DE829194C - Mit Stromzufuehrungen versehener Halbleiterfotowiderstand - Google Patents

Mit Stromzufuehrungen versehener Halbleiterfotowiderstand

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DE829194C
DE829194C DES342A DES0000342A DE829194C DE 829194 C DE829194 C DE 829194C DE S342 A DES342 A DE S342A DE S0000342 A DES0000342 A DE S0000342A DE 829194 C DE829194 C DE 829194C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
semiconductor
photoresistor
power supply
contacts
cadmium
Prior art date
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Expired
Application number
DES342A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Rer Nat Helmut Helbig
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Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Original Assignee
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors

Description

  • Eingehende Untersuchungen an Halbleiterfotowiderständen ergaben, daß die häufig beobachtete Inkonstanz nicht auf Eigenschaften des Halbleiters, sondern auf unkontrollierbare Schwankungen des lrüergangswiderstandes an den Kontakten der Stromzuführungen zurückzuführen ist.
  • Dieser Nachteil wird bei dem mit Stromzuführungen versehenen Halbleiterfotowiderstand gemäß der Erfindung in einfacher und auch während langer Betriebsdauer in zuverlässiger Weise dadurch vermieden, daß der Halbleiterfotowiderstand einschließlich seiner Kontakte, erforderlichenfalls mit .Ausnahme einer den Zutritt der Strahlung ermöglichenden Öffnung, in einem hochisolierenden, in organischen Flüssigkeiten lösbaren Kunststoff eingebettet ist. Besonders zweckmäßig ist es, den Halbleiterfotowiderstand zunächst auf einem Träger aus lsolierniaterial einseitig zu befestigen und anschließend mit einem beispielsweise durch Zugabe eines Lösungsmittels plastisch gemachten Isolierring dicht zu umgeben und nachdem Erhärten dieses Einbettungsringes den Halbleiterfotowiderstand mit Kontakten zu versehen und diese mit an dem Träger zuverlässig befestigten Stromzuführungen zu verbinden.
  • An Hand der Figur, -die, sehr stark vergrößert, ein Ausführungsbeispiel für den Halbleiterfotowiderstand gemäß der Erfindung in schematischer Darstellung wiedergibt, sei zugleich ein bewährtes Herstellungsverfahren erläutert.
  • Der Halbleiterfotowiderstand, beispielsweise ein Kadmiumsulfideinkristall i, wird zunächst auf eine isolierende Unterlage 2, beispielsweise aus Trolitul, mit Hilfe von in Butylacetat gelöstem Trolitul aufgekittet. Da der Isolationswiderstand eines solchen Troli'tulkörpers größer als 1012 Ohm ist, werden durch die geringfügige Leitfähigkeit des Trolituls die Widerstandsmessungen am Halbleiterfotowiderstand nicht verfälscht, da diese bei den freigekominenen Größen höchstens 1/10o des genannten Wertes aufweisen.
  • Nach etwa dreitägiger Trocknung bei Zimmertemperatur wird um den Halbleiterfotowiderstand i ein Ring 3 aus gelöstem Trolitul gelegt, go claß der Kadmiumsulfidkristall nunmehr überall mit Ausnahme der Vorderfläche in Isoliermasse so eingebettet ist, daß an den Übergangsstellen keine scharfen Kanten entstehen. Nach abermaliger Trocknung werden Stromanschlüsse 4 auf den
    Kristall durch Aufdampfen von Kadmium auf-
    gebracht. Durch Verwendung des gleichen Materials
    wie im Kristall selbst vermeidet man evtl. auf-
    tretende chemische Veränderungen der Berührungs-
    fläche. An den Gewindelöcher» des Kristallträgers 2
    werden zweckmäßig Kontaktstreifen oder Anschluß-
    falirien 5, beispielsweise aus @lessirig, angeschraubt.
    Danach überzieht man beispielsweise finit einem
    Stäbchen die gesamte Vorderfläche mit einem Häut-
    chen 6 aus gelöstem Trolittil. Diese Sclititzliaut ver-
    bindet sich auch an den Seiten sehr innig mit der
    I?nterlage aus gleichem \Verkstoff, so daß der I-lall>-
    leiterfotowiderstand nach Trocknung des Häutchens
    allseitig eingebettet ist. Das I läutchen paßt sich der
    Oberflächenform genau an und Bildet daher einen
    beachtlichen Schutz der empfindlichen Teile. Sollte
    das zum Einbetten benutzte Isoliermaterial die
    Strahlung, die auf den Halbleiterfotowiderstand
    zur Einwirkung gebracht werden :oll, so stark ab-
    sorbieren, daß es nicht möglich ist, aus ihr eine
    Schutzschicht so diiiin herzustellen, daß der Ab-
    sorptionsverlust in Kauf genommen werden kann,
    wird man in der Einbettung eine Öttnung zum
    Durchtritt der Strahlung vorsehen, die erforder-
    lichenfalls mit einer Schutzhaut verschlossen wer-
    den kann, die die Strahlung des Spektralbereiches,
    der zur Einwirkung gelangen soll, weniger absor-
    biert als das Material des Trägers. Man erreicht auf
    diese Weise ohne merkliche 1@inliuße an Empfind-
    lichkeit einen beachtlichen Schutz gegen die Ein-
    wirkung von Wasserdampf sowie gegen Säuren und
    Dämpfe, die zwar mit <lern Halbleiterfotowider-
    stand, aber nicht mit dein organischen Einbettungs-
    mittel reagieren.

Claims (2)

  1. PATEN TANSPPLCfi E: i. Mit Stromzuführungen versehener Halbleiterfotowiderstand, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontakte und der Halbleiter, erforderlichenfalls mit Ausnahme einer Öffnung für den Zutritt der wirksamen Strahlung, in einen hochisolierenden organischen Kunststoff eingebettet sind.
  2. 2. Halbleiterfotowiderstand mit einem aus Kadmiumsulfid bestehenden Halbleiter nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontakte aus vorzugsweise aufgedämpftem Kadmium bestehen.
DES342A 1949-10-29 1949-10-29 Mit Stromzufuehrungen versehener Halbleiterfotowiderstand Expired DE829194C (de)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1042781B (de) * 1953-04-25 1958-11-06 L Outil R B V Et De La Radio I Photowiderstandszelle mit unmittelbar auf einem aus keramischem Oxyd bestehenden, isolierenden Traeger aufgebrachten Kadmiumsulfidkristallen
DE1215830B (de) * 1963-12-20 1966-05-05 Intron Leipzig Veb Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines fotoelektrischen Wandlers
DE2112812A1 (de) * 1971-03-17 1972-10-19 Licentia Gmbh Halbleiterbauelement

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