DE2149234A1 - Verfahren und Vorrichtung zur spektroskopischen UEberwachung der Dichte eines in einem Elektronenstrahlofen erzeugten Dampfes - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur spektroskopischen UEberwachung der Dichte eines in einem Elektronenstrahlofen erzeugten Dampfes

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    • H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
    • H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006003108B4 (de) 2005-01-28 2018-05-09 Raytheon Company Schnell reagierendes Elektronenstrahl-Ablagerungssystem mit einer Steuereinrichtung, die vorlaufende und nachlaufende Ablagerungsindikatoren verwendet

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