DE3738333A1 - Eingangsschutzeinrichtung einer halbleiterschaltungseinrichtung - Google Patents
Eingangsschutzeinrichtung einer halbleiterschaltungseinrichtungInfo
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- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf den Aufbau einer Ein
gangsschutzeinrichtung, wie sie im Signaleingangsteil einer
Halbleiterschaltungseinrichtung vorkommt.
Fig. 1 zeigt den Aufbau einer komplementären integrierten MOS-
Schaltung mit einem vorhandenen Eingangsschutzkreis. Fig. 1 zeigt
den Eingangsteil eines Systems S 2, das z. B. einen Drucker oder
ähnliches enthält und das auf das Ausgangssignal eines Systems S 1
reagiert, das z. B. einen Mikrocomputer oder ähnliches aufweist.
Das System S 1 weist in seinem Ausgangsteil einen Ausgangspuffer
auf, der durch einen Inverter mit einem P-Kanal-MOS-Transistor T 1
und einem N-Kanal-MOS-Transistor T 2 in Komplementärschaltung
gebildet wird. Ein Ausgangssignal vom System S 1 wird über den
Ausgangspuffer auf den Eingangsanschluß 1 des Systems S 2 gegeben.
Das System S 2 weist im Eingangsteil eine erste Klemmdiode 3, die
zwischen dem Eingangsanschluß 1 und einem Anschluß 8 einer ersten
Spannungsversorgung liegt und eine an den Eingangsanschluß 1
angelegte Spannung auf einen vorbestimmten Spannungswert be
grenzt, für den Fall, daß die angelegte Spannung größer ist als
ein vorbestimmter Spannungswert, eine zweite Klemmdiode 4, die
zwischen dem Eingangsanschluß 1 und einem Anschluß 9 einer
zweiten Spannungsversorgung liegt und eine an den Eingangsan
schluß 1 angelegte Spannung auf einen vorbestimmten Wert
begrenzt, für den Fall, daß die angelegte Spannung kleiner ist
als ein vorbestimmter Spannungswert, einen Einangsschutzwider
tand 5, der zwischen einem Verbindungspunkt der Klemmdioden 3
und 4 und einem Inverter (Eingangspuffer) liegt, welcher einen
P-Kanal-MOS-Transistor 6 und einen N-Kanal-MOS-Transistor 7 zur
Abgabe, nach Invertierung, eines durch den Eingangsschutzwider
stand 5 erhaltenen Signals aufweist, auf. Ein Inverterausgang
wird über einen internen Ausgangsanschluß 2 an einen internen
Schaltkreis (nicht abgebildet) angelegt, so daß der interne
Schaltkreis auf ein angelegtes Signal reagiert. Das System S 1
erzeugt ein internes Versorgungspotential V CC als Reaktion auf
ein Versorgunspotential einer externen Spannungsversorgung V A .
Das Potential V CC wird als Betriebsversorgungspotential für das
System S 1 verwendet. Das System S 2 erhält ein Versorgungspoten
tial von einer externen Spannungsvesorgung V B am Spannungsver
sorgungsanschluß 8 und erzeugt dann das interne Spannungsversor
gungspotential V CC , welches als Betriebsversorgungspotential
verwendet wird. Unter der Annahme, daß das Potential V CC , welches
an den Anschluß 8 der ersten Spannungsversorgung angelegt wird,
ein positives Potential ist und ein Potential, welches an den
Anschluß 9 einer zweiten Spannungsversorgung angelegt wird, das
Massepotential im System S 2 ist, wird nun ein Betriebsfall
beschrieben. Das System S 2 arbeitet in Abhängikgeit von einem
Ausgangssignal des Systems S 1. In diesem Fall sei angenommen, daß
ein Betriebsversorgungspotential über die entsprechenden externen
Spannungsversorgungen V A und V B an die genannten Systeme S 1 und
S 2 gelegt wird. Die Eingangsklemmdiode 3 wirkt dann dahingehend,
daß die Eingangsspannung auf einen Wert "(Versorgungsspannung V CC
+V F )" begrenzt wird, wenn eine Überspannung, die größer als die
Versorgungsspannung V CC ist, an den Eingangsanschluß 1 des
Systems S 2 angelegt wird. V F bedeutet einen Vorwärtsspannungsab
fall in der Einangsklemmdiode 3. Andererseits wirkt die Ein
gangsklemmdiode 4 dahingehend, daß eine Eingangsspannung auf
einen Wert "(Massepotential -V F )" begrenzt wird, wenn an den
Eingangsanschluß 1 eine Spannung gelegt wird, die kleiner ist als
das Massepotential. Damit wird verhindert, daß eine Überspannung
an die Inverterstufe und den internen Schaltkreis gelangt.
Die vorstehende Beschreibung wurde unter der Annahme gemacht, daß
der Vorwärtsspannungsabfall beider Eingangsklemmdioden 3 und 4
gleichmäßig V F beträgt.
Eine herkömmliche Eingangsschutzschaltung in dem System S 2
arbeitet wie oben beschrieben. Damit kann eine Einangsschutz
funktion erzielt werden, wenjn eine Betriebsversorgungsspannung an
beide Systeme S 1 und S 2 angelegt wird. Dennoch könnte es gesche
hen, wenn z. B. das System S 1 ein Personal-Computer und das System
S 2 ein Drucker ist, der als externes Gerät arbeitet, daß die
Spannungsversorgung V A an das System S 1 angeschlossen ist,
während die Betriebsversorgungsspannung der externen Spannungs
versorgung V B nicht an das System S 2 angelegt ist. In diesem
Fall, d. h., wenn die Betriebsversorgungsspannung V CC nicht an den
Spannungsversorgungsanschluß 8 des Systems S 2 angelegt ist,
könnte der Fall eintreten, daß ein Signal mit High-Level vom
System S 1 an den Eingangssignalanschluß 1 angelegt wird. Dann
könnte der Strom vom Eingangsanschluß 1 an den Spannungsversor
gungsanschluß 8 über die Eingangsklemmdiode 3 weiterfließen, da
der Spannungsversorgungsanschluß 8 auf Low-Level liegt. In diesem
Zustand wird dann die Last groß für eine Spannungsversorgung
(d. h. eine Spannungsversorgung zum Bereitstellen des Betriebsver
sorgungspotentials des Systems S 1), die ein High-Level-Signal an
den Eingangsanschluß 1 liefert. Außerdem gab es Probleme
dahingehend, daß das Potential des Spannungsversorgungsan
schlusses 8 anstieg und die interne Schaltung des Systems S 2
irrtümlich durch das angestiegene Potential betrieben wurde, wenn
eine Eingangsimpedanz einer Spannungsversorgung, die das
Betriebsversorgungspotential an den Spannungsversorgungsanschluß
8 liefert, hoch ist. Deshalb gab es Probleme dahingehend, daß
eine Halbleiterschaltungseinrichtung mit einem Eingangschutz
kreis, der mit den herkömmlichen Eingangsklemmdioden aufgebaut
ist, nicht im Interfaceabschnitt eines Systems verwendet werden
kann.
Weiterhin kann, um die vorstehenden Mißverhältnisse zu vermei
den, ein Verfahren zum Aufbau des Eingangs-/Ausgangsteils mit
bipolaren Transistoren überlegt werden, aber in diesem Falle
werden Probleme insofern geschaffen, als die aufgenommene Lei
tung hoch ist.
Ein Aufbau einer Eingangsschutzschaltung mit den oben beschrie
benen Eingangsklemmdioden wird z. B. auf Seite 469 des "RCA Solid
Stat Q MOS Data Book" angegeben.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, den Nachteil einer Ein
gangsschutzschaltung mit den obenerwähnten herkömmlichen Ein
gangsklemmdioden zu beseitigen und unter Verwendung eines MOS-
Transistors eine Halbleiterschaltungseinrichtung mit einer
Eingangsschutzeinrichtung zu entwickeln, in welcher kein Strom
vom Eingangsanschluß zum Spannungsvesorgungsanschluß fließt,
selbst wenn das High-Level-Signal an den Eingangsanschluß gelegt
wird, während keine Spannung an den Spannungsversorgungsanschluß
gelegt ist.
Eine Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung gemäß vorliegender Erfindung weist einen Schalttransistor,
der zwischen einer Eingangsklemmdiode und einem Signaleingangs
anschluß liegt, auf, derart, daß die On-Off-Steuerung des
Schalttransistors in Abhängigkeit von einer Spannung erfolgen
kann, die an einen ersten Spannungsversorgungsanschluß angelegt
ist, um die Leitungs-/Sperrsteuerung eines Strompfades der
Eingangsklemmdiode, die zwischen dem ersten Spannungsversorgungs
anschluß und dem Signaleingangssanschluß liegt, zu steuern.
Eine Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung gemäß der Erfindung weist einen Schalttransistor auf, der
zwischen einer Eingangsklemmdiode und einem Signaleingangsan
schluß liegt, wobei der Schalttransistor in den Sperrzustand
getrieben wird, wenn an dem ersten Spannungsversorgungsanschluß
keine Spannung anliegt, so daß der Strompfad zwischen dem
Signaleingangsanschluß und dem ersten Spannungsversorgungsan
schluß unterbrochen ist, wodurch verhindert wird, daß ein Strom
von der Eingangsklemmdiode zum Spannungsversorgungsanschluß 8 in
den Fällen fließt, in denen das High-Level-Signal an den Ein
gangsanschluß gelegt ist, während an dem Spannungsversorguns
anschluß kein Spannungsversorgungspotential anliegt.
Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich
aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der
Figuren. Von den Figuren zeigt
Fig. 1 eine graphische Darstellung eines Beispiels für einen
Aufbau, der eine vorhandene Eingangsschutzeinrichtung
aufweist und auf ein Interface eines Systems angewendet
ist;
Fig. 2 eine graphische Darstellung, die in Beispiel für einen
Aufbau einer Eingangsschutzeinrichtung gemäß einer Aus
führungsform der Erfindung darstellt;
Fig. 3 eine Schnittansicht des Aufbaus einer Eingangsschutz
einrichtung gemäß Fig. 2;
Fig. 4 eine graphische Darstellung der Eingangs-/Ausgangs
spannungskennlinie eines CMOS-Inverters;
Fig. 5 eine graphische Darstellung des Aufbaus einer Eingangs
schutzeinrichtung einer anderen Ausführung der Erfin
dung.
Fig. 2 ist eine graphische Darstellung des Aufbaus einer Ein
gangsschutzschaltung einer Halbleiterschaltungeinrichtung gemäß
einer Ausführungsform der Erfindung, in welcher die gleichen
Bezugszeichen benutzt werden für gleiche oder entsprechende Teile
der vorhandenen Eingangsschutzschaltung gemäß Fig. 1.
Wie in Fig. 2 gezeigt, weist eine Eingangsschutzschaltung gemäß
der einen Ausführungsform der Erfindung einen P-Kanal-MOS-
Transistor 12, welcher zwischen einer Eingangsklemmdiode 3 zum
Begrenzen einer hohen Spannung und dem Eingangsanschluß 1 liegt,
und eine Steuerschaltung 20 zum Steuern des On-/Off-Betriebs des
P-Kanal-MOS-Transistors 12 in Abhängigkeit von der an den ersten
Spannungsversorgungsanschluß 8 anliegenden Spannung auf. Die
Steuerschaltung 20 weist einen über das Gate mit dem ersten
Spannungsvesorgungsanschluß 8 verbundenen P-Kanal-MOS-Transistor
10, bei dem sowohl ein leitender Anschluß als auch ein Substrat
(oder eine Senke) mit dem Eingangsanschluß 1 verbunden ist,
einen anderen, als Ausgabeabschnitt dienenden leitenden An
schluß, einen über das Gate mit dem ersten Spannungsversor
ungsanschluß 8 verbundenen N-Kanal-MOS-Transistor 11, bei dem
ein leitender Anschluß mit dem anderen leitenden Anschluß des
P-Kanal-MOS-Transistors 10 verbunden ist und sowohl der andere
leitende Anschluß als auch eine Senke (oder ein Substrat) mit
einem zweiten Versorgungspotential (einem Massepotential in
dieser Ausführungsform) verbunden ist, auf. Die andere Anord
nung ist die gleiche wie bei der in Fig. 1 gezeigten Eingangs
schutzschaltung.
Fig. 3 ist ein Diagramm, das eine Schnittanordnung zeigt, wenn
die in Fig. 2 gezeigte Eingangsschutzschaltung auf einen Ein
gangsabschnitt der komplementären integrierten MOS-Schaltung
mit einem P-Typ-Halbleitersubstrat angewandt ist. Bezugnehmend
auf Fig. 3 ist der in der Steuerschaltung 20 enthaltene P-Kanal-
MOS-Transistor 10 in einem Bereich einer N-Typ-Senke 14 a aus
gebildet, die auf der Oberfläche eines P-Typ-Substrates 13 ge
bildet ist. Genauer gesagt, der P-Kanal-MOS-Transistor 10 weist
diffundierte P-Typ-Störstellenbereiche (Source und Drain) 15 a,
die in der N-Senke 14 a gebildet sind, und eine Gate-Elektrode
22 a, die auf einer dünnen isolierenden Gate-Schicht 17 a gebil
det ist, auf. Ein diffundierter N-Typ-Störstellenbereich 15 a
zum Anlegen eines Senkenpotentiales auf die N-Typ-Senke 14 a
und der diffundierte P-Typ-Störstellenbereich 16 a sind mit dem
Signaleingangsanschluß 1 verbunden.
Der in der Steuerschaltung 20 enthaltene N-Kanal-MOS-Transistor
11 weist als eine Source und ein Drain ausgebildete diffun
dierte N-Typ-Störstellenbereiche 15 b und eine auf einer dünnen
isolierenden Gate-Schicht 17 b gebildete Gate-Elektrode 22 b auf.
Ein diffundierter P-Typ-Störstellenbereich 16 b ist elektrisch
mit dem P-Typ-Halbleitersubstrat 13 zum Anlegen eines Substrat
potentials verbunden. Einer der diffundierten N-Typ-Störstel
lenbereiche 15 b und des diffundierten P-Typ-Störstellenberei
ches 16 b des N-Kanal-MOS-Transistors 11 sind mit einem zweiten
Versorgungspotential durch einen Anschluß 9 verbunden. Ein als
Schalttransistor zum Steuern von Trennung/Leitung eines Strom
pfades der Eingangsklemmdiode 3 dienender P-Kanal-MOS-Transi
stor 12 ist in einer N-Senke 14 b gebildet. Genauer gesagt, der
P-Kanal-MOS-Transistor 12 weist eine Source und ein Drain bil
dende diffundierte P-Typ-Störstellenbereiche 16 c und eine auf
einer dünnen isolierenden Gate-Schicht 17 c gebildete Gate-
Elektrode 22 c auf.
Ein diffundierter N-Typ-Störstellenbereich 15 c ist für den
elektrischen Kontakt mit der N-Senke 14 b vorgesehen. Der dif
fundierte N-Typ-Störstellenbereich 15 c und einer der diffun
dierten P-Typ-Störstellenbereiche 16 c sind mit dem Signalein
gangsanschluß 1 verbunden. Die Eingangsklemmdiode 3 zum Hoch
spannungsklemmen ist in einer N-Senke 14 c gebildet. Genauer
gesagt, sie weist einen diffundierten P-Typ-Störstellenbereich
16 d, der eine Anode bildet, und einen diffundierten N-Typ-Stör
stellenbereich 15 d, der eine Kathode bildet, auf. Der diffun
dierte P-Typ-Störstellenbereich 16 d ist mit dem anderen dif
fundierten P-Typ-Störstellenbereich 16 c des P-Kanal-MOS-Tran
sistors 12 verbunden. Der diffundierte N-Typ-Störstellenbereich
15 d ist elektrisch mit dem ersten Spannungsversorgungsanschluß
8 und auch mit der N-Senke 14 c verbunden. Die Eingangsklemm
diode 4 zum Niederspannungsklemmen ist auf einem diffundierten
N-Typ-Störstellenbereich 15 e gebildet. Die Eingangsklemmdiode
4 weist den diffundierten N-Typ-Störstellenbereich 15 e und das
P-Typ-Halbleitersubstrat 13 auf. Die diffundierte N-Typ-Störstel
lenbereich 15 e ist mit dem Signaleingangsanschluß 1 verbunden.
Der Eingangsschutzwiderstand 5 ist unter Benutzung von Poly
silizium gebildet.
Der P-Kanal-MOS-Transistor 6 eines einen Eingangspuffer bil
denden Inverters ist in einer N-Senke 14 d gebildet. Genauer
gesagt, der P-Kanal-MOS-Transistor 6 weist als eine Source und
ein Drain ausgebildete diffundierte P-Typ-Störstellenbereiche
16 f und eine auf einer dünnen isolierenden Gate-Schicht 17 f
gebildete Gate-Elektrode 22 f auf. Ein diffundierter N-Typ-Stör
stellenbereich 15 f ist zum Herstellen von elektrischem Kontakt
mit der N-Senke 14 a vorgesehen. Einer der diffundierten P-Typ-
Störstellenbereiche 16 f und der diffundierte N-Typ-Störstellen
bereich 15 f sind mit dem ersten Spannungsversorgungsanschluß
8 verbunden. Der andere diffundierte P-Typ-Störstellenbereich
16 f ist mit dem Ausgangsanschluß 2 verbunden.
Der N-Kanal-MOS-Transistor 7 der Inverterstufe weist diffun
dierte P-Typ-Störstellenbereiche 15 g und eine auf einer dünnen
isolierenden Gate-Schicht 17g gebildete Gate-Elektrode 22 g auf.
Ein diffundierter N-Typ-Störstellenbereich 16 g ist ebenfalls
zum Herstellen von elektrischem Kontakt mit dem Halbleitersub
strat 13 vorgesehen. Einer der diffundierten P-Typ-Störstel
lenbereiche 15 g ist mit dem Ausgangsanschluß 2 verbunden. Der
andere diffundierte P-Typ-Störstellenbereich 15 g und der dif
fundierte N-Typ-Störstellenbereich 16 g sind mit z. B. einem
Massepotential durch den zweiten Spannungsversorgungsanschluß
9 verbunden. Ein Bezugszeichen 17 bezeichnet eine dünn iso
lierende Zwischenschicht und ein Bezugszeichen 18 bezeichnet
eine z. B. aus Aluminium gebildete Elektrode.
Hierin ist ein P-Typ-Halbleitersubstrat zum Verbinden eines
Substrates (d. h. einer Senke 14 a) und eines leitenden Anschlus
ses des in der Steuerschaltung 20 enthaltenen P-Kanal-MOS-Transi
stors 10 mit dem Signaleingangsanschluß 1 benutzt. Eine Ein
gangsschutzschaltung in einer integrierten CMOS-Schaltung mit
den gewünschten Betriebseigenschaften kann auf diese Weise an
geordnet sein. Als nächstes wird unter Bezugnahme auf Fig. 2
eine Tätigkeit einer erfindungsgemäßen Eingangsschutzschaltung
beschrieben.
Nun wird die Beschreibung für den Fall durchgeführt, in dem
das positive Versorgungspotential V CC an den ersten Spannungs
versorgungsanschluß 8 angelegt ist. Zu dieser Zeit ist der P-
Kanal-MOS-Transistor 10 in einem Aus-Zustand, und der N-Kanal-
MOS-Transistor 11 ist in der Steuerschaltung 20 in einem Ein-
Zustand, so daß ein Signal des Low-Levels von der Steuerschal
tung 20 zum Anlegen an das Gate des P-Kanal-MOS-Transistors
12 erzeugt ist. Somit wird der P-Kanal-MOS-Transistor 12 in
ein Ein-Zustand gebracht. Daher kann eine Eingangsspannung
auf den Pegel von "(V CC + V +V TH )" durch die Eingangsklemm
diode 3 gebracht werden, selbst wenn eine Überspannung, die
höher als die Versorgungsspannung V CC ist, an den Signalein
gangsanschluß 1 angelegt ist, wenn das Betriebsversorgungspo
tential V CC an den ersten Spannungsversorgungsanschluß 8 ange
legt ist. Das Bezugszeichen V F stellt einen Vorwärtspotential
abfall an der Klemmdiode 3 dar, und V TH stellt eine Schwell
wertspannung des P-Kanal-MOS-Transitors 12 dar. Ebenfalls wird
eine Eingangsspannung auf dem Pegel von "(ein Massepotential -
V F )" durch die Eingangsklemmdiode 4 geklemmt in dem Fall, daß
eine Spannung niedriger als ein Massepotential an den Signal
eingangsanschluß 1 angelegt ist, wenn das Versorgungspotential
V CC an den ersten Spannungsversorgungsanschluß 8 angelegt ist.
Daher kann die Eingangsspannung auf einem vorbestimmten Poten
tial geklemmt werden, selbst wenn eine Überspannung angelegt
ist, unter der Bedingung, daß das Betriebsversorgungspotential
V CC an den ersten Spannungsversorgungsanschluß 8 angelegt ist.
Als nächstes wird eine Beschreibung für den Fall durchgeführt,
in dem das Betriebsversorgungspotential V CC nicht an den Span
nungsversorgungsanschluß 8 angelegt ist, und der Spannungsver
sorgungsanschluß 8 auf dem Low-Level liegt. Der Fall, in dem
unter solcher Bedingung das Signal eines High-Levels von einem
externen System an den Signaleingangsanschluß 1 angelegt ist,
wird jetzt beschrieben. In diesem Zustand ist der P-Kanal-MOS-
Transistor 10 in einem Ein-Zustand, und der N-Kanal-MOS-Transi
stor 11 ist in einem Aus-Zustand in dem Steuerkreis 20, und
folglich ist der P-Kanal-MOS-Transistor 12 in einem Aus-Zu
stand. Daher kann ein Strom nicht von dem Signaleingangsan
schluß 1 zu dem Spannungsversorgungsanschluß 8 fließen, selbst
wenn das Signal auf dem High-Level an den Signaleingangsan
schluß 1 in diesem Zustand angelegt ist, da ein Strompfad von
dem Signaleingangsanschluß 1 zu dem ersten Spannungsversor
gungsanschluß 8 durch die Eingangsklemmdiode 3 abgeschnitten
ist.
Es könnte ein Fall betrachtet werden, in dem eine von dem ex
ternen System an den Signaleingangsanschluß 1 angelegte Span
nung einen Spannungsstoß enthält, wenn eine Spannung nicht an
den Spannungsversorgunsanschluß 8 angelegt ist, d. h., der
Spannungsversorgungsanschluß 8 ist auf dem Low-Level. In diesem
Fall tritt in dem in der Steuerschaltung 20 enthaltenen MOS-
Transistor 11 eine Durchschlagsspannunmg auf, und der MOS-Tran
sistor 12 wird in den Ein-Zustand als Reaktion auf ein Signal
von der Steuerschaltung 20 gebracht, und in jedem Fall ist es
möglich, den Spannungsstoß zu absorbieren.
Eine Beschreibung wird für eine Einschwingtätigkeit gegeben,
für den Fall, daß ein Spannungsstoß angelegt ist, wenn das Be
triebsversorgungspotential V CC an den Spannungsversorgungsan
schluß 8 angelegt ist. Es sei angenommen, daß die MOS-Transi
storen 10 und 11 von der gleichen Größe gebildet sind.
Normalerweise sind die Eigenschaften der Eingangsspannung und
der Ausgangsspannung eines MOS-Inverters wie in Fig. 4 gezeigt
ist. Genauer gesagt, eine Eingangsschwellwertspannung eines
CMOS-Inverters ist auf die Hälfte eines Betriebsversorgunspo
tentiales V D gesetzt. Daher ist der P-Kanal-MOS-Transistor 12
in den Aus-Zustand gebracht, wenn das Betriebsversorgungspo
tential V CC an den Spannungsversorgungsanschluß 8 angelegt ist,
und eine Spitzenspannung höher als 2 V CC ist an den Signalein
gangsanschluß 1 angelegt, da das Betriebsversorgunspotential
V CC , das an den Spannungsversorgungsanschluß 8 angelegt ist,
als ein Eingangssignal des Low-Levels durch einen Inverter der
Steuerschaltung 20 bestimmt wird, wie von den Eingangs-/Aus
gangsspannungseigenschaften in Fig. 4 gesehen werden kann. In
diesem Zustand tritt jedoch in dem in der Steuerschaltung 20
enthaltenen MOS-Transistor 11 ein Spannungsdurchbruch auf, so
daß eine Spitzenspannung durch den zweiten Spannungsversor
gunsanschluß 9 absorbiert wird.
Wenn andererseits ein Signal niedriger als das Betriebsversor
gungspotential 2 V CC in diesem Zustand an den Signaleingangs
anschluß 1 angelegt ist, wird der P-Kanal-MOS-Transistor 12
leitend, da das Betriebsversorgungspotential V CC als auf dem
High-Level befindlich bestimmt wird durch den Inverter der
Steuerschaltung 20, und in einem solchen Zustand wird Klemmen
an einem Eingangssignal durch die Klemmdiode 3 bewirkt.
Eine logische Schwellwertspannung des in der Steuerschaltung
20 enthaltenen Inverters kann auf einen gewünschten Wert durch
geeignetes Auswählen der Größe der Transistoren 10 und 11 ge
setzt werden (Verhältnis der Ein-Widerstände oder Verhältnis
der Gate-Längen und der Gate-Breiten), und eine Eingangsschutz
schaltung, die einen Spannungsstoß bestimmt absorbieren kann,
kann eingesetzt werden.
Obwohl in der obigen Ausführungsform ein Fall, bei dem ein Ein
gangspuffer aus einem einstufigen Inverter gebildet ist, be
schrieben wurde, gibt es ebenfalls den Fall, in dem ein Ein
gangspuffer aus zweistufigen Invertern gebildet ist. Die er
findungsgemäße Einrichtung ist auch auf solche Fälle anwendbar.
Fig. 5 ist ein Diagramm, das eine Struktur einer Eingangs
schutzschaltung einer anderen erfindungsgemäßen Ausführungsform
darstellt. Bezugnehmend auf Fig. 5 wird eine Struktur und ein
Betrieb einer anderen erfindungsgemäßen Ausführungsform nun
beschrieben.
Die in Fig. 5 gezeigte Eingangsschutzschaltung weist einen aus
zweistufigen Invertern gebildeten Eingangspuffer auf. Das
heißt, der Eingangspuffer weist einen ersten Inverter mit dem
P-Kanal-MOS-Transistor 6 und dem N-Kanal-MOS-Transistor 7 und
einen zeiten Inverter mit einem P-Kanal-MOS-Transistor 31 und
einem N-Kanal-MOS-Transistor 32 auf.
Der P-Kanal-MOS-Transistor 31 ist über ein Gate mit einem Aus
gangsabschnitt C des ersten Inverters verbunden, ist mit einem
leitenden Anschluß und einem Substrat (oder einer Senke) mit
dem ersten Spannungsversorgungsanschluß 8 verbunden und mit
dem anderen leitenden Anschluß mit dem internen Ausgangsan
schluß 2 verbunden. Der N-Kanal-MOS-Transistor 32 ist mit einem
Gate mit dem Ausgang C des ersten Inverters verbunden, ist mit
einem leitenden Anschluß mit dem Ausgangsanschluß 2 verbunden
und mit dem anderen leitenden Anschluß und einem Substrat (oder
einer Senke) mit dem zweiten Spannungsversorgungsanschluß 9
verbunden.
Die Anordnung der zweistufigen Inverter ist derartig, daß ein
Signal in Phase mit dem an den Signaleingangsanschluß 1 ange
legten Signal an den Ausgangsanschluß 2 angelegt wird.
Damit der Strompfad zwischen dem Signaleingangsanschluß 1 und
der Eingangsklemmdiode 3 für Hochspannung als Reaktion auf die
an den ersten Spannungsversorgungsanschluß 8 angelegte Spannung
leitend gemacht wird oder unterbrochen wird, ist der N-Kanal-
MOS-Transistor 33 zwischen dem Signaleingangsanschluß 1 und
der Eingangsklemmdiode 3 vorgesehen. Der N-Kanal-MOS-Transistor
33 ist über ein Drain mit dem Signaleingangsanschluß 8 und über
sowohl eine Source als auch ein Substrat (oder eine Senke) mit
der Anode der Eingangsklemmdiode 3 und mit einem Anschluß des
Eingangsschutzwiderstandes 5 verbunden.
Damit zusätzlich der auf das Eingangssignal durch eine Schwell
wertspannung V TH des N-Kanal-MOS-Transitors 33 ausgeübte Ein
fluß beseitigt wird, sind ein Verbindungspunkt A (der Ausgang
des zweiten Inverters) und ein Verbindungspunkt B (ein Anschluß
des Widerstandes 5) durch einen Leiter 34 verbunden. Als näch
stes wird der Betrieb beschrieben.
Zuerst wird der Fall beschrieben, in dem ein positives Quellen
potential V CC an den ersten Spannungsversorgungsanschluß 8 an
gelegt ist. Zu der Zeit ist der N-Kanal-MOS-Transistor 33 in
einem Ein-Zustand. Wenn daher das Signal auf einem High-Level
an den Signaleingangsanschluß 1 angelegt ist, geht die Spannung
V D des Gates (Verbindungspunkt D) der MOS-Transistoren 6 und
7 ebenfalls auf den High-Level. Wenn jedoch die Spannung V IN
des an den Signaleingangsanschluß 1 angelegten Signales und
das erste Spannungsvesorgungspotential V CC die Beziehung
V IN = V CC
erfüllen, wird der Pegel der an das Gate (Verbindungspunkt D)
der MOS-Transistoren 6 und 7 angelegten Spannung nie höher als
der Wert von V CC - V TH . Hier stellt V TH die Schwellwertspannung
des Transistors 33 dar. In solchem Fall muß ein Spannungsabfall
aufgrund der Schwellwertspannung V TH des MOS-Transistors 33
durch Rückführen des Spannungspegels an den Knotenpunkt A zu
rück zu dem Knotenpunkt B mit Hilfe eines Leiters 34 kompen
siert werden, da ein zu dem Ausgangsanschluß 2 überführter Si
gnalpegel instabil werden könnte. Als Resultat kann der Pegel
der an die Gates (Verbindunspunkt D) der MOS-Transistoren 6
und 7 angelegten Spannung V D auf den Pegel der Versorgungsspan
nung V CC gesetzt werden.
Wenn ein übermäßiger Spannungsstoß größer als das Versorgungs
potential V CC an den Signaleingangsanschluß 1 angelegt ist,
verursacht der MOS-Transitor 33 einen Spannungsdurchbruch, und
als Resultat kann ein Spannungsstoß durch die Klemmdiode 3
herausgezogen werden.
Wenn dann das Signal auf dem Low-Level an den Signaleingans
anschluß 1 angelegt ist, geht die Gate-Spannung V D der MOS-
Transistoren 6 und 7 ebenfalls auf den Low-Level. Wenn jedoch
die Spannung V IN des Eingangssignales gleich dem Massepotential
V GND ist, wird der Pegel der an das Gate (Verbindungspunkt D)
der MOS-Transistoren 6 und 7 angelegten Spanung V D niemals
niedriger als der Wert von
V GND + V TH .
Auch in diesem Fall könnte der zu dem Ausgangsanschluß 2 über
tragene Signalpegel unstabil werden. Ein Einfluß der Schwell
wertspannung V TH des MOS-Transistors 33 wird durch Rückkoppeln
der Spannung des Verbindungspunktes A zu dem Verbindungspunkt B
durch den Leiter 34 beseitigt, und als Resultat kann die an
die Gates (Verbindungspunkt D) der MOS-Transistoren 6 und 7
angelegte Spannung V D auf das Massepotential V GND reduziert
werden.
Wenn ein übermäßiger Spannungsstoß geringer als das Massepo
tential V GND an den Signaleingangsanschluß 1 angelegt ist, kann
der Stoß durch die Klemmdiode 4 herausgezogen werden.
Als nächstes wird der Fall beschrieben, in dem das Versorguns
potential V CC nicht an den ersten Spannungsversorgungsanschluß
angelegt ist, d. h., der Spannungspegel auf dem Spannungsver
sorgungsanschluß 8 ist auf dem Low-Level. Zu dieser Zeit ist
der MOS-Transistor 33 in einem Aus-Zustand, und der Strompfad
zwischen der Eingangsklemmdiode 3 und dem Signaleingangsan
schluß 1 ist unterbrochen. Selbst wenn daher das Signal auf dem
High-Level an den Signaleingangsanschluß 1 angelegt ist, wenn
das Versorgungspotential V CC nicht an dem Spannungsversorgungs
anschluß 8 angelegt ist, fließt nie ein Strom durch die Klemm
diode 3 hinein.
Wenn weiterhin ein Spannungsstoß in diesem Zustand an den Si
gnaleinangsanschluß 1 angelegt ist, kann eine Stoßspannung
durch die Klemmdiode 3 durch den Spannungsdurchbruch des MOS-
Transistors 33 herausgezogen werden, wenn er größer als das
Versorgungspotential V CC ist, und eine Stoßspannung kann durch
die Klemmdiode 4 herausgezogen werden, wenn ein Stoß geringer
als das Massepotential V CC angelegt ist.
Obwohl in der obigen Ausführungsform ein Fall als Beispiel be
schrieben ist, in dem eine Eingangsschutzschaltung vorgesehen
ist in einem Eingangsabschnitt einer komplementären, integrier
ten MOS-Schaltung, kann der gleiche Effekt wie bei der obigen
Ausführungsform erzielt werden, wenn eine erfindungsgemäße Ein
gangsschutzschaltung auf einen anderen Typ einer integrierten
Halbleiterschaltung, wie etwa PMOS, NMOS oder Bi-CMOS als in
tegrierte Schaltungen angewendet wird, solange eine integrierte
Schaltung eine Eingangsschutzschaltung mit einer Eingangsklemm
diode aufweist.
Obwohl in der obigen Ausführungsform ein Fall beschrieben ist,
in dem Polysilizium als Eingangsschutzwiderstand 5 benutzt ist,
kann er zusätzlich unter Benutzung eines diffundierten Gebietes
mit dem gleichen Effekt gebildet werden wie bei der obigen Aus
führungsform.
Wie im vorhergehenden beschrieben ist, wird ein Strompfad zu
einem Signaleingangsanschluß und einem Spannungsversorgungsan
schluß erfindungsgemäß unterbrochen, wenn ein Versorgungspoten
tial nicht angelegt ist, so daß Stromfluß von einem Signalein
gangsanschluß zu einem Spannungsversorgungsanschluß verhindert
werden kann, selbst wenn ein Signal eines High-Levels an den
Signaleingangsanschluß in diesem Zustand angelegt ist, so daß
eine Halbleiterschaltungseinrichtung mit einer Eingangsschutz
schaltung mit einer Eingangsklemmdiode in einem Schnittstellen
abschnitt eines Systemes benutzt werden kann.
Claims (9)
1. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung mit
einem Signaleingangsanschluß (1),
einem ersten und einem zweiten Spannungsversorgungsanschluß (8 bzw. 9), von denen jeder eine Anode und eine Kathode hat,
einer ersten Klemmdiode (3) zwischen dem ersten Spannnungsversor gungsanschluß (8) und dem Signaleingangsanschluß (1),
einer zweiten Klemmdiode (4) zwischen dem zweiten Spannungsver sorgungsanschluß (9) und dem Signaleingangsanschluß (1),
gekennzeichnet durch eine Einrichtung (12, 20 bzw. 33) zwischen der ersten Klemmdiode (3) und dem Signaleingangsanschluß (1) zum Reagieren auf die Höhe der Spannung, die an dem ersten Spannungs versorgungsanschluß (8) angelegt ist, zum wahlweisen Unterbrechen eines Strompfades zwischen der ersten Klemmdiode (3) und dem Signaleingangsanschluß (1).
einem Signaleingangsanschluß (1),
einem ersten und einem zweiten Spannungsversorgungsanschluß (8 bzw. 9), von denen jeder eine Anode und eine Kathode hat,
einer ersten Klemmdiode (3) zwischen dem ersten Spannnungsversor gungsanschluß (8) und dem Signaleingangsanschluß (1),
einer zweiten Klemmdiode (4) zwischen dem zweiten Spannungsver sorgungsanschluß (9) und dem Signaleingangsanschluß (1),
gekennzeichnet durch eine Einrichtung (12, 20 bzw. 33) zwischen der ersten Klemmdiode (3) und dem Signaleingangsanschluß (1) zum Reagieren auf die Höhe der Spannung, die an dem ersten Spannungs versorgungsanschluß (8) angelegt ist, zum wahlweisen Unterbrechen eines Strompfades zwischen der ersten Klemmdiode (3) und dem Signaleingangsanschluß (1).
2. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung
zum wahlweisen Abschalten (12, 20) eine Schalteinrichtung (12)
zwischen der ersten Klemmdiode (3) und dem Signaleingangsanschluß
(1) und
eine Einrichtung (20), die auf eine an den ersten Spannungsver
sorgungsanschluß (1) angelegte Spannung reagiert, zum Steuern des
On/Off-Betriebs der Schalteinrichtung (12) aufweist.
3. Einangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuer
einrichtung (20) die Schalteinrichtung (12) in den Off-Zustand
steuert, wenn keine Spanunung an dem ersten Spannungsversorgungs
anschluß (8) anliegt.
4. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Steuereinrichtung (20) die Schalteinrichtung (12) in den Off-
Zustand bringt, falls eine Spannung an den ersten Spannungs
versorgungsanschluß (8) angelegt ist und wenn die Spannung, die
an den Eingangsanschluß (1) angelegt ist, höher ist als die mit
einem vorgegebenen Wert multiplizierte, an den Spannungsversor
gungsanschluß (8) angelegte Spannung, und die Schalteinrichtung
(12) in den On-Zustand bringt, wenn die mit einem vorgegebenen
Wert Multiplizierte, an den Einangsanschluß (1) angelegte Span
nung niedriger ist als die an den Spannungsversorgungsanschluß
(8) angelegte Spannung.
5. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Steuereinrichtung (20) einen über das Gate mit dem ersten
Spannungsversorgungsanschluß (8) verbundenen MOS-Transistor (10)
eines ersten Leitfähigkeitstyps, dessen einer leitender Anschluß
mit dem Eingangsanschluß (1) verbunden ist und dessen anderer
leitender Anschluß als Ausgangsteil dient, wobei das Substrat des
ersten MOS-Transistors an den Signaleingangsanschluß gekoppelt
ist, und einen über das Gate mit dem ersten Spannungsversorgungs
anschluß (8) verbundenen MOS-Transistor (11) eines zweiten Leit
fähigkeitstyps, dessen einer leitender Anschluß mit dem anderen
leitenden Anschluß des ersten MOS-Transistors und dessen anderer
leitender Anschluß mit dem zweiten Spannungsversorgungsanschluß
(9) verbunden ist, aufweist.
6. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schalteinrichtung (12) einen dritten MOS-Transistor (12)
des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist.
7. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die erste
Klemdiode (3) eine Anode und eine mit dem ersten Spannungsver
sorgungsanschluß (8) verbundene Kathode aufweist und daß vom
dritten MOS-Transistor (12) ein leitender Anschluß mit der Anode
der ersten Klemmdiode (3) und der andere leitende Anschluß und
das Substrat mit dem Signaleingangsanschluß (1) verbunden sind
und das Gate ein Ausgangssignal von der Steuereinrichtung (20)
erhält.
8. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Wider
standselement (5) vorgesehen ist, dessen einer Anschluß mit dem
Eingangsanschluß (1) verbunden ist, daß die Einrichtung zum wahl
weisen Abschalten einen fünften MOS-Transistor (33) aufweist,
dessen einer leitende Anschluß mit dem Signaleingangsanschluß (1)
und der Kathode der zweiten Klemmdiode (4) verbunden ist, dessen
anderer leitende Anschluß mit der Anode der ersten Klemmdiode (3)
und dem einen Anschluß des Widerstandselements (5) verbunden ist
und dessen Gate mit dem ersten Spannungsversorgungsanschluß (8)
verbunden ist, wobei das Substrat des fünften Transistors (33)
mit der Anode der ersten Klemmdiode (3) und dem einen Anschluß
des Widerstandselements (5) verbunden ist.
9. Eingangsschutzeinrichtung einer Halbleiterschaltungseinrich
tung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiter
einrichtung einen Eingangspuffer (6, 7, 31, 32) zur Abgabe eines
gepufferten Signals an eine interne Schaltung der Halbleiterein
richtung aufweist und der andere Anschluß des Widerstandselements
(5) mit dem Eingangsteil des Eingangspuffers verbunden ist,
wobei der Puffer ein Signal abgibt, das mit einem an den Signal
eingangsanschluß (1) angelegten Signal in Phase ist, und daß die
Eingangsschutzeinrichtung weiterhin einen Leiter (34) zur Rück
kopplung des Eingangspufferausgangs auf den einen Anschluß des
Widerstandselements (5) aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62184328A JPH0748652B2 (ja) | 1987-07-23 | 1987-07-23 | 半導体回路装置の入力保護装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3738333A1 true DE3738333A1 (de) | 1989-02-02 |
DE3738333C2 DE3738333C2 (de) | 1992-02-13 |
Family
ID=16151397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19873738333 Granted DE3738333A1 (de) | 1987-07-23 | 1987-11-11 | Eingangsschutzeinrichtung einer halbleiterschaltungseinrichtung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4858055A (de) |
JP (1) | JPH0748652B2 (de) |
DE (1) | DE3738333A1 (de) |
NL (1) | NL189690C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0385581A1 (de) * | 1989-02-16 | 1990-09-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | Überspannungsschutzsystem |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1227104B (it) * | 1988-09-27 | 1991-03-15 | Sgs Thomson Microelectronics | Circuito integrato autoprotetto da inversioni di polarita' della batteria di alimentazione |
US4930036A (en) * | 1989-07-13 | 1990-05-29 | Northern Telecom Limited | Electrostatic discharge protection circuit for an integrated circuit |
US5032742A (en) * | 1989-07-28 | 1991-07-16 | Dallas Semiconductor Corporation | ESD circuit for input which exceeds power supplies in normal operation |
JPH0734476B2 (ja) * | 1989-10-23 | 1995-04-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体集積回路 |
US5256919A (en) * | 1990-06-05 | 1993-10-26 | Heikka Marttila Oy | Method for preventing the oscillation of an RF power module |
JPH0465878A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-02 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
JPH04370629A (ja) * | 1991-06-19 | 1992-12-24 | Toshiba Corp | 偏向ヨーク装置 |
GB9115699D0 (en) * | 1991-07-19 | 1991-09-04 | Philips Electronic Associated | An overvoltage protected semiconductor switch |
US5401997A (en) * | 1992-01-22 | 1995-03-28 | Integrated Device Technology, Inc. | ESD protection for poly resistor on oxide |
JP3318774B2 (ja) * | 1992-06-29 | 2002-08-26 | ソニー株式会社 | 半導体装置および固体撮像装置 |
KR0111811Y1 (ko) * | 1994-12-30 | 1998-10-01 | 이형도 | 전압 클립퍼 회로 |
JP2874583B2 (ja) * | 1995-02-10 | 1999-03-24 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の入力保護回路 |
US5864254A (en) * | 1995-04-11 | 1999-01-26 | Rohm Co., Ltd. | Differential amplifier circuit with enlarged range for source voltage and semiconductor device using same |
JP3351171B2 (ja) * | 1995-04-13 | 2002-11-25 | トヨタ自動車株式会社 | コンデンサ容量診断回路 |
US5745323A (en) * | 1995-06-30 | 1998-04-28 | Analog Devices, Inc. | Electrostatic discharge protection circuit for protecting CMOS transistors on integrated circuit processes |
US5903184A (en) * | 1995-12-19 | 1999-05-11 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device having protection circuit |
US5751525A (en) * | 1996-01-05 | 1998-05-12 | Analog Devices, Inc. | EOS/ESD Protection circuit for an integrated circuit with operating/test voltages exceeding power supply rail voltages |
US6064093A (en) | 1996-03-29 | 2000-05-16 | Citizen Watch Co., Ltd. | Protection circuit with clamping feature for semiconductor device |
US5739998A (en) * | 1996-07-12 | 1998-04-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Protective circuit and semiconductor integrated circuit incorporating protective circuit |
US5917689A (en) * | 1996-09-12 | 1999-06-29 | Analog Devices, Inc. | General purpose EOS/ESD protection circuit for bipolar-CMOS and CMOS integrated circuits |
US5838146A (en) * | 1996-11-12 | 1998-11-17 | Analog Devices, Inc. | Method and apparatus for providing ESD/EOS protection for IC power supply pins |
US5966038A (en) * | 1997-12-15 | 1999-10-12 | Motorola, Inc. | Circuit with overvoltage protection |
FR2782581B1 (fr) * | 1998-08-18 | 2000-09-22 | St Microelectronics Sa | Dispositif de protection contre les decharges electrostatiques |
US6288590B1 (en) * | 1999-05-21 | 2001-09-11 | Intel Corporation | High voltage protection input buffer |
WO2001031707A1 (en) * | 1999-10-26 | 2001-05-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Semiconductor device including an integrated esd protection field effect device |
JP2002023902A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US6348820B1 (en) * | 2000-07-17 | 2002-02-19 | Motorola, Inc. | High-side, low-side configurable driver |
FR2813439B1 (fr) * | 2000-08-30 | 2003-01-31 | St Microelectronics Sa | Circuit integre muni d'une protection contre les decharges electrostatiques |
AU2003244420A1 (en) * | 2002-02-06 | 2003-09-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Input stage resistant against high voltage swings |
US7057450B2 (en) * | 2003-07-30 | 2006-06-06 | Winbond Electronics Corp. | Noise filter for an integrated circuit |
TWI257165B (en) * | 2003-10-28 | 2006-06-21 | Sunplus Technology Co Ltd | Electrostatic discharge protection device |
US7151400B2 (en) * | 2004-07-13 | 2006-12-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Boost-biased level shifter |
CN100412754C (zh) * | 2004-12-17 | 2008-08-20 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电源电压产生电路 |
CN100389373C (zh) * | 2004-12-25 | 2008-05-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电源电压产生电路 |
CN100438250C (zh) * | 2005-03-05 | 2008-11-26 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电子元件断电保护电路 |
JP4506624B2 (ja) * | 2005-09-07 | 2010-07-21 | 株式会社村田製作所 | 被測定デバイスの測定装置及び測定方法 |
JP5041760B2 (ja) * | 2006-08-08 | 2012-10-03 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置 |
EP2023392A1 (de) * | 2007-08-08 | 2009-02-11 | STMicroelectronics S.r.l. | Integrierte Schaltung mit Vorrichtung zum Schutz vor elektrostatischen Entladungen |
JP2018032981A (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
JP2020150575A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | セイコーエプソン株式会社 | 駆動制御装置、駆動回路および移動体 |
FR3095560B1 (fr) * | 2019-04-26 | 2021-12-03 | St Microelectronics Rousset | Association de transistors en série |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3615690A1 (de) * | 1985-05-13 | 1986-11-13 | Sgs Microelettronica S.P.A., Catania | Integriertes, dynamisches schutzelement, insbesondere fuer eingaenge in mos-technologie von integrierten schaltungen |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3947727A (en) * | 1974-12-10 | 1976-03-30 | Rca Corporation | Protection circuit for insulated-gate field-effect transistors |
US4131928A (en) * | 1977-06-24 | 1978-12-26 | Motorola, Inc. | Voltage clamp device for monolithic circuits |
US4220876A (en) * | 1978-08-17 | 1980-09-02 | Motorola, Inc. | Bus terminating and decoupling circuit |
US4476476A (en) * | 1979-04-05 | 1984-10-09 | National Semiconductor Corporation | CMOS Input and output protection circuit |
US4282556A (en) * | 1979-05-21 | 1981-08-04 | Rca Corporation | Input protection device for insulated gate field effect transistor |
US4567500A (en) * | 1981-12-01 | 1986-01-28 | Rca Corporation | Semiconductor structure for protecting integrated circuit devices |
JPS61156854A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-16 | Mitsubishi Electric Corp | 相補型mos半導体装置の入力保護回路 |
JPS61218143A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPS61230352A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-14 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路 |
JPS61245562A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-10-31 | Hitachi Ltd | 静電波壊防止回路 |
US4728826A (en) * | 1986-03-19 | 1988-03-01 | Siemens Aktiengesellschaft | MOSFET switch with inductive load |
US4736271A (en) * | 1987-06-23 | 1988-04-05 | Signetics Corporation | Protection device utilizing one or more subsurface diodes and associated method of manufacture |
-
1987
- 1987-07-23 JP JP62184328A patent/JPH0748652B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-29 NL NLAANVRAGE8702576,A patent/NL189690C/xx not_active IP Right Cessation
- 1987-11-11 DE DE19873738333 patent/DE3738333A1/de active Granted
- 1987-12-08 US US07/132,648 patent/US4858055A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3615690A1 (de) * | 1985-05-13 | 1986-11-13 | Sgs Microelettronica S.P.A., Catania | Integriertes, dynamisches schutzelement, insbesondere fuer eingaenge in mos-technologie von integrierten schaltungen |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
RCA Solid State Q Mos Data Book, 1985, S. 469 * |
Thibodeaux, Ernie: "Getting the most out of C-MOS devices for analog switching jobs". In: Electronics, 1975, Bd. 48, H. 26, S.69-74 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0385581A1 (de) * | 1989-02-16 | 1990-09-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | Überspannungsschutzsystem |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL189690C (nl) | 1993-06-16 |
NL8702576A (nl) | 1989-02-16 |
NL189690B (nl) | 1993-01-18 |
JPS6429018A (en) | 1989-01-31 |
US4858055A (en) | 1989-08-15 |
JPH0748652B2 (ja) | 1995-05-24 |
DE3738333C2 (de) | 1992-02-13 |
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