DE69507644T2 - Oberflächenspannungsmessverfahren für flüssigkeiten - Google Patents

Oberflächenspannungsmessverfahren für flüssigkeiten

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Description

    TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenspannung, auf einen Waschprozeß, worin die Oberflächenspannung bestimmt wird, auf eine Elektrode, auf ein Verfahren zur Erzeugung von Gasbläschen in einer wässerigen Lösung und auf einen Apparat für die Entwicklung von Gasbläschen.
  • VORGESCHICHTE UND STAND DER TECHNIK
  • Die Messung der Oberflächenspannung in Flüssigkeiten kann für verschiedene Anwendungen verwendet werden, wie beispielsweise für diejenigen, welche oberflächenaktive Materialien für das Benetzen und Waschen verwenden. Eine Unterscheidung kann zwischen der statischen Oberflächenspannung, welche die Gleichgewichtszustände kennzeichnet, und der dynamischen Oberflächenspannung, welche die nicht beim Gleichgewicht vorhandenen Zustände charakterisiert, gemacht werden. Beide Typen können sich auf die Konzentration des oberflächenaktiven Materials beziehen. Da die Benetzungs- und Reinigungsverfahren üblicherweise vom Gleichgewicht weit entfernt sind, wird es bevorzugt, die dynamische Oberflächenspannung für solche Verfahren zu überwachen, insbesondere wenn die Konzentration des oberflächenaktiven Materials über dem CMC-Wert sein kann und dynamische Oberflächenspannungsmessungen noch durchgeführt werden können.
  • Um die dynamische Oberflächenspannung in einer Lösung zu bestimmen, ist eine Grenzfläche mit sich veränderndem Oberflächenbereich notwendig, und es wurde festgestellt, daß Gasbläschen für diesen Zweck für Messungen in Flüssigkeiten verwendet werden können. An der Oberfläche des Gasbläschens findet ein dynamisches Verfahren der Belegung mit: oberflächenaktivem Material statt; ein Anwachsen des Bläschens zieht oberflächenaktives Material, falls in der Lösung vorhanden, an.
  • Der Stand der Technik beschreibt die Verwendung von Pumpen und Röhren zur Erzeugung von Bläschen aus Gas in einer flüssigen Lösung zur Messung der dynamischen Oberflächenspannung. Das Verfahren wird ganz allgemein als "Durchblasen" bezeichnet und wurde z. B. erwähnt und beschrieben in S. D. Lubetkin, Controlled particle, droplet and bubble formation, ed. D. J. Wedlock, Butherworth & Heinemann, ISBN 0 75061494 3 (1994) 159-190.
  • Es wird angenommen, daß die Geschwindigkeit, bei welcher sich das oberflächenaktive Material zu der Bläschenoberfläche bewegt, sich auf die Konzentration des oberflächenaktiven Materials in der Lösung bezieht. Wenn beispielsweise die Konzentration des oberflächenaktiven Materials niedrig ist, dann wird die Geschwindigkeit des oberflächenaktiven Materials, das sich zu der Gasbläschenoberfläche bewegt, ebenfalls niedrig sein. Es wird angenommen, daß, je niedriger die Oberflächenspannung der Flüssigkeit (d. h. je höher die Konzentration des oberflächenaktiven Materials) ist, desto rascher und/oder leichter das Bläschen in die Lösung freigesetzt wird, d. h. je höher die Frequenz und/oder je kleiner die Größe der Gasbläschen sein wird. Im allgemeinen kann diese Frequenz und/oder die Größe der Gasbläschen auf die Oberflächenspannung (und die oberflächenaktive Materialkonzentration) in der Lösung bezogen sein.
  • Die WO 92/18680 offenbart ein Waschverfahren für die Messung der Oberflächenspannung durch Verwendung eines Tensiometers, welcher die Druckschwankungen zwischen zwei Röhren mit verschiedenen Durchmessern unterschiedlich mißt. Die Gasbläschen werden durch Verwendung einer äußeren Gasquelle mit einem kon stanten Gasfluß erzeugt. Da Fluktuationen in dem Gasfluß aus der äußeren Gasquelle erfolgen können, mögen die Messungen nicht genau sein. Gasfluß-Fluktuationen können mit kostspieliger Einrichtung beseitigt werden. Die Zugabe von Gas auf dem Wege über Zusetzen des Gases zu der Waschflüssigkeit aus einem Lagertank durch ein Röhrensystem hat Kapital-Anlagekosten und ein komplexes System zur Folge. Derartige Systeme erfordern ferner Sicherheitseinrichtungen im Hinblick auf den hohen Druck.
  • R. Leung, D. O. Shah, Journal of Colloid and Interface Science, Vol. 113-2 (1986) 484-499 und S. G. Oh, S. P. Klein, D. O. Shah, AIChE Journal, Vol. 38-1 (1992) 149-152 offenbaren Drucksprung-Apparate.
  • Wir haben einen Weg zur Bestimmung der Oberflächenspannung in Flüssigkeiten gefunden, welcher eines oder mehrere der vorstehenden Probleme überwindet.
  • DEFINITION DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenspannung in einer Flüssigkeit durch Erzeugen von Gasbläschen in der Flüssigkeit, wonach die Oberflächenspannung in der Flüssigkeit durch die Überwachung der Gasbläschen bestimmt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasbläschen aus an Ort und Stelle erzeugtem Gas gebildet sind.
  • Bevorzugterweise werden Elektroden als eine Gasbläschen- Entwicklungseinheit zur Erzeugung von Gas in situ verwendet.
  • Bevorzugterweise wird die Entwicklung der Gasbläschen in situ überwacht.
  • Bevorzugterweise werden Elektroden als eine Beobachtungseinheit zur Überwachung der Gasbläschen in situ verwendet.
  • Bevorzugterweise wird die Oberflächenspannung bestimmt durch Messen der Gasbläschen-Frequenz (d. h. der Frequenz der Überpotential-Fluktuationen) bei konstantem Elektrolyse-Strom, oder durch Messen des Elektrolyse-Stroms bei konstanter Gasbläschen-Frequenz und Vergleichen der Gasbläschen-Frequenz oder des Stroms mit einer Eichlinie zur Bestimmung der Oberflächenspannung in der Flüssigkeit.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Waschverfahren, in welchem eine wässerige Lösung verwendet wird und worin die Oberflächenspannung der Lösung durch Erzeugen von Gasbläschen in der Lösung bestimmt wird, wonach die Oberflächenspannung in der Lösung durch Überwachen der Gasbläschen bestimmt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasbläschen aus in situ erzeugtem Gas gebildet sind und/oder Gasbläschen in situ überwacht sind.
  • Bevorzugterweise wird die Erzeugung der Gasbläschen in situ überwacht, bevorzugterweise durch eine Elektrode, die direkt an die Einheit angeschlossen ist, die Gasbläschen erzeugt.
  • Bevorzugterweise werden Elektroden zur Erzeugung von Gas in situ verwendet, und, bevorzugterweise werden Elektroden zur Überwachung der Gasbläschen in situ verwendet.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ferner einen Apparat, fähig für die Verwendung im Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung, bestehend aus einer Gasbläschen-Erzeugungseinheit und/ oder einer Beobachtungseinheit zur Überwachung der Gasbläschen, dadurch gekennzeichnet, daß die Erzeugungseinheit in situ Gas erzeugt, das Gasbläschen bildet und/oder die Beobachtungseinheit Gasbläschen in situ überwacht. Bevorzugterweise erzeugt die Beobachtungseinheit ein Signal, das für eine Rückkopplungsregelung der erzeugenden Einheit verwendet wird.
  • Die Erfindung hat unter anderem den Vorteil gegenüber dem Stand der Technik, daß infolge der Pumpen keine Fluktuationen im Gasfluß sind, und, ferner, daß die vorliegende Erfindung es erlaubt, eine billige Apparatur zu verwenden, welche leicht zu behandeln ist und niedrige Unterhaltserfordernisse hat.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG GASBLÄSCHEN-ERZEUGUNG
  • Gas kann in situ zur Bildung von Gasbläschen gemäß der Erfindung durch verschiedene Maßnahmen erzeugt werden, einschliessend Elektrolyse, Kochen, lokales Erhitzen, chemische Reaktion mit Gasentwicklung, etc. Bevorzugterweise wird Gas in situ durch Elektrolyse, bevorzugterweise unter Verwendung von Metallelektroden, erzeugt.
  • Die Art des Gases, das erzeugt wird, ist kein wesentliches Merkmal der vorliegenden Erfindung, obwohl das Gas mit den anderen Bestandteilen des Systems verträglich sein sollte. Bevorzugterweise wird Wasserstoffgas hergestellt.
  • In situ-Gaserzeugung durch Elektrolyse
  • Die Art des Gases, das in situ erzeugt wird unter Verwendung einer Elektrode, wird von Faktoren wie dem pH-Wert der Lösung, der Art der Elektrode (Kathode oder Anode) und dem zu elektrolysierenden Material (z. B. Wasser und H&sub2;O&sub2;) abhängen. Beispiele von Halbreaktionen sind:
  • Kathode: 2H&spplus; + 2e&supmin; → H&sub2; E&sub0; = +0,00 V
  • Anode: 2H&sub2;O → O&sub2; + 4H+ + 4e&supmin; E&sub0; = +1,23 V
  • auftretend in einer wässerigen sauren Umgebung; und
  • Kathode: 2H&sub2;O + 2e&supmin; → H&sub2; + 2OH E&sub0; = -0,83 V
  • Anode: 4OH → O&sub2; + 2H&sub2;O + 4e&supmin; E&sub0; = +0,40 V
  • auftretend in einer wässerigen alkalischen Umgebung.
  • Es wird bevorzugt, H&sub2;-Gas mit einer kathodischen Betriebselektrode in einer wässerigen alkalischen Umgebung zu erzeugen. Zur in situ-Erzeugung des Gases können stromführende Betriebselektroden für Elektrolyse verwendet werden. Es ist zu verstehen, daß in diesem Falle auch eine Gegenelektrode (bevorzugterweise mit einer Größe viel größer, angenommen 100X größer als die Betriebselektrode) und eventuell eine Bezugselektrode verwendet werden.
  • Wenn Elektrolyse angewandt wird, ist es bevorzugt, einen gleichbleibenden Strom zu verwenden.
  • Elektroden
  • Die als Gas-erzeugende Elektrode zu verwendenden Betriebselektroden können aus irgendeinem leitfähigen Material herge stellt sein. Die Auswahl des Materials ist von Faktoren abhängig, wie zum Beispiel pH-Wert, verwendete Voltzahl, Temperatur, Komplexbildung mit anderen Bestandteilen, etc. Das Elektrodenmaterial ist bevorzugterweise aus irgendeinem leitfähigen Material ausgewählt, wie beispielsweise Silicium, rostfreier Stahl, Gold, Iridium, Platin, Rhodium, Ruthenium, Palladium, Quecksilber, Silber, Osmium, Selen, Tellur, Polonium und leitfähige Polymere, wie Polyacetylen und Polyoxadiazole, bevorzugterweise Gold, Iridium, Platin, Rhodium, Ruthenium, Quecksilber, Silber und Osmium und bevorzugter Gold.
  • Eventuell ist das leitfähige Material gestützt mit Substratmaterial. Beispiele von solchen Materialien sind Silicium, Glas, das Elektrodenmaterial selbst, Metall- und Polyimid-(Kapton)-Materialien.
  • Das leitfähige Material kann bevorzugterweise an der Oberfläche in einer solchen Weise partiell isoliert sein, daß nur eine begrenze Elektrodenfläche in Kontakt mit der Lösung kommt. Geeignete isolierende Materialien zeigen gute Haftfähigkeit an dem Elektrodenmaterial und haben eine niedrige Leitfähigkeit. Gegebenenfalls wird eine zusätzliche Klebstoffschicht verwendet, z. B. von Ti oder eine Zwischenlage von Ti- und Siliciumoxid-(dünn)- schichten. Beispiele von Isolator-Materialien sind SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4;, Ta&sub2;O&sub5; Polyimid- und Epoxyharze, etc.
  • Flachelektroden
  • Elektroden für die Verwendung in der vorliegenden Erfindung können z. B. flache Platten sein. Flachplatten-Elektroden erzeugen Gasbläschen bei zufallsverteilten Lageorten (Kernbildungsstellen) an der Platte.
  • Elektroden mit gut-definierten Kernbildungsstellen Kernbildungsstellen an der Elektrode sind an der Oberfläche der Elektrode angebracht, wo kein Isoliermaterial vorhanden ist. Die Stelle ist in Kontakt mit der Flüssigkeit und dieser Kontakt ermöglicht eine in situ-Gaserzeugung. Elektroden, die Gasbläschen an gut-definierten Kernbildungsstellen (Lageorte) erzeugen, sind gegenüber Elektroden bevorzugt, die Gasbläschen an zufallsverteilten Stellen (Kernbildungsstellen) erzeugen, da sie eine bessere Kontrolle des gaserzeugenden Verfahrens ermöglichen. Bevorzugte Elektroden haben eine Kernbildungsstelle.
  • Deshalb macht die vorliegende Erfindung bevorzugterweise Gebrauch von einer Elektrode, die an eine elektrische Stromquelle gebunden ist, worin die Elektrode eine Kernbildungstelle hat.
  • Bevorzugterweise ist die Elektrode aus der Gruppe ausgewählt, bestehend aus Mikrohohlraum-Elektroden (MCE), Gasphasen- Kernbildungselektroden und Gasphasen-Kernbildungselektroden mit einem (oder mehreren) Mikrohohlräumen.
  • Mikrohohlraum-Elektroden
  • Mikrohohlraum-Elektroden sind bevorzugt. Solche Mikrohohlraum-Elektroden sind schematisch in Fig. 1 vorgeführt. Sie haben bevorzugterweise einen Hohlraum, der als eine Kernbildungsstelle für die in situ-Erzeugung von Gas dient, das Gasbläschen bildet. Der Hohlraum enthält Leitfähigkeitsmaterial, welches in Kontakt mit der Lösung ist. Als eine Konsequenz der Elektrodenformung wird die Übersättigung von aufgelöstem Gas rascher an dem Boden des Hohlraums erhalten, als in der Hauptmenge der Lösung. Infolge dieser Übersättigung wird Kristallkernbildung an dem Boden des Hohlraums stattfinden, resultierend in einer einzigen Blasenbildungsstelle. Der Hohlraum wirkt gleich einem Gasanreicherungsapparat.
  • Gasphasen-Kernbildungs-kernelektrode
  • Eine andere bevorzugte Elektrode ist eine Gasphasen-Kernbildungs-kernelektrode. Solche Elektroden sind schematisch in Fig. 2 gezeigt. Sie haben bevorzugterweise einen Hohlraum, der als eine Kernbildungsstelle für die in situ-Erzeugung von Gas dient, und sie haben ferner eine offene Verbindung in der Elek trode zu einem Raum unterhalb der Elektrode. Dieser Raum ist mit Gas gefüllt, z. B. hergestellt durch eine zweite Elektrode, welches Gas verschieden von dem durch die andere Elektrode erzeugtem Gas sein kann. Die Gasphasen-Kernbildungs-kernelektrode ist besonders bevorzugt, wenn der mit Gas gefüllte Raum zusammen mit der offenen Verbindung in der Elektrode als ein Kernbildungspunkt dienen will für das durch die Arbeitselektrode erzeugte Gas, welches mit 12 in Fig. 2 verbunden ist. Folglich werden die Gasbläschen bei gutdefinierter Kernbildungstelle eher als bei zufälligen Plätzen hergestellt.
  • Gasphasen-Kernbildung-kernelektroden mit Mikrohohlräumen
  • Eine andere bevorzugte Elektrode ist eine Gasphasen-Kernbildungs-kernelektrode mit Mikrohohlräumen. Diese Elektroden sind eine Kombination der Gasphasen-Kernbildungs-kernelektrode und der Mikrohohlraum-Elektrode, und sie sind schematisch in Fig. 3 angegeben. Sie haben bevorzugterweise einen Mikrohohlraum. Gas wird in situ bei einer gut-definierten Kernbildungsstelle an Stelle von zufälligen Plätzen erzeugt.
  • Es wird angenommen, daß auf Basis der obigen Kriterien und seiner allgemeinen Kenntnis der erfahrene Fachmann fähig sein wird, eine geeignete Elektrode auszuwählen, die fähig sein wird, die Flüssigkeit um elektrolytisch in situ erzeugtes Gas zu übersättigen zur Bildung von einfachgroßen Gasbläschen in einem gesteuerten Weg an einer bestimmten Stelle.
  • GASBLÄSCHEN-KONTROLLE
  • Gasbläschen können an Ort und Stelle gemäß der Erfindung durch verschiedene Maßnahmen ermittelt werden, einschließlich elektrolytische Methoden (d. h. durch Messen von Impedanz, Überpotential und/oder Strom), pH-Wert, Mikroströmung und optische Methoden, z. B. unter Verwendung von Lichtleitkabeln, unabhängig von der Gasbläschen-Erzeugung. Bevorzugterweise werden elektrolytische Verfahren verwendet, noch bevorzugter Verfahren, die Elek troden einbeziehen.
  • Bevorzugterweise wird die Gasbläschen-Erzeugung in situ überwacht.
  • Bevorzugterweise werden Gasbläschen in situ an der Elektrode überwacht, das heißt auch zur Erzeugung von Gasbläschen in situ verwendet.
  • Messungen zur Gasbläschen-Bestimmung können in dem Hauptstrom der Flüssigkeit oder in einem Nebenstrang stattfinden.
  • Elektroden
  • Überraschenderweise haben wir festgestellt, daß Oberflächenspannung in einer Flüssigkeit bevorzugterweise durch Kontrolle der Gasbläschen, bevorzugterweise der Gasbläschen-Erzeugung, in situ mit einer Elektrode bestimmt werden kann. Wir haben gefunden, daß die Anwesenheit von Gasbläschen an (oder nahebei) der Elektrode die Elektrode (teilweise) von der umgebenden Lösung abschirmt, welche Fluktuationen an der Elektrode von elektrolytischen Meßgrößen erzeugt, ausgewählt aus Voltspannung, Strom und/ oder Impedanz, und daß diese Fluktuationen mit der Oberflächenspannung in der Flüssigkeit verbunden sein können.
  • Wir haben gefunden, daß die Elektroden, die oben für die Gasbläschen-Erzeugung beschrieben wurden, auch in Kombination oder unabhängig zur Überwachung der Gasbläschen-Erzeugung verwendet werden können.
  • Wenn ein konstanter Strom auf diese Elektroden angewandt wird, kann die Frequenz der Freisetzung von Bläschen durch Überwachung der Voltspannungsüberpotential- oder der Impedanz-Variationsfrequenz der Elektroden bestimmt werden. Ebenso haben wir gefunden, daß eine konstante Voltspannung auf diese Elektroden angelegt werden kann, wonach die Frequenz der Freisetzung der Bläschen durch Beobachten der Strom-(oder Impedanz-)-Variationsfrequenz bestimmt werden kann. Die Konzentration eines oberflächenaktiven Materials kann dann unter Verwendung einer Kalibrationskurve bestimmt werden, welche die Konzentration des spezifischen oberflächenaktiven Materials als eine Funktion der Bläs chenfrequenz zeigt.
  • Eine typische gemessene Wellenform ist in den Fig. 4 und 10 (Überpotential-Messungen) und in Fig. 11 (Impedanz-Messungen) dargestellt. Diese Figur zeigt die Fluktuationen für eine Tensid- Lösung, wie sie mit einer Mikrohohlraum-Elektrode (welche ebenfalls Gasbläschen erzeugt) gegen die Zeit gemessen wird. Fig. 5 zeigt die Abhängigkeit der Bläschenfrequenz von der Tensid-Konzentration (dynamische Oberflächenspannung) bei verschiedenen Elektrolyseströmen für ein nichtionisches Tensid (Synperonic NP9) in einer 10 mMol-Na&sub2;SO&sub4;-Lösung. Diese Kurve ist ein Beispiel einer Kalibrierungskurve.
  • Impedanz-Variation infolge von Gasbläschen-Erzeugung kann ebenfalls elektronisch durch eine Nachweiseinheit beobachtet werden, wenn ein zusätzliches Hochfrequenzsignal an der Betriebselektrode angewandt wird (siehe Fig. 9 für das Schema und die Fig. 10 für die Impedanz-Messungen).
  • Außerdem kann der angewandte Strom oder die Voltspannung so ausgewählt sein, um eine konstante Bläschenfrequenz durch Anwendung eines Rückkopplungssystems aufrechtzuerhalten. In diesem Fall kann die Konzentration eines oberflächenaktiven Materials durch Verwendung einer Meßkurve bestimmt werden, welche die Konzentration des spezifischen oberflächenaktiven Materials als eine Funktion des angewandten Stroms oder der Voltspannung zeigt.
  • In manchen Fällen, z. B. wenn eine Plattenelektrode verwendet wird, kann es notwendig sein, die überwiegende Bläschenfrequenz zu verwenden. Diese Bläschenfrequenz kann beispielsweise unter Verwendung von stochastischer Analyse bestimmt werden, wie sie beispielsweise in C. Gabrielli, F. Huet, M. Keddam, A. Sahar, Journal of Applied Electrochemistry, 19 (1989), 683-696 beschrieben wurde.
  • Es wird jedoch bevorzugt, Elektroden mit einer Kernbildungsstelle zu verwenden, bevorzugterweise eine Mikrohohlraum- Elektrode, eine Gasphasen-Kernbildung-kernelektrode oder eine Gasphasen-Kernbildung-kernelektrode mit einer (oder mehreren) Mikrohohlräumen. Es ist zu verstehen, daß stochastische Analyse nicht ausgeschlossen ist, wenn diese Elektroden verwendet werden.
  • Zur Verbesserung des Verfahrens der Oberflächenspannungsmessungen kann eine Reihe von Elektroden verwendet werden, die Gasbläschen bei verschiedenen Graden bilden.
  • APPARAT
  • Wie angegeben, betrifft die vorliegende Erfindung auch einen Apparat, der fähig ist, in Verfahren der vorliegenden Erfindung verwendet zu werden. Der Apparat besteht aus einer Gasbläschen erzeugenden Einheit und/oder einer Nachweiseinheit zur Überwachung der Gasbläschen, worin die erzeugende Einheit in situ Gas erzeugt, das Gasbläschen bildet und/oder die Nachweiseinheit Gasbläschen in situ überwacht, bevorzugterweise die Gasbläschen- Erzeugung.
  • Bevorzugterweise erzeugt die Nachweiseinheit ein Signal, das für die Rückkopplungskontrolle der erzeugenden Einheit verwendet wird.
  • Fig. 8 ist eine schematische Darstellung einer elektrischen Schaltung, die in einem Apparat gemäß der Erfindung verwendet werden kann. Die Elektroden, die mit CE (Gegenelektrode), RE (Bezugselektrode) und WE (Arbeitselektrode) markiert sind, werden in der Lösung plaziert, von welcher die Oberflächenspannung zu bestimmen ist. I bedeutet eine Stromquelle der erzeugenden Einheit. J ist ein Verstärker, der bevorzugterweise vorhanden ist. K ist der Zähler der Nachweiseinheit. Bevorzugterweise enthält der Apparat eine Rückkopplungskontrolle L von der Nachweiseinheit zu der erzeugenden Einheit. Die erzeugende Einheit besteht aus I, CE und WE und die Nachweiseinheit besteht aus WE, CE, eventuell RE, J, L und gegebenenfalls K.
  • Fig. 9 ist eine schematische Darstellung einer elektrischen Schaltung, die in einem Apparat gemäß der Erfindung (siehe z. B. Beispiel 6) verwendet werden kann. Die Elektroden, die mit CE (Gegenelektrode), RE (Bezugselektrode) und WE (Arbeitselektrode) markiert sind, werden in der Lösung plaziert, von welcher die Oberflächenspannung zu bestimmen ist. I ist der Elektrolysestrom einer Voltspannung-gesteuerten Stromquelle. Acin und DCin sind die Voltspannungsregler, angewandt auf die Stromquelle mittels des Summierverstärkers L. V entspricht den gemessenen Überpotential- und den Impedanzfluktuationen.
  • FLÜSSIGKEITEN MIT OBERFLÄCHENAKTIVEM MATERIAL
  • Irgendeine Flüssigkeit mit irgendeiner Leitfähigkeit kann im wesentlichen elektrolysiert sein, wenn die Voltspannung quer durch die elektrolytische Zelle hoch genug ist, obwohl man dafür sorgen sollte, daß mit abnehmender Leitfähigkeit an dieser Stelle ohmsche Verluste mit abnehmender Leitfähigkeit sein werden. Geeignete Medien für Gasbläschen-Erzeugung und/oder Überwachung durch Elektrolyse sind wässerige Flüssigkeiten, die z. B. oberflächenaktives Material (und unterstützenden Elektrolyt) enthalten.
  • Die vorliegende Erfindung erlaubt die Messung der Konzentration der oberflächenaktiven Messung im allgemeinen und ist nicht auf bestimmte Tensid-Klassen beschränkt. Die Messungen können durch den verwendeten Elektrolysestrom (Dichte) gesteuert sein. Dies kann leicht für irgendeinen Gattungstyp geeignet sein, der die Oberflächenspannung beeinflußt.
  • Die Oberflächenspannung kann in Lösungen von oberflächenaktivem Material gemessen werden, jedoch auch nacheinander und/ oder differential in einer Lösung von oberflächenaktivem Material, und, beispielsweise in Leitungswasser.
  • IN SITU-REINIGUNG DER ELEKTRODE
  • Überraschenderweise haben wir gefunden, daß die Elektrode, die in dem Verfahren gemäß der Erfindung verwendet wird, leicht und wirksam in situ gereinigt werden kann. Dies kann durch Umschalten des Elektrolysestroms für einen bestimmten (bevorzugterweise kurzen) Zeitraum (d. h. in der Reihenfolge von Minuten oder sogar Sekunden) bewirkt werden.
  • FIGUREN
  • Fig. 1 ist eine schematische Darstellung (Kopf- und Querschnittansicht) einer Mikrohohlraum-Elektrode (MCE) mit einer Kernbildungsstelle. Die folgenden Bezugscodes werden verwendet:
  • A = Hohlraum
  • B = Polyimid (Fenster)
  • C = Arbeitselektrode (Gold)
  • D = Siliciumdioxid
  • E = Silicium
  • Fig. 2 ist eine schematische Darstellung (Querschnittansicht) einer Gasphasen-Kernbildung-kernelektrode. Ebenso gezeigt ist eine Elektrodenanordnung für Bläschen-Erzeugung. Die folgenden Codes werden verwendet:
  • F = Bläschen
  • C = Arbeitselektrode (Gold)
  • G = Siliciumnitrid
  • E = Silicium
  • H = Kernbildungskern
  • I1 = Stromquelle für die Erzeugung von Gas im Kernbildungskern
  • I2 = Stromquelle für Arbeitselektrode (Gold)
  • CE = Übliche Gegenelektrode
  • Fig. 3 ist eine schematische Darstellung (Querschnittansicht) einer Elektrode, welche den Gasphasen-Kernbildungskern mit der Hohlraum-Elektrode kombiniert. Die folgenden Bezugscodes werden verwendet:
  • C = Arbeitselektrode (Gold)
  • F = Bläschen
  • G = Siliciumnitrid
  • E = Silicium
  • H = Kernbildungskern
  • Fig. 4 ist eine typische Wellenform der gemessenen Überpotential-Fluktuationen (Y-Achse) gegen Zeit (X-Achse; in s) an einer Mikrohohlraum-Elektrode bei einem Strom von 7,97 uA, in 10 mMol Na&sub2;SO&sub4; mit 0,4 g/l Synperonic NP9.
  • Fig. 5 zeigt die Bläschenfrequenz (Y-Achse; in Hz) gegen die nichtionische Tensid-Konzentration in einer 10 mMol CH&sub3;COONa- Lösung (X-Achse; in g/l) bei verschiedenen Strömen (+ ist ein 4,8 uA; Δ ist 5,3 uA; O ist 6,0 uA).
  • Fig. 6 zeigt die Bläschenfrequenz (Y-Achse; in Hz) gegen die nichtionische Tensid-Konzentration in Leitungswasser (X-Achse; in g/l) bei einem Strom von 2,017 uA.
  • Fig. 7 zeigt die Bläschenfrequenz (Y-Achse; in Hz) gegen die nichtionische Tensid-Konzentration in Leitungswasser (X-Achse; in g/l bei verschiedenen Strömen (+ ist 6,8 uA; Δ ist 2,0 uA).
  • Fig. 8 ist eine schematische Darstellung einer elektrischen Schaltung, die in einem Apparat gemäß der Erfindung verwendet werden kann. Die folgenden Bezugscodes werden verwendet:
  • CE = Gegenelektrode
  • RE = Bezugselektrode
  • WE = Arbeitselektrode
  • I = Stromquelle
  • J = Verstärker
  • K = Zähler der Nachweiseinheit
  • L = Rückkopplungskontrolle von der Nachweiseinheit bis zur erzeugenden Einheit
  • Fig. 9 ist eine schematische Darstellung einer elektrischen Schaltung, die in einem Apparat gemäß der Erfindung verwendet werden kann. Die folgenden Bezugscodes werden verwendet:
  • CE = Gegenelektrode
  • RE = Bezugselektrode
  • WE = Arbeitselektrode
  • I = Stromquelle
  • ACin und DCin = Voltspannungen, angewandt auf die Stromquelle
  • Σ = Summierverstärker
  • V = Die gemessenen Überpotential- und Impedanzfluktuationen
  • Fig. 10 ist eine typische Wellenform der gemessenen Überpotential-Fluktuationen (Y-Achse) gegen Zeit (X-Achse; in s) an einer Mikrohohlraum-Elektrode bei einem Strom von 5,93 uA, in 10 mMol NaAc mit 0,8 g/l Synperonic NP9.
  • Fig. 11 ist eine typische Wellenform der Impedanz-Fluktuationen (Y-Achse) gegen Zeit (X-Achse; in s) an einer Mikrohohlraum-Elektrode bei einem Strom von 5,93 uA, in 10 mMol NaAc mit 0,8 g/l. Synperonic NP9.
  • BEISPIELE Beispiel 1
  • Mikrohohlraum-Elektroden wurden mit Siliciumscheibchen mit einer < 100> Kristallorientierung hergestellt. Mikrohohlräume wurden in KOH (33 Gewichtsprozent) durch eine SiO&sub2;-Maske geätzt. Eine Zwischenlage von Ti/Au/Ti mit einer Dicke von 25/250/25 nm, beziehungsweise, wurde verdampft und an den Scheibchen gemustert. Die Aktivfläche der MCEs war mit einer Zwischenlage von SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4; und lichthärtbarem Polimid umrissen. Am Ende dieses Musterverfahrens wurde die Titanoberschicht entfernt, und der Goldoberfläche ein freier Kontakt mit der wässerigen Lösung ermöglicht. Die Aktivfläche der Mikroelektroden wurde durch das SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4;- Polyimid-Fenster, ein Quadrat von 60 · 60 um² bestimmt. Es sei bemerkt, daß das Polyimid nicht direkt auf dem Elektrodenmetall abgeschieden werden kann, wegen seiner Fähigkeit, Redoxreaktionen in Elektrolyt-Lösungen durchzumachen und die SiO&sub2;, Si&sub3;N&sub4;- Schicht wurde eingeschlossen, um dieses Problem zu vermeiden. Die Scheibchen wurden in Stücke geschnitten und die Späne auf 8 · 100 mm² gedruckte Schaltbrett-Träger montiert und dann in Epoxyharz eingekapselt.
  • Beispiel 2
  • Eine nichtionische Tensid-Lösung (Synperonic NP9) von 0,4 g/l wurde in einer wässerigen Lösung von 10 mMol Na&sub2;SO&sub4; her gestellt. Eine Mikrohohlraum-Elektrode mit den Eigenschaften der Elektrode von Beispiel 1, gemäß Fig. 1 mit einer Kernbildungsstelle und bestehend aus einer Goldschicht aus leitfähigem Material, mit einer Polyimid-Isolierschicht, hergestellt an einem Silicium-Substrat, wurde in die Lösung hineingelegt und mit einer Stromquelle verbunden. Die Elektrode erzeugt H&sub2;-Gasbläschen. Ein konstanter Strom von 7,97 uA wurde angewandt und das Überpotential der Elektrode gegen die Zeit aufgetragen.
  • Die Ergebnisse sind in Fig. 4 angegeben und zeigen Überpotential-Fluktuationen als eine Folge der Bläschen-Erzeugung an der Arbeitselektrode. Die Frequenz in der Figur ist etwa 5 Hz (0,2 s Dauer).
  • Beispiel 3
  • Verschiedene nichtionische Tensid-Konzentrationen (Synperonic NP9) wurden in einer CH&sub3;COONa-Lösung von 10 mMol hergestellt. Eine Mikrohohlraum-Elektrode mit den Eigenschaften der Elektrode von Beispiel 1 wurde in die Lösung gelegt und mit einer Stromquelle verbunden. Die Elektrode erzeugt H&sub2;-Gasbläschen, das Überpotential der Elektrode wurde gemessen und die Bläschenfrequenz bestimmt, bei verschiedenen angewandten Strömen.
  • Die Ergebnisse sind in Fig. 5 aufgetragen, welche zeigt, daß die Bläschenfrequenz mit steigender nichtionischer Tensid- Konzentration (abnehmender dynamischer Oberflächenspannung) und auch mit ansteigendem Strom (höhere Gaserzeugungsrate) ansteigt. Dies ist ein Beispiel einer Kalibrationskurve, die für die Bestimmung der Oberflächenspannung einer Lösung verwendet werden kann, z. B. von der unbekannten Konzentration einer Lösung von Synperonic NP9 in einer CH&sub3;COONa-Lösung von 10 mMol.
  • Beispiel 4
  • Verschiedene nichtionische Tensid-Konzentrationen (Synperonic NP9) wurden in Leitungswasser hergestellt. Eine Mikrohohlraum-Elektrode mit den Eigenschaften der Elektrode von Beispiel 1 wurde in das Wasser gelegt und mit einer Stromquelle verbunden. Die Elektrode erzeugt H&sub2;-Gasbläschen. Die Bläschenfrequenzen wurden überwacht (durch Messen der Überpotential-Änderungen an der Gasbläschen erzeugenden Elektrode) bei einem konstanten Strom von 2,017 uA.
  • Die Ergebnisse sind in Fig. 6 aufgetragen, welche zeigt, daß sich die Bläschenfrequenz mit ansteigenden nichtionischen Konzentrationen erhöht.
  • Beispiel 5
  • Verschiedene nichtionische Tensid-Konzentrationen (Synperonic NP9) wurden in Leitungswasser hergestellt. Eine Mikrohohlraum-Elektrode mit den Eigenschaften der Elektrode von Beispiel 1 wurde in das Wasser gelegt und mit einer Stromquelle verbunden. Die Elektrode erzeugt H&sub2;-Gasbläschen. Die Bläschenfrequenzen wurden bei verschiedenen Strömen (durch Messen der Überpotential-Änderungen an der Gasbläschen erzeugenden Elektrode) überwacht.
  • Die Ergebnisse sind in Fig. 7 aufgetragen, welche zeigt, daß die Bläschenfrequenz mit ansteigenden nichtionischen Konzentrationen und auch mit ansteigendem Strom (höhere Gaserzeugungsrate) ansteigt. Die Figur zeigt, daß es möglich ist, den meßbaren Tensid-Konzentrationsbereich durch Variieren des Elektrolysestroms auszudehnen.
  • Beispiel 6
  • Eine nichtionische Tensid-Lösung (Synperonic NP9) von 0,8 g/l wurde in einer CH&sub3;COONa-Lösung von 10 mMol und einer wässerigen Na&sub2;SO&sub4;-Lösung von 10 mMol hergestellt. Eine Mikrohohlraum-Elektrode von Beispiel 1, gemäß Fig. 1 mit einer Kernbildungsstelle und bestehend aus einer Goldschicht als leitfähigem Material, mit einer Polyimid-Isolierschicht und aufgebracht auf ein Silicium-Substrat, wurde in die Lösung gelegt und mit einer Stromquelle verbunden. Die Elektrode erzeugt H&sub2;-Gasbläschen.
  • Ein konstanter Strom von 5,93 uA wurde angelegt und das Überpotential der Elektrode gegen die Zeit aufgetragen. Eine wie in Fig. 9 gezeigte Meßeinrichtung wurde verwendet, worin ein Signal mit einer Frequenz von 100 kHz und einer kleinen Amplitude (typischerweise 50 mVpp) zu der Kontroll-Voltspannung der Stromquelle mittels eines Summierverstärkers, &Sigma;, zugesetzt wurde. Die Amplitude dieser geringen Signal-Voltspannung war in einer solchen Weise ausgewählt, daß auch die Fluktuationen des resultierenden Stroms als kleines Signal betrachtet werden konnten.
  • Die gemessenen Überpotential-Fluktuationen, als eine Folge der Bläschen-Erzeugung an der Arbeitselektrode sind in Fig. 10 gezeigt. Die Fig. 11 ist ein Diagramm der Impedanz-Fluktuationen als eine Folge der Bläschen-Entwicklung an der Arbeitselektrode. Die Frequenz ist etwa 0,56 Hz.

Claims (7)

1. Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenspannung einer Flüssigkeit durch Erzeugen von Gasbläschen in der Flüssigkeit, wonach die Oberflächenspannung in der Flüssigkeit durch Überwachung von Gasbläschen bestimmt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasbläschen aus in situ erzeugtem Gas gebildet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Gasbläschen an dem Punkt überwacht werden, wo sie erzeugt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, worin Elektroden verwendet werden und worin die Gasbläschen an der Elektrode überwacht werden, die ebenfalls zur Erzeugung der Gasbläschen verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die Oberflächenspannung durch Messen der Gasbläschen-Frequenz bei konstantem Elektrolysestrom, oder durch Messen des Elektrolysestroms bei konstanter Gasbläschen-Frequenz bestimmt wird und die Gasbläschen-Frequenz oder der Strom mit einer Kalibrationslinie zur Bestimmung der Oberflächenspannung in der Flüssigkeit verglichen wird.
5. Waschverfahren, in welchem eine wässerige Lösung verwendet wird und worin die Oberflächenspannung der Lösung durch Erzeugen von Gasbläschen in der Lösung bestimmt wird, wonach die Oberflächenspannung in der Lösung durch Überwachen der Gasbläschen bestimmt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasbläschen aus von in situ erzeugtem Gas gebildet sind und die Gasbläschen an dem Punkt überwacht werden, wo sie erzeugt wurden.
6. Apparat, der fähig ist, in einem Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5 verwendet zu werden, enthaltend eine Gasbläschen erzeugende Einheit und eine Nachweiseinheit zur Überwachung der Gasbläschen, dadurch gekennzeichnet, daß die erzeugende Einheit in situ Gas erzeugt, das Gasbläschen bildet und die Nachweiseinheit Gasbläschenan dem Punkt überwacht, wo sie erzeugt wurden.
7. Apparat nach Anspruch 6, worin die Nachweiseinheit ein Signal erzeugt, das für die Rückführkontrolle der Gasbläschenerzeugenden Einheit verwendet wird.
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