DE69426058T2 - Vorrichtung zur optischen Beleuchtung - Google Patents
Vorrichtung zur optischen BeleuchtungInfo
- Publication number
- DE69426058T2 DE69426058T2 DE69426058T DE69426058T DE69426058T2 DE 69426058 T2 DE69426058 T2 DE 69426058T2 DE 69426058 T DE69426058 T DE 69426058T DE 69426058 T DE69426058 T DE 69426058T DE 69426058 T2 DE69426058 T2 DE 69426058T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- illumination
- light
- respect
- mask
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 51
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/12—Beam splitting or combining systems operating by refraction only
- G02B27/126—The splitting element being a prism or prismatic array, including systems based on total internal reflection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
- Diese Erfindung bezieht sich auf Verbesserungen eines optischen Beleuchtungssystems zum Gebrauch beispielsweise bei einem Laserbearbeitungsgerät oder einem Belichtungsgerät.
- Im allgemeinen verwendet ein optisches Beleuchtungssystem bei einem Laserbearbeitungsgerät oder einem Belichtungsgerät der Maskenprojektionsbauart eine Fliegenaugenlinse mit zweidimensional aufgereihten Linsen.
- Bei solch einem Beleuchtungssystem wird Licht, das von einer Laserlichtquelle projiziert ist, durch eine optische Einheit derart ausgeweitet oder kontrahiert, daß es auf die Größe einer Eintrittsöffnung der Fliegenaugenlinse abgepaßt wird. Das so angepaßte Licht trifft auf die Linsen der Fliegenaugenlinse und wird durch diese geteilt. Die geteilten Lichtstrahlen werden dann übereinander auf eine Maske überlagert, so daß das maskenbeleuchtende Licht eine einheitliche Beleuchtungsstärke über ein weites Gebiet hat. Als Folge der Maskenbeleuchtung mit Licht einheitlicher Beleuchtungsstärke wird ein Maskenmuster an einem Sampler ausgebildet.
- Bei dieser Bauart eines optischen Beleuchtungssystems wird das Licht von einer Lichtquelle einheitlich über ein weites Gebiet durch eine Fliegenaugenlinse hindurch auf eine Maske projiziert. Dieses führt zu einem Energieverlust, falls ein eindimensionales, lineares Maskenmuster beleuchtet wird.
- Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Beleuchtungssystem mit geringem Energieverlust vorzusehen.
- Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein optisches Beleuchtungssystem vorgesehen, das folgendes aufweist: Strahlteilereinrichtung zum Teilen eines gerichteten Strahls in mehrere Beleuchtungsstrahlen; ein gegenseitiges Kreuzen; und eine optische Anordnung mit unterschiedlichen Brennweiten bezüglich einer ersten und einer zweiten Richtung, die im wesentlichen orthogonal sind, wobei die optische Anordnung daran angepaßt ist, jeden der Beleuchtungsstrahlen auf eine Oberfläche zu fokussieren und zu überlagern, die in der ersten Richtung zu beleuchten ist, während sie dieselben bezüglich der zweiten Richtung defokussiert und überlagert, wodurch ein linearer Beleuchtungsbereich auf der Oberfläche definiert wird.
- Bei einer bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung teilt die Strahlteilereinrichtung eine Wellenfront des gerichteten Strahls.
- Bei einer anderen bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung weist das optische Beleuchtungssystem einen Laser auf, der den gerichteten Strahl zuführt.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung weist das optisches Beleuchtungssystem des weiteren einen Excimerlaser auf, der den Laserstrahl zuführt.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung weist die optische Anordnung folgendes auf: ein anamorphes optisches System zum Fokussieren jedes Beleuchtungsstrahls bezüglich einer Strahlteilungsrichtung durch die Strahlteilereinrichtung und eine Sammeloptik zum Fokussieren jedes Beleuchtungsstrahls von dem anamorphen System auf die Oberfläche bezüglich einer Richtung, die senkrecht zu der Strahlteilungsrichtung ist, während sie dieselben bezüglich der Strahlteilungsrichtung defokussiert.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung weist das anamorphe optische System eine zylindrische Linse auf.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung hat die Sammeloptik dieselbe Brennweite bezüglich der Strahlteilungsrichtung und der Richtung, die senkrecht zu der Strahlteilungsrichtung ist.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung teilt die Strahlteilereinrichtung den gerichteten Strahl so, daß sich Mittelstrahlen der Beleuchtungsstrahlen an einer vorderen Brennpunktposition des anamorphen optischen Systems bezüglich der Strahlteilungsrichtung gegenseitig kreuzen.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung weist die Strahlteilereinrichtung zumindest ein Prisma zum Ablenken von zumindest einem der Beleuchtungsstrahlen auf.
- Bei einer weiteren bevorzugten Gestalt dieses Aspektes der vorliegenden Erfindung weist das optisches Beleuchtungssystem des weiteren einen Excimerlaser zum Zuführen des Laserstrahls auf.
- Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird dort ein optisches Gerät zum Verarbeiten eines Werkstücks vorgesehen, das ein optisches Beleuchtungssystem gemäß dem ersten Aspekt aufweist.
- Gemäß einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird dort ein Vorrichtungsherstellungsverfahren zum Ausbilden eines Vorrichtungsmusters an einem Werkstück auf der Grundlage des optischen Beleuchtungssystems gemäß dem vorstehend beschriebenen ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung oder durch Verwenden des Geräts gemäß dem vorstehend beschriebenen zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung vorgesehen.
- Diese und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden bei Betrachtung der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen verständlicher; wobei:
- Fig. 1A und 1B jeweils schematische Ansichten eines optischen Beleuchtungssystems gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigen, wobei Fig. 1A eine Seitenansicht des optischen Beleuchtungssystems ist, das in einer Richtung betrachtet ist, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, und Fig. 1B ist eine Draufsicht desselben, das in der Lichtteilungsrichtung betrachtet ist; und
- Fig. 2 zeigt eine vergrößerte Ansicht, in der eine Prismeneinheit 2, eine Lichtblendenmaske 3 und eine zylindrische Linseneinheit 4 der Fig. 1A dargestellt sind.
- Ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
- Fig. 1A und 1B zeigen jeweils schematische Ansichten eines optischen Beleuchtungssystems gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, wobei Fig. 1A eine Seitenansicht desselben zeigt, das in einer Richtung betrachtet ist, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, und Fig. 1B ist eine Draufsicht desselben, das in der Lichtteilungsrichtung betrachtet ist. Fig. 2 zeigt eine vergrößerte Ansicht, in der eine Prismeneinheit 2, eine Lichtblendenmaske 3 und eine zylindrische Linseneinheit 4 der Fig. 1A in einem vergrößertem Maßstab dargestellt sind.
- Das optische Beleuchtungssystem dieses Ausführungsbeispiels weist folgendes auf: eine Laserlichtquelle 1, wie z. B. einen KrF- Excimerlaser, ebenso eine Prismeneinheit 2, eine Lichtblendenmaske 3, eine zylindrische Linseneinheit 4 und eine rotationsymmetrische konvexe Linse 5, die in dieser Reihenfolge entlang der Ausbreitungsrichtung eines Strahls aus der Laserlichtquelle 1 angeordnet sind, wobei der Strahl parallelgerichtet und im wesentlichen kohärent ist. Mit den Bezugszeichen 51 und 52 sind eine erste (vordere) und eine zweite (hintere) Hauptebene der konvexen Linse 5 bezeichnet.
- Wie dies am besten aus der Fig. 2 ersichtlich ist, weist die Prismeneinheit 2 zwei Prismen auf, die entlang der Lichtteilungsrichtung so nebeneinander angeordnet sind, daß sie bezüglich der optischen Strahlungsachse (Hauptlichtstrahl) der Laserlichtquelle 1 gegenüberliegend angeordnet sind. Bei diesem Ausführungsbeispiel dient die Prismeneinheit 2 dazu, das Licht aus der Lichtquelle 1 dreizuteilen und die geteilten Strahlen in unterschiedliche Richtungen zu leiten.
- Die Lichtblendenmaske 3 hat eine rechteckige Öffnung an ihrem zentralen Abschnitt, dessen kleinere (kürzere) Seitenlänge der Breite des geteilten Strahl in der Lichtteilungsrichtung entspricht. Sie ist so an der Kreuzungsposition der Strahlen angeordnet, die durch die Prismeneinheit 2 dreigeteilt sind, daß sich die Längsrichtung (Hauptrichtung) der Öffnung des Blendenelements senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung erstreckt. Diese Lichtblendenmaske 3 dient dazu, unerwünschtes Licht wie z. B. Streulicht bei der Lichtübertragung zu blockieren.
- Die zylindrische Linseneinheit 4 weist ein optisches System mit einer rotationsasymmetrischen Brennweite oder Brechkraft wie z. B. ein anamorphes optisches Element auf. Es ist so angeordnet, daß sich die Lichtblendenmaske 3 an der ersten (vorderen) Brennpunktposition der zylindrischen Linseneinheit in der Ebene befindet, die die Lichtteilungsrichtung enthält. Die konvexe Linse 5 ist an einer vorbestimmten Position hinter der zylindrischen Linseneinheit 4 angeordnet.
- Wenn dieses optische Beleuchtungssystem in einem Laserbearbeitungsgerät oder einem Belichtungsgerät eingebaut ist, wird eine Maske 6 (Fig. 1A oder 1B) mit einem daran ausgebildeten Vorrichtungsmuster an der zweiten (hinteren) Brennpunktposition der konvexen Linse 5 angeordnet. Eine Blende 7 und eine Projektionslinse 8 sind hinter der Maske 6 angeordnet. Außerdem ist ein Sampler (Werkstück) 9 an einer zweiten (hinteren) Brennpunktposition der Projektionslinse 8 angeordnet. Als dieser Sampler kann ein Resistmaterial oder ein durch Wärme verarbeitbares Material wie z. B. Kunststoff verwendet werden. Bei diesem Ausführungsbeispiel hat die Maske 6 eine Anzahl an Löchern, die darin ausgebildet sind und entlang der Lichtteilungsrichtung aufgereiht sind. Diese Löcher der Maske werden bei diesem Ausführungsbeispiel mit Beleuchtungslicht beleuchtet, das eine einheitliche Beleuchtungsstärkenverteilung hat und eine lineare Gestalt in der Lichtteilungsrichtung hat.
- Das durch die Lichtquelle 1 ausgestrahlte Licht wird durch die Prismeneinheit 2 in drei Lichtstrahlen geteilt. Die so dreigeteilten Lichtstrahlen kreuzen sich einmal gegenseitig an der Position der Lichtblendenmaske 3, d. h. an der vorderen Brennpunktposition der zylindrischen Linseneinheit 4. Nach der Entfernung von jeglichem unerwünschten Licht durch die Lichtblendenmaske 3 werden diese Lichtstrahlen auf die zylindrische Linseneinheit 4 entlang unterschiedlicher Richtungen projiziert. Mittelstrahlen der drei projizierten Lichtstrahlen, die durch den Mittelpunkt der Öffnung der Lichtblendenmaske 3 hindurchgetreten sind, werden von der zylindrischen Linseneinheit 4 aus parallel zu der optischen Achse AX des optischen Beleuchtungssystems projiziert. Jeder der drei Lichtstrahlen, der aus der zylindrischen Linseneinheit 4 austritt, wird einmal an der hinteren Brennpunktposition der Linseneinheit 4 linear konvergiert und tritt anschließend in die konvexe Linse 5 ein. Durch diese konvexe Linse 5 werden die drei Lichtstrahlen an der hinteren Brennpunktposition der konvexen Linse 5 übereinander überlagert, d. h. auf die Maske 6, so daß eine lineare Abbildung mit annähernd einheitlicher Beleuchtungsstärkenverteilung auf die Maske 6 projiziert wird. Diese lineare Abbildung wird durch die drei auf die Maskenoberfläche 6 projizierten Lichtstrahlen erzeugt, die bezüglich der Lochaufreihungsrichtung defokussiert sind und bezüglich der Richtung, die senkrecht zu der Lochaufreihungsrichtung ist, fokussiert sind. Die Projektionslinse 8 dient dazu, eine Abbildung der Lochaufreihung der Maske 6 auf den Sampler 9 zu projizieren, wodurch entsprechende Löcher an dem Sampler 9 ausgebildet werden. Der so verarbeitete Sampler 9 wird bei diesem Ausführungsbeispiel als eine tinteausstoßende Düsenplatte für einen Tintenstrahldrucker verwendet. An der Position der Blende 7 der Projektionslinse 8 sind die drei Lichtstrahlen bezüglich der Lochaufreihungsrichtung fokussiert und bezüglich der Richtung, die senkrecht zu der Lochaufreihungsrichtung ist, defokussiert.
- Bei dem vorstehend beschriebenen optischen Beleuchtungssystem ist die Brennweite f1 der zylindrischen Linseneinheit 4 durch die Breite des geteilten Lichtstrahls, die Brennweite der konvexen Linse 5 und die Länge des linearen Lichts (Abbildung) vorbestimmt, das auf die Maske 6 projiziert wird. Falls hier die Breite des auf der Prismeneinheit 2 auftreffenden Lichts mit a bezeichnet ist, die Brennweite der konvexen Linse 5 mit f2 bezeichnet ist, die Übertragungsvergrößerung der konvexen Linse 5 mit m bezeichnet ist, der Abstand der Blende 7 (Abbildungsebene) von der hinteren Hauptebene der konvexen Linse 5 mit b bezeichnet ist und die Länge des auf die Maske 6 abgebildeten linearen Lichts (Abbildung) mit L bezeichnet ist, dann wird die Brennweite f1 der zylindrischen Linseneinheit 4 durch die folgende Gleichung wiedergegeben:
- f1 = (a/n) [(b-f2)/L][ 1/m ]
- Die Gestalt des Musterbereichs der Maske ist linear (eindimensionale Lochaufreihung) und daher kann die Länge L der Abbildung beträchtlich größer als die Länge der Lochaufreihung der Maske 6 sein. Somit kann die Brennweite f1 der zylindrischen Linseneinheit 4 so festgelegt werden, daß die folgende Beziehung erfüllt wird:
- f1 ≤ (a/n)[(b-f2)/Lm][ 1/m ]
- wobei Lm die Länge der Lochaufreihung der Maske ist.
- Als nächstes wird der Abstrahlungswinkel berechnet, d. h. der Winkel, der zwischen der optischen Achse AX des optischen Beleuchtungssystems und jedem der Lichtstrahlen definiert ist, die aus den zwei Prismen der Prismeneinheit austreten.
- Der Abstrahlungswinkel von jedem Licht, das aus dem Prisma ausgestrahlt wird, wird durch die Brennweite f1 der zylindrischen Linseneinheit 4 und den Durchmesser A der Blende 7 vorbestimmt. Da bei dem vorstehend beschriebenen optischen Beleuchtungssystem die konvexe Linse 5 dazu dient, jeden durch die Prismeneinheit 2 geteilten Lichtstrahl auf die Maske 6 abzubilden und außerdem die durch die zylindrische Linseneinheit 4 ausgebildeten drei linearen Lichtquellenabbildungen wieder auf die Blende 7 abzubilden, soll die Größe der durch die zylindrische Linseneinheit 4 ausgebildeten drei Lichtquellenabbildungen nicht größer als A/M betragen (m ist die Bildvergrößerung der konvexen Linse 5). Somit sollen die Hauptstrahlen der drei Lichtstrahlen, die von der Prismeneinheit 2 ausgestrahlt werden, die folgende Beziehung erfüllen:
- ff · tanθmax ≤ (A/2) /m
- wobei θmax der Winkel ist, der zwischen der optischen Achse AX und den drei Hauptstrahlen definiert ist, die von der Prismeneinheit 2 ausgestrahlt werden.
- Wie dies am besten in den Fig. 1A und 1B ersichtlich ist, werden bei dem vorstehend beschriebenen optischen Beleuchtungssystem bezüglich der Lichtteilungsrichtung und bezüglich einer Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, die durch die Prismeneinheit 2 geteilten Lichtstrahlen in unterschiedlicher Weise von der Prismeneinheit 2 und der zylindrischen Linse 4 beeinflußt. Genauer gesagt wird bezüglich der Lichtteilungsrichtung das durch die Laserlichtquelle 1 ausgestrahlte Licht von der Prismeneinheit 2 und der zylindrischen Linse 4 so beeinflußt, daß es dreigeteilt und konvergiert wird. Bezüglich der Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung steht, wird das Licht jedoch nicht durch die Prismeneinheit 2 oder der zylindrischen Linse 4 beeinflußt, und das Licht tritt aus der zylindrischen Linse 4 aus, während der Zustand des Lichts als derselbe wie derjenige beim Auftreffen auf die Prismeneinheit 2 beibehalten wird.
- Wenn die drei Lichtstrahlen, die durch die zylindrische Linse 4 in der vorstehend beschriebenen Weise ausgestrahlt werden, durch die konvexe Linse 5 auf die Maske 6 übereinander überlagert werden, ist die Größe der linearen Abbildung, die auf die Maske 6 projiziert wird, in der Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, durch den Streuwinkel der Laserlichtquelle 1 als auch durch die Aberration und die Brennweite der konvexen Linse 5 vorbestimmt. Es ist zu beachten, daß hier aufgrund eines kleinen Bildwinkels des optischen Beleuchtungssystems in der Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, die Aberration der konvexen Linse 5 kein direkter und hauptsächlicher Faktor sein kann. Somit kann die Breite d des durch die Laserlichtquelle 1 ausgestrahlten Lichts in der Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, durch die folgende Gleichung wiedergegeben werden:
- d = w·f2
- wobei w der Streuwinkel der Laserlichtquelle 1 ist und f2 die Brennweite der konvexen Linse 5 ist.
- Falls außerdem die Breite der Maske 6 in der Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, durch Lw bezeichnet ist, kann zu dieser Breite Lw der Maske 6 die Breite d des Lichts in der Richtung, die senkrecht zu der Lichtteilungsrichtung ist, so festgelegt werden, daß die folgende Beziehung erfüllt ist:
- d > Lw
- Mit der vorstehend beschriebenen Festlegung des optischen Beleuchtungssystems ist ein lineares Beleuchtungslicht mit einer annähernd einheitlichen Beleuchtungsstärkenverteilung über die Maske 6 erreichbar. Wenn solch ein Beleuchtungslicht auf die Maske 6 projiziert wird, passiert das Licht die Lochaufreihung der Maske, und nachdem es durch die Blende 7 auf eine vorbestimmte Größe begrenzt wird, wird es durch die Projektionslinse 8 auf den Sampler 9 projiziert. Infolgedessen wird das Muster der Maske 6, d. h. die Lochaufreihung an dem Sampler 9 reproduziert.
- Da bei dem beschriebenen Beleuchtungssystem das durch die Laserlichtquelle 1 ausgestrahlte Licht direkt auf die Prismeneinheit 2 auftrifft, kann die Größe des Lichts nicht in Übereinstimmung mit der Eintrittsöffnung der Prismeneinheit 2 eingestellt werden. Jedoch kann eine optische Einheit zum Vergrößern oder Verkleinern von Licht zwischen der Laserlichtquelle 1 und der Prismeneinheit 2 vorgesehen werden, um so die Größe des Lichts in Übereinstimmung mit der Eintrittsöffnung der Prismeneinheit 2 einzustellen. Dies stellt einen hohen Wirkungsgrad beim Gebrauch des Lichts sicher, das durch die Laserlichtquelle 1 ausgestrahlt wird.
- Während bei diesem Ausführungsbeispiel eine Laserlichtquelle als die Lichtquelle des optischen Beleuchtungssystems verwendet wird, kann außer einer Laserlichtquelle jede Lichtquelle wie z. B. eine Weißlichtquelle verwendet werden, die so vorgesehen ist, daß das Licht aus der Lichtquelle in paralleles Licht wie z. B. Laserlicht gleichgerichtet werden kann.
- Während die Prismeneinheit des optischen Beleuchtungssystems dieses Ausführungsbeispiels durch zwei Prismen zum Dreiteilen des aufgenommenen Lichts vorgesehen ist, sind außerdem die Anzahl der Lichtteilungen als auch die Anzahl der zu verwendenden Prismen nicht auf diese beschränkt, sofern ein Beleuchtungslicht mit einheitlicher Beleuchtungsstärke auf der Maske 6 vorgesehen werden kann.
- Während das vorliegende Ausführungsbeispiel die Prismeneinheit 2 als die Einrichtung zum Teilen des Lichts aus der Laserlichtquelle 1 verwendet, kann des weiteren ein Spiegel mit geringem Reflexionsverlust alternativ zum Teilen des Lichts verwendet werden, der so vorgesehen ist, daß die geteilten Lichtstrahlen an einer vorbestimmten Position genau übereinander überlagert werden können.
- Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf die darin offenbarten Aufbauten beschrieben ist, ist sie nicht auf die dargelegten Details beschränkt, und diese Anwendung beabsichtigt, solche Abwandlungen oder Änderungen abzudecken, die innerhalb des Umfangs der folgenden Ansprüche in Frage kommen können.
Claims (12)
1. Optisches Beleuchtungssystem, das folgendes aufweist:
eine Strahlteilereinrichtung (2) zum Teilen eines Strahls in
mehrere Beleuchtungsstrahlen, die sich gegenseitig kreuzen; und
eine optische Anordnung (4, 5) mit unterschiedlichen
Brennweiten bezüglich einer ersten und einer zweiten Richtung,
die im wesentlichen orthogonal sind, und wobei die optische
Anordnung daran angepaßt ist, jeden der Beleuchtungsstrahlen auf
eine zu beleuchtende Oberfläche (6) bezüglich der ersten
Richtung zu fokussieren und zu überlagern, während sie dieselben
bezüglich der zweiten Richtung defokussiert und überlagert,
wodurch ein linearer Beleuchtungsbereich auf der Oberfläche (6)
definiert ist.
2. System gemäß Anspruch 1,
wobei die Strahlteilereinrichtung (2) eine Wellenfront des
Strahls teilt.
3. System gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2,
das des weiteren eine Laserquelle (1) aufweist, die den
Strahl zuführt.
4. System gemäß Anspruch 3,
wobei ein Excimerlaser (1) den Laserstrahl zuführt.
5. System gemäß Anspruch 3 oder Anspruch 4,
wobei die optische Anordnung folgendes aufweist:
ein anamorphes optisches System (4) zum Fokussieren jedes
Beleuchtungsstrahls bezüglich einer Strahlteilungsrichtung durch
die Strahlteilereinrichtung (2) und eine Sammeloptik (5) zum
Fokussieren jedes Beleuchtungsstrahls von dem anamorphen
optischen System (4) auf die Oberfläche (6) bezüglich einer
Richtung, die senkrecht zu der Strahlteilungsrichtung ist,
während sie dieselben bezüglich der Strahlteilungsrichtung
defokussiert.
6. System gemäß Anspruch 5,
wobei das anamorphe optische System (4) eine zylindrische
Linse aufweist.
7. System gemäß Anspruch 5,
wobei die Sammeloptik (5) dieselbe Brennweite bezüglich der
Strahlteilungsrichtung und der Richtung hat, die senkrecht zu
der Strahlteilungsrichtung ist.
8. System gemäß Anspruch 5,
wobei die Strahlteilereinrichtung (2) den Strahl so teilt,
daß sich Mittelstrahlen der Beleuchtungsstrahlen an einer
vorderen Brennpunktposition des anamorphen optischen Systems (4)
bezüglich der Strahlteilungsrichtung gegenseitig kreuzen.
9. System gemäß Anspruch 5,
wobei die Strahlteilereinrichtung (2) zumindest ein Prisma
zum Ablenken von zumindest einem der Beleuchtungsstrahlen
aufweist.
10. Optisches Gerät zum Verarbeiten eines Werkstücks (9),
das ein optisches Beleuchtungssystem gemäß einem der
Ansprüche 1 bis 9 aufweist,
wobei der Beleuchtungsbereich in einem linearen Musterbereich
auf einer Maske (6) definiert ist und das Werkstück (9)
entsprechend einem Muster belichtet wird, das in dem
Musterbereich der Maske (6) vorgesehen ist.
11. Gerät gemäß Anspruch 10,
das des weiteren ein optisches Projektionssystem (8) zum
Abbilden eines Musters einer Maske (6) auf dem Werkstück (9)
aufweist.
12. Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung, das folgendes
aufweist:
Ausbilden eines Vorrichtungsmusters auf einem Werkstück (β)
durch ein Übertragen eines Musters einer Maske (6) zu dem
Werkstück bei einem Gerät gemäß Anspruch 10 oder Anspruch 11,
und Herstellen einer Vorrichtung aus dem gemusterten Werkstück.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32515693 | 1993-12-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69426058D1 DE69426058D1 (de) | 2000-11-09 |
DE69426058T2 true DE69426058T2 (de) | 2001-05-10 |
Family
ID=18173653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69426058T Expired - Lifetime DE69426058T2 (de) | 1993-12-22 | 1994-12-21 | Vorrichtung zur optischen Beleuchtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5828496A (de) |
EP (1) | EP0660158B1 (de) |
DE (1) | DE69426058T2 (de) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3239661B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2001-12-17 | キヤノン株式会社 | ノズルプレートの製造方法及び照明光学系 |
JP3082652B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2000-08-28 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
US5986744A (en) * | 1995-02-17 | 1999-11-16 | Nikon Corporation | Projection optical system, illumination apparatus, and exposure apparatus |
JP3689490B2 (ja) | 1996-06-07 | 2005-08-31 | キヤノン株式会社 | ノズル部材の製造方法及びそれを用いた加工装置 |
JPH1041225A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-13 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH10166167A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-23 | Komatsu Ltd | レーザマーキング方法及び装置 |
JP3094933B2 (ja) * | 1997-01-17 | 2000-10-03 | キヤノン株式会社 | 光加工機及びそれを用いたオリフィスプレートの製造方法 |
GB2329036A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-10 | Sharp Kk | Optical system for redistributing optical extent and illumination source |
DE69826950T2 (de) * | 1997-09-05 | 2006-02-23 | Sharp K.K. | Dunkelfeld-Projektionsanzeigegerät |
JP5110830B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2012-12-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
CN104136163B (zh) * | 2012-02-10 | 2016-02-03 | Limo专利管理有限及两合公司 | 用于对工件的表面进行激光加工或者用于对工件外侧面或内侧面上的涂层进行后处理的设备 |
CN109732201B (zh) * | 2019-01-18 | 2020-05-19 | 吉林大学 | 利用三棱台棱镜进行近4π立体角飞秒激光直写加工的方法及其应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1523033A (en) * | 1976-03-03 | 1978-08-31 | Crosfield Electronics Ltd | Image reproducing systems |
US5091744A (en) * | 1984-02-13 | 1992-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system |
JPS60232552A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-19 | Canon Inc | 照明光学系 |
US4851882A (en) * | 1985-12-06 | 1989-07-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system |
US4733944A (en) * | 1986-01-24 | 1988-03-29 | Xmr, Inc. | Optical beam integration system |
JP2657957B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1997-09-30 | キヤノン株式会社 | 投影装置及び光照射方法 |
DE69132120T2 (de) * | 1990-11-15 | 2000-09-21 | Nikon Corp., Tokio/Tokyo | Verfahren und Vorrichtung zur Projektionsbelichtung |
-
1994
- 1994-12-21 US US08/361,042 patent/US5828496A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-21 DE DE69426058T patent/DE69426058T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-21 EP EP94309635A patent/EP0660158B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0660158B1 (de) | 2000-10-04 |
EP0660158A3 (de) | 1995-11-02 |
EP0660158A2 (de) | 1995-06-28 |
US5828496A (en) | 1998-10-27 |
DE69426058D1 (de) | 2000-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3137031C2 (de) | Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem | |
DE69124712T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Düsenplatte eines Farbstrahldruckers | |
DE2852203C3 (de) | Lichtleiteinrichtung für eine mit Auflicht betriebene Abbildungsvorrichtung | |
DE2802417C2 (de) | ||
DE3314963C2 (de) | ||
DE69724331T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Düsenkörpers und Arbeitsgerät | |
DE69426058T2 (de) | Vorrichtung zur optischen Beleuchtung | |
DE69407613T2 (de) | Vollfeldmaske-beleuchtungsverbesserungsverfahren und -vorrichtung | |
DE19635792A1 (de) | Zoomvorrichtung | |
EP3673289B1 (de) | Optische anordnung für ein lidar-system, lidar-system und arbeitsvorrichtung | |
DE10196379B3 (de) | Mehrstrahl-Mustergenerator | |
DE69516495T2 (de) | Beleuchtungsvorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren | |
DE102011076658A1 (de) | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie | |
DE69521779T2 (de) | Beleuchtungsvorrichtung zum Beleuchten von linienförmigen Bereichen | |
DE10233491B4 (de) | Kompakte Einrichtung zur Bebilderung einer Druckform | |
DE10058761B4 (de) | Abbildungsvorrichtung | |
DE102008019850A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Beleuchten einer Objektszene | |
DE102007038704B4 (de) | Substratbelichtungsvorrichtung | |
DE10237325A1 (de) | Gerät und Verfahren zur Belichtung eines Objektes mit Licht | |
DE10062453B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln | |
DE102012210073A1 (de) | Beleuchtungsoptik für die EUV- Projektionslithographie | |
WO2013068168A1 (de) | Laser-leuchtstoff-vorrichtung mit laserarray | |
DE102015224522B4 (de) | Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen Systems | |
DE102020130651B3 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen einer definierten Laserbeleuchtung auf einer Arbeitsebene | |
DE3702636A1 (de) | Bildlesegeraet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition |