DE3223930A1 - Method for adjusting a film resistor - Google Patents
Method for adjusting a film resistorInfo
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Abstract
Description
Verfahren zum Abgleichen eines Schichtwiderstandes Method for adjusting a sheet resistance
Die Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des ersten Anspruchs.The invention relates to a method according to the preamble of the first Claim.
Nach einem bekannten Verfahren zum Abgleichen einer kreisbogenförmig gestalteten Widerstandsschicht eines Drehpotentiometers (US-PS 32 11 031) wird an Elektroden, welche an den Enden der Widerstandsschicht angeordnet sind, ein konstanter Strom eingespeist. Auf dem für die Nutzung vorgesehenen Teilbereich der Widerstandsschicht wird ein Schleifkontakt geführt, mit dem über den Drehwinkel während der Drehbewegung der Widerstandsschicht und dem dabei erfolgenden Schneidvorgang zum Abtrennen des überflüssigen Teilbereiches der Widerstandsschicht der jeweilige Augenblickswert festgestellt und die Position des Schneidwerkzeuges entsprechend korrigiert wird.According to a known method for trimming a circular arc designed resistance layer of a rotary potentiometer (US-PS 32 11 031) is on Electrodes, which are arranged at the ends of the resistance layer, a constant one Electricity fed in. On the part of the resistance layer intended for use a sliding contact is made with which the angle of rotation during the rotary movement the resistance layer and the resulting cutting process to separate the superfluous part of the resistance layer the respective instantaneous value determined and the position of the cutting tool is corrected accordingly.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des ersten Anspruchs so auszugestalten, daß beim Abgleich der Widerstandsschicht das Führen eines Abgriffes auf der Widerstandsschicht entfallen kann.The invention has for its object to provide a method according to the To design the preamble of the first claim that when aligning the resistance layer there is no need for a tap on the resistance layer.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt gemäß der Erfindung durch die kennzeichnenden Merkmale des ersten Anspruchs.The solution to this problem takes place according to the invention by the characterizing Features of the first claim.
Bei einer Verfahrensweise gemäß der Erfindung wird bei der nach heutigen Fertigungsverfahren zu erwartenden hohen Homogenität der aufgetragenen Widerstandsschicht aus der Messung des Gesamtwiderstandes und der Anfangsschichtbreite durch eine Verhältnisbildung die für den angestrebten Widerstandswert erforderliche verbleibende Breite der Widerstandsschicht festgelegt und das Schnittwerkzeug entsprechend geführt. Dabei wird das Schnittwerkzeug parallel zum Rand der zu nutzenden Widerstandsschicht zumindest über eine Teillänge der Widerstandsschicht geführt. Soll ein bestimmter Kurvenverlauf erzielt werden, dann wird der in Richtung des Stromweges verlaufende Teilschnitt in einzelnen Stufen geführt, so daß sich eine gute Anpassung an den gewünschten Widerstandsverlauf ergibt. Die Stufenhöhe kann dabei fest programmiert sein oder durch jeweilige Messung am Ende eines Stufenschnittes durch eine entsprechende Verhältnisbildung mit einem entsprechend vorgegebenen Widerstandswert ermittelt werden. Dabei wird zweckmäßig an jeder Stufenkante ein Teilbereich der Widerstandsschicht geführt. Es ergibt sich dadurch ein Schichtwiderstand, der nach einem vom Rand aus quer zum Stromweg gerichteten, nahe einer Elektrode geführten Einschnitt im nachfolgenden Schnitt entweder kontinuierlich in Richtung des Stromweges parallel zum Rand bis in den Bereich der zweiten Elektrode und dort wieder quer zur Stromrichtung bis zum Rand läuft. Es kann jedoch für einen anderen Verlauf der Widerstandscharakteristik der zweite Teilschnitt in Stufen mit veränderlichem Randabstand je Stufe ausgeführt werden.In a procedure according to the invention is used in today's Manufacturing process expected high homogeneity of the applied resistance layer from the measurement of the total resistance and the initial layer width by forming a ratio the remaining width of the resistance layer required for the desired resistance value determined and the cutting tool guided accordingly. This is where the cutting tool parallel to the edge of the resistance layer to be used, at least over a partial length out of the resistive layer. If a certain curve shape is to be achieved, then the partial section running in the direction of the current path is made in individual stages out, so that there is a good adaptation to the desired resistance curve. The step height can be permanently programmed or by means of a respective measurement on End of a step cut through a corresponding ratio formation with a can be determined according to the given resistance value. Doing so becomes expedient A part of the resistance layer is guided at each step edge. It surrenders thereby a sheet resistance, which after a direction from the edge across to the current path, The incision made near an electrode is either continuous in the subsequent cut in the direction of the current path parallel to the edge up to the area of the second electrode and there again runs across the direction of the current to the edge. However, it can be for one the second partial section in steps with another course of the resistance characteristic variable edge distance per step.
Die Erfindung ist nachfolgend an Hand der Zeichnung eines Ausführungsbeispiels näher erläutert.The invention is described below with reference to the drawing of an exemplary embodiment explained in more detail.
Auf ein isolierendes Substrat 1 sind voneinander beabstan- dete Elektroden 2 aus einem gutleitenden Material aufgebracht, die durch eine Widerstandsschicht 3 miteinander verbunden sind. Im Überlappungsbereich der Elektroden 2 und der Widerstandsschicht 3 liegen die Elektroden unterhalb der Widerstandsschicht. Quer zu dem von einer Elektrode 2 zur anderen verlaufenden Stromweg ist die Widerstandsschicht einseitig seitlich über die Elektroden 2 hinaus aufgetragen.On an insulating substrate 1 are spaced apart dete Electrodes 2 made of a highly conductive material applied by a resistive layer 3 are connected to each other. In the overlap area of the electrodes 2 and the resistance layer 3 the electrodes are below the resistance layer. Across from that of one Electrode 2 to the other current path, the resistance layer is on one side applied laterally beyond the electrodes 2.
Von dem so ausgebildeten Rand 4 aus wird der für das Abtrennen überflüssiger Teilbereiche der Widerstandsschicht erforderliche Schnitt durch die Widerstandsschicht 3 geführt.From the edge 4 formed in this way, the one for cutting becomes superfluous Partial areas of the resistance layer required cut through the resistance layer 3 led.
Vor dem Beginn des Schneidens wird zunächst an den Elektroden 2 der Gesamtwiderstand der ursprünglichen Widerstandsschicht 3 festgestellt. Bei der durch die Länge und Breite vorgegebenen Geometrie der Widerstandsschicht sowie ihrem Widerstandskoeffizienten wird in einem Vergleichsverfahren die Einschnittiefe eines ersten Teilschnittes 5 festgelegt. Als Schneideinrichtung kann beispielsweise ein rechnergesteuerter Laserstrahl verwendet werden. Für den ersten Teilschnitt 5 wird der Laserstrahl zunächst bis an den Rand 4 herangeführt und anschließend um die ermittelte Tiefe senkrecht zum Stromweg geführt, wobei entlang des Teilschl4ttes 5 die Widerstandsschicht abgebrannt bzw. verdampft wir1. Der erst Teilschnitt ist dabei auch so geführt, daß die benachbarte Elektrode 2 nicht angeschnitten wird, um zu vermeiden, daß durch gegebenfalls stehenbleibende Metallbatikel ein Stromweg über die Schnittlinie hinweg stehen bleiben kann. Soll der Widerstandsverlauf des verbleibenden Teilbereichs der Widerstandsschicht 3 linear sein, dann wird der zweite Teilschnitt bis nahe an die gegenüberliegende Elektrode 2 und von dort wieder quer zum Stromweg bis zum Rand 4 herausgeführt. Auch der dritte Teilschnitt 7 wird dabei mit Abstand von der benachbarten Elektrode gehalten.Before starting to cut, the electrodes 2 are first of all the Total resistance of the original resistance layer 3 was determined. At the through the length and width of the given geometry of the resistance layer and its resistance coefficient the incision depth of a first partial cut is used in a comparison process 5 established. A computer-controlled cutting device, for example, can be used as the cutting device Laser beam can be used. For the first partial cut 5, the laser beam first brought up to the edge 4 and then by the determined depth perpendicular to the current path, with the resistance layer along the partial slot 5 burned down or evaporated we 1. The first partial cut is also done in such a way that that the adjacent electrode 2 is not cut in order to avoid that through possibly remaining metal particles a current path across the cutting line can stop. Should be the resistance curve of the remaining sub-area the resistance layer 3 be linear, then the second partial cut will be close to to the opposite electrode 2 and from there again across the current path to Edge 4 led out. The third partial cut 7 is at a distance from the adjacent electrode held.
Der überflüssige Teilbereich der Widerstandsschicht 3 ist damit vollkommen von dem verbleibenden Teilbereich und den Elektroden 2 abgetrennt. Es besteht dann nicht die Gefahr, daß besonders bei einem sehr schmalen wirksamen Teilbereich der Widerstandsschicht 3 der dem gegenüber große Schleifkontakt eines Potentiometerabgreifers bei einem Übergreifen des Teilschnittes 6 den abgetrennten Teilbereich der Widerstandsschicht 3 aktiviert und eine Verfälschung des abgegriffenen Widerstandswertes hervorruft.The superfluous partial area of the resistance layer 3 is thus complete separated from the remaining portion and the electrodes 2. It then exists there is no risk of the Resistance layer 3 of the opposite large sliding contact of a potentiometer tap when the partial cut 6 reaches over, the separated partial area of the resistance layer 3 activated and causes a falsification of the tapped resistance value.
Soll der aktiv bleibende Teilbereich der Widerstandsschicht 3 einen bestimmten Widerstandsverlauf aufweisen, dann kann die Abgleichvorrichtung so programmiert werden, daß nach dem ersten Teilschnitt 5 entsprechend dem gefordeten Widerstandsverlauf der zweite Teilschnitt in Stufen 6a, 6b 6c bis zum dritten Teilschnitt 7 geführt wird. Damit kann nach jedem Teilschnitt 6a bzw. 6b aus dem verbleibenden Gesamtwiderstandswert durch eine Verhältnisbildung mit einem entsprechend vorgegebenen Wert die Stufenhöhe ermittelt werden. An jeder Stufenkante wird dabei der quer zum Stromweg verlaufende Teilschnitt durch einen Zwischenteilschnitt 8 bzw. 9 bis zum Rand 4 hinausgezogen, so daß der unwirksame Teilbereich der Widerstandsschicht 3 zur Erhöhung seiner Spannungsfestigkeit unterteilt ist.If the part of the resistive layer 3 that remains active is to be one have a certain resistance profile, then the balancing device can be programmed in this way be that after the first partial cut 5 according to the required resistance curve the second partial cut is made in steps 6a, 6b 6c up to the third partial cut 7 will. This means that after each partial cut 6a or 6b from the remaining total resistance value the step height by forming a ratio with a correspondingly specified value be determined. At each step edge there is the one that runs transversely to the current path Partial cut through an intermediate partial cut 8 or 9 pulled out to the edge 4, so that the ineffective portion of the resistance layer 3 to increase its dielectric strength is divided.
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823223930 DE3223930A1 (en) | 1982-06-26 | 1982-06-26 | Method for adjusting a film resistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823223930 DE3223930A1 (en) | 1982-06-26 | 1982-06-26 | Method for adjusting a film resistor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE3223930A1 true DE3223930A1 (en) | 1984-01-26 |
DE3223930C2 DE3223930C2 (en) | 1988-03-03 |
Family
ID=6166944
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823223930 Granted DE3223930A1 (en) | 1982-06-26 | 1982-06-26 | Method for adjusting a film resistor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3223930A1 (en) |
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- 1982-06-26 DE DE19823223930 patent/DE3223930A1/en active Granted
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Also Published As
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DE3223930C2 (en) | 1988-03-03 |
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Legal Events
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