DE3511141C2 - - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung nach
dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Ionenstrahl-Materialbearbeitungsanlagen sind prinzipiell bekannt
und werden z. B. zum Ionenstrahlätzen und z. B. zum Auftragen
bzw. Beschichten benutzt. Beim Ionenstrahlätzen läßt man die Ionenstrahlung
direkt auf die zu bearbeitende Probe, z. B. ein mit
einer Ätzmaske bedecktes Halbleiterchip, auftreffen. Beim
Auftragen bzw. Beschichten wird mit Hilfe der Ionenstrahlung Material von
einem in diese Strahlung hineingestellten Target abgetragen
und es sind Vorkehrungen getroffen, daß sich dieses abgetragene
Material auf der Probe abscheidet. Aus R. A.: Powell,
"Dry Etching For Microelectronics" Verlag North Holland
Physics Publishing (1984) gehen weitere Einzelheiten hervor
und es sei speziell auf Seite 120, Fig. 5 und auf Seite 137,
Fig. 13 hingewiesen.
Zur Neutralisation der Ladung des Ionenstrahls, nämlich um
nachteilige Aufweitung desselben zu vermeiden, ist als
Neutralisationseinrichtung in der Anlage eine Elektronenquelle
angeordnet, deren emittierte Elektronen der
Ionenstrahlung beigemengt werden.
Im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung ist festgestellt
worden, daß die bekannten Ionenstrahl-Materialbearbeitungsanlagen
in bisher gewissermaßen als Extremfälle angesehenen
Anwendungen noch nicht zufriedenstellend arbeiten.
Darunter fallen insbesondere Fälle mit elektrisch relativ
gut leitendem Probenhalter und Probe bzw. relativ gut elektrisch
leitendem Target. Auch wurden unerwünschte Kontaminationen
auf der Probe festgestellt, deren Ursprung als
auf dem Vorhandensein der Neutralisationseinrichtung beruhend
erkannt wurde.
Aus der wissenschaftlichen Zeitschrift "Solid State
Technol. 26 (1983)", Nr. 1, S. 99-108, geht eine Vorrichtung
mit den im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 aufgeführten
Merkmalen hervor. Bei dieser Vorrichtung, bei der
ein Glühdraht zwecks der Neutralisation des Ionenstromes
durch den Strahlquerschnitt der Ionenkanone geführt ist,
treten jedoch die oben aufgeführten Probleme auf.
Aus der FR-PS 14 83 391 geht eine Vorrichtung hervor, die
mit hohen Beschleunigungsenergien bei äußerst niedrigen
Drücken und damit Ionenstrahldichten arbeitet. Die bekannte
Vorrichtung weist eine Glühkathode auf, aus der mittels
Extraktionsblechanordnungen und Beschleunigungsblechanordnungen
ionisierte Argonatome extrahiert und in Richtung
auf ein Target beschleunigt werden. Die Argonionen sprengen
Targetmaterial aus dem Target heraus, das sich auf der
Oberfläche eines Substrats niederschlägt. Da zwischen den
Beschleunigungsblechen und der Probe ein relativ großer
Abstand vorhanden ist, ist in diesem Bereich ein Glühdraht
angeordnet, der Elektronen zwecks der Neutralisation der
Raumladung der Ionen emittieren soll. Sowohl am Target als
auch an dem Probenhalter für die Probe sind Meßabgriffe
angeordnet, um die auftretenden Teilchenströme erfassen zu
können.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine Ionenstrahl-Materialbearbeitungsvorrichtung
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 so zu verbessern,
daß sie frei von den beobachteten Nachteilen ist
und eine verbesserte Neutralisation ermöglicht.
Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des
Patentanspruches 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen gehen
aus den Unteransprüchen hervor.
Mit der Erfindung wird in überraschend einfacher Weise das
anstehende Problem gelöst und außerdem ist auch noch der
Vorteil gegeben, daß eine Einjustierung auf für den Einzelfall
optimale Verhältnisse möglich ist, und zwar ohne ins
Gewicht fallenden zusätzlichen Aufwand. Mit der Erfindung ergibt
sich eine verbesserte Effektivität der Neutralisationseinrichtung,
so daß eine im wesentlichen mitten in der
Ionenstrahlung angeordnete Neutralisationseinrichtung unter
Beibehaltung ihres Typs auch in mehr seitlich angeordneter
Stellung angeordnet werden kann und dennoch voll bzw. sogar
verbessert wirksam ist. Insbesondere erübrigt sich mit Anwendung
der Erfindung die spezielle, teilweise bereits angewendete
Maßnahme, eine besondere Kathodenstrahleinrichtung
in der Anlage vorzusehen, wie sie in Fig. 13 der obengenannten
Druckschrift R. A. Powell . . . enthalten ist.
Weitere Erläuterungen der Erfindung werden der Einfachheit
halber anhand des Schemas der Figur erläutert, wobei diese
Figur alternativ eine Anlage zum Ätzen und eine Anlage,
nämlich mit Target, zum Auftragen bzw. Beschichten enthält.
Mit 2 ist in der Figur zusammengefaßt eine an sich bekannte
Ionenstrahl-Kanone bezeichnet, deren Kathode mit 3, deren
Anode mit 4 und deren Extraktionsgitter bzw. -anode mit 5 bezeichnet ist. Das
Ionenplasma 6 entsteht im Innenraum zwischen den Teilen 3, 4
und 5. Mit 7 ist ein Beschleunigungsgitter bezeichnet, das der
Beschleunigung der aus dem Plasma 6 herausgezogenen Ionen
und zur Ionenstrahlbildung dient. Relativ nahe dem
Beschleunigungsgitter 7, z. B. mit einem Abstand von 1 cm, ist eine
Neutralisationseinrichtung 8 angeordnet. Ein wesentliches
Teil dieser Einrichtung 8 ist ein Glühdraht 9, das geheizt
wird und als Elektronenquelle für thermisch emittierte
Elektronen benutzt wird. Dadurch, daß dieser Glühdraht 9 beim
bekannten Stand der Technik vorzugsweise mitten in der durch
das Beschleunigungsgitter 7 hindurchtretenden Ionenstrahlung 10
(kleine Kreise) angeordnet ist, wird eine bereits relativ
gute Neutralisation der Ionenstrahlung 10 durch die
emittierten Elektronen 11 (Punkte) erreicht. Diese raumladungsmäßig
weitgehend neutralisierte, aus den Ionen 10
und den Elektronen 11 bestehende Strahlung ist auf den
Probenhalter 20 der ersten Alternative (Ätzen) bzw. auf das
statt dessen dort angeordnete Target 120 der zweiten
Alternative Auftragen bzw. Beschichten gerichtet.
Bei dieser entsprechend der vorangehenden Beschreibung bekannten
Ionenstrahl-Materialbearbeitungsanlage liegt der
Probenhalter 20 bzw. das Target 120 (und der zum Target 120
gehörende Halter 121 für die zu bestäubende Probe) auf
Massepotential. Entsprechend liegt auch die lediglich mit
jeweils einem Strich angedeutete Seitenwandung 22 des dem
Probenhalter 20 bzw. dem Target 120 vorgelagerten Raumes auf
Massepotential. Auch die Neutralisationseinrichtung 8 bzw.
deren Glühdraht 9 liegt (abgesehen von dem auf dem Heizstrom
des Glühdrahts 9 beruhenden Spannungsabfall) auf Massepotential.
Das Beschleunigungsgitter 7 liegt auf z. B. -250V,
das Extraktionsgitter 5 dazu passend auf +500V, so daß zwischen
dem Potential des Plasmas 6 und dem Probenhalter 20 bzw. dem
Target 120 bei diesem Beispiel etwa 530V Spannung liegen.
Die vorangehenden Ausführungen gelten auch für die vorliegende
Erfindung bzw. es können diese Maßnahmen auch bei
der vorliegenden Erfindung angewendet werden, jedoch abgesehen
von den Ausführungen zum Potential des Probenhalters
20 bzw. des Targets 120. Auch kann man bei einer Anlage nach
der Erfindung den Glühdraht 9 zumindest etwas abseits des
zentralen Bereiches der Ionenstrahlung 10 anordnen, weil
die Erfindung dies ohne Effektivitätsverlust für die Neutralisationseinrichtung
ermöglicht. Insbesondere kann bei
der Erfindung die Neutralisationseinrichtung 8 bzw. deren
Glühdraht 9, z. B. ringförmig ausgeführt, um die eigentliche
Ionenstrahlung 10 herum (wiederum nahe dem Beschleunigungsgitter
9) angeordnet sein.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, daß zwischen der Neutralisationseinrichtung
8 und dem Target 120 bzw. dem Probenhalter
20 ein elektrisches Saugfeld für die von der Neutralisationseinrichtung
8 emittierten Elektronen vorhanden
ist. Gemäß einer besonders bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung
wird dies in der Weise realisiert, daß eine
Potentialverschiebeeinrichtung 30 vorgesehen ist, mit der
der Probenhalter 20 bzw. das Target 120 auf ein dem
Massepotential gegenüber positives Potential zu legen ist.
Dieses positive Potential ist vorteilhafterweise einstellbar
währlbar, wobei insbesondere ein Bereich von +5 bis
+50 V zu bevorzugen ist. Prinzipiell könnte bei der
Erfindung die Neutralisationseinrichtung 8 auch auf entsprechend
negatives Potential gegenüber dem dann weiter auf
Massepotential belassenen Probenhalter 20 (bzw. Target 120)
gelegt werden, jedoch würde dies dazu führen, daß auch die
Wände 22 mit auf dieses Potential der Neutralisationseinrichtung
8 zu legen wäre, nämlich damit weiterhin der Probenhalter
20 (bzw. das Target 120) auf dem erfindungsgemäß
vorgesehen positiveren Potential gegenüber auch der Umgebung
(Wände 22) gehalten ist.
Bei der gestrichelt dargestellten Alternative mit dem Target
120 ist auch ein (ebenfalls gestrichelt dargestellter) Probenhalter
121 vorhanden. Bei der Erfindung kann es ausreichend
sein, diesen Probenhalter 121 auf dem Potential des
Target 120 zu halten. Vorteilhafterweise wird aber auch für
diesen Probenhalter 121 eine Einrichtung 31 für eine wählbar
einstellbare positive Vorspannung vorgesehen. Durch zueinander
unterschiedliche Wahl des (gegenüber der Neutralisationseinrichtung
8) positiven Potentials des Targets 120
einerseits und des positiven Potentials des Probenhalters
121 läßt sich eine steuerbare Aufteilung der Elektronen 11
erreichen.
Ein günstiges Einstellkriterium, und zwar für beide Alternativen,
ist, das erfindungsgemäß vorgesehene Potential der
Einrichtung 30 und der ggf. vorhandenen Einrichtung 31 so
einzustellen, daß im Betrieb über diese jeweilige Einrichtung
kein Strom oder ein nur geringer Strom fließt. Dies
entspricht optimaler Neutralisation der Ionenstrahlung 10
durch die Elektronen 11.
Ein nicht direkt im Ionenstrahl 10 angeordneter Glühdraht 9,
dessen Anordnung mit Hilfe der Erfindung möglich ist, vermindert
die Kontamination (ohne daß etwa eine kompliziertere
Elektronenstrahlkanone nach Fig. 13 der genannten
Druckschrift erforderlich wäre). Lediglich anzumerken ist,
daß ein (wie bei der Erfindung durchführbar) weiter
außerhalb des Ionenstrahls 10 angeordneter Glühdraht 9 nicht
mehr in dem Maße durch die Ionenstrahlung 10 erhitzt wird,
wie dies bei bekannten Ausführungen der Fall ist.
Die bei der Erfindung höhere Effektivität der Neutralisationseinrichtung
8 ermöglicht eine Verringerung der Heizleistung
des Glühdrahtes 9.
Mit 40 ist eine jeweilige zu bearbeitende (zu ätzende oder
zu beschichtende) Probe bezeichnet.
Oben wurde bereits auf die Anwendung der Erfindung bei
relativ gut leitendem Probenhalter bzw. Target bzw. der
Probe selbst hingewiesen. Aber auch bei elektrisch isolierendem
Probenhalter bzw. Target ist die Erfindung mit
Vorteil anzuwenden. Entsprechendes gilt hinsichtlich der
Proben. Insbesondere ist die Erfindung vorteilhaft anzuwenden,
um unkontrollierte bzw. dem Zufall überlassene
Ladungszustände in der Anlage im Bereich des Probenhalters
bzw. Targets zu beherrschen.
Claims (4)
1. Ionenstrahl-Materialbearbeitungsvorrichtung,
mit einer Ionenstrahlkanone mit mindestens einem Beschleunigungsgitter und mindestens einem Extraktionsgitter, durch welche hindurch Ionen austreten können,
mit einem Probenhalter,
mit einer Ionen-Neutralisationseinrichtung zur Emissions von Elektronen,
dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrische Spannung (30, 31) zwischen dem Probenhalter (20, 121) und der Neutralisationseinrichtung (8, 9) anlegbar ist, wobei für diese elektrische Spannung eine Polarität als Saugspannung für den Transport von Elektronen (11) von der Neutralisationseinrichtung (8, 9) zum Probenhalter (20, 121) erzeugbar ist.
mit einer Ionenstrahlkanone mit mindestens einem Beschleunigungsgitter und mindestens einem Extraktionsgitter, durch welche hindurch Ionen austreten können,
mit einem Probenhalter,
mit einer Ionen-Neutralisationseinrichtung zur Emissions von Elektronen,
dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrische Spannung (30, 31) zwischen dem Probenhalter (20, 121) und der Neutralisationseinrichtung (8, 9) anlegbar ist, wobei für diese elektrische Spannung eine Polarität als Saugspannung für den Transport von Elektronen (11) von der Neutralisationseinrichtung (8, 9) zum Probenhalter (20, 121) erzeugbar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Target (120) angeordnet ist, und daß die elektrische
Spannung zwischen der Neutralisationseinrichtung
(8, 9) und dem Target (120) anlegbar ist.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Target (120) bzw. das Target (120)
angeordnet ist, und daß die elektrische Spannung zwischen
dem Probenhalter (20, 121) und dem Target (120) anlegbar
ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Neutralisationseinrichtung (8, 9) wenigstens im
wesentlichen außerhalb des von dem Ionenstrahl (10) eingenommenen
Raumes angeordnet ist.
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