DE3818724A1 - Lichtempfindliches material fuer elektrofotografie - Google Patents
Lichtempfindliches material fuer elektrofotografieInfo
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- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
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Description
Die Erfindung betrifft ein eine Oberflächenschutzschicht
auf einer lichtempfindlichen Schicht aufweisendes lichtemp
findliches Material für Elektrofotografie zum Gebrauch in
elektrofotografischen Geräten wie etwa Digitalkopierern
oder Druckern.
Da die für solche Geräte benutzte Lichtquelle entweder eine
als lichtemittierendes Element (LED) ausgebildete Halblei
terschicht (LD) oder die Kombination einer gewöhnlichen
Lichtquelle, wie etwa einer Halogenlampe, mit einem Flüs
sigkristallverschluß (LCS) ist und die Wellenlänge zwischen
660 und 800 nm liegt, ist das entsprechende lichtempfindli
che Material allgemein gebildet worden mit einer ladungs
trägererzeugenden Schicht, die eine Empfindlichkeit für
eine solche Lichtquelle aufweist, einer Ladungsträgertrans
portschicht zum Transport der erzeugten Ladungen und einer
Oberflächenschutzschicht zum Schutz gegen äußere Gegenstän
de wie etwa Papier oder Toner. Die Druckbeständigkeit des
lichtempfindlichen Materials wird hierbei bestimmt durch
die Qualität der Oberflächenschutzschicht.
Bei den herkömmlichen lichtempfindlichen Materialien blät
tert jedoch nach ungefähr 80 000 bis 100 000 Blättern nicht
nur die Oberflächenschutzschicht, sondern ebenfalls die la
dungsträgererzeugende Schicht ab, wodurch die Funktionsfä
higkeit des lichtempfindlichen Materials irreversibel ent
fallen ist. Darauf hat man die Dicke der Oberflächenschutz
schicht erhöht oder statt reinem Se eine 5 bis 8 Gewichts-%
Te enthaltende Se-Legierung oder eine weniger als 5
Gewichts-% As enthaltende Se-Legierung verwendet. Dennoch
hat die Lebensdauer nur ungefähr 100 000 bis 200 000 Blät
ter betragen. Daher sind solche lichtempfindlichen Materia
lien, obwohl sie für Drucker oder Digitalkopierer mittlerer
bis langsamer Geschwindigkeit verwendet werden können,
nicht geeignet für Hochgeschwindigkeits-Digitalkopierer
oder -Drucker. Wegen dem oben genannten wurde für den Hoch
geschwindigkeitstyp des lichtempfindlichen Materials in der
Absicht, die Druckbeständigkeit zu erhöhen, ein lichtemp
findliches Material benutzt, bei dem amorphes Silizium
(a-Si) anstatt des Se-Materials in der lichtempfindlichen
Schicht Verwendung gefunden hat. Da jedoch das a-Si-licht
empfindliche Material nicht benutzt werden kann, ohne daß
ein Heizgerät an der Innenseite angebracht wird, ist es ex
trem schwierig anzuwenden und hat relativ hohe Kosten pro
Gerät zur Folge.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein
lichtempfindliches Material für Elektrofotografie zu schaf
fen, bei welchem die erwähnten Nachteile nicht auftreten
und das für Hochgeschwindigkeits-Drucker oder -Digitalko
pierer verwendet werden kann.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein lichtempfindliches Ma
terial für Elektrofotografie, das auf einer lichtempfindli
chen Schicht eine Oberflächenschutzschicht aufweist, die
gebildet ist aus einer As-Se-Legierung, die zwischen 35
Atom-% und 45 Atom-% As enthält. Weiterhin ist es sehr
wirksam, zwischen der Oberflächenschutzschicht und der
lichtempfindlichen Schicht eine aus einer As-Se-Legierung
gebildete Zwischenschicht anzuordnen, wobei die As-Konzen
tration zur lichtempfindlichen Schicht hin abfällt.
Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungs
beispiels unter Bezugnahme auf die beiliegenden Figuren nä
her erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine die Schichtenstruktur in einer
Ausführungsform der Erfindung erläuternde
Schnittzeichnung;
Fig. 2 ein die Beziehung zwischen der Oberflächen
härte der Oberflächenschutzschicht und der
Anzahl der bedruckten Blätter darstellendes
Diagramm, aus dem eine befriedigende Druck
beständigkeit hervorgeht; und
Fig. 3 ein die Beziehung zwischen der Härte und der
Zusammensetzung der As-Se-Legierung darstel
lendes Diagramm.
In Fig. 3 ist gezeigt, daß eine eine 40 Atom-%-ige As-Kon
zentration aufweisende Zusammensetzung, das heißt As2Se3,
die höchste Härte unter den As-Se-Legierungsmaterialien hat
die Einlagerung von As mit einer Konzentration, welche an
genähert dieser entspricht. Weiterhin wird durch den Ein
bau einer Zwischenschicht, die aus einer As-Se-Legierung
gebildet wird und die einen As-Dichteabfall zwischen der
Oberflächenschutzschicht und der lichtempfindlichen Schicht
aufweist, der Unterschied der Wärmeausdehnungskoeffizienten
zwischen der Se-Legierung mit hoher As-Konzentration und
niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten und der Se-Legie
rung der lichtempfindlichen Schicht aufgefangen, wodurch
das Brechen in der As2Se3-Schicht verhindert wird.
Fig. 1 zeigt die Querschnittsstruktur einer Ausführungsform
der Erfindung, in welcher auf einem Aluminiumsubstrat 1
eine aus reinem Se gebildete Ladungstransportschicht 2,
eine aus Se gebildete Löcherinjektionsschicht 3, die einen
Konzentrationsanstieg von 0 bis 46 Gewichts-% Te, ausgehend
von der Ladungstransportschicht 2, aufweist, eine ladungs
erzeugende Schicht 4, die aus 46 Gewichts-% Te enthaltendem
Se gebildet ist, um eine spektrale Empfindlichkeit bei lan
gen Wellenlängen zu erreichen, eine aus Se gebildete Puf
ferschicht 5, die einen Konzentrationsanstieg von 0 bis 40
Atom-% As, ausgehend von der ladungserzeugenden Schicht,
aufweist, und eine Oberflächenschutzschicht 6, die gebildet
ist aus einer 40 Atom-% As enthaltenden Se-Legierung, das
heißt As2Se3, aufgeschichtet sind. Die Löcherinjektions
schicht 3 dient zum gleichmäßigen Transport der in der la
dungserzeugenden Schicht 4 erzeugten Ladungsträger in die
Ladungstransportschicht 2.
Zur Herstellung eines solchen lichtempfindlichen Materials
wird zunächst ein vorgefertigtes und gereinigtes zylindri
sches Aluminiumsubstrat 1 in einem Vakuumaufdampfgefäß be
festigt und, nachdem die Substrattemperatur bei ungefähr
60°C konstant gehalten werden kann, das Innere des Gefäßes
bis 1×10-5 Torr evakuiert. Dann wird eine Ladungstrans
portschicht 2 mit einer Dicke von ungefähr 50 µm aufge
dampft, indem eine reines Se enthaltende Verdampferquelle
auf 320°C erhitzt wird. Nachdem dann in dem Gefäß wieder
Atmosphärendruck eingestellt worden ist, wird das Substrat
herausgenommen und an der Trägerwelle eines Strömungsauf
dampfofens befestigt. Dann wird in der Strömung eine Lö
cherinjektionsschicht 3 aufgedampft bis zu einer Dicke von
ungefähr 0,4 µm, indem unter der Bedingung einer Temperatur
der Trägerwelle von 55°C, einem Druck von 1×10-5 Torr und
einer Temperatur der Verdampfungsquelle von 350°C auf die
Verdampfungsquelle nacheinander eine Se Legierung getropft
wird, in der die Te-Konzentration allmählich gesteigert
wird. Dann werden mittels der Strömungsaufdampfung in
gleicher Weise wie für die Löcherinjektionsschicht 3 über
dieser weiterhin eine 46 Gewichts-% Te enthaltende Se-
Legierung einer Dicke von 0,1 µm als ladungserzeugende
Schicht 4, eine As-Se-Legierung der Dicke 0,1 bis 0,2 µm
als Pufferschicht 5 und eine Oberflächenschutzschicht 6
einer Dicke von ungefähr 2 µm gebildet.
Die Messung der Vickershärte der Oberfläche, ein Hochtempe
raturtest bei 40°C und ein anfänglicher Drucktest, wurden
an einem lichtempfindlichen Material (1) mit dem in Fig. 1
gezeigten Aufbau und an einem lichtempfindlichen Material
(2) ausgeführt, das unter gleichen Aufdampfbedingungen her
gestellt wurde, aber keine Pufferschicht in der Schicht
struktur enthielt. Die gleichen Tests wurden außerdem an
einem lichtempfindlichen Material (3) als Beispiel des
Standes der Technik durchgeführt, das keine Pufferschicht
besaß und eine Se-Legierung mit 4 Atom-% As als Material
für die Oberflächenschutzschicht 6 verwendete. Das Ergebnis
der Tests ist in Tabelle 1 gezeigt. Die Anzahl der bedruck
ten Blätter mit befriedigender Druckbeständigkeit kann aus
gedrückt werden durch die Oberflächenhärte wie in Fig. 2
gezeigt.
Die lichtempfindlichen Materialien (1) und (2) als Bei
spiele der vorliegenden Erfindung weisen eine Oberflächen
härte auf, die etwas mehr als 2,5 mal größer ist als dieje
nige des lichtempfindlichen Materials (3) des Vergleichs
beispiels. Unter Bezugnahme auf Fig. 2 bedeutet dies, daß
ungefähr zwischen 800 000 und 1 200 000 druckbeständige
Blätter erhalten worden sind, und daß diese Materialien für
Hochgeschwindigkeits-Drucker oder -Digitalkopierer verwen
det werden können. Obwohl in dem lichtempfindlichen Mate
rial (2) ohne Pufferschicht im Hochtemperaturtest bei 35°C
kein Bruch der Oberfläche stattgefunden hat, wurde im Hoch
temperaturtest bei 40°C ein Brechen festgestellt, woraus
sich eine Beschränkung im Hinblick auf die Verwendung er
gibt.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine hohe Oberflä
chenhärte erhalten werden durch die Bildung einer Oberflä
chenschutzschicht mit einer As-Se-Legierung, die eine Zu
sammensetzung angenähert wie diejenige von As2Se3 aufweist.
Damit kann ein lichtempfindliches Material für die Verwen
dung in der Elektrofotografie mit einer hohen Druckbestän
digkeit erhalten werden. Weiterhin kann durch die Anordung
einer Zwischenschicht zwischen der Oberflächenschutzschicht
6 und der lichtempfindlichen Schicht 4 die Entstehung von
Brüchen in der Oberflächenschicht aufgrund des Unterschie
des der Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen der Oberflä
chenschutzschicht und der darunterliegenden lichtempfindli
chen Schicht 4 verhindert werden.
Claims (2)
1. Lichtempfindliches Material für die Elektrofoto
grafie mit einer Oberflächenschutzschicht (6) auf einer
lichtempfindlichen Schicht (4),
dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflä
chenschutzschicht (6) aus einer zwischen 35 Atom-% und 45
Atom-% Arsen enthaltenden Arsen-Selen-Legierung gebildet
ist.
2. Lichtempfindliches Material für die Elektrofoto
grafie gemäß Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der
Oberflächenschutzschicht (6) und der lichtempfindlichen
Schicht (4) eine aus einer Arsen-Selen-Legierung mit einer
zur lichtempfindlichen Schicht (4) abfallenden Arsen-
Konzentration gebildeten Zwischenschicht (5) angeordnet
ist.
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