DE69601827T2 - Latentbild, Herstellung und Entwicklung des Bilds und Gegenstände mit dem Bild - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 152
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 134
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 54
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 41
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 8
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 claims description 6
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011435 rock Substances 0.000 claims description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical class Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 23
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- JNEGECSXOURYNI-UHFFFAOYSA-N trichloro(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[Si](Cl)(Cl)Cl JNEGECSXOURYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical group O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002969 artificial stone Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229960004692 perflenapent Drugs 0.000 description 2
- NJCBUSHGCBERSK-UHFFFAOYSA-N perfluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NJCBUSHGCBERSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000579895 Chlorostilbon Species 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000737 Duralumin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052876 emerald Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010976 emerald Substances 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- 239000010438 granite Substances 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QJAOYSPHSNGHNC-UHFFFAOYSA-N octadecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCS QJAOYSPHSNGHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000005360 phosphosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002338 polyhydroxyethylmethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052853 topaz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011031 topaz Substances 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
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Description
- Die Erfindung bezieht sich auf ein Latentbild, das auf der Differenz in der Verteilung der Oberflächenspannung zwischen Substanzen basiert, auf Verfahren zur Herstellung und Entwicklung des Bildes und auf Gegenstände, die das Bild aufweisen.
- Der Ausdruck Latentbilder bezieht sich auf Bilder, die durch das bloße Auge nicht wahrnehmbar sind und durch Entwicklung sichtbar gemacht werden. Beispiele von Latentbildern schließen elektrostatische Bilder auf einem Photorezeptor vor Auftragen des Toners auf den Photorezeptor, Latentbilder auf einem photographischen Film und in unsichtbarer Tinte gezeichnete Bilder ein. Die Latentbilder werden auf unterschiedliche Weise unter Nutzung von Unterschieden in den Eigenschaften der Oberfläche gebildet. Elektrostatische Bilder auf einem elektronographischen Photorezeptor werden aufgrund von Unterschieden in der Aufladung gebildet. Latentbilder auf einem photographischen Film werden durch Bildung eines Entwicklungszentrums in einem Silbersalzkristall erzeugt. Es wird angenommen, daß ähnliche Latentbilder aufgrund von Unterschieden in der Oberflächenspannung gebildet werden können.
- Die Unterschiede in der Oberflächenspannung werden jedoch nicht verwendet, um Latentbilder zu bilden, weil ein für das bloße Auge unsichtbarer Film, der wünschenswerterweise einen Unterschied in der Oberflächenspannung erzeugt, nicht verfügbar war. Weiterhin war ein Entwicklungsverfahren, das die Beobachtung des Unterschiedes in der Oberflächenspannung durch das bloße Auge erlaubt, nicht verfügbar.
- Herkömmliche Latentbilder alterten mit der Zeit oder wurden nicht gut konserviert. Weiterhin kehrten herkömmliche Latentbilder nicht zu der Latentform zurück, wenn sie entwickelt wurden.
- Um die obigen Probleme zu lösen, richtet sich die Erfindung darauf, Latentbilder frei von Verschlechterung mit der Zeit zur Verfügung zu stellen, die gut konserviert werden und die zwischen sichtbaren und Latentformen pendeln können. Die Erfindung ist ebenfalls darauf gerichtet, ein Verfahren des leichten Sichtbarmachens derartiger Bilder und Gegenstände zur Bildung von Latentbildern zur Verfügung zu stellen.
- Um dieses Ziel zu erreichen, stellt die Erfindung derartige Gegenstände zur Verfügung, die eine erste Substanz, die auf einem Substrat einer zweiten Substanz aufgetragen wurde, umfassen. Die zweite Substanz hat eine Oberflächenspannung, die sich von der Oberflächenspannung der ersten Substanz unterscheidet. Die erste Substanz und das Substrat haben eine Differenz von 0,1 bis 100 nm in der Höhe voneinander. Die erste Substanz kann durch teilweises Abschaben der Oberfläche eines Substrates oder teilweises Denaturieren der Oberfläche eines Substrates gebildet werden, ebenfalls kann die erste Substanz einen Film auf dem Substrat bilden. Mit anderen Worten, eine chemische oder physikalische Behandlung eines Substrates bildet neu eine Stelle einer Substanz, die sich von dem Substrat auf dem Substrat unterscheidet. Die Stelle unterschiedet sich vom Substrat in der Oberflächenspannung. Die Differenz in der Oberflächenspannung wird genutzt, um Latentbilder in der Erfindung zu bilden.
- Es ist bevorzugt, daß die erste Substanz einen Film bildet, der eine Stärke von 0,1 bis 100 nm auf dem Substrat hat.
- Es ist bevorzugt, daß das Substrat auf wenigstens einem Material gebildet wird, daß aus der Gruppe ausgewählt wurde, die Metall, Glas, Kunststoff, Gestein, Keramik und Mineral umfaßt.
- Es ist bevorzugt, daß das Substrat eine transparente oder Spiegeloberfläche hat.
- Es ist bevorzugt, daß der Film ein chemisch adsorbierter Film ist, der kovalent an eine Oberfläche des Substrates über eine kovalente Bindung gebunden ist.
- Es ist bevorzugt, daß die erste Substanz eine Silanverbindung ist, die an eine Oberfläche des Substrates über eine Siloxan-Bindung (Si-O) gebunden ist. Es ist bevorzugt daß die erste Substanz eine Thiolverbindung ist.
- Es ist bevorzugt, daß die erste Substanz eine Verbindung ist, die wenigstens eine Gruppe besitzt, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Alkylgruppen und Fluoralkylgruppen besteht.
- Es ist bei dem Latentbild bevorzugt, daß die erste Substanz ein Alkylpolysiloxan ist, das durch Formel I wiedergegeben wird: Formel I
- worin R¹ eine Alkylfruppe, die 1 bis 7 Kohlenstoffatome besitzt, R² ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, die 1 bis 7 Kohlenstoffatome besitzt, oder eine Arylgruppe, die 6 Kohlenstoffatome besitzt, ist und n eine Ganzzahl von 5 bis 900 ist. In Formel I können R¹ und R² entweder gleich oder unterschiedlich sein. R¹ und R² können eine Alkyl oder Fluoralkylgruppe sein. Die Alkyl- oder Fluoralkylgruppe kann entweder eine geradkettige oder eine verzweigte Gruppe sein.
- Die Erfindung stellt ebenfalls ein Verfahren zur Bildung eines Latentbildes bereit, daß den Schritt des Unterwerfens eines Substrates einer ersten Substanz einer chemischen Behandlung oder ein physikalischen Behandlung, um eine Oberfläche einer zweiten Substanz zu bilden, das eine Oberflächenspannung hat, die sich von der Oberflächenspannung der ersten Substanz unterschiedet und eine Differenz von 0,1 bis 100 nm in der Höhe von dem Substrat hat, auf einem Teil des Substrates. Die Oberfläche der zweiten Substanz kann durch teilweisen Abschaben der Oberfläche des Substrates oder teilweise Denaturie ren der Oberfläche des Substrates gebildet werden. Die zweite Substanz kann hier einen Film auf dem Substrat der ersten Substanz bilden.
- Es ist in dem Verfahren der Bildung eines Latentbildes bevorzugt, daß das Substrat mit der zweiten Substanz in Kontakt kommt, um einen Film der zweiten Substanz zu bilden, das ein Stärke von 0,1 bis 100 nm auf dem Substrat hat.
- Es ist in dem Verfahren der Bildung eines Latentbildes bevorzugt, daß das Substrat mit einer Silanverbindung in Kontakt kommt, das ein Siliciumatom und wenigstens eine Gruppe, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Alkoxygruppen, der Isocyanatgruppe, der Acetoxygruppe und Halogen besteht. Die oben ausgewählte Gruppe ist vorzugsweise an das Siliciumatom in der Silanverbindung gebunden. Gemäß der oben angegebenen Ausführung reagiert, wenn das die Silanverbindung mit dem Substrat in Kontakt kommt, die Silanverbindung mit dem Substrat, so daß Si-O-Bindungen zwischen der Silanverbindung und dem Substrat gebildet werden. Folglich wird jede der Alkylgruppen, die Isocyanatgruppe, die Acetoxygruppe und das Halogen aus der Silanverbindung entfernt, um einen Film zu bilden, der aus der Silanverbindung stammt, das heißt, einen Film der zweiten Substanz.
- Es ist bevorzugt, daß das Verfahren der Bildung eines Latentbildes weiterhin die Schritte des Bedeckens eines Teils des Substrates mit einer dritten Substanz, Kontaktieren des Substrates und der dritten Substanz mit der zweiten Substanz, um einem Film der zweiten Substanz auf einer Oberfläche des Substrates zu bilden, die von der dritten Substanz frei ist, und Entfernen der dritten Substanz von dem Substrat umfaßt. Die dritte Substanz bezieht sich auf eine Substanz, die fähig ist, auf der Oberfläche des Substrates in Tropfen- oder eines Feststofform zu haften.
- Es ist bevorzugt, daß das Verfahren der Bildung eines Latentbildes weiterhin die Schritte des Bedeckens eines Teils des Substrates mit einer dritten Substanz, Unterwerfen des Substrates und der dritten Substanz einer chemischen oder physikalischen Behandlung, um eine Oberfläche der zweiten Substanz auf einer Oberfläche des Substrates, die frei von der dritten Substanz ist, zu bilden, und Entfernen der dritten Substanz von dem Substrat umfaßt.
- Es ist bevorzugt, daß das Verfahren der Bildung eines Latentbildes weiterhin die Schritte des Bedeckens eines Teils des Substrates mit einer dritten Substanz, Kontaktieren des Substrates und der dritten Substanz mit einer Silanverbindung, die ein Siliciumatom und wenigstens eine Gruppe umfaßt, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus der Alkoxygruppe, der Isocyanatgruppe und der Acetoxygruppe und Halogen besteht und an das Siliciumatom gebunden ist, um einem Film der zweiten Substanz auf einer Oberfläche des Substrates, die frei von der dritten Substanz ist, zu bilden, und Entfernen der dritten Substanz von dem Substrat umfaßt.
- Es ist in dem Verfahren der Bildung eines Latentbildes bevorzugt, daß die chemische Behandlung eine Behandlung ist, in der das Substrat mit wenigstens einer Substanz in Kontakt kommt, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Alkalilösung, Fluorwasserstoffsäure, Grignards Reagenz und Trichlorsilanderivaten besteht.
- Es ist in dem Verfahren der Bildung eines Latentbildes bevorzugt, daß die physikalische Behandlung eine Behandlung ist, in der das Substrat wenigstens einer Behandlung unterworfen wird, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Ultraviolettbestrahlung, Sauerstoffplasmabestrahlung, Dampfplasmabestrahlung und Elektronenbestrahlung besteht.
- Die Erfindung liefert weiterhin ein Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes, das die Schritte des Kontaktierens eines Latentbildes, das eine erste Substanz umfaßt, die auf einem Substrat einer zweiten Substanz gebildet wurde, die eine Oberflächenspannung hat, die sich von der Oberflächenspannung der ersten Substanz unterscheidet, mit einer dritten Substanz, die sich von der ersten Substanz und der zweiten Substanz unterscheidet, und der Anwendung einer Entwicklungsstrahlung, um das Latentbild zu entwickeln, umfaßt. Die dritte Substanz bezieht sich auf eine Substanz, die fähig ist, an der Oberfläche des Latentbildes in Tropfen- oder Feststofform zu haften. Der Ausdruck Entwicklungsstrahlung bezieht sich hier auf eine Strahlung, die die Funktion des Zeigens der Latentbilder hat.
- Es wird in dem Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes bevorzugt, daß die dritte Substanz in Dampfform ist. Beispiele des Dampfes schließen Dampf organischer Lösungsmittel wie Ethylenglycol, Dampf, der von Feststoffen wie Iod stammt, und vorzugsweise gesättigten Dampf ein.
- Es wird in dem Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes bevorzugt, daß die Entwicklungsstrahlung wenigstens eine ist, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus sichtbarer Strahlung, Infrarot-Strahlung, ultravioletter Strahlung, Elektronenstrahlen und Laserstrahlen besteht.
- Die Erfindung stellt weiterhin einen Gegenstand zur Verfügung, der ein Latentbild aufweist, das eine erste Substanz umfaßt, die auf einem Substrat einer zweiten Substanz gebildet wurde, das eine Oberflächenspannung hat, die sich von der Oberflächenspannung der ersten Substanz unterschiedet, wobei die erste Substanz und das Substrat eine Differenz von 0,1 bis 100 nm in der Höhe voneinander haben. Das Substrat kann entweder der Gegenstand selbst sein oder sich von dem Gegenstand unterscheiden.
- Es ist bei dem Gegenstand bevorzugt, daß die erste Substanz einen Film bildet, der eine Stärke von 0,1 bis 100 nm auf dem Substrat hat.
- Es ist bei dem Gegenstand bevorzugt, daß das Substrat aus wenigstens einem Material gebildet wird, das aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Metall. Glas, Kunststoff, Gestein, Keramik oder Mineral besteht.
- Es wird bei dem Gegenstand bevorzugt, daß der Gegenstand ein teilweise mit Metall beschichtetes Kunststofferzeugnis ist.
- Es wird bei dem Gegenstand bevorzugt, daß der Gegenstand eine Karte ist.
- Es wird bei dem Gegenstand bevorzugt, daß der Gegenstand einer ist, der aus Gruppe ausgewählt wurde, die aus einer Kreditkarte, einer Identifizie rungskarte, eine Lizenz, einer Urkunde, einer Mitgliedskarte oder einer Geldkarte besteht.
- Es wird bei dem Gegenstand bevorzugt, daß der Gegenstand einer ist, der aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus einem metallischen Behälter, einem Glasbehälter, einem Keramikbehälter und einem Porzellanbehälter besteht.
- Fig. 1 ist ein Querschnitt eines Latentbildes in einer Ausführung der Erfindung.
- Fig. 2 (a) bis 2 (d) zeigen ein Latentbild in einer Ausführung der Erfindung.
- Die Oberflächenspannung von Substanzen hängt von den Substanzen ab, und die Oberflächenspannung einer Substanz kann sich durch chemische oder physikalische Behandlung ändern. Die Differenz in der Oberflächenspannung zwischen Substanzen führt zu Latentbildern. Beispiele einer chemischen Behandlungen schließen eine Behandlung unter Verwendung von Alkalilösung, Fluorwasserstoffsäure, Grignards Reagenz oder Trichlorsilanderivaten ein. Beispiele einer physikalischen Behandlung schließen ultraviolette Strahlung, Sauerstoffplasmabestrahlung, Dampfplasmabestrahlung und Elektronenbestrahlung ein.
- Die Erfindung liefert ein Latentbild, das unter Verwendung der Differenz in der Oberflächenspannung, die jeder Substanz inhärent ist, gebildet wurde. Die Latentbilder altern nicht mit der Zeit oder durch Bestrahlung mit Entwicklungsstrahlung, und die Bilder werden unbegrenzt lange konserviert. Weiterhin sind die Latentbilder leicht zu bilden. Wenn die Differenz in der Höhe zwischen Substrat und darauf gebildeten Latentbildern weniger als 25% der Wellenlänge der Entwicklungsstrahlung ist, ist die Entwicklungsstrahlung frei von optischen Interferenzen an der Grenzfläche zwischen dem Substrat und dem darauf gebildeten Latentbild. Dann wird die Grenzfläche nicht durch die Entwicklungsstrahlung aufgefunden und bleibt latent. Wenn eine Oberfläche, die als Latentbilder auf dem Substrat frisch gebildet wurde, durch die Entwicklungsstrahlung aufgefunden wird, bevor eine dritte Substanz mit der Oberfläche in Kon takt kommt, dient die Oberfläche nicht als Latentbild. Deshalb sollte die Differenz in der Höhe zwischen Substrat und darauf frisch gebildeter Oberfläche weniger als 25% der Wellenlänge der Entwicklungsstrahlung betragen. Die Grenzen der Höhendifferenz hängen von den Entwicklungsstrahlungen ab. Wenn sichtbares Licht, das eine Wellenlänge von 400 nm oder weniger hat, verwendet wird, ist eine Differenz von 100 nm oder weniger in der Höhe ausreichend. Die untere Grenze der Höhendifferenz sollte wenigstens eine Stärke eines monomolekularen Filmes haben, um ein Differenz in der Oberflächenspannung zwischen Substrat und darauf frisch gebildeter Oberfläche zu erzeugen. Ein monomolekularer Film, der eine ausreichende Dichte hat, kann eine gewünschte Oberfläche auf dem Substrat bilden und erzeugt eine erwünschte Oberflächenspannungsdifferenz. Dann ist eine Höhendifferenz beispielsweise 1 bis 4 nm.
- Alle festen Substanzen sind zur Verwendung als Substrat, auf dem ein Latentbild gebildet wird, geeignet, solange das Substrat mit einer Entwicklungsstrahlung richtig bestrahlt und das Latentbild ausreichend festgestellt wird. Ein Substrat hat vorzugsweise eine Spiegeloberfläche, um die Unterschiede im Reflexionsvermögen der Entwicklungsstrahlung festzustellen. Um Unterschiede in der Durchlässigkeit der Entwicklungsstrahlung festzustellen, hat eine Substanz vorzugsweise eine transparente Oberfläche. Wenn ein Substrat aus wenigstens einem Material gebildet wird, das aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Metall, Glas, Kunststoff, Gestein, Keramik und Mineral besteht, werden Latentbilder auf einer Vielzahl von Substanzen gebildet, auf denen zuvor keine Latentbilder gebildet wurden. Beispiele eines Metallmaterials für ein Substrat schließen Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Aluminium, Nickel, Chrom, Zinn, Zink, Blei, Titan und Legierungen davon wie Edelstahl, Messing, Bronze, Lötmetall oder Duralumin ein. Beispiele eines Glasmaterials für das Substrat schließen Silikatglas, Phosphosilikatglas, Borosilikatglas, Quarzglas, Natronkalkglas, Bleiglas und Bariumglas ein. Beispiele eines Kunststoffmaterials für das Substrat schließen Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol, Polycarbonat, Poly(methylmethacrylat), Poly(hydroxyethylmethacrylat), Acrylharze, Polyethersulfon, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Kunstseide, Celluloseharze, Nylons, Fluorharze, Siliciumharze und Copolymere davon wie Acrylnitril- Butadien-Styrol-Harz (ABS-Harz) oder Acrylnitril-Styrol-Harz (AS-Harz) ein. Beispiele eines Gesteins für das Substrat schließen Marmor, Granit und Achat ein. Beispiele eines Keramikmaterials für das Substrat schließen Porzellan, Kunstporzellan, Kunststein, Imitationsschmuck, Aluminiumnitrid, Siliciumnitrid, Titannitrid, Aluminiumoxid, Woframcarbid und Siliciumcarbid ein. Beispiele eines Minerals für das Substrat schließen Diamant, Rubin, Saphir, Smaragd, Topas und Quarz ein.
- Die Substrate können eine flache Oberfläche oder eine unebene Oberfläche haben. Die Latentbilder der Erfindung können auf einer gewölbten Oberfläche wie der Oberfläche eines Weinglases oder auf einer rauhen Oberfläche wie der von mattiertem Glas gebildet werden. Wenn ein Substrat eine transparente oder eine Spiegeloberfläche hat, werden die Durchlässigkeitsunterschiede bezüglich der Entwicklungsstrahlung leicht zwischen dem Substrat und einer dritten Substanz zur Sichtbarmachung des Latentbildes nachgewiesen, und die Bilder werden leicht sichtbar gemacht.
- Die Oberflächenspannung des Substrates kann größer sein als die Oberflächenspannung einer frisch darauf gebildeten Oberfläche und umgekehrt. Substrate wie die aus Metall, Glas, Gestein, Keramik oder Mineral haben ein relativ große Oberflächenspannung. Um so geringer die Oberflächenspannung der frisch auf dem Substrat gebildeten Oberfläche, desto klarer werden die Latentbilder gezeigt. Beispiele der geeigneten Oberfläche, die eine kleine Oberflächenspannung hat, schließen eine Oberfläche ein, die aus Silanverbindungen, die ein Alkyl- oder Fluoralkylgruppe besitzen, Thiolverbindungen und Alkylpolysiloxan stammt.
- Substrate wie die aus Kunststoff haben eine relativ geringe Oberflächen- Spannung. Um so höher die Oberflächenspannung der frisch auf dem Substrat gebildeten Oberfläche, desto klarer werden die Latentbilder gezeigt. Beispiele der auf dem Substrat gebildeten Oberfläche schließen eine Oberfläche ein, die aus Siliciumoxid und Kunststoff stammt, der polare Gruppen hat, die aufgrund der Plasmabehandlung freigelegt werden.
- Wenn ein Film für ein Latentbild auf einem Substrat ein chemisch adsorbierter Film ist, der an das Substrat über kovalente Bindungen gebunden ist, ist das resultierende Latentbild in der Beständigkeit hervorragend, weil der Film fest an das Substrat gebunden ist. Wenn die frisch auf dem Substrat gebildete Oberfläche von einer Silanverbindung abstammt, werden Siloxan-Bindungen (Si-O) zwischen der Silanverbindung und Hydroxylgruppen auf dem Substrat wie dem von Glas oder Metalloxid gebildet. Anderenfalls können Silanverbindungen kovalente Bindungen mit Aminogruppen auf einem Substrat bilden.
- Wenn die frisch auf dem Substrat gebildete Oberfläche von einer Thiolverbindung abstammt, bildet ein Schwefelatom in der Thiolverbindung kovalente Bindungen mit einem Metallsubstrat wie Ag oder Au. Wenn die frisch auf dem Substrat gebildete Oberfläche von einer Silan- oder Thiolverbindung abstammt, die eine Alkyl- oder Fluoralkylgruppe besitzt, wird die Oberflächenspannung eines Teiles in dem Substrat, der mit der anderen Substanz bedeckt ist, verringert, was eine ausreichende Differenz der Oberflächenspannung zwischen dem Substrat und dem Teil erzeugt. Beispiele der Silanverbindung, die ein Alkyl- oder Fluoralkylgruppe aufweist, schließen eine Verbindung ein, die durch Formel II wiedergegeben wird.
- worin R eine Alkylgruppe oder eine Fluoralkylgruppe darstellt und X¹, X² und X³ Substrat oder ein Siliciumatom eines weiteren Moleküls darstellen, das an das Molekül der durch Formel II dargestellten Verbindung angrenzt. Die obige Verbindung hat eine Alkyl- oder eine Fluoralkylgruppe und bindet an das Substrat einer anderen Silanverbindung über Si-O-Bindungen. Die Alkylgruppe hat vorzugsweise 1 bis 30 Kohlenstoffatome. Die Fluoralkylgruppe hat vorzugsweise 3 bis 12 Kohlenstoffatome. Die Oberflächenspannung der frisch auf dem Substrat gebildete Oberfläche wird mit Zunahme der Kohlenstoffatome in der Alkyl- oder Fluoralkylgruppe noch mehr verringert. Weiterhin ist eine Fluoralkylgruppe zur Verringerung der Oberflächenspannung wirksamer als eine Alkylgruppe. Beispiele der Silanverbindung schließen Verbindungen ein, die durch die Formeln III(a) bis III(f) wiedergegeben werden.
- worin X¹, X² und X³ Substrat oder ein Siliciumatom eines weiteren Moleküls der Verbindung darstellen, das an das Molekül der jede Formel dargestellten Verbindung angrenzt. Formel III(e)
- worin X¹ bis X&sup6; Susbtart oder ein Siliciumatom eines weiteren Moleküls der Verbindung darstellen, das an das Molekül der durch jede Formel dargestellten Verbindung angrenzt.
- Wenn die Substanz für Latentbilder ein durch Formel I dargestelltes Alkylpolysiloxan ist, kann das Latentbild in einer Beschichtung gebildet werden. In Formel I ist R¹ eine Alkylgruppe, die 1 bis 7 Kohlenstoffatome hat, R² ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, die 1 bis 7 Kohlenstoffatome hat, eine Arylgruppe, die 6 Kohlenstoffatome hat, und n ist eine Ganzzahl von 5 bis 900. Die Oberflächenspannung des Alkylpolysiloxans wird mit Zunahme der Kohlenstoffatome für R¹ oder R² in Formel I noch mehr verringert. Jedoch wird Polydimethylsiloxan, in dem sowohl R¹ als auch R² eine Methylgruppe (CH&sub3;-) sind, ökonomisch bevorzugt, weil es das billigste ist. Die Beständigkeit des Latent bildes wird mit Erhöhung von n in Formel I weiter verbessert. Wenn n jedoch zu groß ist, ist die Substanz schwer in einem Lösungsmittel zu lösen, und die Substanz hat zu hohe Viskosität. Obwohl ein bevorzugter Wert von einer Kombination von R¹ und R² abhängt, ist die bevorzugt Zahl von n etwa 200.
- Das Verfahren des Bildens eines Latentbildes der Erfindung ermöglicht die effektive Bildung von Latentbildern der Erfindung.
- Die bevorzugten Silanverbindungen haben eine Alkoxygruppe, die 1 bis 3 Kohlenstoffatome besitzt. Speziell wird eine Methoxy- (CH&sub3;O-), Ethoxy- (CH&sub3;CH&sub2;O-) oder Propoxygruppe (CHCH&sub2;CH&sub2;O-) bevorzugt. Bevorzugte Halogene schließen Chlor und Brom ein.
- Aus der obigen Silanverbindung gebildete Filme haben unabhängig von der Art der funktionellen Gruppen in der Silanverbindung dieselbe chemische Struktur. Die funktionellen Gruppen beziehen sich hier auf jede Alkoxygruppe, Acetoxygruppe, Isocyanatgruppe und jedes Halogen. Wenn die Silanverbindung in Kontakt mir dem Substrat kommt, reagieren Hydroxyl- oder Aminogruppen in dem Substrat mit der Silanverbindung. Die funktionelle Gruppe wird eliminiert, da ein Si-O- oder Si-N-Bindung zwischen dem Substrat und dem Siliciumatom gebildet wird, und die Silanverbindung, die keine funktionelle Gruppe enthält, bildet einen Film auf dem Substrat.
- Obwohl aus der Silanverbindung gebildete Filme unabhängig von der Art der funktionellen Gruppen in der Silanverbindung dieselbe chemische Struktur haben, ist die Reaktionsgeschwindigkeit zur Bildung eines Filmes zwischen funktionellen Gruppen wesentlich unterschiedlich. Im allgemeinen reagieren Silanverbindungen, die Halogen besitzen, sehr schnell, während Silanverbindungen, die ein Alkoxygruppe aufweisen, sehr langsam reagieren. Unter den Halogenen zeigen Chlor und Brom ähnliche Reaktivität. Unter den Alkoxygruppen haben die Methoxygruppe, Ethoxygruppe und Propoxygruppe ähnliche Reaktivität.
- Die Silanverbindungen werden in bezug auf die Bedingungen ausgewählt, unter denen die Latentbilder gebildet werden. Die Silanverbindungen, die Halogen aufweisen, sind verwendbar, um ein Latentbild in einer kurzen Zeit zu bilden, und die Bildungsreaktion wird bei Raumtemperatur innerhalb von 5 min vollendet. Jedoch sollte mit derartigen Verbindungen, die hohe Reaktivität haben, in trockener Atmosphäre umgegangen werden. Wenn eine Silanverbindung, die Alkoxygruppe besitzt, verwendet wird, wird die Bildungsreaktion normalerweise bei 100ºC für etwa 1 h vollendet.
- In der Erfindung wird eine Oberfläche für Latentbilder auf einem Teil eines Substrates auf zwei Wegen gebildet: dem Maskierungsverfahren und dem direkten Verfahren.
- In dem Maskierungsverfahren wird ein Substrat mit einer anderen Substanz maskiert, ein Punkt oder ein Film aus einer dritten Substanz auf einem unmaskierten Teil des Substrates gebildet und dann die Maskierungssubstanz entfernt. Beispiele der Maskierungssubstanz schließen Druckfarbe, einen Photoresistfilm oder einen Kunststoffilm, der einen Pol hat, ein.
- In dem direkten Verfahren wird ein Teil des Substrates einer anderen Substanz ausgesetzt oder einer chemischen oder physikalischen Behandlung unterworfen, um eine andere Oberfläche auf dem Substrat zu bilden. Beispielsweise werden Silanverbindungen in einem Muster durch Siebdruck gedruckt oder ein geplanter Teil lediglich mit Abtastelektronenstrahlen bestrahlt oder ein mit einer Photomaske bedecktes Substrat mit ultravioletten Stahlen bestrahlt. Ein geeignetes Verfahren wird in Abhängigkeit von der Größe oder Form des Substrates, der erforderlichen Auflösung, den Eigenschaften der Substanz für Latentbilder und Substrate und ähnlichem ausgewählt.
- Das Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes unter Verwendung der Oberflächenspannungsdifferenz macht ein Latentbild für das bloße Auge leicht sichtbar. Jede Substanz in Tropfen- oder Feststofform, die an der Oberfläche des Latentbildes haftet, kann die dritte Substanz zur Entwicklung des Bildes sein.
- Vorzugsweise bedeckt Dampf eine rauhe Oberfläche vollkommen. Eine Flüssigkeit, die eine niedrige Viskosität von 13,5 mPa·s (Centipoise) oder weniger hat, wie Ethylenglycol kann geeignet sein. Wenn die dritte Substanz gesättigter Wasserdampf ist, wird das Latentbild der Erfindung leicht und sicher ohne Verwendung besonderer Materialien gezeigt.
- Die dritte Substanz haftet an der Oberfläche auf verschieden Wegen in Abhängigkeit von der Oberflächenspannung der Oberfläche. Das Ergebnis ist beispielsweise, daß die Adsorptionsmenge der dritten Substanz zwischen Oberflächen unterschiedlich ist, daß der Kontaktwinkel des Tropfens zwischen Oberflächen unterschiedlich ist oder daß der Partikeldurchmesser des niedergeschlagenen Feststoffs zwischen Oberflächen unterschiedlich ist. Dann macht die Bestrahlung mit geeigneter Entwicklungsstrahlung macht die dritte Substanz ausreichend sichtbar, um die Latentbilder zu zeigen. Beispiele der Entwicklungsstrahlung schließen sichtbares Licht, Infrarotstrahlung, ultraviolette Strahlung, Elektronenstrahl und Laserstrahl ein. Unter normaler Leuchtkraft wie 20 Lux oder mehr kann die sichtbar gemachte dritte Substanz durch das bloße Auge ohne Verwendung einer besonderen Entwicklungsstrahlung festgestellt werden.
- Der Gegenstand der Erfindung hat ein Latentbild, daß so leicht wie erforderlich entwickelt wird. Das Latentbild kann den Hersteller oder die Marke zeigen oder kann ein echtes Produkt in unauffälliger Weise, ohne Kunden zu verärgern oder den künstlerischen Wert des Gegenstandes zu beeinträchtigen, bescheinigen. Beispiele von Metallsubstraten schließen Tafelgeschirr, Spiegel, Kochgeschirr und Kunstobjekte ein. Beispiele von Glassubstraten schließen Tafelgeschirr, Spiegel, Kunstobjekte, Behälter und Fensterscheiben ein. Beispiele von Kunststoffsubstraten schließen Karten, Behälter und organisches Glas für Fensterscheiben ein. Beispiele von Gesteinssubstraten schließen Marmorwände, Tische, Grabsteine, Gedenksteine, Siegel, Accessoires und Ziergegenstände ein. Beispiele von keramischen Substraten schließen Tafelgeschirr, Behälter, Sanitär artikel, Kunstobjekte und künstliche Steine ein. Beispiele mineralischer Substrate schließen Schmuck, Accessoires und Ziergegenstände ein.
- Wenn das Substrat ein teilweise mit Metall bedecktes Kunststoffprodukt ist, wird das Latentbild auf der Metallseite gebildet, so daß Karten wie Identifizierungskarten effizient zur Verfügung gestellt werden.
- Wenn der Gegenstand in Form einer Karte ist, werden Karten wie Identifizierungskarten rationell zur Verfügung gestellt. Wenn Latentbilder, die Identifzierungsnummern, Kartennummern, Markierungen oder Identifizierungsphotos zeigen, auf solchen Karten gebildet werden, arbeiten die Karten ohne die Nutzer zu verärgern.
- Wenn der Gegenstand ein Metallbehälter, Glasbehälter, Porzellanbehälter oder Keramikbehälter ist, kann das Latentbild den Hersteller oder die Marke, Buchstaben oder Markierungen, die die Nutzer oder die Geschäfte, wenn nötig, zeigen, ohne Verärgern des Kunden in unauffälliger Weise oder Beeinträchtigen des Aussehens des Gegenstandes zeigen.
- Die Erfindung wird mit Bezug auf die anhängenden Zeichnungen erklärt. Sie sollten nicht so verstanden werden, daß die Erfindung auf die Ausführungen der Zeichnungen oder der folgenden Beispiele beschränkt wird.
- Eine Glasplatte (10 cm · 10 cm · 1 mm dick) wurde in herkömmlicher Weise gewaschen, und ein Muster wurde mit Tinte durch Siebdruck auf dem Glas gebildet. Das Glas wurde in einer Lösung aus 1 Gewichtsprozent Heptadecafluordecyltrichlorsilan (CF&sub3;(CF&sub2;)&sub7;(CH&sub2;)&sub2;SiCl&sub3;) in Hexadecan bei Raumtemperatur 1 h mit dem Tintenmuster, das als Maske wirkt, eingeweicht. Ein dünner, eine Fluoralkylgruppe enthaltender Film in einer Stärke von etwa 2,3 nm wurde auf einem tintenfreien Teil des Glases gebildet. Dann wurde das Glas mit Aceton gewaschen, um die Tinte zu entfernen.
- Die Dicke des dünnen Filmes war viel kleiner als die Wellenlänge der ultravioletten Strahlung oder der sichtbaren Strahlung. Deshalb wurde der dünne Film nicht durch Bestrahlung mit ultravioletter oder sichtbarer Strahlung nicht nachgewiesen, und der dünne Film bildete ein Latentbild. Die Transparenz des Glases wurde nicht durch den dünnen Film beeinflußt. Die Oberflächenspannung des dünnen Filmes war 18 mN/m (dyn/cm), und die Oberflächenspannung des filmfreien Glases war etwa 65 mN/m (dyn/cm).
- Das Latentbild wurde gesättigtem Dampf ausgesetzt, und der Dampf, um ihn zu verflüssigen, gekühlt. Fig. 1 zeigt das Tropfen 13 an dem dünnen Film 12 und dem Glassubstrat 11 hafteten. Der Tropfen hatte einen Durchmesser von 0,1 mm. Der Kontaktwinkel des Tropfens zum Glas war 110º auf dem Film und etwa 20º auf dem Glassubstrat. Wenn das Substrat mit sichtbaren Licht als Entwicklungsstrahlung bestrahlt wurde, wurde das Latentbild durch Detektieren von Durchlicht oder Streulicht entwickelt. Mit anderen Worten war der Kontaktwinkel des Tropfens deutlich unterschiedlich zwischen dem Film und dem Glas, und die Streuung des Lichtes war dementsprechend verschieden. In diesem Verfahren wurde eine Linie mit einer Breite von 0,3 mm durch das bloße Auge erkannt. Ähnlich dem Heptadecafluordecyltrichlorsilan war Octadecyltrichlorsilan (C&sub1;&sub8;H&sub7;SiCl&sub3;) oder Polydimethylsiloxan wirksam, um ähnliche Latentbilder zu bilden. Ähnliche Latentbilder wurden auf anderen Substraten wie Aluminium, Edelstahl, Aluminiumkeramiken oder Saphir gebildet.
- Eine Glasplatte (10 cm · 10 cm · 1 mm dick) wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 gewaschen. Eine Behandlungslösung, die 1 Gewichtsprozent Heptadecafluordecyltrichlorsilan in flüssigem Paraffin enthielt, wurde durch Siebdruck auf das Glas gedruckt. Das Glas wurde 1 h bei Raumtemperatur stehengelassen. Das Glas wurde dann mit Hexan gewaschen, um die Überschußlösung zu entfernen, wodurch ein dünner Film mit einer Fluoralkylgruppe auf den Glas gebildet wurde. Der Film war etwa 4 nm dick, und er war ausreichend dünner als die Wellenlänge der ultravioletten und der sichtbaren Strahlung, so daß der Film nicht durch solche Strahlen detektiert wurde, und der Film bildete ein Latentbild. Die Oberflächenspannung des dünnen Filmes war 22 mN/m (dyn/cm), und die Oberflächenspannung des filmfreien Glases war etwa 65 mN/m (dyn/cm).
- Das Latentbild wurde gesättigtem Dampf ausgesetzt, und Tropfen mit einem Durchmesser von 0,1 mm hafteten an dem Bild. Der Kontaktwinkel des Tropfens zum Glas war 105º auf dem Film und etwa 20º auf dem Glassubstrat. Wenn das Substrat mit sichtbarem Licht als Entwicklungsstrahlung in derselben Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt wurde, wurde das Latentbild sichtbar gemacht. In diesem Verfahren wurde eine Linie mit einer Breite von 0,3 mm durch das bloße Auge erkannt.
- Ähnliche Latentbild wurden unter Verwendung von Polydimethyldisiloxan statt des Heptadecafluordecyltrichlorsilans gebildet.
- Eine Glasplatte (10 cm · 10 cm · 1 mm dick) wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 gewaschen. Ein 2,3 nm dicker Film, der eine Fluoralkylgruppe enthielt, wurde auf der gesamten Oberfläche des Glases durch Einweichen in einer Lösung aus 1 Gewichtsprozent Heptadecafluordecyltrichlorsilan (CF&sub3;(CF&sub2;)&sub7;(CH&sub2;)&sub2;SiCl&sub3;) in Hexadecan bei Raumtemperatur 1 h gebildet. Dasselbe Muster wie in Beispiel 1 wurde auf dem dünnen Film durch Siebdruck mit Tinte gebildet. Der Film mit dem Muster als Maske wurde in eine Lösung aus 10% Natriumhydroxid bei Raumtemperatur 1 h eingeweicht und dann mit Wasser gewaschen. Der von gemusterter Tinte freie, dünne Film wurde eluiert. Das Substrat wurde mit Aceton gewaschen, um die Tinte zu entfernen. Das erhaltene Glassubstrat hatte einen darauf gebildeten Film in dem Bereich, auf dem ein Film in Beispiel 1 nicht gebildet wurde, und ein Film wurde nicht in dem Bereich gebildet, auf dem der dünne Film in Beispiel 1 gebildet wurde. Die Oberflächenspannung des dünnen Filmes, an dem die Tinte gehaftet hat, war 18 mN/m (dyn/cm), und die Oberflächenspannung des filmfreien Glases und der Tinte war etwa 65 mN/m (dyn/cm).
- Das Latentbild wurde gesättigtem Dampf ausgesetzt, und Tropfen mit einem Durchmesser von 0,1 mm hafteten an dem Bild. Der Kontaktwinkel des Tropfens zum Glas war 110º auf dem Film und etwa 20º auf dem Glassubstrat. Wenn das Substrat mit sichtbarem Licht als Entwicklungsstrahlung in derselben Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt wurde, wurde das Latentbild sichtbar gemacht. Das erhaltene Bild war entgegengesetzt zu dem in Beispiel 1. In diesem Verfahren wurde eine Linie mit einer Breite von 0,3 mm durch das bloße Auge erkannt.
- Gold wurde auf einer Glasplatte (10 cm · 10 cm · 1 mm dick) abgeschieden, und ein Muster wurde mit Tinte auf dem abgeschiedenen Gold in derselben Weise wie in Beispiel 1 gebildet. Das Glas mit abgeschiedenem Gold wurde in einer Lösung aus 1 Gewichtsprozent Octadecylmercaptan (C&sub1;&sub8;H&sub3;&sub7;SH) in Chloroform bei Raumtemperatur 1 h eingeweicht, vorausgesetzt, daß die gemusterte Tinte eine Maske war. Ein dünner Film, der eine Alkylgruppe enthielt, in einer Stärke von etwa 2 nm wurde auf einem Teil des tintenfreien Goldfilmes gebildet. Dann wurde das Glas mit Aceton gewaschen, um die Tinte zu entfernen. Die Dicke des dünnen Filmes war viel kleiner als die Wellenlänge der ultravioletten Strahlung oder der sichtbaren Strahlung. Deshalb wurde der dünne Film nicht durch Bestrahlung mit ultravioletter oder sichtbarer Strahlung nicht nachgewiesen, und der dünne Film bildete ein Latentbild. Die Oberflächenspannung des dünnen Filmes war 30 mN/m (dyn/cm), und die Oberflächenspannung auf dem filmfreien Goldfilm war etwa 60 mN/m (dyn/cm).
- Das Latentbild wurde gesättigtem Dampf ausgesetzt, und Tropfen mit einem Durchmesser von 0,1 mm hafteten an dem Bild. Der Kontaktwinkel des Tropfens zum Gold war 90º auf dem Film und etwa 25º auf der unbeschichteten Goldoberfläche. Wenn das Substrat mit sichtbarem Licht als Entwicklungsstrahlung in derselben Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt wurde, wurde das Latentbild sichtbar gemacht. Mit anderen Worten war der Kontaktwinkel des Tropfens deutlich unterschiedlich auf dem Film und auf der unbeschichteten Goldoberfläche, und das Reflexionsvermögen hing folglich von Anwesenheit oder der Abwesenheit des Filmes ab. In diesem Verfahren wurde eine Linie mit einer Breite von 0,3 mm durch das bloße Auge erkannt.
- Ein Spiegel wurde durch Abscheiden von Aluminium auf einer Glasplatte (10 cm · 14 cm · 3 mm dick) hergestellt. Der Spiegel wurde in einer herkömmlichen Weise gewaschen. Der Spiegel wurde derselben Behandlung wie in Beispiel 1 unterworfen, und ein dünner Film mit einer Stärke von 2,3 nm wurde als ein Latentbild auf dem Spiegel gebildet. Wenn das Latentbild gesättigtem Dampf ausgesetzt wurde, hafteten Tropfen mit einem Durchmesser von 0,1 mm an dem Bild. Der Kontaktwinkel des Tropfens zum Glas war 107º auf dem Film und etwa 25º auf dem Glassubstrat. Wenn das Substrat mit Helium-Neon- Laserstrahl als Entwicklungsstrahlung bestrahlt wurde, wurde das Latentbild durch Detektieren des reflektierenden Lichts durch Abtasten des Laserstrahls erkannt. Mit anderen Worten war der Kontaktwinkel des Tropfens deutlich unterschiedlich auf dem Film und dem Glas, und das Reflexionsvermögen hing von Anwesenheit oder der Abwesenheit des Filmes ab. In diesem Verfahren wurde eine Linie mit einer Breite von 0,2 mm durch das bloße Auge erkannt. Ähnliche Latentbilder wurden auf anderen Substraten wie Glas, das mit Titannitrid, Aluminiumnitrid, Siliciumcarbid durch Vakuumzerstäubung beschichtet wurde, gebildet.
- Ein dünner Film mit einer Stärke von etwa 2,3 nm wurde als Latentbild auf der äußeren Oberfläche eines 150 ml Weinglases in derselben Weise wie in Beispiel 1 gebildet. Wenn das Latentbild gesättigtem Dampf ausgesetzt wurde, hafteten Tropfen mit einem Durchmesser von etwa 0,1 mm an dem Bild. Wasser mit Eis wurde in das Weinglas gegossen, und das Weinglas wurde 1 min in einer Luftfeuchtigkeit von 60% stehengelassen. Tropfen hafteten ebenso an dem Weinglas. Der Kontaktwinkel des Tropfens zum Weinglas war 110º auf dem Film und etwa 20º auf dem filmfreien Weinglas. Wenn das Substrat mit sichtbarem Licht als Entwicklungsstrahlung bestrahlt wurde, wurde das Latentbild sichtbar gemacht. In diesem Verfahren wurde eine Linie mit einer Breite von 0,3 mm durch das bloße Auge erkannt.
- Ähnliche Latentbilder wurden auf anderen Substraten wie einem Glas, einer Vase, einer Porzellanschüssel und einer Edelstahltasse gebildet.
- Aluminium wurde auf einen Teil einer Polyvinylchloridkarte abgeschieden. Fig. 2(a) zeigt, daß Aluminium 22 in einem Bereich von 2,5 cm · 3 cm auf einer 8,5 cm · 5,3 cm Karte 21 abgeschieden wurde. Wie in Fig. 2(b) gezeigt, wurde ein Identifizierungsphoto auf das abgeschiedene Aluminium 22 durch Siebdruck unter Verwendung von Tinte gedruckt. Das Drucken teilte die Oberfläche des Aluminiums 22 in einen mit Tinte bedeckten Teil und den anderen tintenfreien Teil. Der mit Tinte bedeckte Teil entsprach einem schwarzen Teil eines Photos. Der tintenfreie Teil entsprach einem weißen Teil eines Photos. Das Identifizierungsphoto wurde als Schwarz/ Weiß-Bild aufgenommen.
- Die Karte wurde in einer Lösung aus 1 Gewichtsprozent Heptadecafluordecyltrichlorsilan (CF&sub3;(CF&sub2;)&sub7;(CH&sub2;)&sub2;SiCl&sub3;) in Perfluorpentan bei Raumtemperatur 1 h eingeweicht. Dann wurde die Karte mit Perfluorpentan gewaschen. Ein dünner Film, der ein Fluoralkyl enthielt, wurde auf dem Teil der Karte gebildet, wo Aluminium 22 freigelegt war. Die Karte wurde dann mit Ethanol gewaschen, um die Tinte zu entfernen. Die Stärke des Filmes war 2,3 nm, und er war viel dünner als die Wellenlänge der ultravioletten oder unsichtbaren Strahlung. Deshalb wurde der Film als Latentbild gebildet, weil der dünne Film nicht durch solche Strahlungen detektiert wurde. Fig. 2(c) zeigt, daß das Identifizierungsphoto nicht auf dem Aluminium 22 erschien. Wenn der Erfinder auf die Karte blies, wurde nur das Aluminium, auf dem der dünne Film gebildet wurde, weiß getrübt, und, wie Fig. 2d gezeigt, das Identifizierungsphoto wurde in wenigen Sekunden wieder unsichtbar. Der Teil des Polyvinylchlorids in der Karte zeigte keine Änderung, selbst wenn der Erfinder auf die Karte blies.
- Wie oben erklärt, wird das Latentbild der Erfindung leicht durch Verwendung einer Differenz in der Oberflächenspannung zwischen einem Substrat und einer frisch auf dem Substrat gebildeten Oberfläche gebildet, und das Latentbild wird für das bloße Auge unter sichtbarem Licht unsichtbar. Das Latentbild wird nicht über die Zeit oder durch Bestrahlung einer Entwicklungsstrahlung beeinträchtigt. Folglich wird das Latentbild semi-permanent geschützt. Wenn das Latentbild nicht mit einer dritten Substanz in Kontakt kommt wird das Bild nicht erkannt. Deshalb ist das Latentbild zur Verwendung, die vertrauliche Information erfordern, wie als Ausweise geeignet. Wenn das Latentbild auf Gegenständen gebildet wird, wird das Aussehen der Gegenstände nicht beeinträchtigt. Das Latentbild wird schnell sichtbar gemacht, um Karten oder Gegenstände zu unterscheiden. Deshalb sind Karten oder Gegenstände mit dem Latentbild leicht zu verwenden.
Claims (25)
1. Gegenstand zur Bildung eines Latentbildes, der eine erste Substanz
umfaßt, die auf einem Substrat einer zweiten Substanz gebildet wurde, das eine
Oberflächenspannung hat, die sich von der Oberflächenspannung der ersten
Substanz unterscheidet, wobei besagte erste Substanz und besagtes Substrat
eine Differenz von 0,1 bis 100 nm in der Höhe voneinander haben.
2. Der Gegenstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
besagte erste Substanz einen Film bildet, der eine Stärke von 0,1 bis 100 nm auf
besagtem Substrat hat.
3. Der Gegenstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
besagtes Substrat auf wenigstens einem Material gebildet ist, daß aus der Gruppe
ausgewählt wurde, die aus Metall, Glas, Kunststoff, Gestein, Keramik und
Mineral besteht.
4. Der Gegenstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
besagtes Substrat eine transparente oder Spiegeloberfläche hat.
5. Der Gegenstand nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
besagter Film ein chemisch adsorbierter Film ist, der kovalent an eine Oberfläche
des besagten Substrates über eine kovalente Bindung gebunden ist.
6. Der Gegenstand nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
besagte erste Substanz eine Silanverbindung ist, die an eine Oberfläche des
besagten Substrates über eine Siloxan-Bindung (Si-O) gebunden ist.
7. Der Gegenstand nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
besagte erste Substanz eine Thiolverbindung ist.
8. Der Gegenstand nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet,
daß besagte erste Substanz eine Verbindung ist, die wenigstens eine Gruppe
besitzt, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus Alkylgruppen und
Fluoralkylgruppen besteht.
9. Der Gegenstand nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
besagte erste Substanz ein Alkylpolysiloxan ist, das durch Formel I
wiedergegeben ist:
Formel I
10. Verfahren zur Herstellung eines Gegenstandes zur Bildung eines
Latentbildes, das den Schritt:
des Unterwerfens eines Substrates einer ersten Substanz einer chemischen
Behandlung oder einer physikalischen Behandlung umfaßt, um eine Oberfläche
einer zweiten Substanz zu bilden, die eine Oberflächenspannung hat, die sich
von der Oberflächenspannung der besagten ersten Substanz unterscheidet und
eine Differenz von 0,1 bis 100 nm in der Höhe von besagtem Substrat auf einem
Teil des besagten Substrates hat.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß besagtes
Substrat mit besagter zweiten Substanz kontaktiert wird, um einen Film der
besagten zweiten Substanz zu bilden, der eine Stärke von 0,1 bis 100 nm auf
dem Substrat hat.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß besagtes
Substrat mit einer Silanverbindung kontaktiert wird, die ein Siliciumatom und
wenigstens eine Gruppe umfaßt, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus
Alkoxygruppen, der Isocyanatgruppe, der Acetoxygruppe und Halogen
besteht.
13. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß es die
Schritte:
des Bedeckens eines Teils des besagten Substrates mit einer dritten
Substanz;
des Kontaktierens des besagten Substrates und der besagten dritten
Substanz mit besagter zweiten Substanz, um einem Film der besagten zweiten
Substanz auf einer Oberfläche des besagten Substrates zu bilden, die von der
dritten Substanz frei ist; und
des Entfernens der besagten dritten Substanz von besagtem Substrat
umfaßt.
14. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß es die
Schritte:
des Bedeckens eines Teils des besagten Substrates mit einer dritten
Substanz;
des Unterwerfens des besagten Substrates und der besagten dritten
Substanz einer chemischen oder physikalischen Behandlung, um eine Oberfläche
der besagten zweiten Substanz auf einer Oberfläche des besagten Substrates,
die frei von der besagten dritten Substanz ist, zu bilden; und
des Entfernens der besagten dritten Substanz von besagtem Substrat
umfaßt.
15. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß es die
Schritte:
des Bedeckens eines Teils des besagten Substrates mit einer dritten
Substanz;
des Kontaktierens des besagten Substrates und der besagten dritten
Substanz mit einer Silanverbindung, die ein Siliciumatom und wenigstens eine
Gruppe umfaßt, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus der
Alkoxygruppe, der Isocyanatgruppe und der Acetoxygruppe und Halogen besteht und
an das Siliciumatom gebunden ist, um einem Film der besagten zweiten
Sub
stanz auf einer Oberfläche des besagten Substrates, die frei von der besagten
dritten Substanz ist, zu bilden; und
des Entfernens der besagten dritten Substanz von besagtem Substrat
umfaßt.
16. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß besagte
chemische Behandlung eine Behandlung ist, in der besagtes Substrat mit
wenigstens einer kontaktiert wird, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus
Alkalilösung, Fluorwasserstoffsäure, Grignards Reagenz und
Trichlorsilanderivaten besteht.
17. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß besagte
physikalische Behandlung eine Behandlung ist, in der besagtes Substrat
wenigstens einer unterworfen wird, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus
Ultraviolettbestrahlung, Sauerstoffplasmabestrahlung,
Dampfplasmabestrahlung und Elektronenbestrahlung besteht.
18. Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes, das die Schritte:
des Kontaktierens eines in einem Gegenstand gebildeten Latentbildes, das
eine erste Substanz umfaßt, die auf einem Substrat einer zweiten Substanz
gebildet wurde, die eine Oberflächenspannung hat, die sich von der
Oberflächenspannung der besagten ersten Substanz unterscheidet, mit einer dritten
Substanz, die sich von der besagten ersten Substanz und der besagten zweiten
Substanz unterscheidet und auf der Oberfläche dieser Substanz in unterschiedlicher
Weise in Abhängigkeit von ihrer Oberflächenspannung haftet, und
der Anwendung einer Entwicklungsstrahlung, um das Latentbild zu
entwickeln,
umfaßt.
19. Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, daß besagte dritte Substanz in Dampfform ist.
20. Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, daß besagte dritte Substanz gesättigter Dampf ist.
21. Verfahren der Entwicklung eines Latentbildes nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, daß besagte Entwicklungsstrahlung wenigstens eine
ist, die aus der Gruppe ausgewählt wurde, die aus sichtbarer Strahlung,
Infrarot-Strahlung, ultravioletter Strahlung, Elektronenstrahlen und Laserstrahlen
besteht.
22. Gegenstand nach jedem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß er ein teilweise mit Metall beschichtetes Kunststofferzeugnis ist.
23. Gegenstand nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß er eine
Karte ist.
24. Gegenstand nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß er· eine
Kreditkarte, eine Identifizierungskarte, eine Lizenz, eine Urkunde, eine
Mitgliedskarte oder eine Geldkarte ist.
25. Gegenstand nach jedem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß er ein metallischer Behälter, ein Glasbehälter, ein Keramikbehälter
oder ein Porzellanbehälter ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11616095 | 1995-05-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69601827D1 DE69601827D1 (de) | 1999-04-29 |
DE69601827T2 true DE69601827T2 (de) | 1999-08-05 |
Family
ID=14680268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69601827T Expired - Fee Related DE69601827T2 (de) | 1995-05-15 | 1996-05-14 | Latentbild, Herstellung und Entwicklung des Bilds und Gegenstände mit dem Bild |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5906871A (de) |
EP (1) | EP0743191B1 (de) |
DE (1) | DE69601827T2 (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69807554T2 (de) | 1997-03-21 | 2003-05-22 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Verfahren zur Herstellung eines bedruckten Substrats, elektronenemittierendes Element, Elektronenquelle und Bilderzeugungsgerät |
NL1015717C2 (nl) * | 2000-07-14 | 2002-01-15 | Zetfolie B V | Een werkwijze voor het aanbrengen van een uitsparingspatroon in een folie. |
US6936141B2 (en) * | 2001-02-16 | 2005-08-30 | California Institute Of Technology | Dry etching and mirror deposition processes for silicone elastomer |
US7182817B1 (en) | 2005-04-18 | 2007-02-27 | Weaver David E | Apparatus and method for developing latent fingerprints |
US8814861B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-08-26 | Innovatech, Llc | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
US7147634B2 (en) | 2005-05-12 | 2006-12-12 | Orion Industries, Ltd. | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
US7487739B1 (en) | 2005-11-29 | 2009-02-10 | Weaver David M | Sublimation containment apparatus and method for developing latent fingerprints |
US8272343B1 (en) | 2005-11-29 | 2012-09-25 | Weaver David E | Fingerprint goggles |
ITRM20120551A1 (it) * | 2012-11-12 | 2014-05-13 | Mauro Morelli Marmi Di Claudio More Lli | Processo per il pre-trattamento di superfici lapidee da stampa e impanto per attuare il processo |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1497791A (en) * | 1975-07-14 | 1978-01-12 | Secr Defence | Fingerprint detection |
US4613515A (en) * | 1984-02-29 | 1986-09-23 | Apple Adhesives, Inc. | Fingerprint development kit and process |
US4631203A (en) * | 1985-04-08 | 1986-12-23 | Rolf Schaefer | Latent imaging and developer system |
US4882195A (en) * | 1986-04-30 | 1989-11-21 | Print-Lock Corp. | Method for labeling an object for its verification |
US5278126A (en) * | 1989-03-31 | 1994-01-11 | Ricoh Company, Ltd. | Recording process and apparatus and recording medium in the same |
-
1996
- 1996-05-14 DE DE69601827T patent/DE69601827T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-14 EP EP96107688A patent/EP0743191B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-14 US US08/645,773 patent/US5906871A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69601827D1 (de) | 1999-04-29 |
EP0743191B1 (de) | 1999-03-24 |
US5906871A (en) | 1999-05-25 |
EP0743191A1 (de) | 1996-11-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |