methods to increase propellant throughput in a micro pulsed plasma thruster
DE10153723A1 (de) * 2001-10-31 2003-05-15 Thales Electron Devices Gmbh Plasmabeschleuniger-Anordnung
HUP0400808A2 (hu) * 2004-04-19 2005-11-28 Dr.Kozéky László Géza Fémgőz ívű plazmafáklya és annak alkalmazása a metallurgiában, a plazmaenergiás pirolízisben és vitrifikációban, és más anyagátalakító eljárásokban
US7701145B2 (en) * 2007-09-07 2010-04-20 Nexolve Corporation Solid expellant plasma generator
DE102007044074B4 (de) * 2007-09-14 2011-05-26 Thales Electron Devices Gmbh Elektrostatische Ionenbeschleunigeranordnung
US9603233B2 (en) * 2010-11-11 2017-03-21 Schlumberger Technology Corporation Particle accelerator with a heat pipe supporting components of a high voltage power supply
FR3040442B1 (fr) * 2015-08-31 2019-08-30 Ecole Polytechnique Propulseur ionique a grille avec propergol solide integre

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018138458A1 (fr) 2018-08-02
US10863612B2 (en) 2020-12-08
FR3062545B1 (fr) 2020-07-31
EP3574719B1 (fr) 2022-04-20
FR3062545A1 (fr) 2018-08-03
US20190373711A1 (en) 2019-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0650557B1 (fr) Moteur a plasma a derive fermee d'electrons
EP2798209B1 (fr) Propulseur plasmique et procede de generation d'une poussee propulsive plasmique
EP0781921B1 (fr) Source d'ions à dérive fermée d'électrons
CA2996431C (fr) Propulseur ionique a grille avec agent propulsif solide integre
EP0645947B1 (fr) Tube neutronique à confinement magnétique des électrons par aimants permanents et son procédé de fabrication
FR2550681A1 (fr) Source d'ions a au moins deux chambres d'ionisation, en particulier pour la formation de faisceaux d'ions chimiquement reactifs
FR2490399A1 (fr) Procede et appareil pour la pulverisation ou vaporisation utilisant une source d'ions amelioree
CN101027481A (zh) 宇宙飞船推进器
EP1178134A1 (fr) Procédé et dispositif pour traiter des substrats métalliques au défilé par plasma
US7557511B2 (en) Apparatus and method utilizing high power density electron beam for generating pulsed stream of ablation plasma
EP0914560A1 (fr) Dispositif de concentration de faisceau d'ions pour propulseur a plasma et propulseur a plasma equipe d'un tel dispositif
FR2924473A1 (fr) Systeme de propulsion electrique hall.
EP0362947B1 (fr) Tube neutronique scellé équipé d'une source d'ions multicellulaire à confinement magnétique
EP3574719B1 (fr) Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques
EP3250822B1 (fr) Propulseur à effet hall et engin spatial comprenant un tel propulseur
FR2984028A1 (fr) Eclateur haute tension a amorcage par laser comportant une cathode en materiau refractaire poreux a charge photoemissive
EP1767894B1 (fr) Dispositif embarqué de génération de décharges plasma pour le pilotage d'un engin supersonique ou hypersonique
FR2644286A1 (fr) Generateur de faisceau d'electrons et dispositifs electroniques utilisant un tel generateur
FR2650884A1 (fr) Charge pour lanceur electrothermique
FR2635913A1 (fr) Diode a emission de champ
EP3350441A1 (fr) Procédé d'alimentation pour la propulsion de satellite et module de propulsion de satellite alimenté selon ce procédé
FR3053742A1 (fr) Procede de controle d’un propulseur electrique a effet hall
WO2024133796A1 (fr) Propulseur a resonance cyclotronique electronique
WO2025133525A1 (fr) Cathode pour un propulseur ionique a effet hall

Legal Events

Date Code Title Description
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: UNKNOWN

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE INTERNATIONAL PUBLICATION HAS BEEN MADE

PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20190724

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: BA ME

DAV Request for validation of the european patent (deleted)
DAX Request for extension of the european patent (deleted)
GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20211202

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: FRENCH

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 602018034110

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1486189

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20220515

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG9D

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MP

Effective date: 20220420

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MK05

Ref document number: 1486189

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220822

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220720

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220721

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220720

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220820

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 602018034110

Country of ref document: DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed

Effective date: 20230123

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230130

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MM

Effective date: 20230131

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230131

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230131

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230131

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230130

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT; INVALID AB INITIO

Effective date: 20180130

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT; INVALID AB INITIO

Effective date: 20180130

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220420

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20260128

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20260223

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20260130

Year of fee payment: 9