DE875249C - Bedampfungseinrichtung - Google Patents

Bedampfungseinrichtung

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DE875249C
DE875249C DES21129A DES0021129A DE875249C DE 875249 C DE875249 C DE 875249C DE S21129 A DES21129 A DE S21129A DE S0021129 A DES0021129 A DE S0021129A DE 875249 C DE875249 C DE 875249C
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DE
Germany
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DES21129A
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Karl Dipl-Phys Steigerwald
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SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
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SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
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    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1021964B (de) * 1954-07-10 1958-01-02 Siemens Ag Elektronenbeugungsapparat
DE1266608B (de) * 1962-03-23 1968-04-18 Siemens Ag Verfahren zum Vakuumaufdampfen von Isolierstoffschichten mittels gebuendelter Elektronenstrahlen
DE1270354B (de) * 1964-03-09 1968-06-12 Balzers Hochvakuum Verfahren und Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von Schichten auf elektrisch isolierende Unterlagen aus Glas, Keramik od. dgl. durch Elektronenbeschuss
FR2204709A1 (en) * 1972-10-27 1974-05-24 Anvar Deposition of thin layers under vacuum - by ion bombardment of high melting point materials e.g. platinum
EP0019725A1 (de) * 1979-05-18 1980-12-10 International Business Machines Corporation Einen Strahl mit energiereichen Teilchen verwendendes Abscheidungsverfahren

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