DE752050C - Verfahren zur Erzeugung von Vakuum - Google Patents

Verfahren zur Erzeugung von Vakuum

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DE752050C
DE752050C DEB200377D DEB0200377D DE752050C DE 752050 C DE752050 C DE 752050C DE B200377 D DEB200377 D DE B200377D DE B0200377 D DEB0200377 D DE B0200377D DE 752050 C DE752050 C DE 752050C
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DE
Germany
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vacuum
cooling
gas
filled
evacuated
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Expired
Application number
DEB200377D
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English (en)
Inventor
Wilhelm Dipl-Ing Winter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
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Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
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Application granted granted Critical
Publication of DE752050C publication Critical patent/DE752050C/de
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Description

  • Verfahren zur Erzeugung von Vakuum Für gewisse Arbeitsprozesse lx;nötigt man vor und/oder hinter dem evaluierten Arbeitsraum weitere evakuierte Räuine, in denen als `Torvakuum ein ,geringeres Vakuum aufrechterhalten werden soll. Die Dearbeitung z. B. von laufenden Bändern im Vakuum, z. B. zum lfetallisieren, erfordert solche V orvakuunikaininern, tritt die Bänder von den unter atniospli:irendlrticlc stellenden Räumen in den evakuierten _\rleitsrauni ein- und ausschleusen zu können. Die Bänder durchlaufen liierhei mindestens eine Vorvakuunikannner. uni beim Ifinführen tlui-cli schlitzartige Öffnungen das Vakuum im Arbeitsraum möglichst wenig zu beeinträchtigen. Aber auch hierbei dringt noch Luft durch die Einführungsschlitze in die Vorvakuuinkamnier ein.
  • l.an inuß deshalb diese während des heitsprozesses durch die Einführungsschlitze der laufenden Bänder in die Vorvakuunikaniniern eindringende Luft dauernd absaugen. Um nun Glas dauernde .\ti.punilien für die Vorval;tiunil<annner zu ersparen, wird. ;gein;iß der Erfindung einer der Sclileusenrätinie niit knndtnsierharem Gas angefüllt und das Gas während des rinschleusvorganges in einer benachbarten und dem evakuierten Arbeitsraum näher gelegenen Vorvakuumkanimer durch Ahkiihluii- niedergeschlagen.
  • Ein Raum. und zwar zweckmäßig der all die Außenluft voll Atmosphärendruck grenzende, wird mit einem kondensierharen Gas, z. 13. Wasserdampf, gefüllt. Vorteilhaft herrscht in diesem Raum ein Druck, der etwas über dem Atmosphärendruck liegt, denn damit wird der Außenluft der Zutritt durch die Einführungsschlitze der iln Hauptraum zti bearbeitenden laufenden Bänder verwehrt.
  • Das Gas dringt nach außen und hindert die Außenluft am Einströmen. Andererseits dringt das Gas gleicherweise in den bellachbarten Vorvakuumraum, der dem Arbeitsraum näher gelegen ist. Hier wird das Gas durch bekannte Mittel abgekühlt und kondensiert sich, so daß in diesem Raum ein Vakuum entstellt. Der nunmehr noch vorhandene geringe Druck ist der Dampfdruckdes Gases (hei der herrschenden Temperatur). so. daß dieser Raum als brauchbare Vorstufe für das im Hauptraum bestehende höhere Vakuum angesehen werden kann. Zwischen ihm und dem Hauptarbeitsraum können als weitere Vorstufe ein oder mehrere weitere durch Pumpen abgesaugte Räume eingeschaltet sein.
  • Es ist bekannt. Räume dadurch zu evakuieren, daß inan die in ihnen enthaltene Luft durch ein kondensierhares Gas ersetzt und dieses Gas durch Allkuhlen kondensiert. `-oll dieser Methode wird aller nur insofern Gelbrauch gemacht. als man die durch unvermeidbare Arbeitsöffnungen in bereits evakuierte Räume eindringende Außenluft durch kondensierbare Gaie, z. B. Wasserdampf, ersetzt und diese im Raum durch Auskühlen kondensiert. Der Wasserdampf muß zu diesem Zweck einen vor diesem unter Vakuum zu haltenden Raum erfüllen, i und zwar unter L`berdruck, so daß die Außeilluft ausgeschlossen bleibt.
  • Für das Ausschleusen laufender Bänder kann die gleiche Anordnung des evakuierten und des gasgefüllten Schleusenraumes gewählt werden, welin die Reihenfolge so eingelialten wird, claß der dein Haulitarlieitsraum nächstliegetlde derjenige ist, in welchem (las Gas durch Abkühlen niedergeschlagen wird.
  • Wenn das Ausfrieren des Gases i111 Vorvaktiumraum zur Herstellung eines genü-end holten @'orval:uuma flicht ausreicht. kann durch Einschaltung eilfies oder mehrerer weiterer IZ:itnile und finit tieferer Kühlung eine Verbesserung des Vakuums erreicht werden. Die Abkühlung kann mit bekannten _NI itteln, z.13. Kühlfli.issi-keiten, fester Kohlensäure oder fliissi,er Stift, erfol_"cn. Vorteilhaft ist hier aller eine neuartie Kühlung, die schon zum Niederschlagen gröMe re r Dampfmengen vot,greschlaggen wurde. 13s ist ia bekannt, daß die Kühlgeräte im evakuierten Raum durch größere \iederschlagmengen sehr rasch an Kühlwirkung einbüßen. Uni null die Oberflächen der Isülilgeräte voni Kondensat zu befreien, wird zum Abkühlen und Niederschlagen des Dampfes die voll ly-#wegten Kühlkörpern, z. B. laufenden Bändern, gewählt. Diese 13:ind: r durchlaufen in endloser Folge den zu evakuierenden Rahen und werden, nachdem sie ! ebenfalls durch Schleusen geführt sind. außerhalb dieses Raumes z. B. durch Erwärmen voni -Niederschlag befreit und nach erneuter Abkühlung wieder in den Ratten eiligeschleust.
  • Die Abbildung zeigt schematisch ein Ausführungsbeispiel der Erfindung. Ein laufendes Band i wird von der Vorratsrolle -2 abgezogen und läuft nach der Bearbeitung ini evakuierten Hauptarbeitsraum 3 auf eine Rolle 4. auf. Die Rollelf a und 4 liegen außerhalb des Bearbeituilgs,raumes und stehen unter gewöhnlichem Luftdruck. Der Arbeitsraum 3 wird durch das Rohr 5 evakuiert. Um ein gutes Vakuum im Arbeitsraum 3 trotz Durchführens eines laufenden Bandes zu ermöglichen, wird der Atinosphärendruck all den Schlitzen 6 und 7 durch evakuierte, vorgelagerte Räume auf ""erilit"eli Druck herabgesetzt. Der -all die atmosphärische Luft grenzende Raurn wird durch (las Rohr g mit Wasserdampf gefüllt, der unter etwas mehr als Atinosphä rendruck stellt. Das im Hauptarheitsrauln 3 zu bearbeitende laufende Band 1 geht durch diesen dampferfüllten Raum 8 durch die Schlitze io und i t hindurch und gelangt in den Vorvakuunirauin 12, in welchem der durch den Schlitz i i eindringende Wasserdampf mit Hilfe des Kühlgerätes 13 kondensiert wird. Das laufende Band 1 gelangt durch den Schlitz 14. in einen weiteren '"orvaktiumrautii 15, in drm durch den Schlitz 1.1. einririiig,c-iicle i Dampfreste mit Hilfe des Kühlgerätes 16 niedergeschlagen werden. Die ini Raum 15 ist tiefer als die i111 kauen 1=.
  • In umgekehrter Reihenfolge sind die Räume 17, 1S und io angeordnet, durch die (las laufende Band aua debil .\rlx#itsraum aus-eschletist wird. Der (lein 1lauptratim ll.naclillarte 1Zatlln 17 hat auch hier da: Ilühc#re Vakuum, (las ist die tiefste Kühlsttlic für den zu kondensierenden Danipf, (laben folgt der @"(lrvakuumraum i S und schlicI.tlicli der unter Danipfdrucl: vmi etwas ül,er Atmosphäre stehende Raum ig. durch den der Austritt des laufenden Bandes in die atmosphärische Luft erfolgt. Vor dem Aufrollen auf die Rolle .l. kann gegebenenfalls noch eine Trockeneinrichtung für das aufzurollende Band angebracht sein.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Erzeüating einer Vorvakuumstufe in vor oder hinter dem Hauptvakuunirauin angeordneten Schleu-:enräunien, dadureli gekennzeichnet. daß Einer der Schleusenräume mit kondensierbarem Gas gefüllt wird und das Gas während des Ein- oder Ausschleusvorganges in einem dem Hauptraum näher liegenden Vorvakuumraum durch Abkühlung niedergeschlagen wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß in dem mit dem kondensierbaren Gas gefüllten Raum etwas über eine Atmosphäre Druck herrscht.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß als kondensierbares Gas Wasserdampf verwendet wird.
DEB200377D 1942-11-18 1942-11-18 Verfahren zur Erzeugung von Vakuum Expired DE752050C (de)

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DE752050C true DE752050C (de) 1952-05-12

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ID=7012140

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DE (1) DE752050C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1211890B (de) * 1960-09-30 1966-03-03 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen magnetischer Schichten durch Aufdampfen von Metallen oder Legierungen im Hochvakuum

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1211890B (de) * 1960-09-30 1966-03-03 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen magnetischer Schichten durch Aufdampfen von Metallen oder Legierungen im Hochvakuum

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