DE69207384T2 - Haltbare Beschichtung für elektrische Steckkontakte - Google Patents
Haltbare Beschichtung für elektrische SteckkontakteInfo
- Publication number
- DE69207384T2 DE69207384T2 DE69207384T DE69207384T DE69207384T2 DE 69207384 T2 DE69207384 T2 DE 69207384T2 DE 69207384 T DE69207384 T DE 69207384T DE 69207384 T DE69207384 T DE 69207384T DE 69207384 T2 DE69207384 T2 DE 69207384T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- palladium
- layer
- gold
- microinches
- terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 137
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 68
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 46
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 46
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 30
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009661 fatigue test Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220010 Rhode Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R13/00—Details of coupling devices of the kinds covered by groups H01R12/70 or H01R24/00 - H01R33/00
- H01R13/02—Contact members
- H01R13/03—Contact members characterised by the material, e.g. plating, or coating materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49204—Contact or terminal manufacturing
- Y10T29/49224—Contact or terminal manufacturing with coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Contacts (AREA)
Description
- Diese Erfindung bezieht sich auf elektrische Kontaktanschlüsse, die Schichten von Edelmetall haben, das elektrisch darauf abgelagert ist.
- Elektrische Kontaktanschlüsse, die in der elektronischen Industrie verwendet werden, müssen gute elektrische Leiter sein, bei wiederholter Benutzung hoch-zuverlässig sein und zur gleichen Zeit widerstandsfahig gegen Korrosion oder Oxidation sein. Traditionellerweise hat die Industrie diese Kriterien durch Beschichten der Anschlüsse mit Hartgold erfüllt. Der ansteigende Preis von Gold hat jedoch die Industrie ermutigt, weniger teure Mittel zu finden und dennoch die gewünschten Charakteristiken aufrechtzuerhalten.
- Die Verwendung von Palladium anstelle von Gold wurde durch die Industrie erforscht. Obwohl Palladium sich als guter Leiter erwiesen hat, der gegen Korrosion widerstandsfähig und weniger teuer als Gold ist, wurde gefunden, daß Palladium für Anschlüsse unzuverlässig ist, die wiederholte Zusammenfügungen erfordern. Abhängig davon, welches der vielen bekannten Palladium-Beschichtungsbäder verwendet wurde, verursachte ein wiederholtes Zusammenfügen der beschichteten Kontaktanschlüsse entweder, daß die Palladiumschicht durchgehend verschlissen wurde oder daß die Palladiumschicht aufsprang und an die Oberfläche der zusammenzufügenden Teile abrieb. Jede Art von Problem verursacht, daß die Kontaktanschlüsse ausfallen.
- Bis jetzt waren Bemühungen, diese lange bestehenden Probleme zu lösen, nicht erfolgreich. Die offenbarte Erfindung löst die oben genannten Probleme durch die Entdeckung, daß die innere Makrobeanspruchung innerhalb der Palladiumschicht selbst die Ursache für die Probleme ist. Die innere Makrobeanspruchung des Palladiums wird durch Brechen (defraction) mittels Röntgenstrahlen nach dem Verfahren gemessen, das durch C.N.J.Wagner et al, Trans. Mat. Soc. AIME 233, 1280 (1965) beschrieben wurde. Wenn das beschichtete Palladium eine geringe innere Makrobeanspruchung hat, kleiner als 206,84 MPa (30.000 psi) (niedrig beanspruchtes Palladium), verschleißt die Palladiumschicht durch adhäsiven Verschleiß nach wenigen Zusammenfügungen. Palladium, das eine hohe innere Makrobeanspruchung hat, größer als 965,27 MPa (140.000 psi), bricht, wenn es mehrfachen Zusammenfügungen unterworfen wird und verursacht Abriebverschleiß. Beschichtungsbäder, die Palladium ablagern, das eine Makrobeanspruchung im Bereich von 206,84 MPa bis 965,27 MPa (30.000 bis 140.000 psi) hat (Palladium mit mittlerer Beanspruchung) erzeugen Kontaktanschlüsse, die sehr viel höhere Verschleißeigenschaften haben als Kontakte, die mit Palladium mit niedriger oder hoher Beanspruchung beschichtet wurden. Eine kleine Anzahl der Palladium-Kontaktanschlüsse mit mittlerer Beanspruchung zeigt jedoch einen frühen Verschleiß und entwickelt spontan Makrorisse. Dieses Problem mit dem Palladium mit mittlerer Beanspruchung wird verhindert und die Verschleißeigenschaften dieser mit Palladium beschichteten Kontaktanschlüsse werden in unerwarteter und überraschender Weise erhöht durch die Anwendung einer Schicht von reinem Weichgold. Das vorzugsweise verwendete Gold entspricht MIL SPEC MIL-G-452048 Type III, Grad A, Goldprozentsatz 99,9, Knoop- Maximum 90.
- Eine Ausführungsform der Erfindung wird nun anhand eines Beispiels unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben:
- Fig. 1 ist eine dreidimensionale Ansicht eines elektrischen Kontaktanschlusses, der gemäß der Erfindung beschichtet worden ist.
- Fig. 2 ist eine Querschnittsansicht des beschichteten Bereichs des Anschlusses längs der Linien 2-2 von Fig. 1.
- Fig. 3 ist eine mikrographische Darstellung eines Querschnitts des beschichteten Kontaktbereichs des Anschlusses von Fig. 1 und zeigt die Lagen der Beschichtung auf dem Anschluß, wobei die Vergrößerung 10.000mal beträgt. Es wurde ein AMR Scanning-Elektronenmikroskop mit einem Kavex-Linien-Röntgenstrahlen-Fluoreszenzdetektor verwendet.
- Fig. 4 ist die Ansicht einer Oberfläche des beschichteten Kontaktbereichs des Anschlusses von Fig. 1, wobei die Vergrößerung 1.000mal beträgt.
- Unter Bezugnahme auf Fig. 1 hat ein elektrischer Kontaktanschluß 10 einen Kontaktbereich 12 mit einer beschichteten Oberfläche 14. Unter Bezugnahme auf die Fig. 2 und 3 zeigt eine Schnittansicht des Kontaktbereichs 12 das Substrat 16 des Anschlusses 10, die Lage des beschichteten Palladiums 18 und die Lage von Gold 20 auf der Palladiumschicht 18. Fig. 3, die ebenfalls eine mikrographische Darstellung eines Querschnitts des Kontaktbereichs 12 eines Anschlusses 10 ist, der gemäß der Erfindung beschichtet wurde, zeigt die relative Dicke der Lage der Beschichtung auf dem Substrat 16. Die Goldschicht 20 ist offensichtlich viel dünner als die Palladiumschicht 18.
- Fig. 4 ist eine Oberflächenansicht eines beschichteten Kontaktanschlusses 10 bei einer Vergrößerung von 1.000. Das Bild zeigt, daß der beschichtete Kontaktbereich frei von Mikrorissen ist.
- Die gesamte Oberfläche der Anschlüsse kann gemäß der offenbarten Erfindung beschichtet werden. Es ist jedoch wirtschaftlicher, selektiv nur den Kontaktbereich der Anschlüsse mit Palladium und Gold zu beschichten. Wenn ein selektives Beschichten gewünscht wird, erhält der Anschluß eine untere Beschichtung aus Nickel, um alle diejenigen Bereiche des Anschlusses zu schützen, die nicht später durch Palladium und Gold geschützt werden.
- Bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird das Substrat des Kontaktanschlusses anfänglich mit einer dünnen Schicht aus Edelmetall, Gold, Silber oder Palladium, beschichtet, vorzugsweise mit Palladium, um die Adhäsion der nachfolgenden Palladium- und Goldschichten zu fördern. Eine dünne Schicht aus Palladium ist, anders als eine Schicht aus Gold oder Silber, von der nachfolgenden Palladiumschicht bei Betrachtung mit einem Elektronenmikroskop, wie in Fig. 3, nicht zu unterscheiden. Die Verwendung von Edelmetallschichten zur Adhäsion ist den Fachleuten dieses Gebietes wohl bekannt. Zahlreiche Beschichtungsbäder, wie sie im Stand der Technik bekannt sind, können zum Erzeugen dieser dünnen Schichten verwendet werden.
- Eine 0,13 bis 2,54 µm, vorzugsweise eine 0,38 bis 2,03 µm (5 bis 100 Mikrozoll, vorzugsweise 15 bis 80 Mikrozoll) dicke Schicht von Palladium mit einer Makrobeanspruchung im Bereich von 206,84 MPa bis 965,27 MPa, vorzugsweise 413,69 bis 689,48 MPa (30.000 bis 140.000 psi, vorzugsweise 60.000 bis 100.000 psi) wird auf den Anschluß aufgebracht. Ein Bad zum Beschichten von Palladium mit dem gewünschten Bereich der Makrobeanspruchung ist in US-Patent 1 970 950 offenbart.
- Das Bad enthält eine wässrige Lösung von Pd(NO&sub2;)&sub4;&supmin;² in einer Menge, die ausreicht, um eine Palladiumkonzentration von etwa 5,01 bis 30,40 g/L (0,61 bis 3,7 Troy-Unzen per Gallon) zu schaffen. Das Bad wird bei einer Temperatur betrieben, die von 45 bis 75ºC (113 bis 167ºF) reicht, mit einem pH-Wert, der von 4,5 bis 7,5 reicht, und mit einer Stromdichte von 10,8 mA/cm² (10 Ampere pro Quadratfuß).
- Eine Schicht von reinem Weichgold mit einer Dicke im Bereich von 0,03 bis 0,18 µm, vorzugsweise 0,05 bis 0,10 µm (1 bis 7 Mikrozoll, vorzugsweise 2 bis 4 Mikrozoll) wird über die Palladiumschicht aufgebracht. Das Gold ist vorzugsweise wenigstens zu 99,9 Prozent rein und muß eine Knoop-Härte im Bereich von 60 bis 90 haben. Da das Gold weich ist, wirkt es als Kontaktschmiermittel, wenn die Anschlüsse wiederholten Zusammenfügungen unterworfen werden. Jedes Goldplattierbad, das MIL SPEC MIL-G452048 Type III, Grad A, Goldprozentsatz 99,9, Knoop-Maximum 90 entspricht, kann verwendet werden, um die Goldschicht aufzubringen.
- Der Erfolg dieses besonderen zweilagigen Beschichtungssystems ist außerordentlich. Während die Verwendung von Gold über Palladium zum Beschichten in US-Patent 4 138 604 diskutiert wurde, war das dort verwendete Gold Hartgold. Das Gold wurde in dem Glauben verwendet, daß es die Poren des darunter liegenden Palladiums ausfüllen und somit eine glatte Kontaktoberfläche ergeben würde.
- Durch die Erfinder wurde festgestellt, daß die Verwendung einer dünnen Schicht von Weichgold über Palladium die Dauerhaftigkeit der Kontaktoberfläche dramatisch verbessert. Das Weichgold wirkt als ein festes Schmiermittel und verkleinert somit den Reibungskoeffizienten und vermindert dadurch den Adhäsionsverschleiß des Systems. Es eliminierte auch vollständig den zufälligen frühen durchgehenden Verschleiß, der bei einigen der Palladiumablagerungen mit mittlerer Beanspruchung gefunden wurde.
- Ein Überzug aus Hartgold über Palladium hat keine dieser Eigenschaften. Diese Kombination benimmt sich in ähnlicher Weise wie eine reine Palladiumbeschichtung, indem sie Adhäsionsverschleiß und auch frühen Sprödbruch der Beschichtung zeigt.
- Eine Vorrichtung zum Testen des Verschleißes, bestehend aus einer flachen hin- und hergehenden unteren Oberfläche und einer stationären haibkugelförmigen oberen Oberfläche oder einem Anschluß wurde verwendet, um die Dauerhaftigkeit der beschichteten Anschlüsse zu bestimmen. Die Vorrichtung mißt sowohl Reibungskräfte als auch Kontaktwiderstand. Siehe Rabinowitz, Friction and Wear of Materials, John Wiley and Sons, Inc., New York, 1965, Seite 104 für eine ähnliche Vorrichtung.
- Die Anschlüsse wurden in der Vorrichtung montiert. Die Dauerhaftigkeit der Kontaktoberfläche wurde bestimmt durch Aufbringen einer Belastung von 0,2 kg (0,44 Pound) auf den Anschluß, um eine typische Kontaktkraft zu simulieren und den belasteten Anschluß der hinund hergehenden Bewegung der Vorrichtung zu unterwerfen, wobei jeder Zyklus der Vorrichtung ein Einsetzen und ein Zurückziehen des Anschlusses darstellte. Die Anzahl der vollständigen Zyklen wurde gezählt, bis das Grundmaterial freigelegt war, die plattierte Oberfläche Mikrorisse zeigte oder eine vorbestimmte Anzahl von Zyklen erreicht wurde.
- Die folgenden Beispiele veranschaulichen die außerordentlichen und unerwarteten Ergebnisse, die durch das Beschichten von Anschlüssen mit Palladium mit mittlerer Beanspruchung und Weichgold erreicht wurden, wie hier offenbart, im Vergleich zu Anschlüssen, die mit Palladium mit mittlerer Beanspruchung und keinem Gold oder mit anderem Palladium mit hoher oder niedriger Beanspruchung und mit Weichgold beschichtet waren.
- Eine Anzahl von Anschlüssen der in Fig. 1 veranschaulichten Art wurde in der bevorzugten Weise beschichtet. Das Substrat aus Phosphorbronze des Anschlusses wurde zuerst mit 2,54 µm (100 Mikrozoll) Nickel beschichtet, wofür ein Nickel-Sulfamat-Bad (chloridfrei) verwendet wurde. Siehe George A. DiBari, 49th Guidebook, Metal Finishing, Seite 278, 1981, Metals and Plastics Publications, Inc., Rackensack, New Jersey.
- Eine dünne Schicht von Palladium zum Unterstützen des Anhaftens der nachfolgenden Palladiumschicht wurde dann aufgebracht. Das kommerzielle Decorex-Beschichtungsbad wurde verwendet. Dieses Bad ist von Sel-Rex, Nutley, New Jersey 07110, erhältlich. Das Bad wurde betrieben bei 24ºC (75ºF),bei pH =9 und einer Stromdichte von 10,8 mA cm² (10 Ampere pro Quadratfuß).
- Die Anschlüsse wurden dann mit 72 Mikrozoll Palladium mit mittlerer Beanspruchung beschichtet, wofür das Bad verwendet wurde, wie es in US-Patent 1 970 950 beschrieben ist. Die Palladium-Konzentration war 10,02 g/L (1.22 Troy-Unzen per Gallon). Das Bad wurde bei einer Temperatur von 60ºC (140ºF), bei pH =6,0 und bei einer Stromdichte von 10,8 mA cm&supmin;² (10 Ampere pro Quadratfuß) betrieben.
- Die Anschlüsse wurden dann mit etwa 0,09 µm (3,7 Mikrozoll) Weichgold beschichtet. Das für diese Muster verwendete Bad enthielt eine wässrige Lösung von KAu(CN)&sub2; in einem Betrag, der ausreicht, um eine Goldkonzentration von 8,21 g/L (1 Troy-Unze per Gallon) zu liefern. Das Bad wurde betrieben bei 60ºC (140ºF),pH = 6,2 und bei einer Stromdichte von 5,4 mA cm&supmin;² (5 Ampere pro Quadratfuß).
- Die verbleibende Makrobeanspruchung dieser Anschlüsse reichte von 551,58 bis 896,32 MPa (80.000 bis 130.000 psi). Bei den Dauerstandversuchen erreichten alle dieser Beispiele 1.000 Zyklen, ohne einen Ausfall zu zeigen. Einige wenige Muster wurden weiteren Versuchen auf Dauerhaftigkeit unterworfen und erreichten 10.000 Zyklen ohne Ausfall. Der Kontaktwiderstand von Anschlüssen, die mit Palladium mit mittlerer Beanspruchung und Weichgold beschichtet waren, wurde bei einem Aussetzen zu 245ºC (480ºF) für 16 Stunden nicht beeinträchtigt.
- Eine Anzahl von Anschlüssen der in Fig. 1 veranschaulichten Art wurde mit Nickel, einer dünnen Palladiumschicht und mit Palladium in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschichtet. Es wurde kein Weichgold auf diese Muster aufgebracht.
- Die Makrobeanspruchung des Palladiums mit mittlerer Beanspruchung bei diesen Mustern reichte von 413,69 bis 965,27 MPa (60.000 bis 140.000 psi). Über neunzig Prozent dieser Anschlüsse erreichten nicht 50 Zyklen in dem Dauerstandversuch.
- Anschlüsse der in Fig. 1 veranschaulichten Art wurden mit Nickel und einer dünnen Palladiumschicht versehen, wie zuvor in Beispiel 1 beschrieben wurde. Die Anschlüsse wurden dann mit 1,90 µm (75 Mikrozoll) Palladium beschichtet, wofür das kommerziell verfügbare Pallaflex-Bad verwendet wurde. Dieses Bad ist erhältlich von Vanguard Research Associates,
- Inc., South Plainfield, New Jersey 07080. Das Bad wurde betrieben bei 65ºC (149ºF), pH = 6,8 und bei einer Stromdichte von 10,8 mA cm&supmin;² (10 Ampere pro Quadratfuß). 0,08 µm (3 Mikrozoll) Weichgold wurde über die Palladiumschicht aufgebracht, wobei das gleiche Goldbad wie bei Beispiel 1 verwendet wurde.
- Der in dem getesteten Muster verbleibende Makrostreß war 89,63 MPa (13.000 psi). Die Kontaktoberfläche dieses Anschlusses fiel in dem Dauerstandhaftigkeitstest bei weniger als 10 Zyklen aus.
- Anschlüsse der in Fig. 1 veranschaulichten Art wurden mit Nickel und einer dünnen Palladiumschicht versehen, wie zuvor in Beispiel 1 beschrieben. Die Anschlüsse wurden dann mit 1,90 µm (75 Mikrozoll) Palladium beschichtet, wofür das kommerziell erhältliche Pallaspeed- Bad verwendet wurde. Dieses Bad ist erhältlich von Technic, Inc., Cranston, Rhode Island 02910. Das Bad wurde betrieben bei 60ºC (149ºF),pH = 5,8 und bei einer Stromdichte von 10,8 mA cm&supmin;² (10 Ampere pro Quadratfuß). 0,08 µm (3 Mikrozoll) Weichgold wurde über die Palladiumschicht aufgebracht, wofür das gleiche Goldbad wie in Beispiel 1 verwendet wurde.
- Der verbleibende Makrostreß des getesteten Muster lag im Bereich von 965,27 bis 1.103,16 MPa (140.000 bis 160.000 psi). Dauerstandsfähigkeits-Versuche mit Mustern in diesem Bereich ergaben zufällige Ergebnisse. Einige der Muster fielen nach zwei Zyklen aus, einige nach 10 Zyklen und einige überlebten 1.000 Zyklen.
- Durch die vorstehenden Beispiele ist klar dargestellt, daß Anschlüsse, die gemäß der hier offenbarten Erfindung beschichtet wurden, einen wesentlichen und unerwarteten Anstieg in der Dauerhaftigkeit haben.
- Es ist zu verstehen, daß die Art des Anschlusses, der für die Beispiele verwendet wurde, nur repräsentativ für viele Arten von Anschlüssen ist. Der gleiche relative Anstieg in der Dauerhaftigkeit der Kontaktoberfläche ist mit anderen Arten von Anschlüssen erreichbar.
Claims (8)
1.Verfahren zum Herstellen eines beschichteten elektrischen Kontaktanschlusses
(10) zum Zusammenfügen mit einem komplementären Kontaktglied, mit den
Schritten: Auswählen eines elektrischen Kontaktanschlusses (10), Auswählen
einer Palladium-Beschichtungslösung und Auswählen von Prozeßparametern für das
Beschichten von Palladium aus einem Bad der gewählten Lösung auf den
elektrischen Kontaktanschluß, Aufbringen einer Schicht (18) aus Palladium aus dem
Bad auf den Anschluß und Aufbringen einer Schicht (20) aus Gold auf die
Palladiumschicht, wobei das Gold eine Knoop-Härte im Bereich von 60 bis 90 hat,
wobei das Verfahren durch folgende Schritte gekennzeichnet ist:
- Auswählen der Palladium-Beschichtungslösung und Optimieren der
Parameter so, daß die Palladium-Schicht (18) des damit beschichteten Anschlusses
(10) durchgehend ein Niveau der inneren Makrobeanspruchung von
wenigstens 206,84 MPa (30.000 psi) und bis zu etwa 965,27 MPa (140.000 psi)
hat und Auswählen der Gold-Beschichtungslösung, wodurch
- das Vorhandensein einer solchen wesentlichen Makrobeanspruchungs-
Charakteristik der aufgebrachten Palladium-Schicht (18) die Dauerhaftigkeit
des Kontaktanschlusses wesentlich erhöht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Makrobeanspruchung der Palladium-
Schicht (18) im Bereich von 275,79 bis 896,32 MPa (40.000 bis 130.000 psi)
liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Palladium-Schicht (18) eine
Dicke zwischen 0,13 und 2,54 µm, vorzugsweise 0,38 bis 2,03 µm (5 bis 100
Mikrozoll, vorzugsweise 15 bis 80 Mikrozoll) hat.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, bei dem das Gold wenigstens zu 99,9
Prozent rein ist.
5. Verfahren nach einem vorhergehenden Anspruch, bei dem die Goldschicht (20)
innerhalb des Bereiches von 0,03 bis 0,18 µ/m, vorzugsweise 0,05 bis 0,10 µm
(1 bis 7 Mikrozoll, vorzugsweise 2 bis 4 Mikrozoll) liegt.
6. Elektrischer Kontaktanschluß (10) mit erhöhter Dauerhaftigkeit, der dazu
bestimmt ist, ein komplementäres Kontaktglied zu berühren und damit einen
elektrischen Kontakt herzustellen, wobei der Anschluß (10) ein Substrat (16) mit einer
darauf aufgebrachten zweischichtigen Beschichtung hat, dadurch gekennzeichnet,
- die erste Schicht (18) der Beschichtung aus Palladium besteht, das auf das
Substrat (16) aufgebracht ist, wobei die Palladium-Schicht eine
Makrobeanspruchung im Bereich von 206,84 bis 965,27 MPa, vorzugsweise 413,69
bis 689,48 MPa (30.000 bis 140.000 psi, vorzugsweise 60.000 bis 100.000
psi) hat, und
- die zweite Schicht (20) aus Gold besteht, das auf das Palladium aufgebracht
ist, wobei die Goldbeschichtung vorzugsweise eine Knoop-Härte im Bereich
von 60 bis 90 hat.
7. Anschluß (10) nach Anspruch 6, bei dem die Palladium-Schicht (18) eine Dicke
zwischen 0,13 und 2,54 µm, vorzugsweise 0,38 bis 2,03 µm (5 bis 100
Mikrozoll, vorzugsweise 15 bis 80 Mikrozoll) hat.
8. Anschluß (10) nach Anspruch 6 oder 7, bei dem die Goldschicht (20) im Bereich
von 0,03 bis 0,18 µm, vorzugsweise 0,05 bis 0,10 µm (1 bis 7 Mikrozoll,
vorzugsweise 2 bis 4 Mikrozoll) liegt.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US44494082A | 1982-11-29 | 1982-11-29 | |
US82808486A | 1986-02-07 | 1986-02-07 | |
US44915989A | 1989-12-15 | 1989-12-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69207384D1 DE69207384D1 (de) | 1996-02-15 |
DE69207384T2 true DE69207384T2 (de) | 1996-08-01 |
Family
ID=27412229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69207384T Expired - Fee Related DE69207384T2 (de) | 1982-11-29 | 1992-05-26 | Haltbare Beschichtung für elektrische Steckkontakte |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5129143A (de) |
EP (1) | EP0571673B1 (de) |
DE (1) | DE69207384T2 (de) |
ES (1) | ES2081567T3 (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5208978A (en) * | 1992-05-07 | 1993-05-11 | Molex Incorporated | Method of fabricating an electrical terminal pin |
US5308252A (en) * | 1992-12-24 | 1994-05-03 | The Whitaker Corporation | Interposer connector and contact element therefore |
US20020053734A1 (en) | 1993-11-16 | 2002-05-09 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit, and methods of making same |
WO1996037931A1 (en) * | 1995-05-26 | 1996-11-28 | Formfactor, Inc. | Spring element electrical contact and methods |
US5994152A (en) | 1996-02-21 | 1999-11-30 | Formfactor, Inc. | Fabricating interconnects and tips using sacrificial substrates |
US8033838B2 (en) | 1996-02-21 | 2011-10-11 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
US5722861A (en) * | 1996-02-28 | 1998-03-03 | Molex Incorporated | Electrical connector with terminals of varying lengths |
JPH10134869A (ja) * | 1996-10-30 | 1998-05-22 | Yazaki Corp | 端子材料および端子 |
GB2349391A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-01 | Mayfair Brassware Limited | Outer gold coated article |
JP3551411B2 (ja) * | 1999-10-27 | 2004-08-04 | 常木鍍金工業株式会社 | 接点部材及びその製造方法 |
JP2002298940A (ja) | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Jst Mfg Co Ltd | 樹脂ハンダを用いた電気接触子、電気コネクタ及びこれらのプリント配線板への接続方法 |
JP2002298995A (ja) | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Jst Mfg Co Ltd | 樹脂ハンダを用いた同軸ケーブルの結束部材及び同軸ケーブルの電気コネクタ並びに結束部材の同軸ケーブル又は電気コネクタへの接続方法 |
JP2002298962A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Jst Mfg Co Ltd | 樹脂ハンダを用いた電気接触子、電気コネクタ及びこれらのプリント配線板への接続方法 |
JP2002298946A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Jst Mfg Co Ltd | 樹脂ハンダを用いた電気接続具、電気コネクタ及びこれらへの電線接続方法 |
JP2002298938A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Jst Mfg Co Ltd | 樹脂ハンダを用いたツイストペアケーブルの電気コネクタ及びこの電気コネクタへの電線接続方法 |
JP2002298993A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Jst Mfg Co Ltd | 片方に樹脂ハンダを用いた一対の電気コネクタ |
US6793544B2 (en) * | 2003-02-05 | 2004-09-21 | General Motors Corporation | Corrosion resistant fuel cell terminal plates |
US7352601B1 (en) * | 2003-11-24 | 2008-04-01 | Michael Paul Minneman | USB flash memory device |
US8314355B2 (en) * | 2005-05-20 | 2012-11-20 | Mitsubishi Electric Corporation | Gas insulated breaking device |
US8721855B2 (en) * | 2005-12-02 | 2014-05-13 | Ngk Spark Plug Co. Ltd. | Crimp contact, crimp contact with an electrical lead, gas sensor including said crimp contact and method for manufacturing said gas sensor |
JP5079605B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2012-11-21 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 圧着端子及び端子付電線並びにこれらの製造方法 |
CN104137345B (zh) * | 2013-02-22 | 2017-07-18 | 古河电气工业株式会社 | 端子、电线连接结构体以及端子的制造方法 |
CN104126033B (zh) * | 2013-02-24 | 2017-08-01 | 古河电气工业株式会社 | 金属构件、端子、电线连接结构体及端子的制造方法 |
DE102014222679A1 (de) * | 2014-11-06 | 2016-05-12 | Robert Bosch Gmbh | Kontaktieranordnung für eine Ader eines elektrischen Kabels |
CN106400068A (zh) * | 2016-11-29 | 2017-02-15 | 江苏澳光电子有限公司 | 一种用于接线端子表面电镀的渡液及其应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1904241A (en) * | 1926-12-31 | 1933-04-18 | Kammerer Erwin | Compound metal stock |
US1970950A (en) * | 1932-06-20 | 1934-08-21 | Int Nickel Co | Electrodeposition of platinum metals |
US2846649A (en) * | 1952-09-26 | 1958-08-05 | Ampatco Lab Corp | Electrical connector |
US2897584A (en) * | 1957-05-22 | 1959-08-04 | Sel Rex Corp | Gold plated electrical contact and similar elements |
DE2540943B2 (de) * | 1975-09-13 | 1978-02-02 | W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau | Kontaktkoerper fuer einen elektrischen steckkontakt |
US4435253A (en) * | 1983-01-28 | 1984-03-06 | Omi International Corporation | Gold sulphite electroplating solutions and methods |
EP0140619B1 (de) * | 1983-10-14 | 1993-03-17 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Anisotrop elektrisch leitender Klebefilm und Verfahren zum Verbinden von Schaltungen unter dessen Anwendung |
-
1990
- 1990-09-10 US US07/581,261 patent/US5129143A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-05-26 EP EP92304731A patent/EP0571673B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-26 DE DE69207384T patent/DE69207384T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-05-26 ES ES92304731T patent/ES2081567T3/es not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69207384D1 (de) | 1996-02-15 |
ES2081567T3 (es) | 1996-03-16 |
US5129143A (en) | 1992-07-14 |
EP0571673A1 (de) | 1993-12-01 |
EP0571673B1 (de) | 1996-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69207384T2 (de) | Haltbare Beschichtung für elektrische Steckkontakte | |
DE69023563T2 (de) | Elektrischer Kontakt. | |
DE19747756C2 (de) | Klemmenmaterial und Anschlußklemme | |
DE112015001594B4 (de) | Anschlusspaar und Steckverbinderpaar, das das Anschlusspaar einschließt | |
DE60015686T2 (de) | Beschichteter Metallartikel mit mehrlagiger Oberflächenbeschichtung für Porositätsverminderung | |
DE60006335T2 (de) | Elektrolytisch abgeschiedener Edelmetallüberzug, der abriebfeste Partikel enthält | |
DE102010012609A1 (de) | Sn-plattiertes Kupfer oder Sn-plattierte Kupferlegierung mit hervorragender Wärmebeständigkeit und Herstellungsverfahren dafür | |
DE112015001081T5 (de) | Zinnplattiertes Produkt und Verfahren zum Herstellen desselben | |
DE69705262T2 (de) | Verfahren zur Beschichtung eines Gegenstandes mit einer konformen Nickelbeschichtung | |
DE112014005145B4 (de) | Plattenanschluss, Herstellungsverfahren hierfür und Plattenverbinder | |
DE112020005628T5 (de) | Verbundplattierungsmaterial und Verfahren zu dessen Herstellung | |
EP0604710B1 (de) | Elektrischer Kontaktkörper | |
DE3312713A1 (de) | Silberbeschichtete elektrische materialien und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE2747955C2 (de) | ||
DE3874492T2 (de) | Elektrische leistungsverbinder. | |
DE102005055742A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer kontaktgeeigneten Schicht auf einem Metallelement | |
DE69607130T2 (de) | Elektroplattieren von Nickel auf Nickel-Ferrit Vorrichtungen | |
DE3434627A1 (de) | Elektrischer gleitkontakt, insbesondere fuer kommutierungssysteme | |
EP0088220B1 (de) | Kontaktelement und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69030458T2 (de) | Gerät mit elektrischen Kontakten | |
EP0054695B1 (de) | Verfahren zum Erzeugen von Dendriten durch Galvanisieren und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0160290B1 (de) | Kontaktwerkstoff | |
DE2439656C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung einer Zinn-Nickel-Legierung | |
DE19532223C1 (de) | Chipkarte | |
DE2506145C3 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |