DE829194C - Mit Stromzufuehrungen versehener Halbleiterfotowiderstand - Google Patents
Mit Stromzufuehrungen versehener HalbleiterfotowiderstandInfo
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- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
Description
- Eingehende Untersuchungen an Halbleiterfotowiderständen ergaben, daß die häufig beobachtete Inkonstanz nicht auf Eigenschaften des Halbleiters, sondern auf unkontrollierbare Schwankungen des lrüergangswiderstandes an den Kontakten der Stromzuführungen zurückzuführen ist.
- Dieser Nachteil wird bei dem mit Stromzuführungen versehenen Halbleiterfotowiderstand gemäß der Erfindung in einfacher und auch während langer Betriebsdauer in zuverlässiger Weise dadurch vermieden, daß der Halbleiterfotowiderstand einschließlich seiner Kontakte, erforderlichenfalls mit .Ausnahme einer den Zutritt der Strahlung ermöglichenden Öffnung, in einem hochisolierenden, in organischen Flüssigkeiten lösbaren Kunststoff eingebettet ist. Besonders zweckmäßig ist es, den Halbleiterfotowiderstand zunächst auf einem Träger aus lsolierniaterial einseitig zu befestigen und anschließend mit einem beispielsweise durch Zugabe eines Lösungsmittels plastisch gemachten Isolierring dicht zu umgeben und nachdem Erhärten dieses Einbettungsringes den Halbleiterfotowiderstand mit Kontakten zu versehen und diese mit an dem Träger zuverlässig befestigten Stromzuführungen zu verbinden.
- An Hand der Figur, -die, sehr stark vergrößert, ein Ausführungsbeispiel für den Halbleiterfotowiderstand gemäß der Erfindung in schematischer Darstellung wiedergibt, sei zugleich ein bewährtes Herstellungsverfahren erläutert.
- Der Halbleiterfotowiderstand, beispielsweise ein Kadmiumsulfideinkristall i, wird zunächst auf eine isolierende Unterlage 2, beispielsweise aus Trolitul, mit Hilfe von in Butylacetat gelöstem Trolitul aufgekittet. Da der Isolationswiderstand eines solchen Troli'tulkörpers größer als 1012 Ohm ist, werden durch die geringfügige Leitfähigkeit des Trolituls die Widerstandsmessungen am Halbleiterfotowiderstand nicht verfälscht, da diese bei den freigekominenen Größen höchstens 1/10o des genannten Wertes aufweisen.
- Nach etwa dreitägiger Trocknung bei Zimmertemperatur wird um den Halbleiterfotowiderstand i ein Ring 3 aus gelöstem Trolitul gelegt, go claß der Kadmiumsulfidkristall nunmehr überall mit Ausnahme der Vorderfläche in Isoliermasse so eingebettet ist, daß an den Übergangsstellen keine scharfen Kanten entstehen. Nach abermaliger Trocknung werden Stromanschlüsse 4 auf den
Kristall durch Aufdampfen von Kadmium auf- gebracht. Durch Verwendung des gleichen Materials wie im Kristall selbst vermeidet man evtl. auf- tretende chemische Veränderungen der Berührungs- fläche. An den Gewindelöcher» des Kristallträgers 2 werden zweckmäßig Kontaktstreifen oder Anschluß- falirien 5, beispielsweise aus @lessirig, angeschraubt. Danach überzieht man beispielsweise finit einem Stäbchen die gesamte Vorderfläche mit einem Häut- chen 6 aus gelöstem Trolittil. Diese Sclititzliaut ver- bindet sich auch an den Seiten sehr innig mit der I?nterlage aus gleichem \Verkstoff, so daß der I-lall>- leiterfotowiderstand nach Trocknung des Häutchens allseitig eingebettet ist. Das I läutchen paßt sich der Oberflächenform genau an und Bildet daher einen beachtlichen Schutz der empfindlichen Teile. Sollte das zum Einbetten benutzte Isoliermaterial die Strahlung, die auf den Halbleiterfotowiderstand zur Einwirkung gebracht werden :oll, so stark ab- sorbieren, daß es nicht möglich ist, aus ihr eine Schutzschicht so diiiin herzustellen, daß der Ab- sorptionsverlust in Kauf genommen werden kann, wird man in der Einbettung eine Öttnung zum Durchtritt der Strahlung vorsehen, die erforder- lichenfalls mit einer Schutzhaut verschlossen wer- den kann, die die Strahlung des Spektralbereiches, der zur Einwirkung gelangen soll, weniger absor- biert als das Material des Trägers. Man erreicht auf diese Weise ohne merkliche 1@inliuße an Empfind- lichkeit einen beachtlichen Schutz gegen die Ein- wirkung von Wasserdampf sowie gegen Säuren und Dämpfe, die zwar mit <lern Halbleiterfotowider- stand, aber nicht mit dein organischen Einbettungs- mittel reagieren.
Claims (2)
- PATEN TANSPPLCfi E: i. Mit Stromzuführungen versehener Halbleiterfotowiderstand, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontakte und der Halbleiter, erforderlichenfalls mit Ausnahme einer Öffnung für den Zutritt der wirksamen Strahlung, in einen hochisolierenden organischen Kunststoff eingebettet sind.
- 2. Halbleiterfotowiderstand mit einem aus Kadmiumsulfid bestehenden Halbleiter nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontakte aus vorzugsweise aufgedämpftem Kadmium bestehen.
Priority Applications (1)
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DES342A DE829194C (de) | 1949-10-29 | 1949-10-29 | Mit Stromzufuehrungen versehener Halbleiterfotowiderstand |
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DE829194C true DE829194C (de) | 1952-01-24 |
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ID=7468681
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DES342A Expired DE829194C (de) | 1949-10-29 | 1949-10-29 | Mit Stromzufuehrungen versehener Halbleiterfotowiderstand |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE829194C (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1042781B (de) * | 1953-04-25 | 1958-11-06 | L Outil R B V Et De La Radio I | Photowiderstandszelle mit unmittelbar auf einem aus keramischem Oxyd bestehenden, isolierenden Traeger aufgebrachten Kadmiumsulfidkristallen |
DE1215830B (de) * | 1963-12-20 | 1966-05-05 | Intron Leipzig Veb | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines fotoelektrischen Wandlers |
DE2112812A1 (de) * | 1971-03-17 | 1972-10-19 | Licentia Gmbh | Halbleiterbauelement |
-
1949
- 1949-10-29 DE DES342A patent/DE829194C/de not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1042781B (de) * | 1953-04-25 | 1958-11-06 | L Outil R B V Et De La Radio I | Photowiderstandszelle mit unmittelbar auf einem aus keramischem Oxyd bestehenden, isolierenden Traeger aufgebrachten Kadmiumsulfidkristallen |
DE1215830B (de) * | 1963-12-20 | 1966-05-05 | Intron Leipzig Veb | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines fotoelektrischen Wandlers |
DE1215830C2 (de) * | 1963-12-20 | 1966-12-15 | Intron Leipzig Veb | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines fotoelektrischen Wandlers |
DE2112812A1 (de) * | 1971-03-17 | 1972-10-19 | Licentia Gmbh | Halbleiterbauelement |
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