DE914527C

DE914527C - Electrostatic deflection system, especially for multiple oscilloscopes

Info

Publication number: DE914527C
Application number: DES25539D
Authority: DE
Inventors: Dr Phil Habil Hermann Hinderer
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1942-04-30
Filing date: 1942-05-01
Publication date: 1954-07-05

Description

Es sind Mehrfachoszillographen mit elektrostatischer Ablenkung des Elektronenstrahles bekannt, bei denen die Meßablenkkondensatoren dicht übereinander angeordnet und zusammen mit einer Abschirmung zu einem Kästchen vereinigt sind. Bei Kathodenstrahloszillographen dieser Bauart macht es keine Schwierigkeiten, die in einer Richtung abgelenkten Elektronenstrahlen auch noch unabhängig von der ersten Ablenkung in einer anderen (im allgemeinen senkrecht zur ersten) Richtung abzulenken, vorausgesetzt, daß diese zweite Ablenkung für sämtliche Teilbündel des Elektronenstrahles den gleichen zeitlichen Verlauf hat. Diese Voraussetzung ist bei vielen Aufgaben erfüllt, denn in der Regel dient das zweite Ablenksystem zur Herstellung der gemeinsamen Zeitachse. Bisweilen sollen aber auch Mehrfachoszillogramme aufgenommen werden, bei denen die einzelnen Kurven zeitlich verschieden stark aufgelöst werden müssen, oder es ist zur Herstellung von stehenden Figuren für jeden TeilstraJil eine von den anderen völlig unabhängige Ablenkung in zwei Koordinatenrichtungen erforderlich. Bei dem Versfuch, das obenerwähnte Mehrfachablenksystem durdh eine Ablenkmöglichkeit in einer zweiten Richtung, und zwar für jeden Teilstrahl unabhängig, zu ergänzen, treten erhebliche Schwierigkeiten auf. Mit Rücksicht auf die Leuchtfleckschärfe und auf die Proportionalität der Auslenkung des Elektronenstrahles mit der angelegtenMultiple oscilloscopes with electrostatic deflection of the electron beam are known, in which the Meßablenkkondensatoren arranged close to each other and together with a Shielding are combined into a box. With cathode ray oscillographs of this type there is no problem with the electron beams deflected in one direction also being independent from the first deflection in another (generally perpendicular to the first) Direction to deflect, provided that this second deflection for all sub-beams of the Electron beam has the same time course. This is a prerequisite for many tasks fulfilled, because usually the second deflection system is used to produce the common Timeline. Sometimes, however, multiple oscillograms should also be recorded for which the individual curves have to be resolved to different degrees over time, or it is for production of standing figures one for each part of the trail Distraction in two coordinate directions that is completely independent of the others is required. In which Try the multiple deflection system mentioned above by one deflection in a second Direction, and that independently for each partial beam, add considerable difficulties on. Taking into account the sharpness of the light spot and the proportionality of the deflection of the electron beam with the applied

Ablenkspannung soll das Ablenkfeld an der Stelle, an der der Elektronenstrahl durchtritt, möglichst homogen sein. Zwischen ebenen Elektroden läßt sich ein homogenes Feld mit großer Annäherung an allen Stellen erzielen, die weit vom Elektrodenrand entfernt sind. Senkrecht zur Strahl- und Ablenkrichtung sind nun für die zusätzlichen Ablenksysteme, die als Zeitablenksysteme bezeichnet werden mögen, die Plattenabmessungen durch die ίο Abstände der Meßplattenpaare vorgegeben. Es ist überdies nicht zweckmäßig, durch Verringerung des Abstandes der Zeitablenkplatten das Feld homogener zu machen, da hierdurch die Leuchtneckschärfe verringert wird.The deflection voltage should be the deflection field at the point where the electron beam passes through, if possible be homogeneous. A homogeneous field with close proximity can be created between flat electrodes at all points that are far from the edge of the electrode. Perpendicular to the direction of the beam and deflection are now for the additional distraction systems known as time distraction systems the plate dimensions are given by the ίο distances between the measuring plate pairs. It is In addition, not expedient, by reducing the distance between the time deflection plates, the field to make it more homogeneous, as this increases the sharpness of the luminous neck is decreased.

Die Erfindung zeigt einen Weg, auf dem die geschilderten Schwierigkeiten vermieden werden können. Gemäß der Erfindung dienen bei einem elektrostatischen Ablenksystem, insbesondere für Mehrfachoszillographen, als Ablenkplatten zwei senkrecht zueinander angeordnete und elektrisch parallel geschaltete Plattenpaare 5 und 6. Die Ablenkungen derartiger Plattenpaare addieren sich bekanntlich vektoriell. Bei der Anordnung nach der Erfindung erfolgt die Ablenkung in einer anderen Richtung als in der senkrechten auf den Plattenebenen, es kann daher die Ausdehnung der Ablenkung vergrößert und der Randeinfluß des Ablenksystems ausgeschaltet werden.The invention shows a way on which the described Difficulties can be avoided. According to the invention are used in an electrostatic deflection system, in particular for Multiple oscillographs, as deflection plates, two mutually perpendicular and electrical Plate pairs 5 and 6 connected in parallel. The deflections of such plate pairs add up known to be vectorial. In the arrangement according to the invention, the deflection takes place in one other direction than in the vertical on the plane of the plate, it can therefore extend the Distraction increased and the edge influence of the deflection system eliminated.

In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele nach der Erfindung dargestellt. Fig. 1 zeigt zunächst ein Ablenkkästchen, wie es für eine Verwendung in Mehrfachoszillographen bereits vorgeschlagen worden ist. Die Meßplatten 1 bilden zusammen mit den Abschirmungen 2 ein Ablenkkästchen, hinter dem die Zeitablenkplatten 3 sichtbar sind.In the drawing, exemplary embodiments according to the invention are shown. Fig. 1 shows first a deflection box as already proposed for use in multiple oscilloscopes has been. The measuring plates 1 together with the shields 2 form a deflection box, behind which the time deflection plates 3 are visible.

Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 sind die beiden zusammenwirkenden Plattenpaare 5 und 6 so bemessen und angeordnet, daß sie auf dem Leuchtschirm gleich große Ablenkungen des Elektronenstrahles bei einer bestimmten Ablenkspannung bewirken und die Ausschläge für sich genommen in zueinander senkrechten¹ Richtungen erfolgen. Durch das Zusammenwirken beider Plattenpaare entsteht ein Ausschlag, der gegen die Plattenebenen 7 und 8 unter 45⁰¹ geneigt ist. Diese Ablenkrichtung ist in der Fig. 2 b mit 9 bezeichnet. Faßt man bei einem Ablenksystem für Mehrfachoszillographen sämtliche einander parallelen Plattenpaare zusammen, so entstehen mit den Abschirmungen zwei Kästchen (vgl. Fig. 3 b) für die Zeitablenkung, die in ihrem Aufbau der Meßablenkvorrichtung nach Fig. 1 entsprechen. Beide Kästchen bilden hintereinander angeordnet in der Durchsicht ein quadratisches Raster, von dessen Elementen nur die in einer Diagonalen liegenden verwendet werden (vgl. Fig. 3 a). Die Zeitablenkungen erfolgen senkrecht zu dieser Diagonalen. Beide Kästchen zusammen sind also unter 45⁰ geneigt gegen das Meßablenksystem angeordnet. Die nicht für die Zeitablenkungen verwendeten Elemente des gekreuzten Kästchensystems werden zweckmäßig abgedeckt, was durch die Schraffierung in Fig. 3 a angedeutet sein soll.In the embodiment according to FIG. 2, the two mating plate pairs 5 and 6 are so sized and arranged as to cause the electron beam for a given deflection voltage on the phosphor screen of the same size distraction and the swings take place in itself in mutually perpendicular ¹ directions. The interaction of the two pairs of plates creates a deflection that is inclined ^{towards the plate planes 7 and 8 below 45 01.} This deflection direction is denoted by 9 in FIG. 2 b. If, in a deflection system for multiple oscilloscopes, all parallel plate pairs are combined, then two boxes (cf. Both boxes, arranged one behind the other, form a square grid, of the elements of which only those lying on a diagonal are used (cf. FIG. 3 a). The time deviations take place perpendicular to this diagonal. Both boxes together are so inclined at 45 ⁰ to the Meßablenksystem arranged. The elements of the crossed box system that are not used for the time diversions are expediently covered, which is intended to be indicated by the hatching in FIG. 3a.

Die Ablenkplattenpaare zweier zusammengehöriger, also mit gleichen Spannungen betriebener Zeitablenkkästchen müssen sorgfältig gegeneinander abgeschirmt sein. Zweckmäßig werden die einander zugekehrten Seiten zusammengehöriger Ablenkkästchen mit Blenden in Form von springender Nasen versehen, wie sie in Fig. 4 bei 10 angedeutet sind. Die Vorsprünge 10 überragen die Ablenkplatten 11 mindestens so weit, daß sie in der Darstellung der Fig. 4 von links betrachtet die Ablenkplatten 11 verdecken.The deflection plate pairs of two related, i.e. operated with the same voltages Time divider boxes must be carefully shielded from one another. The facing sides of related deflection boxes with screens in the form of jumping Provided lugs, as indicated in FIG. 4 at 10. The projections 10 protrude beyond the Deflection plates 11 at least so far that they are viewed in the illustration of FIG. 4 from the left Cover baffles 11.

Ablenksysteme nach der Erfindung können auch mit Vorteil bei Einstrahlröhren Verwendung finden, wenn die Ablenkung unsymmetrisch betrieben wird, d. h. wenn die Meßspannungen einpolig geerdet werden. Die gekreuzten Systeme nach der Erfindung haben bessere Abbildungseigenschaften als gewöhnliche Systeme. Deshalb können auch gewöhnliche Kathodenstrahloszillographen zweckmäßig mit zwei Paaren gekreuzter Ablenkplatten versehen werden,Deflection systems according to the invention can also be used with advantage in single-beam tubes find when the deflection is operated asymmetrically, d. H. if the measuring voltages are unipolar be grounded. The crossed systems according to the invention have better imaging properties than ordinary systems. Therefore, ordinary cathode ray oscillographs can also suitably be provided with two pairs of crossed baffles,

Claims

Patent claims:

1. Electrostatic deflection system, in particular for multiple oscilloscopes, characterized in that that two pairs of plates (5, 6) arranged perpendicular to one another and electrically connected in parallel are used as deflection plates.

2. deflection system according to claim 1, characterized characterized in that the plate pairs are dimensioned and arranged such that they are equal to one another for a given deflection voltage cause large deflections of the electron beam on the fluorescent screen.

3. deflection system according to claim 1 for use as a time deflection system in multiple oscilloscopes, characterized in that the individual plate pairs with their shields form two boxes, the such are connected to each other so that they form a square grid when viewed through, of its elements only those lying in a diagonal for the distraction of the Electron beams are used.

4. deflection system according to claim 3, characterized in that the time deflection is perpendicular takes place in the direction of the diagonals in which the effective deflection elements are located.

5. deflection system according to claim 3, characterized in that the not for the deflection the elements of the boxes used in the electron beams are covered.

6. deflection system according to claims 3 to 5, characterized in that the facing Pages of related deflection boxes are provided with panels in the form of projecting lugs (10).

1 sheet of drawings