DE29824693U1 - Musterbildung - Google Patents

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Claims (34)

1. Vorläufer zur Herstellung eines Resistmusters durch thermische Bilderzeugung, wobei der Vorläufer eine wärmeempfindliche Zusammensetzung umfaßt, deren Löslichkeit in einem wäßrigen Entwickler so ausgelegt war, daß sie sich in erwärmten Bereichen erhöht, und ein Mittel zur Erhöhung der Beständigkeit nicht erwärmter Bereiche der wärmeempfindlichen Zusammensetzung gegenüber Auflösung in einem wäßrigen Entwickler (im folgenden als "Entwicklerbeständigkeits-Mittel" bezeichnet), wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel eine oder mehrere Verbindungen umfaßt, die aus
  • A) Verbindungen, die eine Poly(alkylenoxid)-Einheit beinhalten;
  • B) Siloxanen; und
  • C) Estern, Ethern und Amiden von mehrwertigen Alkoholen
ausgewählt sind.
2. Vorläufer nach Anspruch 1, wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel nicht-ionisch ist.
3. Vorläufer nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei das Entwicklerbeständigkeits- Mittel eine Einheit der Formel
[CrH2r-CO-]y
beinhaltet, wobei r eine ganze Zahl im Bereich von 2 bis 5 bedeutet und y eine ganze Zahl im Bereich von 2 bis 5000 bedeutet.
4. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel aus Polyoxyethylerisorbithexastearat, Polyoxyethylen­ sorbittetrastearat, Polyoxyethylensorbittetraoleat, Polyoxyethylensorbithexaoleat, Polyoxyethylensorbitmonooleat, Polyoxyethylensorbitmonolaurat, Polyoxyethylen­ sorbittetralaurat, Polyoxyethylensorbithexalaurat, Polyoxypropylensorbithexastearat, Polyoxypropylensorbittetraoleat, Polyoxypropylensorbithexaoleat, Polyoxypropylen­ sorbitmonolaurat, Polyoxyethylen-Polyoxypropylensorbithexastearat, Polyoxyethylen- Polyoxypropylensorbittetrastearat, Polyoxyethylen-Polyoxypropylensorbitmonooleat, Polyoxyethylen-Polyoxypropylensorbittetraoleat, Polyoxyethylensorbithexa­ stearylether, Polyoxyethylensorbittetrastearylether, Polyoxyethylensorbittetraoleylether, Polyoxyethylensorbitinonolaurylether und Polyoxyethylensorbit­ monooleylether, Polyoxyethylenlaurylether, Polyoxyethylencetylether, Polyoxy­ ethylenstearylether, Polyoxyethylenoleylether, Polyoxyethylenether mit einem höheren Alkohol, Polyoxyethylenoctylphenylether, Polyoxyethylennonylphenylether, Polyoxyethylensorbitanmonolaurat, Polyoxyethylensorbitanmonopalmitat, Polyoxy­ ethylensorbitanmonostearat, Polyoxyethylensorbitantristearat, Polyoxyethylen­ sorbitanmonooleat, Polyoxyethylensorbitantrioleat, Polyoxyethylensorbittetraoleat, Polyethylenglykolmonooleat, Polyethylenglykoldistearat; Polyoxyethylennonyl­ phenylether-Formaldehyd-Kondensat, Oxyethylen-Oxypropylen-Blockcopolymer, Polyethylenglykol, Tetraethylenglykol, Polyoxyethylenstearylether, Polyoxyethylen­ sorbitlaurylester und Polyoxyethylen-Rizinusöl ausgewählt ist.
5. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel ein durch einen oder mehrere gegebenenfalls substituierte Alkyl- oder Phenylreste substituiertes Siloxan umfaßt.
6. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel aus einem Phenylalkylsiloxan und einem Dialkylsiloxan ausgewählt ist.
7. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel aus Lauraten, Palmitaten, Stearaten und Oleaten eines mehrwertigen Alkohols ausgewählt ist.
8. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel aus Lauryl-, Cetyl-, Stearyl-, Oleyl- und Phenylethern ausgewählt ist.
9. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung und das Entwicklerbeständigkeits-Mittel in einer einzigen Schicht bereitgestellt werden und die Summe der Mengen an Verbindungen der Gruppen (A), (B) und (C) in der Schicht mindestens 1 Gew.-% beträgt und 10 Gew.-% oder weniger beträgt.
10. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung ein Phenolharz umfaßt.
11. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung eine in wäßrigem Entwickler lösliche polymere Substanz (nachfolgend als das "aktive Polymer" bezeichnet) und eine Verbindung, die die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert (nachfolgend als die "Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen" bezeichnet), umfaßt, wobei die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler bei Erwärmen zunimmt und die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht zunimmt.
12. Vorläufer nach Anspruch 11, wobei das aktive Polymer eine oder mehrere aus Hydroxy-, Carbonsäure-, Amino-, Amid- und Maleimidgruppen ausgewählte Gruppen beinhaltet.
13. Vorläufer nach Anspruch 11 oder Anspruch 12, wobei das aktive Polymer ein Phenolharz ist.
14. Vorläufer nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen stickstoffhaltig ist und mindestens ein Stickstoffatom entweder quaternisiert, in einen heterocyclischen Ring eingeschlossen, oder quaternisiert und in einen heterocyclischen Ring eingeschlossen ist.
15. Vorläufer nach einem der Ansprüche 11 bis 14, wobei die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen eine Carbonyl-Gruppe enthält.
16. Vorläufer nach Anspruch 15, wobei eine eine Carbonylgruppe enthaltende Verbindung aus α-Naphthoflavon, β-Naphthoflavon, 2,3-Diphenyl-1-indenon, Flavon, Flavanon, Xanthon, Benzophenon, N-(4-Brombutyl)phthalimid und Phenanthrenchinon ausgewählt sein kann.
17. Vorläufer nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen eine Verbindung der allgemeinen Formel
Q1-S(O)a-Q2
sein kann, wobei Q1 einen gegebenenfalls substituierten Phenyl- oder Alkylrest bedeutet, a für 0, 1 oder 2 steht, und Q2 ein Halogenatom oder irgendeinen Alkoxyrest bedeutet.
18. Vorläufer nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen Acridine Orange Base (C. I. Solvent Orange 15) ist.
19. Vorläufer nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen eine Ferrocenium-Verbindung ist.
20. Vorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und einen Infrarot-Absorber umfaßt.
21. Vorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung ein Novolakharz, ein Kondensationsmittel für das Novolak-Harz und eine strahlungsempfindliche, latente säurebildende Verbindung umfaßt.
22. Vorläufer nach Anspruch 21, wobei das Kondensationsmittel eine gegebenenfalls substituierte Polyvinylphenol-Verbindung oder eine Bishydroxyalkyl-Verbindung ist.
23. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welcher eine Schicht beinhaltet, die eine strahlungsabsorbierende Verbindung . oder eine Kombination derartiger Verbindungen beinhaltet.
24. Vorläufer nach Anspruch 23, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung so ausgelegt ist, daß sie Strahlung in Wärme umwandelt.
25. Vorläufer nach Anspruch 23 oder Anspruch 24, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung ein Pigment oder Farbstoff ist.
26. Vorläufer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei es sich um einen Vorläufer zur Herstellung eines elektronischen Bauteils handelt.
27. Vorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 25, wobei der Vorläufer ein wärmeempfindlicher positiv arbeitender Flachdruckplatten-Vorläufer zur thermischen Bilderzeugung ist.
28. Vorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung eine polymere Substanz mit funktionellen Gruppen Q daran umfaßt, so daß die funktionalisierte polymere Substanz die Eigenschaft besitzt, daß sie vor der Zufuhr von Strahlung entwicklerunlöslich und danach entwicklerlöslich ist, wobei die fünktionellen Gruppen Q keine Säuregruppen oder säurebildenden Gruppen umfassen, die jeweils durch labile Schutzgruppen geschützt sind, welche bei Bestrahlung entfernt werden.
29. Vorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die wärmeempfindliche Zusammensetzung eine polymere Substanz und Diazid-Einheiten umfaßt, wobei die Zusammensetzung die Eigenschaft besitzt, daß sie vor der Zufuhr von Strahlung entwicklerunlöslich und danach entwicklerlöslich ist, wobei es sich bei der Strahlung gänzlich oder vorwiegend um direkte Wärmestrahlung oder elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge über 500 nm handelt.
30. Vorläufer zur Herstellung eines Resistmusters durch thermische Bilderzeugung, wobei der Vorläufer eine wärmeempfindliche Zusammensetzung umfaßt, deren Löslichkeit in einem wäßrigen Entwickler so ausgelegt ist, daß sie in erwärmten Bereichen zunimmt, wobei die Zusammensetzung eine in wäßrigem Entwickler lösliche polymere Substanz (im folgenden als "aktives Polymer" bezeichnet), eine Verbindung, die die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert (im folgenden als "Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen" bezeichnet), und ein Tensid umfaßt, wobei die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler bei Erwärmen zunimmt und die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht zunimmt.
31. Formulierung umfassend eine wärmeempfindliche Zusammensetzung, deren Löslichkeit in einem wäßrigen Entwickler so ausgelegt ist, daß sie bei Erwärmung zunimmt, und ein Mittel zum Erhöhen der Beständigkeit nicht erwärmter Bereiche der wärmeempfindlichen Zusammensetzung gegenüber Auflösung in einem wäßrigen Entwickler (im folgenden das "Entwicklerbeständigkeits-Mittel"), wobei das Entwicklerbeständigkeits-Mittel eine oder mehrere Verbindungen umfaßt, die aus
  • A) Verbindungen, die eine Poly(alkylenoxid)-Einheit beinhalten;
  • B) Siloxanen; und
  • C) Estern, Ethern und Amiden von mehrwertigen Alkoholen
ausgewählt sind.
32. Kit zur Bereitstellung einer Formulierung nach Anspruch 31. .
33. Druckplatte, die Bildbereiche (die farbannehmend sind) beinhaltet, welche eine wärmeempfindliche Zusammensetzung, deren Löslichkeit in einem wäßrigen Entwickler so ausgelegt ist, daß sie in erwärmten Bereichen zunimmt, und ein Mittel zum Erhöhen der Beständigkeit nicht erwärmter Bereiche der wärmeempfindlichen Zusammensetzung gegenüber Auflösung in einem wäßrigen Entwickler (im folgenden das "Entwicklerbeständigkeits-Mittel") umfassen, wobei das Entwicklerbeständigkeits- Mittel eine oder mehrere Verbindungen umfaßt, die aus
  • A) Verbindungen, die eine Poly(alkylenoxid)-Einheit beinhalten;
  • B) Siloxanen; und
  • C) Estern, Ethern und Amiden von mehrwertigen Alkoholen
ausgewählt sind.
34. Vorläufer, Formulierung, Kit und Druckplatte, die jeweils unabhängig im wesentlichen wie vorstehend mit Bezug auf die Beispiele beschrieben sind.
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